KR20060128230A - 수직 배열형 액정 배향층의 제작방법 - Google Patents

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밍토 숀
칭타우 리
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루슬란 엠 크라프추크
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인더스트리얼 테크놀로지 리서치 인스티튜트
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Abstract

본 발명은 수직배열형 액정배향층의 제작방법에 있어서, 기판을 챔버에 제공하는 단계와, 필름을 상기 기판 상에 형성하는 단계와, 플라즈마로 상기 필름을 처리하여 수직배열형 액정배향층을 형성하는 단계를 구비한다.
수직배열형 액정배향층, 액정표시장치, 플라즈마, 완전수직배향, 경사수직배향

Description

수직 배열형 액정 배향층의 제작방법{Method for Fabricating Liquid Vertical Alignment Layer}
도1 및 도2는 본 발명에 따른 수직배열형 액정배향층의 제작방법을 설명하는 도면;
도3은 본 발명에 따른 수직배열형 액정배향층의 제작방법의 제 1 실시예를 나타내는 도면;
도4는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 형성된 액정 셀의 예경각을 설명하는 그래프;
도5는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 상기 액정 셀의 예경각의 안정성을 설명하는 그래프;
도6a 및 도6b는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 수직배열형 액정표시장치에 사용되어지는 액정 셀의 제작 방법을 설명하는 도면이다.
(도면의 주요 부위에 대한 부호의 설명)
11 : 기판 12 : 필름
12′:수직 배열형 액정배향층 13,33 : 플라즈마 원
30 : 챔버 31 : 유리 기판
32 : F-PI 필름 34 ; 플라즈마 빔
60 : 진공 챔버 61 : 제 1의 기판
62 : 제 2의 기판 63 : 제 1의 전극
64 : 제 1의 필름 65 : 제 2의 전극
66 : 제 2의 필름 67 : 액정층
68 : 실링 콤파운드 600 : 액정 셀
본 발명은 액정 배향층의 제작방법에 관한 것으로, 특히 저제량(低劑量) 플라즈마를 이용한 수직 배열형 액정 배향층의 제작방법에 관한 것이다.
액정표시장치(liquid crystal display, LCD)의 제조과정에 있어서, 액정층의 배향효과는 LCD 품질을 결정하는 중요한 요인이 된다. 액정표시장치(TFT-LCD) 산업에 있어서, 제1 세대에서 제4 세대에 이르기까지 생산공장에 사용된 배향막 제조 프로세스는 대부분이 마찰방식의 접촉식 제조 프로세스을 이용하여 배향막을 제작하였으나, 최근에는 유리 기판이 대형화하는 경향으로 나아가기 때문에, 마찰식의 배향 방식은 이제는 패널·일드(yield)가 요구하는 표준에 적합하지 못하다. 이러한 이유로, 패널 제조에 종사하는 일반 업체는 모두가 적극적으로 비접촉식 배향의 기술을 연구하여, 프로세스·일드(yield)를 향상시키는 것에 전념하고 있다.
최근에 발전된 비접촉식 배향방식 중, 수직 배향은 다른 배향 방식에 비하여, 비교적 폭넓은 시각과, 비교적 빠른 응답 시간과, 비교적 높은 콘트라스트를 생성한다. 앞으로, 일반적으로 사용되고 있는 수직배향 형식은 "완전수직배향" 및 "경사수직배향"의 두종류가 있다. "완전수직배향"은 액정 예경각(豫傾角)과 배향 기재가 90도 각을 이루는 것을 가리키고, "경사수직배향"은 액정 예경각과 배향 기재의 래각 범위가 80도에서 90도에 있는 것을 가리킨다.
종래의 기술에 있어서, "완전수직배향"에 도달하기 위해서는, 예를 들어 릿지·타입(ridge type), 외변전계타입(fringe field type) 또는 릿지·타입과 외변전계타입의 다구역 액정표시장치 구조 등의 특정 전극 구조를 사용하지 않으면 안된다. 이와 같이, 사용되는 제조 프로세스는 복잡하고, 또한 상기 전극에 의하여 피복된 배향층도 불균등하다.
"경사수직배향"의 제작방법에는 상기의 문제가 없지만, 특정의 배향 재료 및 방법을 필요로 한다. 그 중에서 주로 광 배향방법을 이용하고, 선형편광 또는 비편광의 광화학 광빔에 의하여 경사된 배향 재료를 조사하고나서, 처음으로 액정 예경각, 균등도, 및 안정도에 도달할 수 있다. 그러나, 사용되는 배향재료는 빛에 대하여 민감한 배향 필름이어야 한다.
근래, 미국 특허 6,724,449호에는 이온 빔에 의하여 폴리이미드 필름을 충격 시키는 것에 의하여 수직배향층을 형성하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 상기 방법이 필요로 하는 이온 원(源) 및 챔버의 설비구조는 복잡하고, 또한 가격이 비교적 비싸다.
결국, 앞으로 각 대형 패널 공장에 사용되는 상용 수직배향 액정재료의 경비 및 배향막의 가격은 모두가 비싸서, 일반의 트위스트 네마틱(TN)형 패널에 사용되 는 재료의 4배이다.
상기 종래의 기술 결점과 관련하여, 만약 일반형의 액정재료 및 배향막을 사용하여, 수직배향형 LCD의 생산을 할 수 있다면, 패널메이커의 제조 가격을 절감하는 것에 기여할 수 있다. 또한, 시대의 조류인 수요적인 측면에서, 예를 들어 대형사이즈 LCDS 표시 칩의 배향 제조 프로세스와 같이, 앞으로는 모두 수직식배향을 주류로 하고 있어, 미래의 소프트 표시 패널 등의 신세대 현상기술에 대응하기 위하여 상기 산업은 매우 원가가 저렴하고, 신뢰도가 좋은 수직식 배향기술을 개발할 필요가 있다.
따라서, 본 발명자은 상기 과제를 해결하기 위하여, 열심히 연구와 시험을 거듭한 결과, 마침내 일반 액정재료 및 필름을 사용하여 수직배열형 액정배향층을 제작하여, 가격이 저렴하고 신뢰도가 높은 수직배향 효과에 도달한 "수직배열형 액정 배향층의 제작방법"을 안출하였다.
본 발명의 목적은 액정표시장치에 이용하여, 일반의 액정재료 및 필름을 사용 할 수 있을 뿐만 아니라, 보다 가격이 싸고 또한 신뢰도가 좋은 수직 배향 효과를 갖는 수직배열형 액정배향층의 제작방법을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의하여 제공되는 수직배열형 액정배향층의 제작방법은, 기판을 챔버에 제공하는 단계와, 필름을 상기 기판 상에 형성하는 단계와, 플라즈마로 상기 필름을 처리하여 상기 수직배열형의 액정배향층을 형성하는 단계를 구비한다(청구항 1에 대응).
상기 본 발명의 제작방법에 있어서, 상기 필름은 유기재료, 무기재료 및 다층재료 필름 중의 어느 하나이다. 상기 유기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate, PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA) 중 어느 하나이다. 상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소(含弗素)재료, 산화인듐 틴(ITO), 규소, 산화규소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나이다(청구항 2에 대응).
또, 상기 본 발명의 제작방법에 있어서, 상기 플라즈마는 아르곤(Ar) 플라즈마 빔, 및 수소·아르곤 혼합가스 플라즈마 빔 중 어느 하나이다. 상기 플라즈마는 양극층 입자 빔원 장치에 의하여 제공된다(청구항 3에 대응).
또 상기 본 발명의 제작방법에 있어서, 상기 플라즈마 빔의 입사각 범위는 20도 내지 80도이고, 상기 챔버 내의 이온 전류 밀도 범위는 0.1 ㎂/㎠ 내지 10 ㎂/㎠, 이온 에너지 범위는 300eV 내지 900eV, 및 방사시간 범위는 10초 내지 5분 이다.
나아가, 본 발명의 다른 목적은 수직 배열형 액정표시장치에 사용되는 액정 셀의 제작방법을 제공하는 데에 있다. 상기 방법은 일반의 액정재료 및 필름을 사용 할 수 있을 뿐만 아니라, 보다 가격이 싸고 또한 신뢰도가 좋은 수직배향 효과를 달성한다.
상기 액정 셀의 제작방법은 제 1의 전극 및 제 2의 전극을 제공하는 단계와, 제 1의 필름 및 제 2의 필름을 각각 상기 제 1의 전극 및 제 2의 전극 상에 형성하는 단계와, 상기 제 1의 필름 및 제 2의 필름을 플라즈마 내에 노출하여, 제 1의 수직배양층 및 제 2의 수직배양층을 형성하는 단계와, 제 1의 수직배향층과 제 2의 수직배향층과의 사이에 위치하는 액정층을 제공하는 단계를 구비한다.(청구항 4에 대응)
상기 본 발명의 액정 셀 제작방법에 있어서, 상기 제 1의 필름 및 제 2의 필름은 유기재료, 무기재료 및 다층재료 필름 중 어느 하나이다. 상기 유기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinnamate, PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA) 중 어느 하나이다. 상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소재료, 산화인듐 틴(ITO), 규소, 산화규소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나이다.(청구항 6에 대응)
또, 상기 본 발명의 액정 셀의 제작방법에 있어서, 상기 플라즈마는 아르곤(Ar)플라즈마 빔, 및 수소·아르곤 혼합가스 플라즈마 빔 중 어느 하나이다. 상기 플라즈마는 양극층 입자 빔원 장치에 의하여 제공된다.(청구항 7에 대응)
또 상기 본 발명의 액정 셀의 제작방법에 있어서, 상기 플라즈마 빔의 입사각 범위는 20도 내지 80도이고, 상기 챔버 내의 이온 전류 밀도 범위는 0.1 ㎂/㎠ 내지 10 ㎂/㎠, 이온 에너지 범위는 300eV 내지 900eV, 및 방사시간 범위는 10초 내지 5분 이다.
본 발명에 의하여 제공되는 수직배열형 액정배향층의 제작방법은 이하의 실 시예의 설명에 의하여, 보다 충분하게 이해되어 질 수 있다.
도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 수직배열형 액정배향층의 제작방법의 설명도이다. 도면에 나타낸 바와 같이, 상기 액정배향층은 액정표시장치 중에 적용되고, 상기 방법은 챔버(10) 내에 기판(11)을 제공하는 단계와, 이에 이어서 필름(12)을 기판(11) 상에 형성하는 단계와, 플라즈마로 필름(12)을 처리하고 수직배열형 액정배향층(12)을 형성하는 단계를 구비한다. 필름(12)은 유기재료, 무기재료 또는 다층재료 필름이다. 그 중 상기 유기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(poly vinylcinnamate, PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA) 중 어느 하나이고, 그리고 상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소(含弗素)재료, 산화인듐 틴(ITO), 규소, 산화규소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나이다. 또, 필름(12)이 다층재료 필름인 경우에는 상기 재료의 조합이다.
본 발명에 있어서, 필름(12)을 처리하는 플라즈마는 플라즈마 빔이고, 또한 상기 플라즈마 빔은 플라즈마원(13)(예를 들면, 양극층 입자 빔원 장치)에 의하여 제공된 아르곤(Ar) 플라즈마 빔 또는 수소 및 아르곤을 혼합한 플라즈마 빔이다. 상기 플라즈마 빔의 필름(12)에 대한 입사각 범위는 20도 내지 80도이다.
플라즈마의 작용이 분자 결합을 파괴 함과 동시에 분자고리의 절단을 형성하므로, 저제량(低劑量)의 플라즈마 충격은 빛의 반사작용에 상당한다. 본 발명에 있어서, 저제량의 플라즈마 충격에 달하기 위하여, 본 발명에 의하여 열심히 시험을 행한 결과, 챔버(10) 내의 이온 전류 밀도 범위는 0.1 ㎂/㎠ 내지 10 ㎂/㎠, 이온 에너지 범위는 300eV 내지 900eV, 및 필름(12)이 플라즈마를 받는 방사시간 범위는 10초 내지 5분 사이인 것이 적합하다는 것을 알았다.
제 1의 실시예
불화(弗化)한 폴리이미드(F-PI)를 디메틸포름아미드에 용해하여 농도가 2%인 용액을 형성했다. 상기 용액을 유리 기판(31)상에 적하한 후, 기판(31)을 5분간 90℃의 상태로 두고, 180℃의 온도에서 1.5시간 반응하여, 기판(31) 상에 F-PI 필름(32)을 침적 형성하였다. 그 후, 도 3에 나타낸 바와 같이, 챔버(30)에 있어서, 플라즈마원(源)에 의하여 제공된 아르곤(Ar) 플라즈마 빔(34)에 의하여, F-PI 필름(32)을 처리하고 수직배열형 액정배향층을 얻었다. 그 중, 플라즈마 빔(34)의 F-PI 필름(32)에 대한 입사각도 α는 70℃, 챔버(30) 내 이온 전류 밀도는 10 ㎂/㎠, 이온 에너지는 600eV, 플라즈마 방사시간은 0.5분간 이었다.
상기 제 1의 실시예에 의하여 얻어진 수직배열형 액정배향층을 액정 셀의 제작에 사용하고, 상기 양 배향층이 20 마이크로메타 떨어진 경우에 상기 양 배향층 안으로 액정을 주입한 결과, 고품질의 액정배향을 갖는 액정 셀을 얻은 외에, 검출 후 그 중의 액정분자와 배향층 표면과의 예경각이 80도 내지 90도 사이에 달하는 것이 확인되었다(도 4참조). 더 나아가서, 상기 액정 셀의 예경각 안정성을 검출한 결과, 도 5에 나타낸 바와 같이 액정분자와 배향층 표면과의 예경각이 장시간 안정효과를 갖는 것이 확인되 었다.
제 2의 실시예
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 2의 실시예이며, 수직배향형 액정표시장치의 액정 셀의 제작방법을 설명하는 도면이다. 도 6a에 나타낸 바와 같이, 챔버(60)에 있어서 제 1의 기판(61) 및 제 2의 기판(62)을 제공하고, 제 1의 기판(61) 상에 제 1의 전극(63) 및 제 1의 필름(64)를 형성시키고, 제 2의 기판(62) 상에 적어도 2개의 제 2의 전극(65) 및 제 2의 필름(66)을 형성하였다. 그 후, 챔버(60)에 있어서, 플라즈마원(미도시)에서 저제량의 아르곤 플라즈마 빔을 제공하고, 또는 저제량의 아르곤 및 수소의 혼합 플라즈마 빔을 제공하고, 제 1의 필름(64) 및 제 2의 필름(66)을 충격 함과 동시에 , 제 1의 필름(64) 및 제 2의 필름(66)에 대하여 수직배향 작용을 진행하였다. 플라즈마 원은 양이온 발사기(anode layer thruster, ALT), 플라즈마 빔원 또는 플라즈마 원이 사용된다. 그 후, 수직배향의 제 1의 필름(64)과 제 2의 필름(66)과의 사이에 액정층(67)을 주입한 다음, 실링 콤파운드(68)으로 봉한 후, 액정 셀(600)을 얻었다.
챔버(60)에 있어서, 저제량의 플라즈마 충격에 달하기 위하여, 챔버(60) 내의 이온 전류 밀도 범위를 0.1 ㎂/㎠ 내지 10 ㎂/㎠로, 이온 에너지의 범위를 300eV 내지 900eV로, 및 제 1의 필름(64)과 제 2의 필름(66)이 받는 플라즈마의 방사시간 범위를 10초 내지 5분간으로 하였다.
제 1의 필름(64) 및 제 2의 필름(66)은 유기재료, 무기재료 또는 다층재료 필름이고, 그 중 상기 유기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(poly vinylcinnamate, PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA) 중 어느 하나이고, 그리고 상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소재료, 산화인듐 틴 (ITO), 규소, 산화규소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나이다. 또, 제 1의 필름(64) 및 제 2의 필름(66)이 다층재료 필름인 경우에는 상기 재료의 조합이다.
결국, 본 발명은 저제량 플라즈마로 필름을 충격하는 것에 의하여 수직배열형 액정배향층의 방법을 제공하고, 일반 액정재료 및 필름을 사용하여 양호한 수직예경각에 도달함과 동시에 장시간의 안정 효과를 가질 뿐만 아니라, 보다 가격이 싸고 또한 설비가 간단한 수직배향 효과를 달성할 수 있다.
상기 실시형태는, 본 발명의 기술적 수단을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 당연히 본 발명의 기술적 사상은 이것에 한정되지 않고, 첨부된 청구범위를 벗어나지 않는 한, 당업자에 의한 단순한 설계 변경, 추가, 수정, 변환 등은 모두 본 발명의 기술범위에 속한다.
본 발명은 저제량 플라즈마로 필름을 충격하는 것에 의하여 수직배열형 액정배향층의 방법을 제공하고, 일반 액정재료 및 필름을 사용하여 양호한 수직예경각에 도달함과 동시에 장시간의 안정 효과를 갖을 뿐만 아니라, 보다 가격이 싸고 또한 설비가 간단한 수직배향 효과를 갖는다.

Claims (7)

  1. 기판을 챔버에 제공하는 단계;
    필름을 상기 기판 상에 형성하는 단계; 및
    플라즈마로 상기 필름을 처리하여 수직배열형 액정배향층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 수직배열형 액정배향층의 제작방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 필름은 유기재료, 무기재료 및 다층재료 필름 중 어느 하나이고,
    상기 유기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 중 어느 하나이고, 및 / 또는
    상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소재료, 산화인듐 틴(ITO), 규소, 산화규소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 제작방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마는 아르곤(Ar) 플라즈마 빔, 및 수소· 아르곤 혼합가스 플라즈마 중 어느 하나이고, 및 / 또는
    상기 플라즈마는 양극층 입자 빔원 장치에 의하여 제공되는 것을 특징으로 하는 제작방법.
  4. 수직배향형 액정표시장치에 사용되는 액정 셀의 제작방법에 있어서,
    제 1의 전극 및 제 2의 전극을 제공하는 단계;
    제 1의 필름 및 제 2의 필름을 각각 상기 제 1의 전극 및 제 2의 전극 상에 형성하는 단계;
    상기 제 1의 필름 및 상기 제 2의 필름을 플라즈마 중에 노출하여 제 1의 수직배양층 및 제 2의 수직배양층을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1의 수직배향층과 제 2의 수직배향층과의 사이에 위치하는 액정층을 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 셀의 제작방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제 1의 필름 및 제 2의 필름은 유기재료, 무기재료 및 다층재료 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 제작방법.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 무기재료는 폴리이미드, 폴리비닐신나메이트(PVNC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 중 어느 하나이고, 및 /또는
    상기 무기재료는 유리, 석영, 함불소재료, 산화인듐 틴(ITO), 규소, 산화규 소(SiO2, SiOX), 다이아몬드 라이크 카폰(DLC) 및 아몰퍼스 실리콘 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 제작방법.
  7. 제 4항에 있어서,
    상기 플라즈마는 아르곤(Ar) 플라즈마 빔, 및 수소·아르곤 혼합가스 플라즈마 중 어느 하나이고, 및 /또는
    상기 플라즈마는 양극 층 입자 빔원 장치에 의하여 제공되는 것을 특징으로 하는 제작방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101251574B1 (ko) * 2010-09-02 2013-04-08 경희대학교 산학협력단 광학 보상필름 및 그 제조방법
CN115220254A (zh) * 2022-08-02 2022-10-21 合肥工业大学 一种反应离子刻蚀处理取向层控制液晶分子预倾角方法

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