KR20070001262A - ＺｎＯ 나노입자를 포함하는 미용 제제 - Google Patents

ＺｎＯ 나노입자를 포함하는 미용 제제 Download PDF

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KR20070001262A
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발레리 안드레
리차드 더블유 주니어 브로쯔만
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바스프 악티엔게젤샤프트
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Abstract

본 발명은 미용 피부 제제의 오일상 및 입자 간의 계면 표면 상호작용을 조절하기 위해, 입자 표면 상에, 별모양-그라프트 공중합체 코팅 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 포함하는, 실록산 별모양-그라프트 공중합체 코팅을 갖는 표면 처리된 산화아연 및 티타니아 입자, 특히 산화아연 및 티타니아 나노입자의 형성에 관한 것이다.
표면 처리된 산화아연 및 티타니아 입자, 실록산 별모양-그라프트 공중합체

Description

ＺｎＯ 나노입자를 포함하는 미용 제제 {Cosmetic Formulations Comprising ZnO Nanoparticles}
관련 특허에 대한 교차 참조
미립자 표면, 특히 나노입자 표면은 본원에 참고로 인용된 US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 개시된 방법에 따라 별모양-그라프트(star-graft) 공중합체에 의해 표면 처리되어 균일한 코팅을 형성할 수 있다.
현대 피부 관리 제제는 효과, 피부 상용성 및 미적 매력의 높은 기준을 충족해야 한다. 미용 제품의 성능이 전체 제제와 관련있다는 것이 통상적으로 받아들여진다. 이와 같이, 활성 성분을 혼입한 최적 생약 (galenic) 제제가 시중에서 성공하기 위해 필수적이다. 국소적 제제의 목적은 피부의 차단 기능을 조정하거나 돕고, 활성 성분에 대한 운반계로서 작용하는 두가지 주요 영역으로 분류될 수 있다. 본 특허는 특히 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴레이트 기재 중합체, α- 및 β-히드록시산 등, 및 무기 산화아연과 티타니아를 조합하는 현대의 피부 관리 제품에 사용된 생약적으로 중요한 제제 개념의 개발에 중점을 둔다.
본 발명은 특히, 미립자 산화아연, 특히 나노미립자 산화아연이 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴레이트 기재 중합체, α- 및 β-히드록시산 등과 함께 제제화되는 경우 직면하는 문제에 관한 것이다. 현대의 피부 관리 제제는 분산액이다. 하전된 유기 잔기는 분산액의 수성상에 잔류할 것이며, 무기 성분, 즉 산화아연 및 티타니아는 분산액의 오일상에 잔류할 것이다. 제제에서, 아크릴레이트 기재 중합체는, 일단 미용적으로 허용가능한 염기, 예컨대 트리에탄올 아민 또는 수산화나트륨으로 중화되면, 수성상의 점도가 증가되어 제제가 증점된다. 기타 하전된 유기 잔기, 예컨대 α- 및 β-히드록시산은 상피 세포 재생을 강화하는 것과 같은 기타 기능을 가질 수 있다. 그러나, 미립자 산화아연으로부터의 아연 이온이 오일상으로부터 수성상으로 이동하고, 하전된 유기 잔기와 불리하게 상호작용하여, 아크릴레이트 기재 중합체의 붕괴, 또는 미립자 무기물의 부수적인 용해와 함께 유기 염의 형성을 일으킨다.
구체적으로, (a) 표면 처리된 ZnO 및/또는 TiO2 (티타니아)로서 정의된 생성물(들) 자체, 및 (b) 개인 관리 제제에서 생성물(들) 자체의 사용을 제외한 모든 적용에 있어서 모든 무기, 반 금속 및/또는 금속성 산화물 입자에 대한 표면 처리는 본 발명으로부터 제외된다. 개인 관리 제제는 피부 관리, 모발 관리, 발 관리, 일광 관리, 구강 관리, 유아 관리, 화장품류, 색조 화장품, 개인 세정 및 국소 인간 일광차단제를 위한 미용 또는 피부학적 제제로서 정의된다.
발명
본 발명은 미용 피부 제제의 오일상 및 입자 간의 계면 표면 상호작용을 조절하기 위해, 입자 표면 상에, 별모양-그라프트 공중합체 코팅 상에 고리화(looped) 및/또는 선형 중합체 구조를 포함하는 실록산 별모양-그라프트 공중합체 코팅을 갖는 표면 처리된 산화아연 및 티타니아 입자, 특히 산화아연 및 티타니아 나노입자의 형성에 관한 것이다. 국소적 고리를 함유하거나 함유하지 않을 수 있는 실록산 별모양-그라프트 공중합체는 비균질 중합 반응에 의해 "입자 표면 근처"에 형성될 수 있다. 생성되는 표면 처리제는, 산화아연 표면을 비활성화하여, 이온 누출을 방지하고, 표면 처리된 산화아연을 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴레이트 기재 중합체 및 α- 및 β-히드록시산 등과 상용성이 되게 할 것이다. 또한, 산화아연 및 티타니아에 대한 표면 처리는, 표면 처리된 입자를 미용 피부 제제의 상이한 오일상 성분과 열역학적으로 상용성이 되도록 조정할 수 있다.
무기 입자의 표면 처리가 많은 상이한 기술 및 화학적 노력에 의해 수년에 걸쳐 시도되었다. 일부 기술은 입자의 표면에 대한 코팅의 적용, 입자의 표면에 대한 커플링제의 사용, 입자 표면의 물리적 개질, 입자의 표면에 대한 고유의 조성물의 화학적 개질, 및/또는 입자를 적응시키기 위한 제제의 개질이며, 후자는 제제 조성물 및 성분을 제한하고, 필수 제제 및 제품 특성을 변경할 수 있으므로, 제제 중 미립자 거동을 조절하기 위한 적어도 바람직한 방법의 하나이다.
산화아연 및 티타니아의 표면은 흡착, 이온 교환 및 공유결합에 의해 통상적으로 코팅되었다. 흡착 및 이온 교환은 표면이 적합한 화학적 특성을 가질 것을 요구한다. 입자 표면에 대한 공유 결합을 가능하게 하는 반응은 일반적으로 표면 결합된 히드록실기와의 반응을 포함한다. 이들 코팅은 소정의 제제 및 제품 상용성을 부여하며, 미립자 응집이 없는 최량의 가능한 기술을 위한 얇은 표면 처리이 지만, 계면 물질 특성의 궁극적인 조절에 영향을 주거나, 반응성 입자로부터 이온 이동을 방지할 수는 없다.
고리화 및/또는 선형 중합체 사슬이 중합되는 별모양-그라프트 실록산 공중합체로 구성된 코팅을 갖는 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 나노입자를 제공함으로써, 현존하는 기술의 단점이 극복되며, 추가적인 장점이 제공된다. 미립자 표면, 특히 나노미립자 표면은, 본원에 참고로 인용된 US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 개시된 방법에 따라 실록산 별모양-그라프트 공중합체에 의해 처리되어 균일한 코팅을 형성할 수 있다. 이들 균일한 미립자 표면 처리는 미립자 응집 없이 상용성을 가능하게 하나, 이들은 상기 열거된 제약을 받는다. 이들 별모양-그라프트 공중합체는 반응성인 펜단트기를 갖도록 제제화될 수 있다. 이작용성 단량체가 상기 반응성 펜단트 기에 그라프트 공중합되어 고리화 및/또는 선형 사슬을 형성한다.
별모양-그라프트 공중합체는 산화아연 및/또는 티타니아 입자, 특히 나노입자에 적용될 수 있다. 별모양-그라프트 공중합체 코팅은 실록산 기재 중합체를 형성하기 위해 특정 단량체를 반응시킴으로써 형성된다. 표면 처리는 나노입자 산화아연 및/또는 티타니아를 캡슐화한다. 일반적으로, 다수의 나노미립자 산화아연 및/또는 티타니아가 별모양-그라프트 공중합체로 표면 처리되며, 표면 처리는 입자의 적어도 일부를 개별적으로, 바람직하게는 전체 입자를 개별적으로 캡슐화한다. US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 개시된 별모양-그라프트 공중합체는 Si(w, x, y, z)을 포함하며, 여기서 w, x, y 및 z은 각각 4작용성, 3작용성, 2작용성 및 단일작용성 단량체 단위(몰％)이며, w, x, y 및 z의 범위는 각각 약 45 내지 75, 약 5 내지 25, 약 5 내지 45, 및 약 5 내지 10이다.
