KR20070013071A - 웨이퍼 카세트 챔버 - Google Patents
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Abstract
웨이퍼 카세트 챔버를 제공한다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버는 웨이퍼 카세트가 놓여지는 받침대 및 상기 받침대를 둘러싸고 밀폐된 공간을 제공하는 콘테이너박스를 구비한다. 상기 콘테이너박스는 바닥판 및 그와 수직하는 측벽을 구비한다. 상기 바닥판 및 측벽이 만나는 모서리부는 곡면을 이룬다.
Description
도 1은 종래 기술에 따른 웨이퍼 카세트 챔버 내부의 모서리부를 확대도시한 부분확대 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 챔버, 로드락 챔버 및 반응챔버를 구비하는 반도체 제조설비를 도시한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 챔버의 내부를 보여주는 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 챔버의 모서리부를 보여주기 위하여 도 3의 B를 확대도시한 부분확대 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 웨이퍼 카세트 챔버 107: 콘테이너박스
107a: 콘테이너박스의 측벽 107b: 콘테이너박스의 바닥판
109: 받침대 111: 이동축
200: 로드락 챔버 300: 반응챔버
B: 모서리부
본 발명은 반도체 제조설비에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 웨이퍼 카세트 챔버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자는 실리콘 기판인 웨이퍼에 산화막을 성장시키고, 불순물을 침적시키며, 침적된 불순물을 웨이퍼 내로 원하는 깊이까지 침투시키는 확산 공정과, 식각이나 이온주입이 이루어질 부위를 선택적으로 한정하기 위해 마스크나 레티클(reticle)의 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 포토 공정과, 감광액 현상이 끝난 후 감광액 밑에 성장되거나 침적 또는 증착된 박막들을 가스나 화학약품을 이용하여 선택적으로 제거하는 식각 공정 및 화학기상증착(CVD; Chemical Vapor Deposition) 또는 금속 증착 방법을 이용하여 특정한 막을 형성시키는 박막 공정 등의 여러 공정을 반복적으로 수행함으로써 제조된다.
한편, 상기 웨이퍼는 운반, 보관 및 공정 진행 동안에 적정한 물리적, 화학적 상태가 유지되어야 한다. 만약, 상기 웨이퍼가 제한량 이상의 먼지, 기타 오염물 또는 파티클에 노출되면, 상기 반도체소자의 불량률은 높아지게 된다. 따라서, 반도체 제조 현장에서는 상기 웨이퍼의 운반, 보관, 공정 진행 중에 상기 웨이퍼의 보호를 위해 별도의 웨이퍼 관리 및 보관 장치로써 상기 웨이퍼를 넣어두기 위한 웨이퍼 카세트가 사용되어 왔다.
상기 웨이퍼를 적재하는 상기 웨이퍼 카세트는 먼저 웨이퍼 카세트 챔버로 이동되어 웨이퍼의 가공공정 전에 대기상태로 놓여진다. 상기 웨이퍼 카세트는 이후 로드락 챔버로 이동되고, 상기 로드락 챔버에서 실제 가공공정이 수행되는 반응 챔버로 이동된다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버는 상기 웨이퍼 카세트가 상기 로드락 챔버로 이동되기 전에 진공상태를 형성한다.
