KR20060099043A - 챔버 시스템 - Google Patents

Abstract

가스공급라인의 분리 및 결합이 용이하고 가스의 유출을 방지할 수 있는 가스공급수단을 갖는 챔버 시스템에 대해 개시한다. 그 시스템은 챔버에 가스를 공급하며, 양쪽으로 분리된 각각의 가스공급라인으로 이루어진 복수개의 가스공급라인 및 챔버의 일측에 장착되어, 각각의 가스공급라인의 일부분을 일면에 고정시키고 각각의 가스공급라인의 타부분을 타면에 고정시키는 고정홀 영역이 형성된 판형태의 보정판을 포함한다.

챔버, 가스공급, 보정판, 고정홀

Description

챔버 시스템{Chamber system}

도 1은 종래의 가스공급수단을 구비하는 챔버를 개략적으로 나타낸 개략도이다.

도 2는 종래의 가스공급수단을 부분적으로 절개하여 나타낸 부분절개도이다.

도 3은 본 발명에 의한 가스공급수단을 구비하는 챔버를 개략적으로 나타낸 개략도이다.

도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ선에 따라 절단한 단면도이다.

도 5는 본 발명에 의한 보정판을 나타낸 단면도이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

50; 챔버 60; 가스공급라인

62; 제1 보정틀 64; 제2 보정틀

70; 보정판 72; 고정홀 영역

73; 고정홀 74; 제2 밀착링

78; 제1 밀착링

본 발명은 반도체 소자의 제조장치에 관한 것으로, 특히 챔버에 가스를 공급하는 가스공급수단이 부착된 챔버 시스템에 관한 것이다.

일반적으로 반도체소자는 반도체기판의 상면에 다층의 박막을 적층하는 과정을 반복하면서 제조된다. 박막을 적층하는 공정을 진행하는 과정에서는 반응가스 및 세정가스 등과 같은 다양한 가스들이 박막제조장치 내로 공급되고 있다. 이에 따라, 박막제조장치는 별도의 가스공급수단을 구비하고 있다.

도 1은 종래의 가스공급수단을 구비하는 챔버를 개략적으로 나타낸 개략도이다. 도 2는 종래의 가스공급수단을 부분적으로 절개하여 나타낸 부분절개도이다.

도 1을 참조하면, 소정의 반응을 위한 공간을 제공하는 챔버(10)는 실질적으로 반응이 진행되는 챔버본체(11)와 챔버본체(11)를 덮는 챔버뚜껑(12)을 포함한다. 챔버에 공급되는 가스는 챔버(10)의 측벽에 고정된 복수개의 가스공급라인(20)들에 의해 챔버(10) 내부로 주입된다. 가스공급라인(20)은 양쪽으로 분리되어 있으며 연결수단, 예를 들어 볼트와 너트 등에 의해 서로 연결된다.

도 2에 도시된 바에 의하면, 양쪽으로 분리된 가스공급라인(20)은 각각의 단부를 내재하는 연결수단(22)에 의해 가스의 유출을 방지하는 가스켓(24; gasket)을 사이에 두고 연결된다. 참조부호 26은 가스의 유출을 감지하기 위한 감지부이다.

한편, 가스공급수단에 대한 설비보전 작업을 수행하기 위해서는 먼저 가스공급라인(20)의 연결수단(22)을 이용하여 가스공급라인(20)의 연결을 끊고 가스켓(24)을 제거한다. 그후, 챔버뚜껑(12)을 들어 올린다. 설비보전 작업이 완료되면, 챔버뚜껑(12)을 내리고 다시 가스켓(24)을 장착하고 연결수단(22)을 이용하여 가스공급라인(20)을 서로 연결한다.

그런데, 설비보전 작업을 여러 번 반복 수행하면 연결수단을 인위적으로 결합하고 푸는 과정에서 가스공급라인(20)이 휘어질 수 있다. 또한 연결수단(22)을 결합할 때 무리한 힘이 가해질 수 있으며, 연결수단을 여러 번 풀고 조이는 복잡한 과정을 거쳐야 한다. 결국, 가스공급라인(20)은 휘어지거나 파손되어 가스유출을 야기한다.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 가스공급라인의 분리 및 결합이 용이하고 가스의 유출을 방지할 수 있는 가스공급수단을 갖는 챔버 시스템을 제공하는 데 있다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 챔버 시스템은 소정의 반응을 위한 공간을 제공하는 챔버와, 상기 챔버에 가스를 공급하며, 양쪽으로 분리된 각각의 가스공급라인으로 이루어진 복수개의 가스공급라인 및 상기 챔버의 일측에 장착되어, 상기 각각의 가스공급라인의 일부분을 일면에 고정시키고 상기 각각의 가스공급라인의 타부분을 타면에 고정시키는 고정홀 영역이 형성된 판형태의 보정판을 포함한다.

상기 보정판은 상기 챔버의 측벽에 고정될 수 있다.

상기 보정판은 상기 보정판을 고정시키고 상기 복수개의 가스공급라인을 내 재하면서, 상기 보정판의 상기 일면에 부착되는 제1 보정틀과 상기 보정판의 상기 타면에 부착되는 제2 보정틀을 더 포함할 수 있다.

상기 보정판은 상기 고정홀 영역을 내재하고 상기 제1 보정틀과 상기 제1 보정틀을 밀착시키기 위한 제1 밀착링을 더 포함할 수 있다.

상기 제1 보정틀과 상기 제2 보정틀은 상기 제1 밀착링의 바깥쪽의 상기 보정판에 형성된 고정홈에 고정수단을 통하여 고정될 수 있다. 이때, 상기 제1 밀착링은 칼리츠 재질의 O-링일 수 있다.

상기 고정홀 영역은 원형의 고정홀을 포함할 수 있다.

상기 고정홀 영역의 바깥측은 상기 고정홀을 내재하면서 상기 가스공급라인에서의 가스의 유출을 막기 위한 제2 밀착링을 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 제2 밀착링은 칼리츠 재질의 O-링일 수 있다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다.

도 3은 본 발명의 실시예에 의한 가스공급수단을 구비하는 챔버를 개략적으로 나타낸 개략도이다. 도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ선에 따라 절단한 단면도이다.

도 3 및 도 4를 참조하면, 소정의 반응을 위한 공간을 제공하는 챔버(50)는 실질적으로 반응이 진행되는 챔버본체(51)와 챔버본체(51)를 덮는 챔버뚜껑(52)을 포함한다. 챔버(50)에 공급되는 가스는 챔버(50)의 측벽에 고정된 복수개의 가스공급라인(60)들에 의해 챔버(50) 내부로 주입된다. 판형태의 보정판(70)은 챔버(50)의 일측, 예를 들어 측벽에 장착되어, 각각의 가스공급라인(60)의 한쪽 부분의 단부를 일면에 고정시키고 각각의 가스공급라인(60)의 다른 쪽 부분의 단부를 타면에 고정시키는 고정홀(73)이 형성되어 있다.

보정판(70)은 복수개의 가스공급라인(60)들을 내재하면서, 보정판(70)의 한쪽 면에 부착되는 제1 보정틀(62)과 보정판(70)의 타면에 부착되는 제2 보정틀(64)을 양 측에 구비할 수 있다. 즉, 제1 및 제2 보정틀(62, 64)은 보정판(70)에 복수개의 가스공급라인(60)들을 부착시키고, 가스공급라인(60)들이 움직이지 못하도록 고정하는 역할을 한다. 가스공급라인(60)들은 제2 밀착링(74)에 의하여 보정판(70)에 단단하게 고정됨과 동시에 가스의 유출을 방지할 수 있다. 이때, 제2 밀착링(74)은 칼리츠 재질의 O-링인 것이 바람직하다. 제1 보정틀(62)과 제2 보정틀(64)은 가스공급라인(60)들의 바깥쪽의 보정판(70)에 형성된 에 형성된 고정홈(68)에 고정수단(66), 예를 들어 스크류에 의해 고정될 수 있다.

도 5는 본 발명의 실시예에 의한 보정판을 나타낸 단면도이다.

도 5를 참조하면, 보정판(70)은 고정홀(73)을 포함하는 고정홀 영역(72)을 내재하면서, 제1 보정틀(62)과 제2 보정틀(64)을 밀착시키기 위한 제1 밀착링(78)을 포함할 수 있다. 이때, 제1 밀착링(78)은 칼리츠 재질의 O-링인 것이 바람직하다. 고정홀 영역(72)은 가스를 통과시키는 원형의 고정홀(73)과 제2 밀착링(74)으로 이루어진다.

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.

상술한 본 발명에 따른 챔버 시스템에 의하면 복수개의 가스공급라인을 고정하는 판 형태의 보정판을 구비함으로써, 가스공급라인의 분리 및 결합이 용이하고 가스의 유출을 방지할 수 있다.

Claims (9)

1. 소정의 반응을 위한 공간을 제공하는 챔버;

   상기 챔버에 가스를 공급하며, 양쪽으로 분리된 각각의 가스공급라인으로 이루어진 복수개의 가스공급라인; 및

   상기 챔버의 일측에 장착되어, 상기 각각의 가스공급라인의 일부분을 일면에 고정시키고 상기 각각의 가스공급라인의 타부분을 타면에 고정시키는 고정홀 영역이 형성된 판형태의 보정판을 포함하는 챔버 시스템.
2. 제1항에 있어서, 상기 보정판은 상기 챔버의 측벽에 고정되는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
3. 제1항에 있어서, 상기 보정판은 상기 보정판을 고정시키고 상기 복수개의 가스공급라인을 내재하면서, 상기 보정판의 상기 일면에 부착되는 제1 보정틀과 상기 보정판의 상기 타면에 부착되는 제2 보정틀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
4. 제3항에 있어서, 상기 보정판은 상기 고정홀 영역을 내재하고 상기 제1 보정틀과 상기 제1 보정틀을 밀착시키기 위한 제1 밀착링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
5. 제4항에 있어서, 상기 제1 보정틀과 상기 제2 보정틀은 상기 제1 밀착링의 바깥쪽의 상기 보정판에 형성된 고정홈에 고정수단을 통하여 고정되는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
6. 제4항에 있어서, 상기 제1 밀착링은 칼리츠 재질의 O-링인 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
7. 제1항에 있어서, 상기 고정홀 영역은 원형의 고정홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
8. 제1항에 있어서, 상기 고정홀 영역의 바깥측은 상기 고정홀을 내재하면서 상기 가스공급라인에서의 가스의 유출을 막기 위한 제2 밀착링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.
9. 제8항에 있어서, 상기 제2 밀착링은 칼리츠 재질의 O-링인 것을 특징으로 하는 챔버 시스템.

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