US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 개시된 바와 같이, 나노입자를 코팅 및 캡슐화할 수 있는 별모양-그라프트 공중합체는, 높은 분지화도를 수득하기 위해 비교적 많은 비율의 4작용성 단량체를 요구하였다. 또한, 3작용성 단량체는 코팅 구조를 통제하며, 2작용성 단량체는 선형 중합체 단편이며, 단일작용성 단량체는 전체 크기를 조절하였다.
2작용성 단량체가 상기 별모양-그라프트 중합체로 중합되어, 입자 표면으로부터 용매화 유체 또는 매트릭스 구조로 신장하는 고리화 및/또는 선형 중합체 사슬을 형성하기 때문에, 당업자는 별모양-그라프트 중합체 표면 처리로 작용성을 유지하는 것을 가능하게 하기 위한 단일작용성 단량체의 감소 및 추가의 선형 중합체 단편을 형성하기 위한 2작용성 단량체의 증가가 바람직한 표면 처리를 생성함을 기대할 것이다. 그러나, 본 발명에서는 놀랍게도, 별모양-그라프트 중합체 상에 작용성을 유지하기 위한 단일작용성 단량체의 감소 및 추가의 선형 사슬을 형성하기 위한 2작용성 단량체의 증가가 필요할 뿐 아니라, 또한 US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 교시된 표면 처리에 관해, 별모양-그라프트 공중합체가 상당히 낮은 분지화도를 가져야함을 밝혀냈으며, 이는 뜻밖의 놀라운 결과이다.
고리화 및/또는 선형 중합체 사슬이, 얇은 코팅일 수도 있는 표면 처리를 가능하게 하여, 적용 매질로 신장하며, 산화아연 및/또는 티타니아 입자의 계면 특성을 조절한다.
본 발명은 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하는 표면 처리된 입자에 관한 것이며, 상기 표면 처리제는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위(몰％)임)를 포함한다.
바람직한 표면 처리된 입자에서,
x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택된다.
가장 바람직한 표면 처리된 입자에서, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 디페닐디에톡시실란 및 디페닐디메톡시실란의 군으로부터 선택된다.
상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 1 내지 50 및 50 내지 99이다. 바람직하게는, 상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 1 내지 40 및 60 내지 99이다. 가장 바람직하게는, 상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 10 내지 30 및 70 내지 90이다.
표면 처리제는 산화아연 및/또는 티타니아 입자, 특히 나노입자에 적용된다. 나노입자 평균 입자 크기는 약 1nm 내지 약 900nm이다. 바람직한 나노입자 평균 입자 크기는 약 2nm 내지 약 500nm이다. 가장 바람직한 나노입자 평균 입자 크기는 약 5nm 내지 약 100nm이다.
US 특허 제5,993,967호 및 제6,033,781호에 개시된 처리 방법에 대한 대안으로서, 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아를 제조하는 바람직한 방법은 실질적으로 구형인 나노결정성 입자를 포함하는 미립자를 표면 처리 전구체와 혼합하는 것을 포함한다. 고리화 및/또는 선형 중합체 사슬을 함유하는 실록산 별모양-그라프트 공중합체는 비균질 중합 반응에 의해 "입자 표면 근처"에 형성된다. 혼합은 주위 온도, 및 별모양-그라프트 공중합체가 나노결정성 입자를 코팅하고, 2작용성 전구체가 고리화 및/또는 선형 사슬 표면 처리 형태를 형성하기 위해 중합하기에 효과적인 시간 동안 시행된다. 표면 처리된 분말이 가열될 때 휘발성 부산물이 분리될 수 있다. 나노입자 및 코팅 전구체는 이온 누출을 방지하고, 표면 처리된 산화아연을 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴 기재 중합체, α- 및 β-히드록시산과 상용성이 되게 하는, 화학적으로 비활성인 표면 처리를 가능하게 하기에 효과적인 양으로 첨가된다. 사용된 코팅 전구체의 양은 입자 표면적 또는 입자 크기와 직접적으로 관련된다.
발명의 상세한 설명
본 발명의 원리에 따라, 입자 표면 상에, 별모양-그라프트 중합체 코팅 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 산화아연 및/또는 티타니아 입자의 표면 처리, 특히 표면 처리된 나노입자, 및 이의 제조 방법이 제공된다. 이온 누출을 방지하고, 표면 처리된 산화아연을 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴 기재 중합체, α- 및 β-히드록시산 등과 상용성이 되게 하기 위해, 산화아연 표면을 비활성화 하기 위해, 표면 처리제는 주로 페닐 화학적 성질을 함유한다. 또한, 산화아연 및 티타니아에 대한 표면 처리는, 표면 처리된 입자를 페닐 비함유 전구체의 분별력 있는 선택에 의해, 미용 피부 제제의 상이한 오일상 성분과 열역학적으로 상용성이 되도록 조정될 수 있다.
표면 처리제는 산화아연 및/또는 티타니아 입자, 특히 나노입자에 적용된다. 나노입자 평균 입자 크기는 약 1nm 내지 약 900nm이다. 바람직한 나노입자 평균 입자 크기는 약 2nm 내지 약 500nm이다. 가장 바람직한 나노입자 평균 입자 크기는 약 5nm 내지 약 100nm이다.
상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 1 내지 50 및 50 내지 99이다. 바람직하게는, 상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 1 내지 40 및 60 내지 99이다. 가장 바람직하게는, 상기 규소 기재 중합체에서 x 및 y의 값은 각각 10 내지 30 및 70 내지 90이다.
실록산 주쇄의 분지화, 고리화 및/또는 선형 사슬의 정도, 및 그의 화학적 특성, 즉 미용 피부 제제의 특정 오일상 성분과의 열역학적 상용성의 정도를 조절하기 위한 다양한 조합이 사용된다. 또한, 2작용성 단량체의 화학적 특성이, 미용 피부 제제 매질의 오일상 성분으로 신장하는 고리화 및/또는 선형 사슬로 변형, 또는 얇게 코팅되도록 선택된다.
본 발명은 또한, 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하는 표면 처리된 입자의 효과적인 보호 농도로, 피부 또는 모발을 처리하는 것을 포함하는, 자외선으로부터 인간 피부 또는 모발을 보호하는 방법에 관한 것이며, 여기서 표면 처리제는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위이며, x 및 y는 각각 약 1 내지 50 및 약 50 내지 99임)를 포함하며,
여기서, x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
여기서, 표면 처리된 ZnO 및/또는 TiO2로서 정의된 생성물(들) 자체가 개인 관리 제제에 사용된다.
표면 처리제가, x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90이며, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란의 군으로부터 선택되는, Si(x, y)를 포함하는 방법이 바람직한 양태이다.
방법의 하나의 양태에 따르면, 상기 효과적인 보호 농도는 개인 관리 제제의 전체 중량을 기준으로, 0.1중량％ 내지 25중량％, 바람직하게는 0.1중량％ 내지 10중량％, 특히 바람직하게는 1중량％ 내지 7중량％이다.
방법의 바람직한 양태에서, 상기 개인 관리 제제는 UV 영역의 광을 흡수하며, 미용 및 제약학적 제제용으로 공지되어 있는 화합물과 함께, 또는 단독으로 표면 처리된 산화아연 및/또는 이산화티탄 입자를 포함한다.
따라서, 본 발명은 또한 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하는 표면 처리된 입자를 효과적인 보호 농도로 미용 및 제약학적으로 적합한 담체 내에 포함하는, 자외선으로부터 인간 피부 또는 모발을 보호하기 위한 일광차단제-함유 개인 관리 제제에 관한 것이며, 여기서, 코팅 중합체는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위(몰％)이며, x 및 y는 각각 약 1 내지 50 및 약 50 내지 99임)를 포함하며,
여기서, x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택된다.
x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90이며, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란의 군으로부터 선택되는 것인, Si(x, y)를 포함하는 표면 처리제가, 개인 관리 제제에 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 미용 및 피부학적 제제는 미용 활성 성분, 보조제 및/또는 첨가제, 예를 들어, 보조유화제, 지방 및 왁스, 안정화제, 증점제, 생물발생적 활성 성분, 필름 형성제, 향료, 염료, 진주광택제, 보존제, 색소, 전해질 (예, 황산마그네슘) 및 pH 조절제를 포함한다.