도 1은 종래의 웨이퍼 카세트 챔버 내부의 모서리부를 보여주는 부분확대 사시도이다. 도 1을 참조하면, 상기 웨이퍼 카세트 챔버의 측벽(1) 하단, 즉, 바닥판(3)과 만나는 부분에 돌출부(A)가 있다. 상기 돌출부(A)는 상기 측벽(1)과 직각을 이루며 턱을 형성하고 있다. 따라서, 상기 웨이퍼 카세트가 상기 웨이퍼 카세트 챔버 내부 또는 외부로 이동될 때 먼지 등의 오염 물질이나 파티클이 상기 웨이퍼 카세트 챔버 내부에 인입되어 상기 돌출부(A)에 안착될 수 있다. 특히, 상기 파티클이 상기 웨이퍼 카세트 챔버의 상기 측벽(1) 과 상기 돌출부(A) 사이의 틈에 끼게 되면, 세정공정을 수행하여도 쉽게 제거되지 않아 상기 웨이퍼의 오염을 유발한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 웨이퍼 카세트 챔버 내부에 오염 물질 또는 파티클이 존재하지 않도록 하여 웨이퍼를 보호할 수 있는 개선된 웨이퍼 카세트 챔버를 제공함에 있다.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명은 웨이퍼 카세트 챔버를 제공한다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버는 웨이퍼 카세트가 놓여지는 받침대 및 상기 받침대를 둘러싸고 밀폐된 공간을 제공하는 콘테이너박스를 포함한다. 상기 콘테이너박스는 바닥판 및 그와 수직하는 측벽을 구비한다. 상기 콘테이너박스의 상기 바닥판 및 상기 측벽이 만나는 모서리부가 곡면을 이룬다.
상기 콘테이너박스의 측벽은 돌출부가 없는 수직한 프로파일을 가질 수 있다.
상기 콘테이너박스의 모서리부는 U자 형태로 이루어질 수 있다.
상기 웨이퍼 카세트 챔버는 상기 받침대를 지지하면서 상기 받침대를 상하로 이동시키는 이동축을 더 포함할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 챔버, 로드락 챔버 및 반응 챔버를 구비하는 반도체 제조설비를 도시한 개략도이다. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 챔버의 내부를 도시하는 사시도이다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 상기 웨이퍼 카세트 챔버 내부의 모서리부를 확대도시한 부분확대 사시도이다.
도 2를 참조하면, 반도체 제조설비는 웨이퍼 카세트 챔버(100), 로드락 챔버(200) 및 반응 챔버(300)를 구비한다. 상기 반응 챔버(300)는 식각공정이 이루어지는 식각공정 챔버일 수 있다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100)는 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 카세트가 상기 로드락 챔버(200)로 이동되기 전 상기 웨이퍼 카세트를 대기시 키는 장소이다. 상기 웨이퍼 카세트는 상기 웨이퍼의 가공공전 전, 먼저 외부도어(101)를 통하여 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부로 이동된다. 이때, 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부는 상압의 압력 상태를 유지한다. 상기 웨이퍼 카세트가 상기 로드락 챔버(200)로 이동되기 전 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100)는 그 내부를 진공 상태로 형성한다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100)는 진공펌프(105)를 구비할 수 있으며, 상기 진공펌프(105)에 의하여 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부를 진공상태로 형성할 수 있다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부가 진공상태로 형성되면, 상기 웨이퍼를 제1 내부도어(103)를 통하여 상기 로드락 챔버(200) 내부로 이동시킨다. 상기 웨이퍼는 상기 로드락 챔버(200) 내부에서 대기하면서, 가공공정 전의 적정한 상태를 유지한다. 이후, 제2 내부도어(201)를 통하여 상기 웨이퍼는 상기 반응 챔버(300)로 이동되고, 실제 공정이 수행된다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100)는 상기 웨이퍼 카세트(150)가 놓여지는 받침대(109), 상기 받침대(109)를 지지하면서 상기 받침대(109)를 상하로 이동시키는 이동축(111) 및 상기 받침대(109) 및 상기 이동축(111)을 둘러싸고 밀폐된 공간을 제공하는 콘테이너박스(107)를 구비할 수 있다.