적합한 보조유화제는, 바람직하게는, 공지된 W/O 및 O/W 유화제, 예컨대, 폴리글리세롤 에스테르, 소르비탄 에스테르 또는 부분적으로 에스테르화된 글리세리드이다. 지방의 전형적인 예는 글리세리드; 특히 임의로 친수성 왁스와 조합된 밀납, 파라핀 왁스 또는 미소결정성 왁스일 수 있는 왁스이다. 사용될 수 있는 안정화제는 지방산의 금속 염, 예컨대 마그네슘, 알루미늄 및/또는 아연 스테아레이트이다. 적합한 증점제의 예는 가교결합된 폴리아크릴산 및 그의 유도체, 다당류, 특히 잔탄 검, 구아 구아, 아가 아가, 알키네이트 및 틸로스, 카르복시메틸셀룰로스 및 히드록시에틸셀룰로스, 및 또한 지방 알콜, 모노글리세리드 및 지방산, 폴리크릴레이트, 폴리비닐 알콜 및 폴리비닐피롤리돈이다. 용어 생물발생적 활성 성분은 예를 들어, 식물 추출액, 단백질 가수분해물 및 비타민 복합체를 의미한다. 통상적인 필름 형성제는 예를 들어, 수성콜로이드, 예컨대 키토산, 미소결정성 키토산 또는 4차 키토산, 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체, 아크릴산 계열의 중합체, 4차 셀룰로스 유도체 및 유사한 화합물이다. 적합한 보존제의 예는 포름알데히드 용액, p-히드록시벤조에이트 또는 소르브산이다. 적합한 진주광택제의 예는 글리콜 디스테아르 에스테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 디스테아레이트, 또한 지방산 및 지방산 모노글리콜 에스테르이다. 사용될 수 있는 염료는 예를 들어, 문헌 ["Kosmetische Farbemittel" (미용 조성물), Farbstoffkommission der Deutschen Forschungsgemeinschaft (독일 연구 협의의 염료 위원회), 1984년 독일 바인하임 베르라르크 케미 편찬]에 열거된 바와 같이 미용 목적으로 적절하며 승인된 물질이다. 이들 염료는 통상적으로 전체 혼합물 기준으로 0.001 내지 0.1중량％의 농도로 사용된다.
마찬가지로, 본 발명의 목적을 위해 제제에 통상적인 산화방지제를 첨가하는 것이 유리하다. 본 발명에 따르면, 미용 및 피부학적 용도로 통상적이거나 적합한 모든 산화방지제가 바람직한 산화방지제로서 사용될 수 있다.
산화방지제는 유리하게는, 아미노산 (예, 글리신, 히스티딘, 티로신, 트립토판) 및 그의 유도체, 이미다졸 (예, 우로칸산) 및 그의 유도체, 펩티드, 예컨대 D,L-카르노신, D-카르노신, L-카르노신 및 그의 유도체 (예, 안세린), 카로테노이드, 카로텐 (예, α-카로텐, β-카로텐, 리코펜) 및 그의 유도체, 레티노이드, 예컨대 레티놀, 레티날 및/또는 레티노산 및 각 에스테르, α-리포산 및 그의 유도체 (예, 디히드로리포산), 아우로티오글루코스, 프로필티오우라실 및 기타 티올 (예, 티오레독신, 글루타티온, 시스테인, 시스틴, 시스타민 및 글리코실, N-아세틸, 메틸, 에틸, 프로필, 아밀, 부틸 및 라우릴, 팔미토일, 올레일, γ-리놀레일, 콜레스테릴 및 그의 글리세릴 에스테르) 및 그의 염, 디라우릴 티오디프로피오네이트, 디스테아릴 티오디프로피오네이트, 티오디프로피온산 및 그의 유도체 (에스테르, 에테르, 펩티드, 지질, 뉴클레오티드, 뉴클레오시드 및 염), 및 매우 낮은 내성 투여량 (예, pmol 내지 μmol/㎏)의 술폭시민 화합물 (예, 부티오닌 술폭시민, 호모시스테인 술폭시민, 부티오닌 술폰, 펜타-, 헥사-, 헵타티오닌 술폭시민), 및 (금속) 킬레이트화제 (예, α-히드록시 지방산, 팔미트산, 피트산, 락토페린), α-히드록시산 (예, 시트르산, 락트산, 말레산), 후민산, 담즙산, 담즙 추출액, 빌리루빈, 담록소, EDTA, EGTA 및 그의 유도체, 불포화 지방산 및 그의 유도체 (예, γ-리놀렌산, 리놀레산, 올레산), 엽산 및 그의 유도체, 2-아미노프로피온산 디아세트산, 플라보노이드, 폴리페놀, 카테신, 유비퀴논 및 유비퀴놀 및 그의 유도체, 비타민 C 및 유도체 (예, 아스코르빌 팔미테이트, Mg 아스코르빌 포스페이트, 아스코르빌 아세테이트), 토코페롤 및 유도체 (예, 비타민 E 아세테이트) 및 벤조인 수지의 코니페릴 벤조에이트, 루틴산 및 그의 유도체, 페룰산 및 그의 유도체, 부틸히드록시톨루엔, 부틸히드록시아니솔, 노르디히드로구아이악산, 노르디히드로구아이아레트산, 트리히드록시부티로페논, 요산 및 그의 유도체, 만노스 및 그의 유도체, 아연 및 그의 유도체 (예, ZnO, ZnSO4), 셀레늄 및 그의 유도체 (예, 셀레노메티오닌), 스틸벤 및 그의 유도체 (예, 스틸벤 옥시드, 트랜스-스틸벤 옥시드), 및 본 발명에 따라 적합한 상기 활성 성분의 유도체 (염, 에스테르, 에테르, 당, 뉴클레오티드, 뉴클레오시드, 펩티드 및 지질)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
제제 중 산화방지제 (하나 이상의 화합물)의 양은 제제의 전체 중량을 기준으로, 바람직하게는 0.001 내지 30중량％, 특히 바람직하게는 0.05 내지 20중량％, 특히 0.1 내지 10중량％이다.
비타민 E 및/또는 그의 유도체가 산화방지제(들)인 경우, 그 각각의 농도는 제제의 전체 중량 기준으로 0.001 내지 10중량％의 범위로 선택하는 것이 유리하다.
비타민 A 및/또는 그의 유도체 또는 카로테노이드가 산화방지제(들)인 경우, 그 각각의 농도는 제제의 전체 중량 기준으로 0.001 내지 10중량％인 것이 유리하다.
본 발명의 목적을 위한 미용 또는 제약학적 제제가 용액 또는 에멀션 또는 분산액인 경우, 사용된 용매는 물 또는 수용액; 오일, 예컨대 카프르산 또는 카프릴산의 트리글리세리드, 바람직하게는, 카스터 오일; 지방, 왁스 및 기타 천연 및 합성 지방 물질, 바람직하게는 낮은 탄소수의 알콜, 예컨대 이소프로판올, 프로필렌 글리콜 또는 글리세롤과의 지방산의 에스테르, 또는 낮은 탄소수의 알칸산 또는 지방산과의 지방 알콜의 에스테르; 낮은 탄소수의 알콜, 디올 또는 폴리올, 및 그의 에테르, 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 또는 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 또는 모노에틸 에테르 및 유사 생성물일 수 있다.
특히 상기 언급한 용매의 혼합물이 사용된다. 알콜 용매의 경우, 물이 추가 구성성분일 수 있다.
본 발명의 목적을 위한 에멀션, 올레오겔 또는 수성분산액 또는 지질분산액의 오일상은 3 내지 30개 탄소 원자의 사슬 길이를 갖는 포화 및/또는 불포화, 분지화 및/또는 비분지화 알칸카르복실산 및 3 내지 30개 탄소 원자의 사슬 길이를 갖는 포화 및/또는 불포화, 분지화 및/또는 비분지화 알콜의 에스테르의 군, 방향족 카르복실산 및 3 내지 30개 탄소 원자의 사슬 길이를 갖는 포화 및/또는 불포화, 분지화 및/또는 비분지화 알콜의 에스테르의 군으로부터 선택되는 것이 유리하다. 상기 에스테르 오일은 유리하게는, 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 스테아레이트, 이소프로필 올레에이트, n-부틸 스테아레이트, 디이소프로필 아디페이트, n-헥실 라우레이트, n-데실 올레에이트, 글리세릴 스테아레이트, 이소옥틸 스테아레이트, 이소노닐 스테아레이트, 이소노닐 이소노나노에이트, 2-에틸헥실 팔미테이트, 2-에틸헥실 라우레이트, 2-헥실데실 스테아레이트, 2-옥틸도데실 팔미테이트, 올레일 올레에이트, 올레일 에루케이트, 에루실 올레에이트, 에루실 에루케이트 및 상기 에스테르의 합성, 반합성 및 천연 혼합물, 예컨대 호호바 오일로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 유리하다.
또한, 오일상은 분지화 및 비분지화 탄화수소 및 탄화수소 왁스, 실리콘 오일, 디알킬 에테르의 군, 포화 또는 불포화, 분지화 또는 비분지화 알콜 및 지방산 트리글리세리드의 군, 즉 8 내지 24개, 특히 12 내지 18개 탄소 원자의 사슬 길이를 갖는 포화 및/또는 불포화, 분지화 및/또는 비분지화 알칸카르복실산의 트리글리세롤 에스테르로부터 유리하게 선택될 수 있다. 지방산 트리글리세리드는 예를 들어, 합성, 반합성 및 천연 오일, 예 올리브 오일, 해바라기 오일, 대두 오일, 땅콩 오일, 평지씨 오일, 아몬드 오일, 야자 오일, 코코넛 오일, 야자씨 오일 등의 군으로부터 유리하게 선택될 수 있다.
상기 오일 및 왁스 성분의 임의의 혼합물이 본 발명의 목적을 위해 또한 유리하게 사용될 수 있다. 일부 경우, 왁스, 예를 들어 세틸 팔미테이트를 오일상의 단독 지질 성분으로서 사용하는 것이 유리할 수 있다.
오일상은 유리하게는 2-에틸헥실 이소스테아레이트, 이소헥사데칸, 옥틸도데칸올, 이소트리데실 이소노나노에이트, 이소에이코산, 2-에틸헥실 코코에이트, C12-C15-알킬 벤조에이트, 카프릴/카프르산 트리글리세리드, 디카프릴릴 에테르로 이루어진 군으로부터 유리하게 선택된다.
C12-C15-알킬 벤조에이트 및 2-에틸헥실 이소스테아레이트의 혼합물, C12-C15-알킬 벤조에이트 및 이소트리데실 이소노나노에이트의 혼합물, 및 C12-C15 알킬 벤조에이트, 2-에틸헥실 이소스테아레이트 및 이소트리데실 이소노나노에이트의 혼합물이 특히 유리하다.
탄화수소, 파라핀 오일, 스쿠알란 및 스쿠알렌이 본 발명의 목적을 위해 유리하게 사용될 것이다.
유리한 오일 성분은 또한, 예를 들어, CP 홀로부터 상표명 홀브라이트 (Hallbrite) BHB하에 구입가능한 부틸옥틸 살리실레이트, 헥사데실 벤조에이트 및 부틸옥틸 벤조에이트 및 그의 혼합물 (홀스타 AB) 및/또는 디에틸헥실 나프탈레이트 (홀브라이트 TQ)이다.
오일상은 또한 유리하게는 시클릭 또는 선형 실리콘 오일의 함량을 가질 수 있거나, 상기 오일 전체로 구성될 수 있으나, 실리콘 오일(들)과는 별도로 기타 오일상 성분의 추가 함량을 사용하는 것이 바람직하다.
유리하게는, 시클로메티콘 (옥타메틸시클로테트라실록산)이 본 발명에 따라 사용될 실리콘 오일로서 사용된다. 그러나, 기타 실리콘 오일, 예를 들어 헥사메틸시클로트리실록산, 폴리디메틸실록산, 폴리(메틸페닐실록산)이 또한 본 발명의 목적을 위해 유리하게 사용될 수 있다.
시클로메티콘 및 이소트리데실 이소노나노에이트의 혼합물, 및 시클로메티콘 및 2-에틸헥실 이소스테아레이트의 혼합물이 또한 특히 유리하다.
고형 스틱은 예를 들어, 천연 또는 합성 왁스, 지방 알콜 또는 지방산 에스테르를 포함한다. 입술 관리 스틱, 및 신체 탈취를 위한 스틱 제제를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 목적을 위한 미용 스틱으로 사용하기에 적합한 통상적인 기본 물질은 액체 오일 (예, 파라핀 오일, 카스터 오일, 이소프로필 미리스테이트), 반고체 구성성분 (예, 석유 젤리, 라놀린), 고체 구성성분 (예, 밀탑, 세레신 및 미소결정성 왁스 및 지랍), 및 고용융 왁스 (예, 카르나우바 왁스, 칸델리라 왁스)이다.
에어로졸 용기로부터 분무될 수 있는, 본 발명의 목적을 위한 미용 및/또는 피부학적 제제에 적합한 추진제는, 그 자체로 또는 다른 것과의 혼합물로 사용될 수 있는, 통상적으로 공지된 쉽게 휘발가능한 액화 추진제, 예컨대 탄화수소 (프로판, 부탄, 이소부탄)이다. 압축 공기 또한 유리하게 사용될 수 있다.
물론 당업자는, 에어로졸 제제의 형태로 본 발명을 실현화하기에 원칙적으로 적합한 비독성 그 자체이나, 환경 또는 기타 동반 현상의 해로운 효과로 인해 회피되었던, 추진제 기체, 특히 플루오로탄소 및 클로로플루오로탄소 (CFC)가 존재함을 인지한다.
본 발명의 목적을 위해 적합한 미용 제제는 또한, 본 발명에 따른 활성 성분의 효과적인 함량, 및 통상적으로 사용된 용매, 따라서 바람직하게는 물 외에, 또한 유기 증점제, 예컨대 아라비아 검, 잔탄 검, 나트륨 알기네이트, 셀룰로스 유도체, 바람직하게는, 메틸셀룰로스, 히드록시메틸셀룰로스, 히드록시에틸셀룰로스, 히드록시프로필셀룰로스, 히드록시프로필메틸셀룰로스 또는 무기 증점제, 예, 알루미늄 실리케이트, 예컨대 벤토나이트, 또는 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트 또는 디스테아레이트의 혼합물을 포함하는 겔 형태일 수 있다. 증점제는 예를 들어, 0.1 내지 30중량％, 바람직하게는 0.5 내지 15중량％의 양으로 겔 중에 존재한다. 광 보호제를 포함하는 미용 및 제약학적 제제는 일반적으로, 하나 이상의 오일상을 포함하는 캐리어 기재이다. 그러나, 수성 성분 단독 기재의 제제 또한 가능하다. 따라서, 적합한 제제는 오일, 수중유 및 유중수 에멀션, 크림 및 페이스트, 입술 보호 스틱 조성물 또는 유분이 없는 겔이다.
본 발명에 따라 사용된 겔은 통상적으로, 증점제의 존재 하에 낮은 탄소 원자 수의 알콜, 예, 에탄올, 이소프로판올, 1,2-프로판디올, 글리세롤, 및 물 또는 상기 언급한 오일을 포함하며, 오일-알콜 겔의 경우, 이산화규소 또는 알루미늄 실리케이트가 바람직하며, 수성 알콜 또는 알콜성 겔의 경우 폴리아크릴레이트가 바람직하다.
보조제 및 첨가제의 전체 비율은 1 내지 80중량％, 바람직하게는 6 내지 40중량％일 수 있으며, 비수성 비율 ("활성 물질")은 조성물 기준으로 20 내지 80중량％, 바람직하게는 30 내지 70중량％일 수 있다. 조성물은 예를 들어, 고온, 저온, 고온-고온/저온 또는 PIT 유화에 의해 공지된 방법 그 자체로 제조될 수 있다. 이는 순수히 기계적인 공정이며, 어떠한 화학적 반응도 발생하지 않는다.
상기 일광차단 제제는 따라서, 액체, 페이스트 또는 고체 형태, 예를 들어 유중수 크림, 수중유 크림 및 로션, 에어로졸 폼 크림, 겔, 오일, 마킹 펜, 분말, 스프레이 또는 알콜-수성 로션일 수 있다.
적용 기술 필요조건에 따라, 표면 처리된 입자 (ZnO 및/또는 Ti02)가 미용 제제의 수성상 또는 오일에 첨가될 수 있다.
마지막으로, 본 발명에 따라 사용될 UV 필터의 조합의 전체 계 중에서 안정적인 한, UV 영역의 광을 흡수하는 그 자체로 공지된 추가 물질을 추가로 사용하는 것이 가능하다.
인간 표피를 보호하기 위해 사용된 미용 및 제약학적 제제 중 광 보호제의 다수는 UV-B 영역, 예컨대 280 내지 320nm 및 UV-A 영역, 즉 320 내지 400nm 영역에서 UV광을 흡수하는 화합물로 구성된다. 예를 들어, 본 발명에 따라 사용될 UV-A 흡수제의 비율은 UV-B 및 UV-A 흡수 물질의 전체 양을 기준으로 10 내지 90중량％, 바람직하게는 20 내지 50중량％이다.
본 발명에 따라 사용될 제제와 조합하여 사용되는 적합한 UV 필터 물질은 임의의 UV-A 및 UV-B 필터 물질이다. 언급할 수 있는 예는 다음과 같다:
번호 물질 Cas No.(=산)
1 4-아미노벤조산 15-13-0
2 3-(4'-트리메틸암모늄)벤질리덴보르난-2-온 메틸술페이트 52793-97-2
3 3,3,5-트리메틸시클로헥실 살리실레이트 (호모살레이트) 118-56-9
4 2-히드록시-4-메톡시-벤조페논 (옥시벤존) 131-57-7
5 2-페닐벤지미다졸-5-술폰산 및 그의 칼륨, 나트륨 및 트리에탄올아민 염 27503-81-7
6 3,3'-(1,4-페닐렌디메틴)-비스(7,7-디메틸-2-옥소비시클로[2.2.1]헵탄-1-메탄술폰산) 및 그의 염 90457-82-2
7 폴리에톡시에틸 4-비스(폴리에톡시)아미노벤조에이트 113010-52-9
8 2-에틸헥실 4-디메틸아미노벤조에이트 21245-02-3
9 2-에틸헥실 살리실레이트 118-60-5
10 2-이소아밀 4-메톡시신나메이트 71617-10-2
11 2-에틸헥실 4-메톡시신나메이트 5466-77-3
12 2-히드록시-4-메톡시-벤조페논-5-술폰산 (술이소벤존) 및 나트륨 염 4065-45-6
13 3-(4'-술포벤질리덴)보르난-2-온 및 염 58030-58-6
14 3-벤질리덴보르난-2-온 16087-24-8
15 1-(4'-이소프로필페닐)-3-페닐프로판-1,3-디온 63260-25-9
16 4-이소프로필벤질 살리실레이트 94134-93-7
17 2,4,6-트리아닐린(o-카르보-2'-에틸헥실-1'-옥시)-1,3,5-트리아진 88122-99-0
18 3-이미다졸-4-일아크릴산 및 그의 에틸 에스테르 104-98-3
19 에틸 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 5232-99-5
20 2'-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 6197-30-4
21 멘틸 o-아미노벤조에이트, 또는 5-메틸-2-(1-메틸에틸)-2-아미노벤조에이트 134-09-8
22 글리세릴 p-아미노벤조에이트, 또는 1-글리세릴 4-아미노벤조에이트 136-44-7
23 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논(디옥시벤존) 131-53-3
24 2-히드록시-4-메톡시-4-메틸벤조페논 (멕세논) 1641-17-4
25 트리에탄올아민 살리실레이트 2174-16-5
26 디메톡시페닐글리옥살산 또는 나트륨 3,4-디메톡시페닐글리옥살레이트 4732-70-1
27 3-(4'-술포벤질리덴)보르난-2-온 및 그의 염 56039-58-8
28 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄 70356-09-1
29 2,2'4,4'-테트라히드록시벤조페논 131-55-5
30 2,2'-메틸렌비스[6(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀] 103597-45-1
31 2,2'-(1,4-페닐렌)-비스-1H-벤지미다졸-4,6-디술폰산, Na 염 180898-37-7
32 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시]페닐-6-(4-메톡시페닐)-(1,3,5)-트리아진 187393-00-6
33 3-(4-메틸벤지리덴)캄포르 36861-47-9
34 폴리에톡시에틸 4-비스(폴리에톡시)파라아미노벤조에이트 113010-52-9
35 2,4-디히드록시벤조페논 131-56-6
36 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논-5,5'-이나트륨 술포네이트 3121-60-6
37 벤조산, 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]-, 헥실에스테르 302776-68-7
38 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-[2-메틸-3-[1,3,3,3-테트라메틸-1-[(트리메틸실릴)옥시]디실록사닐]프로필]페놀 155633-54-8
39 1,1-[(2,2'-디메틸프로폭시)카르보닐]-4,4-디페닐-1,3-부타디엔 363602-15-7
중합체 또는 중합체 결합한 필터 물질이 본 발명에 따라 또한 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 미용 및 피부학적 제제는 추가로, 철 (예, Fe203), 지르코늄 (Zr02), 규소 (Si02), 망간 (예, MnO), 알루미늄 (Al203), 세륨 (예, Ce203)의 옥시드 및 상응하는 금속의 혼합 옥시드, 및 상기 옥시드의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된, 물에 불용성이거나 거의 용해되지 않는 금속 옥시드 및/또는 기타 금속 화합물 기재 무기 색소를 포함하는 것이 유리하다.
본 발명의 목적을 위해, 필수적인 것은 아니지만, 무기 색소는 코팅된 형태, 즉 표면 처리된 것이 특히 유리하다. 이러한 표면 처리는 DE-A-33 14 742호에 기재된 바와 같이, 공지된 방법 그 자체에 의해 얇은 소수성 층을 갖는 색소를 제공하는 것을 포함할 수 있다.
UV 광선으로부터 인간 모발을 보호하기 위해, 본 발명에 따른 광 보호제 제제는 0.1 내지 10중량％, 바람직하게는 1 내지 7중량％의 농도로, 샴푸, 로션, 겔, 헤어스프레이, 에어로졸 폼 크림 또는 에멀션으로 혼입될 수 있다. 각 제제는 특히 세정, 염색 및 모발 스타일링을 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 제제는 통상적으로, 예리한 밴드 구조로 UV-A 방사선 영역에서 특히 높은 흡광도에 대해 탁월하다. 또한, 이들은 미용 오일에서 쉽게 용해가능하며, 미용 제제에 쉽게 혼입될 수 있다. 제제로 제조된 에멀션은 그 높은 안정성에 대해 특히 탁월하며, 제제 I 그 자체는 그 높은 광 안정성에 대해 탁월하며, 그로 제조된 제제는 피부에 대한 기분 좋은 감촉에 대해 탁월하다.
본 발명에 따른 제제의 UV 필터 작용은 또한, 미용 및 제약학적 제제에서 활성 성분 및 보조제를 안정화하기 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 제제는 예리한 밴드 구조로 UV-A 방사선 영역에서의 높은 흡광도 및 높은 광 보호 인자가 탁월하다.
실시예 1 - 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 표면 처리하기 위한 일반적인 뱃치 공정
방법은 조절된 환경 하에 그 내용물을 혼합 및 가열할 수 있는 표면 처리 용기에 다수의 나노입자를 포함하는 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 도입하는 것을 포함하였다. 적합한 표면 처리 용기의 예는 부치 로토바프 (Buchi Rotovap) (브링크만 인스트루먼츠로부터 구입가능한 소규모), V-블렌더 (패터슨-켈리로부터 구입가능한 공업적 규모), 리본 블렌더 (제이고로부터 구입가능한 공업적 규모), 회전 오븐 (써멀 프로세싱 솔루션스로부터 구입가능한 공업적 규모), 및 유동화 베드 (리틀포드 데이로부터 구입가능한 공업적 규모)를 포함하였다.
a) 입자를 당업자에게 공지된 방법을 사용하여 표면 처리 용기에 도입하였다. 전형적으로 진공, 이어서 내부 기체 플러싱에 의해 산소를 용기로부터 제거하고, 다수의 나노입자를 예컨대 용기를 회전하거나, 또는 용기 내의 원소를 회전하는 것 (이에 한정되지 않음)과 같은 방법에 의해 혼합하였다. 입자는 실질적으로 구형인 나노결정성 나노입자이며, 표준 단위 조작 방법학을 사용하여 쉽게 유동하였다. 입자 혼합은 주위 온도에서, 미립자 표면적을, 입자 표면을 컨디셔닝할 수 있는 표면 처리 용기의 환경으로 노출하기에 효과적인 시간 동안 실행하였다. 혼합은 연속적으로, 또는 프로그래밍된 간격으로, 및 혼합 속도의 범위로 발생할 수 있었다. 혼합은 표면 처리된 입자의 화학적 성질에 따라, 실온 또는 실온 초과 또는 실온 미만에서 발생할 수 있었다. 혼합 정도는 최종 제품의 벌크 밀도를 조절하는 데 사용될 수 있으며, 혼합이 클수록 더 높은 벌크 밀도 미립자 생성물이 수득되었다.
b) 입자 표면 컨디셔닝은 입자 표면에 흡수된 물질을 제거하는 것, 입자 표면에 도핑제를 첨가하는 것, 또는 컨디셔닝 단계의 조합 (이에 한정되지 않음)을 포함하였다. 입자 표면 컨디셔닝은, 하기 단위 조작에 의해 수행되나, 이에 한정되는 것은 아니다: 진공 처리, 플라즈마 처리, 기체로 세척 또는 플러싱 또는 유동화, 유체 세척, 반응성 기체 또는 유체 처리 등. 모든 경우에서, 반응성 부산물 및 잔류물을 표면 처리 전구체의 적용 전에 제거하였다.
c) 입자 표면 컨디셔닝에 이어서, 입자를 표면 처리 전구체와 혼합하고, 주위 환경에서, 소정 온도로, 별모양-그라프트 공중합체가 나노결정성 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 코팅하기에 충분하고, 2작용성 전구체를 중합하여 고리화 및/또는 선형 사슬을 별모양-그라프트 공중합체 상에 형성하기에 충분한 시간 동안 가열하였다. 표면 처리하는 동안 미립자 혼합은 연속적인 표면 노출을 가능하게 하며, 다수의 입자에 대한 균일한 표면 처리의 적용을 촉진하였다. 나노입자 및 코팅 전구체는 개인 관리 적용을 가능하게 하기에 비교적 효과적인 양으로 첨가하였다. 사용된 코팅 전구체의 양은 입자 표면적 또는 입자 크기와 직접적으로 관련되었다.
d) 표면 처리 순서는 하기 공정 순서를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다: 입자 컨디셔닝 후 상기 b) 및 c)에서 표면 처리, 다중 입자 콘디셔닝 단계 후 표면 처리, 입자 컨디셔닝 후 다중 표면 처리 단계, 연속적인 입자 컨디셔닝 - 표면 처리 - 입자 컨디셔닝 - 표면 처리 단계, 및 당업자에게 착안된 기타.
e) 입자는 단일 조성물 또는 다중 조성물을 포함할 수 있었다.
f) 표면 처리 전구체를 도입하는 방법은 당업자에게 공지된 임의의 측량된 기술을 사용하여 유체 분무 또는 증기 유동성을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
g) 표면 처리 전구체는 전구체 혼합물로서, 전구체 혼합물 다음에 단일 전구체로서, 또는 연속적인 단일 전구체 첨가에 의해 도입될 수 있었다.
h) 표면 처리된 입자는, 젖었을 경우 건조하고, 반응이 상승된 온도에서 발생한 경우, 실온으로 냉각시키고, 표면 처리 용기로부터 제거하였다.
실시예 2 - 산화아연 표면 처리를 위한 뱃치 공정
하기 공정 설명은 표면 처리된 산화아연 입자를 제조하기 위한 것이다. 표면 처리된 산화아연은 미용 제제를 위한 활성 물리적 일광차단 성분이었다.
생성물을 실시예 1에 상세히 설명한 것과 같은 뱃치 공정에 의해 제조하였다.
a) 14㎡/g 표면적을 갖는 산화아연 나노입자 8kg을 플라스틱 백으로 칭량하고, 깨끗한 2ft3 V-블렌더로 수동으로 충전하였다. V-블렌더를 배기함으로써 산소를 제거하여, 진공 수준을 충분하게 한 다음, 질소로 V-블렌더의 진공을 경감시켰다. 배기 및 경감 주기를 2회 반복하였다.
b) 비활성 기체로 V-블렌더를 채우면서, V-블렌더를 5rpm으로 회전하고, V-블렌더를 질소로 연속적으로 플러싱하여, 흡수된 물질을 제거함으로써 입자를 컨디셔닝하였다.
c) 디페닐디메톡시실란 (168g) 및 옥틸트리에톡시실란 (42g) 단량체를 패들 혼합기를 사용하여 균질하게 혼합하여, 대략 Si (0, 20, 80 및 0) 표면 처리 전구체 혼합물 (전체 중량 210g)을 형성하였다.
d) 입자 표면 컨디셔닝에 이어서, 표면 처리 전구체 혼합물을 비활성 압력 치환에 의해 노즐을 통해 V-블렌더로 도입하고, 입자를 실온에서 혼합하면서, 입자 상에 분무하였다. 온도를 105℃ 내지 115℃로 상승을 계속하였다. 입자 혼합 및 증기상 수송은 표면 처리 전구체가 입자를 적시고 반응하여, 나노결정성 산화아연을 코팅할 수 있게 하였다. 온도는 105℃ 내지 115℃에서 1시간 동안 유지하였다.
e) 표면 처리된 산화아연을 진공을 거는 한편, 용기를 비활성 기체 N2로 표면 처리 용기 상에서 퍼징함으로써 건조하였다. 진공은 미반응 표면 처리 전구체 및 반응 부산물을 제거하였다. 동시에, 용기의 온도를 실온으로 냉각하였다. 표면 처리된 산화아연을 실온에서 용기로부터 제거하였다.
미용 제제에 첨가될 때, 산화아연 생성물에 대한 표면 처리는 이온 누출을 방지하고, 표면 처리된 산화아연 입자를 하전된 유기 잔기, 예컨대 아크릴레이트 기재 중합체, α- 및 β-히드록시산과 상용성이 되게 하였다. 산화아연 입자에 대한 어떠한 공업적 생성물 또는 공지된 표면 처리도 화학적으로 비활성인 거동이 관찰되지 않게 하였다.
상기 뱃치 공정은 연속적인 혼합 및 가열 장치 및 적합한 공정 개질을 사용함으로써, 당업자에 의해 인식되는 바와 같이, 더 많은 양의 입자를 표면 처리하거나 연속적으로 하도록 비례 설계될 수 있었다.
실시예 3 - 구체적인 표면 처리제 실시예
1) 물리적 일광차단 성분 - Si(20,80)/옥틸트리에톡시실란, 디페닐디메톡시실란; ZnO (23㎡/g)에 적용된 4.3중량％ 표면 처리 전구체 혼합물.
2) 물리적 일광차단 성분 - Si(20,80)/옥틸트리에톡시실란, 디페닐디메톡시실란; TiO2 (50㎡/g)에 적용된 대략 9.4중량％ 표면 처리 전구체 혼합물.
실시예 4 - 미용 제제
상기 기재된 방법에 의해 제조된 표면 처리된 산화아연을 각각 하기 표 다음의 절차를 사용하여, 표 1 내지 20에 제시된 수중유 제제로 혼입하였다.
제제 1
중량％ INCI - 명칭
상 A
1.5 스테아레쓰-2
0.5 스테아레쓰-21
3.0 세테아릴 알콜
0.2 밀납
20.0 세테아릴 에틸헥사노에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
상 B
0.3 아크릴레이트/C10-C30 알킬 아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
절차: 제제 1
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 A를 균질화기를 사용하여 3분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
3. 상 B 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 상 B를 상 A에 첨가하여, 혼합물 1을 형성하였다.
5. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
6. 혼합물 1을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
7. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30 초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
제제 2
중량％ INCI - 명칭
상 A
1.5 스테아레쓰-2
0.5 스테아레쓰-21
3.0 세테아릴 알콜
0.2 밀납
20.0 세테아릴 에틸헥사노에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
상 B
0.2 아크릴레이트/C10-C30 알킬 아크릴레이트 가교중합체
45.77 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
상 C
0.1 아크릴레이트/아크릴아미드 공중합체, 미네랄 오일, 폴리소르베이트 85, 트리에탄올아민
22.88 탈이온수
절차: 제제 2
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 A를 3분 동안 균질화기를 사용하여 15000rpm으로 교반하였다.
3. 상 B 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 상 C 성분을 혼합하고 80℃로 가열하였다.
5. 상 B 및 상 C를 혼합하여 혼합물 1을 형성하였다.
6. 혼합물 1을 상 A에 첨가하여, 혼합물 2를 형성하였다.
8. 혼합물 2를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
9. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
제제 3
중량％ INCI - 명칭
상 A
8.0 디부틸 아디페이트
8.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
12.0 코코글리세리드
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 라우릴 글루코시드 및 폴리글리세릴-2 디폴리히드록시스테아레이트 및 글리세린
2.0 세테아릴 알콜
5.0 표면 처리된 산화아연
상 B
3.0 글리세린
0.05 이나트륨 EDTA
0.2 알란토인
0.3 카르보머
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
상 C
0.5 DMDM 히단토인
절차: 제제 3
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 성분을 균질화기를 사용하여 3분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
3. 상 B 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 상 B 및 상 A를 혼합하여, 혼합물 1을 형성하였다.
5. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
6. 혼합물 1을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
7. 상 C를 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 혼합물 1에 혼합하였다.
제제 4
％ INCI - 명칭
상 A
7.50 에틸헥실 메톡시신나메이트
1.50 폴리소르베이트 20
3.00 나트륨 라우릴 락틸레이트
1.00 PEG-40 경화 카스터 오일
1.00 부티로스페르뭄 파르키 (셰어 버터)
6.50 C12-C15 알킬 벤조에이트
상 B
5.00 표면 처리된 산화아연
상 C
4.00 글리세린
1.00 판테놀, 프로필렌 글리콜
0.30 잔탄 검
0.10 이나트륨 EDTA
2.00 요소
2.00 히드록시에틸 아크릴레이트/나트륨 아크릴로일디메틸 타우레이트 공중합체, 스쿠알렌, 폴리소르베이트 60
100이 되도록 첨가 탈이온수
상 D
0.50 락트산
0.50 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 부틸파라벤, 에틸파라벤, 프로필파라벤, 이소부틸파라벤
절차: 제제 4
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 B를 상 A에 첨가하고, 균질화기를 사용하여 3분 동안 15000rpm으로 혼합하여 혼합물 1을 형성하였다.
3. 상 C 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 균질화기를 사용하여 3분 동안 11000rpm으로 혼합물 1 및 상 C를 혼합하여, 혼합물 2를 형성하였다.
5. 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 상 D를 혼합물 2에 첨가하여, 혼합물 3을 형성하였다.
6. 혼합물 3을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
7. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
제제 5
중량％ INCI - 명칭
상 A
1.00 세테아레쓰-25
2.00 세테아레쓰-6, 스테아릴 알콜
2.00 PEG-14 디메티콘
3.60 세테아릴 알콜
6.00 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.00 디부틸 아디페이트
5.00 표면 처리된 산화아연
상 B
1.00 판테놀
5.00 글리세린
100이 되도록 첨가 탈이온수
상 C
4.00 카프릴/카프르 트리글리세리드, 나트륨 아크릴레이트 공중합체
상 D
0.50 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 부틸파라벤, 에틸파라벤, 프로필파라벤, 이소부틸파라벤
절차: 제제 5
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 A를 균질화기를 사용하여 3분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
3. 상 B 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 상 B 및 상 A를 첨가 혼합하여, 혼합물 1을 형성하였다.
5. 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 상 C를 혼합물 1에 혼합하여, 혼합물 2를 형성하였다.
6. 상 D 성분을 혼합물 2에 첨가하고, 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
7. 혼합물 1을 균질화기를 사용하여 30초 내지 1분 동안 11000rpm으로 교반하였다.
제제 6
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
6.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
2.0 히드록시에틸 아크릴레이트/나트륨 아크릴로일
100이 되도록 첨가 탈이온수
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 6
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 7
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
6.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
2.0 아크릴레이트/C10-C30 알킬아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 7
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 8
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
6.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.0 이소헥사데칸
3.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
0.3 아크릴레이트/C10-C30 알킬아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.06 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 8
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 9
중량％ INCI - 명칭
상 A
8.0 디부틸 아디페이트
8.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
12.0 코코글리세리드
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 라우릴 글루코시드, 폴리글리세릴-2 디폴리히드록시스테아레이트
2.0 세테아릴 술페이트
5.0 표면 처리된 산화아연
상 B
3.0 글리세린
0.05 이나트륨 EDTA
0.2 알란토인
0.3 카르보머
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
상 C
0.5 DMDM 히단토인
절차: 제제 9
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 10
중량％ INCI - 명칭
상 A
8.0 디부틸 아디페이트
8.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
12.0 코코글리세리드
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 라우릴 글루코시드, 폴리글리세릴-2 디폴리히드록시스테아레이트
2.0 세테아릴 알콜
5.0 표면 처리된 산화아연
2.0 에틸헥실 트리아존
상 B
3.0 글리세린
0.05 이나트륨 EDTA
0.2 알란토인
0.3 카르보머
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
상 C
0.5 DMDM 히단토인
절차: 제제 10
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 11
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
3.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
3.0 옥토크릴렌
2.0 C12-C15-알킬벤조에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
2.0 아크릴레이트/C10-C30 알킬아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 11
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 12
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
4.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.0 2-(4-에톡시-아닐리노메틸렌)프로판디온산 디에틸 에스테르
2.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
2.0 아크릴레이트/C10-C30 알킬아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 12
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 13
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 스테아레쓰-21
2.0 세테아릴 알콜
4.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
2.0 드로메트리졸 트리실록산
2.0 C12-C15 알킬 벤조에이트
5.0 표면 처리된 산화아연
3.0 VP/에이코센 공중합체
상 B
5.0 글리세린
2.0 아크릴레이트/C10-C30 알킬아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
0.1 이나트륨 EDTA
상 C
0.5 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤
절차: 제제 13
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 14
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
1.0 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트
3.0 C12-C15-알킬 벤조에이트
0.5 밀납
3.0 세테아레쓰-6, 스테아릴 알콜
1.0 세테아리쓰-25
3.0 세테아릴 알콜
5.0 카프릴/카프르 트리글리세리드
3.0 표면 처리된 산화아연
2.0 표면 처리된 이산화티탄
상 B
2.0 히드록시에틸아크릴레이트/나트륨 아크릴로디메틸타우레이트 공중합체 및 스쿠알렌 및 폴리소르베이트 60
100이 되도록 첨가 탈이온수
상 C
0.5 벤질 알콜, 메틸클로로이소티아졸리논, 메틸이소티아졸리논
절차: 제제 14
1. 상 A 및 상 B를 별도로 약 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 균질화기를 사용하여 3분 동안 11000rpm으로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A로 교반하고, 균질화하였다.
4. 혼합물 3을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
5. 상 C를 교반하고, 균질화하였다.
제제 15
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
1.0 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트
3.0 C12-C15-알킬 벤조에이트
0.5 밀납
3.0 세테아레쓰-6, 스테아릴 알콜
1.0 세테아리쓰-25
3.0 세테아릴 알콜
5.0 이소헥사데칸
3.0 표면 처리된 산화아연
2.0 표면 처리된 이산화티탄
상 B
0.3 카르보머
0.04 트리에탄올아민
100이 되도록 첨가 탈이온수
상 C
0.5 벤질 알콜, 메틸클로로이소티아졸리논, 메틸이소티아졸리논
절차: 제제 15
1. 상 A 및 상 B를 별도로 약 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 균질화기를 사용하여 약 3분 동안 11000rpm으로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A로 교반하고, 균질화하였다.
4. 혼합물 3을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
5. 상 C를 교반하고, 균질화하였다.
제제 16
중량％ INCI - 명칭
상 A
4.0 글리세릴 스테아레이트, PEG-100 스테아레이트
3.0 에틸헥실 메톡시신나메이트
1.0 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트
0.5 레시틴
0.5 폴리글리세릴 이량체 소이에이트
상 B
0.25 산화철 브라운 70E 172
2.25 트리메틸올프로판 트리이소스테아레이트
상 C
5.5 시클로펜타실록산, 시클로헥사실록산
4.0 에틸헥실 팔미테이트
1.5 심몬드시아 키넨시스 (호호바) 씨 오일
2.0 프로필렌 글리콜 디카프릴레이트/디카프레이트
1.5 스위트 아몬드 (프루누스 아미그달루스 둘시스) 오일
5.0 표면 처리된 이산화티탄
0.5 토코페릴 아세테이트
1.0 부티로스페르뭄 파르키 (셰어 버터)
0.5 폴리글리세릴-2 디폴리히드록시스테아레이트
상 D
5.0 프로필렌 글리콜
0.5 폴록사머 188
0.1 이나트륨 EDTA
100이 되도록 첨가 탈이온수
상 E
2.00 히드록시에틸아크릴레이트/나트륨 아크릴로디메틸타우레이트 공중합체 및 스쿠알렌 및 폴리소르베이트 60
상 F
1.0 페노닙, 페녹시에탄올, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 부틸파라벤, 프로필파라벤, 이소부틸파라벤
0.2 비사볼올
절차: 제제 16
1. 상 A, B, C 및 상 D를 별도로 약 70℃로 가열하였다.
2. 상 B를 롤 밀 상에서 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 혼합하고, 균질화하였다.
4. 상 C를 균질화하고, 상 A 및 B로 교반하여, 12000 rpm으로 균질화하였다.
5. 상 D를 용해하고, 합해진 상 A, B 및 C로 교반하여 균질화하였다.
6. 상 E를 교반하고, 부드럽게 균질화하였다.
7. 교반 하에 40℃로 냉각하였다.
8. 상 F를 첨가하여, 균질화하였다.
제제 17
중량％ INCI - 명칭
상 A
1.5 스테아레쓰-2
0.5 스테아레쓰-21
3.0 세테아릴 알콜
0.2 밀납
20.0 세테아릴 에틸헥사노에이트
상 B
0.3 아크릴레이트/C10-C30 알킬 아크릴레이트 가교중합체
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
상 C
5.0 표면 처리된 산화아연
절차: 제제 17
1. 상 A 성분을 80℃로 가열하였다.
2. 상 A를 균질화기를 사용하여 11000rpm으로 3분 동안 교반하였다.
3. 상 B 성분을 혼합하고, 80℃로 가열하였다.
4. 상 C를 상 B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 상 B/C를 상 A에 첨가하고, 균질화하였다.
6. 혼합물을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 18
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 디에틸아미노 히드록시벤조일 헥실 벤조에이트
2.5 디-C12-C13 알킬 말레이트
0.5 토코페릴아세테이트
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 폴리글리세릴-3 메틸 글루코스 디스테아레이트
1.0 VP/에이코센 공중합체
1.0 글리세린
5.0 카프릴/카프르 트리글리세리드
3.0 표면 처리된 산화아연
상 B
2.0 히드록시에틸아크릴레이트/나트륨 아크릴로디메틸타우레이트 공중합체 및 스쿠알렌 및 폴리소르베이트 60
100이 되도록 첨가 탈이온수
절차: 제제 18
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 B를 상 A로 교반하고, 균질화하였다.
3. 혼합물을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 19
중량％ INCI - 명칭
상 A
3.0 아보벤존
2.5 디-C12-C13 알킬 말레이트
0.5 토코페릴아세테이트
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 폴리글리세릴-3 메틸 글루코스 디스테아레이트
1.0 VP/에이코센 공중합체
1.0 글리세린
5.0 카프릴/카프르 트리글리세리드
3.0 표면 처리된 산화아연
상 B
2.0 히드록시에틸아크릴레이트/나트륨 아크릴로디메틸타우레이트 공중합체 및 스쿠알렌 및 폴리소르베이트 60
100이 되도록 첨가 탈이온수
절차: 제제 19
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 B를 상 A로 교반하고, 균질화하였다.
3. 혼합물을 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
제제 20
중량％ INCI - 명칭
상 A
8.0 디부틸 아디페이트
8.0 C12-C15-알킬 벤조에이트
12.0 코코글리세리드
1.0 나트륨 세테아릴 술페이트
4.0 라우릴 글루코시드, 폴리글리세릴-2 디폴리히드록시스테아레이트
2.0 세테아릴 알콜
5.0 표면 처리된 산화아연
2.0 1,1-[(2,2'-디메틸프로폭시)카르보닐]-4,4-디페닐-1,3-부타디엔
상 B
3.0 글리세린
0.05 이나트륨 EDTA
0.2 알란토인
0.3 카르보머
100이 되도록 첨가 탈이온수
0.04 트리에탄올아민
3.0 칼륨 세틸 포스페이트
상 C
0.5 DMDM 히단토인
절차: 제제 20
1. 상 A 및 상 B 성분을 별도로 80℃로 가열하였다.
2. 상 A 및 상 B를 별도로 균질화하였다.
3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 3분 동안 균질화하였다.
4. 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 균질화하였다.
5. 혼합물 4를 완만한 유성 기어 혼합 하에 실온으로 냉각하였다.
상기 실시예는 일광 관리 제제로서 사용된 O/W 분산액이다. 그러나, 개시된 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지 않으며, 모든 개인 관리 제제를 위한 모든 허용가능한 미용 성분을 함유하는 기타 피부 관리 제제로 확장될 수 있다.
본 발명의 특정 구성요소, 실시양태 및 용도가 예시되고 기재되었으나, 특히 상기 교시의 관점에서 당업자에 의해 수정이 이루어질 수 있으므로, 본 발명은 물론 이에 제한되지 않음이 이해되어야 한다. 따라서, 첨부된 청구의 범위에 의해, 본 발명의 범주 내에 부합하는 이들 특징을 혼입하는 상기 변형을 보호할 것이 고려된다.

Claims (13)

  1. 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화(looped) 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하는 표면 처리된 입자를 효과적인 보호 농도로 사용하여 피부 또는 모발을 처리하는 것을 포함하며,
    여기서, 표면 처리제는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위(몰％)이며, x 및 y는 각각 약 1 내지 40 및 약 60 내지 99임)를 포함하며,
    여기서, x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
    y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
    여기서, 표면 처리된 ZnO 및/또는 TiO2로서 정의된 생성물(들) 자체가 개인 관리 제제에 사용되는 것인,
    자외선으로부터 인간 피부 또는 모발을 보호하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 표면 처리제가, x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90이며, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란의 군으로부터 선택되는 Si(x, y)를 포함하는 것인 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 효과적인 보호 농도가 개인 관리 제제의 전체 중량 기준으로 0.1중량％ 내지 25중량％ 범위인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 개인 관리 제제가 표면 처리된 산화아연 및/또는 이산화티탄 입자를 단독으로, 또는 UV 영역의 광을 흡수하며 미용 및 제약학적 제제용으로 공지된 화합물과 함께 포함하는 것인 방법.
  5. 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하는 표면 처리된 입자를 효과적인 보호 농도로 미용 및 제약학적으로 적합한 담체 내에 포함하며,
    여기서, 코팅 중합체는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위(몰％)이며, x 및 y는 각각 약 1 내지 40 및 약 60 내지 99임)를 포함하며,
    여기서, x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
    y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택되는 것인,
    자외선으로부터 인간 피부 또는 모발을 보호하기 위한 일광차단제-함유 개인 관리 제제.
  6. 제5항에 있어서, 표면 처리제가, x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90이며, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란의 군으로부터 선택되는 Si(x, y)를 포함하는 것인 개인 관리 제제.
  7. 입자의 적어도 일부를 캡슐화하는 별모양-그라프트 공중합체 상에 고리화 및/또는 선형 중합체 구조를 갖는 별모양-그라프트 공중합체 및 다수의 산화아연 및/또는 티타니아 입자를 포함하며,
    여기서, 표면 처리제는 Si(x, y) (여기서, x 및 y는 각각 3작용성 및 2작용성 단량체 단위(몰％)이며, x 및 y는 각각 약 1 내지 40 및 약 60 내지 99임)를 포함하며,
    여기서, x는 메틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥타데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 이들 단량체의 트리에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 3작용성 단량체의 군으로부터 선택되며,
    y는 디시클로헥실디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디-n-헥실디클로로실란, n-헥실메틸디클로로실란, 메틸도데실디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란 및 이들 단량체의 디에톡시-함유 상응물을 포함하는 미용적으로 허용가능한 비반응성 리간드를 갖는 2작용성 단량체의 군으로부터 선택되는 것인,
    표면 처리된 입자.
  8. 제7항에 있어서, 상기 표면 처리제가, x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90이며, x는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란 및 페닐트리에톡시실란의 군으로부터 선택되며, y는 n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란의 군으로부터 선택되는 Si(x, y)를 포함하는 것인, 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
  9. 제7항에 있어서, 입자가 나노결정성 입자인, 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
  10. 제7항에 있어서, 입자가 약 1nm 내지 약 900nm의 평균 입자 크기를 갖는 나노입자인 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
  11. 제7항에 있어서, 입자가 약 2nm 내지 약 500nm의 평균 입자 크기를 갖는 나노입자인 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
  12. 제7항에 있어서, 입자가 약 5nm 내지 약 100nm의 평균 입자 크기를 갖는 나노입자인 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
  13. 제7항에 있어서, x 및 y가 각각 약 10 내지 30 및 약 70 내지 90인 표면 처리된 산화아연 및/또는 티타니아 입자.
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