상기 웨이퍼 카세트(150)는 도 2에 도시된 상기 외부도어(101)를 통하여 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부로 이동하여, 상기 받침대(109)에 놓여진다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부를 진공상태로 형성시키는 진공펌프(105)는 펌프라인(105a)에 의해 연결될 수 있다. 상기 웨이퍼 카세트 챔버(100) 내부를 상압의 압력상태로 형성하기 위한 퍼지라인(105b)이 제공될 수 있다. 상기 웨이퍼 카세트(150) 가 놓여진 상기 받침대(109)는 상기 이동축(111)에 의해 상기 콘테이너박스(107)의 상부로 이동된다. 상기 제1 내부도어(103)를 통하여 웨이퍼가 상기 로드락 챔버(200) 내부로 이동된다. 상기 로드락 챔버(200) 내부로 이동된 웨이퍼는 예컨대, 식각 공정이 수행되기전 적정한 상태의 물리적, 화학적 상태를 유지한다. 상기 웨이퍼는 제2 내부도어(201)를 통하여 상기 로드락 챔버(200)에서 상기 반응 챔버(300)로 이동된다. 상기 반응 챔버(300)는 상기 로드락 챔버(200)의 상부에 배치될 수 있다.
상기 콘테이너박스(107)는 밀폐된 공간을 형성하기 위하여 측벽(107a)들 및 바닥판(107b)을 구비한다. 상기 콘테이너박스(107)의 측벽(107a)에는 외부로부터 상기 웨이퍼 카세트(150)를 받아들이기 위한 상기 외부도어(101) 및 상기 로드락 챔버(200)로 이동시키기 위한 제1 내부도어(103)가 제공될 수 있다. 상기 콘테이너박스(107)는 상기 측벽(107a)과 상기 바닥판(107b)이 직각으로 만나는 모서리부(B)를 갖는다. 상기 콘테이너박스(107)의 측벽(107a)은 돌출부가 없는 수직한 프로파일을 갖는다. 특히, 상기 측벽(107a) 및 상기 바닥판(107b)이 만나는 상기 모서리부(B)는 곡면으로 이루어질 수 있다. 상기 모서리부(B)는 U자 형태를 가질 수 있다. 본 발명에 의하면, 상기 콘테이너박스(107)의 측벽(107a)은 돌출부를 갖지 않아 상기 모서리부(B)에 먼지 등의 오염 물질이나 파티클이 안착하기 어렵다. 또한, 상기 모서리부(B)가 곡면으로 이루어져 있어, 상기 오염 물질이나 파티클이 틈새에 끼는 현상도 현저히 감소한다. 또한, 상기 오염 물질이나 파티클이 상기 모서리부(B)에 존재하더라도 세정공정에 의해 쉽게 제거될 수 있다.
상기와 같이 이루어진 본 발명에 의하면, 웨이퍼 카세트 챔버 내부에 존재할 수 있는 파티클 등의 오염 물질을 현저히 줄일 수 있어, 웨이퍼의 오염 및 손상을 방지할 수 있다.
Claims (4)
- 웨이퍼 카세트가 놓여지는 받침대; 및상기 받침대를 둘러싸고 밀폐된 공간을 제공하는 콘테이너박스를 포함하되, 상기 콘테이너박스는 바닥판 및 그와 수직하는 측벽을 구비하고, 상기 바닥판 및 측벽이 만나는 모서리부가 곡면을 이루는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 챔버.
- 제 1 항에 있어서,상기 콘테이너박스의 측벽은 돌출부가 없는 수직한 프로파일을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 챔버.
- 제 1 항에 있어서,상기 콘테이너박스의 모서리부는 U자 형태로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 챔버.
- 제 1 항에 있어서,상기 받침대를 지지하면서 상기 받침대를 상하로 이동시키는 이동축을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 챔버.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050067425A KR20070013071A (ko) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 웨이퍼 카세트 챔버 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050067425A KR20070013071A (ko) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 웨이퍼 카세트 챔버 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20070013071A true KR20070013071A (ko) | 2007-01-30 |
Family
ID=38012951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020050067425A KR20070013071A (ko) | 2005-07-25 | 2005-07-25 | 웨이퍼 카세트 챔버 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20070013071A (ko) |
-
2005
- 2005-07-25 KR KR1020050067425A patent/KR20070013071A/ko not_active Application Discontinuation
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |