KR20060076870A

KR20060076870A - A clean room for a liquid crystal display device

Info

Publication number: KR20060076870A
Application number: KR1020040115487A
Authority: KR
Inventors: 조찬형
Original assignee: 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date: 2004-12-29
Filing date: 2004-12-29
Publication date: 2006-07-05

Abstract

본 발명은 차단막을 사용하여 상승기류를 억제시킴으로써, 작업공간 내부의 이물질의 부유를 방지할 수 있는 액정표시장치 제조용 클린룸에 관한 것으로, 액정표시장치 제조용 클린 룸에 있어서, 액정표시장치용 제조장비가 구비되며 바닥면에 다수개의 개구부가 형성된 작업공간; 상기 작업공간의 상부에 형성된 천정부; 상기 작업공간의 바닥면의 하부에 형성된 설비공간; 상기 천정부에 구비되며, 외부 공기 또는 덕트내의 공기를 흡입하여, 이를 정화시켜 상기 작업공간을 향해 수직으로 분출하는 공기정화필터; 상기 설비공간의 양측 가장자리 내벽에 설치되어 상기 작업공간의 바닥면에 형성된 개구부를 통과한 공기를 흡입하여, 이를 외부로 배출하는 팬; 및, 상기 팬과 상기 작업공간의 바닥면 사이에 구비되어, 상기 바닥면의 개구부를 통과한 공기의 진행방향을 차단하는 차단막을 포함하여 구성되는 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room for manufacturing a liquid crystal display device capable of preventing floating of foreign substances in a work space by suppressing rising airflow using a blocking film. Is provided with a work space formed with a plurality of openings on the bottom surface; A ceiling formed in an upper portion of the workspace; A facility space formed below the bottom surface of the work space; An air purification filter provided in the ceiling and configured to suck outside air or air in the duct, purify it, and blow it vertically toward the working space; A fan installed at both inner edges of the facility space to suck air passing through the opening formed in the bottom surface of the work space and discharge the air to the outside; And a blocking film provided between the fan and the bottom surface of the working space to block a traveling direction of the air passing through the opening of the bottom surface.

액정표시장치, 클린룸, 천정부, 작업공간, 설비공간, 필터장치, 차단막, 상승기류LCD, clean room, ceiling, work space, facility space, filter device, barrier film, rising airflow

Description

Clean room for a liquid crystal display device

도 1은 종래의 클린룸의 구성도1 is a block diagram of a conventional clean room

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸의 구성도2 is a block diagram of a clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 클린룸의 구성도 3 is a block diagram of a clean room according to a second embodiment of the present invention;

도 4는 도3의 차단막에 형성된 개구부를 설명하기 위한 도면4 is a view for explaining an opening formed in the blocking film of FIG.

＊도면의 주요부에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

201 : 천정부 202 : 작업공간201: Heavenly Government 202: Workspace

203 : 설비공간 260 : 바닥면203: facility space 260: floor surface

288 : 필터장치 288a : 송풍기288 filter unit 288a blower

288b : 필터 288c : 가압실288b: filter 288c: pressurization chamber

204 : 덕트 222 : 차단막204: Duct 222: Blocking film

244 : 지지대 250 : 팬244 support 250

215 : 개구부 215: opening

본 발명은 액정표시장치용 클린룸에 관한 것으로, 특히 설비공간내의 양측 내벽에 설치된 팬의 흡입력에 의한 작업공간의 양측 내벽에서의 상승기류를 최소화하여 상기 작업공간내의 이물질의 부유를 방지할 수 있는 액정표시장치 제조용 클린룸에 대한 것이다.The present invention relates to a clean room for a liquid crystal display device, and in particular, it is possible to minimize the air flow in both inner walls of the work space by the suction force of the fan installed on both inner walls of the facility space, thereby preventing the floating of foreign matter in the work space. The present invention relates to a clean room for manufacturing a liquid crystal display device.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장치에서 표시장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms.In recent years, liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electro luminescent display (ELD), and vacuum fluorescent display (VFD) have been developed. Various flat panel display devices have been studied, and some are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비전, 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most widely used as a substitute for CRT (Cathode Ray Tube) for the use of mobile image display device because of the excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption, and mobile type such as monitor of notebook computer. In addition, it is being developed in various ways, such as a television for receiving and displaying broadcast signals, and a monitor of a computer.

이와 같이 액정표시장치가 여러 분야에서 화면 표시장치로서의 역할을 하기 위해 여러 가지 기술적인 발전이 이루어 졌음에도 불구하고 화면 표시장치로서 화상의 품질을 높이는 작업은 상기 장점과 배치되는 면이 많이 있다.As described above, although various technical advances have been made in order for the liquid crystal display device to serve as a screen display device in various fields, the task of improving the image quality as the screen display device has many advantages and disadvantages.

따라서, 액정표시장치가 일반적인 화면 표시장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고 품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 발전의 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.Therefore, in order to use a liquid crystal display device in various parts as a general screen display device, the key to development is how much high definition images such as high definition, high brightness, and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness, and low power consumption. It can be said.

이와 같은 액정표시장치는, 화상을 표시하는 액정패널과 상기 액정패널에 구동신호를 인가하기 위한 구동부로 크게 구분될 수 있으며, 상기 액정패널은 공간을 갖고 합착된 제 1 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 주입된 액정층으로 구성된다. Such a liquid crystal display device may be broadly divided into a liquid crystal panel displaying an image and a driving unit for applying a driving signal to the liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel includes a first and second substrates having spaces, and It consists of a liquid crystal layer injected between a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate.

여기서, 상기 제 1 기판(TFT 어레이 기판)에는, 일정 간격을 갖고 일방향으로 배열되는 다수개의 게이트 라인과, 상기 각 게이트 라인과 수직한 방향으로 일정한 간격으로 배열되는 다수개의 데이터 라인과, 상기 각 게이트 라인과 데이터 라인이 교차되어 정의된 각 화소영역에 매트릭스 형태로 형성되는 복수개의 화소전극과 상기 게이트 라인의 신호에 의해 스위칭되어 상기 데이터 라인의 신호를 상기 각 화소전극에 전달하는 다수개의 박막트랜지스터가 형성되어 있다. The first substrate (TFT array substrate) may include a plurality of gate lines arranged in one direction at a predetermined interval, a plurality of data lines arranged at regular intervals in a direction perpendicular to the gate lines, and the respective gates. A plurality of thin film transistors, which are switched by a plurality of pixel electrodes formed in a matrix form in each pixel region defined by crossing lines and data lines, and signals of the gate lines, transfer the signals of the data lines to the pixel electrodes. Formed.

그리고, 상기 제 2 기판(컬러필터 기판)에는, 상기 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙매트릭스층과, 컬러 색상을 표현하기 위한 R, G, B 컬러필터층과 화상을 구현하기 위한 공통전극이 형성되어 있다.In addition, the second substrate (color filter substrate) has a black matrix layer for blocking light in portions other than the pixel region, an R, G, and B color filter layer for expressing color colors, and a common image for implementing an image. An electrode is formed.

이와 같은 상기 제 1 기판과 제 2 기판은 스페이서(spacer)에 의해 일정 공간을 갖고 시일재(sealant)에 의해 합착되고 상기 두 기판 사이에 액정층이 형성된다.The first substrate and the second substrate have a predetermined space by a spacer and are bonded by a sealant to form a liquid crystal layer between the two substrates.

한편, 상기와 같은 액정표시장치의 제조는 Si웨이퍼나 평판유리 등으로 이루어지는 기판 상에 미크론단위 또는 그 이하의 미세가공을 실시하기 때문에 제조 중의 기판으로의 이물(예컨대, 분진입자)의 부착이 곧바로 제품수율을 저하시키는 원 인으로 된다. 이 때문에 액정표시장치의 제조라인은 청정도(클린도)가 높은 환경으로 관리된 클린룸(clean room) 내에 설치되어 있다.On the other hand, in the manufacture of the liquid crystal display device as described above, since fine processing of micron units or less is performed on a substrate made of Si wafer, flat glass, or the like, adhesion of foreign matter (eg, dust particles) to the substrate during manufacture is immediately achieved. This may cause a decrease in product yield. For this reason, the manufacturing line of the liquid crystal display device is installed in a clean room managed in an environment of high cleanliness.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 클린룸을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a conventional clean room will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 클린룸의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional clean room.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 클린룸은 작업공간(102), 상기 작업공간(102)의 상부에 형성된 천정부(101), 및 상기 작업공간(102)의 하부에 형성된 설비공간(103)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the conventional clean room has a work space 102, a ceiling portion 101 formed at an upper portion of the work space 102, and a facility space 103 formed at a lower portion of the work space 102. It includes.

여기서, 상기 작업공간(102)에는 각종 액정표시장치용 제조장비들(도시되지 않음)이 구비되어 있으며, 상기 작업공간(102)의 바닥면(190)에는 다수개의 개구부(115)가 형성되어 있다. 그리고, 상기 천정부(101)에는 송풍기(188a), 가압실(188c)(High pressure chamber) 및 고성능 필터(188b)로 이루어진 필터장치(188)가 구비되어 있다. 그리고, 상기 설비공간(103)의 양측 내벽에는 팬(150)이 구비되어 있다.Here, the work space 102 is provided with various liquid crystal display manufacturing equipment (not shown), and a plurality of openings 115 are formed in the bottom surface 190 of the work space 102. . The ceiling portion 101 is provided with a filter device 188 composed of a blower 188a, a high pressure chamber 188c and a high performance filter 188b. The fan 150 is provided on both inner walls of the facility space 103.

한편, 상기 클린룸의 외부에는 상기 팬(150)으로부터 배출된 공기를 상기 천정부(101)로 귀환시키기 위한 덕트(104)가 형성되어 있다.On the other hand, the outside of the clean room is formed with a duct 104 for returning the air discharged from the fan 150 to the ceiling (101).

이와 같이 구성된 종래의 클린룸은 다음과 같은 순서에 의해 작업공간(102)의 공기를 정화시킨다.The conventional clean room configured as described above purifies the air in the workspace 102 in the following order.

먼저, 송풍기(188a)는 외부로부터의 공기 또는 팬(150)으로부터 배출된 공기를 흡입하고, 상기 흡입된 공기를 필터(188b)로 전달한다. 그러면, 상기 필터 (188b)는 상기 전달받은 공기를 정화시켜, 이를 가압실(188c)로 전달한다. 그러면, 상기 가압실(188c)은 상기 정화된 공기를 가압하여 상기 작업공간(102)내로 분출한다. 이때, 상기 가압실(188c)로부터 나온 공기는 상기 작업공간(102)의 바닥면(190)에 대하여 수직하는 방향으로 상기 작업공간(102)으로 분출된다. First, the blower 188a sucks air from the outside or air discharged from the fan 150 and transfers the sucked air to the filter 188b. Then, the filter 188b purifies the received air and delivers it to the pressure chamber 188c. Then, the pressurization chamber 188c pressurizes the purified air and blows it into the work space 102. At this time, the air from the pressurizing chamber 188c is ejected to the work space 102 in a direction perpendicular to the bottom surface 190 of the work space 102.

여기서, 상기 작업공간(102)내로 분출된 공기는 상기 작업공간(102)의 바닥면(190)에 형성된 다수개의 개구부(115)를 통과하면서, 상기 설비공간(103)내로 유입된다. 이때, 상기 분출된 공기는 상기 설비공간(103)으로 빠져나가면서, 상기 작업공간(102)내의 이물질을 상기 설비공간(103)내로 배출시킨다.Here, the air blown into the workspace 102 is introduced into the facility space 103 while passing through a plurality of openings 115 formed in the bottom surface 190 of the workspace 102. At this time, the blown air exits the facility space 103 and discharges foreign substances in the work space 102 into the facility space 103.

그리고, 상기 설비공간(103)에 구비된 팬(150)은 상기 설비공간(103)에 유입된 공기, 즉 이물질이 함유된 공기를 빨아들이고, 이를 덕트(104)로 배출하게 된다. 그러면, 상기 덕트(104)로 배출된 공기는 상기 덕트(104)를 따라 다시 송풍기(188a)로 귀환한다. 여기서, 상기 덕트(104)에 표시된 화살표(123)는 상기 공기의 귀환방향을 나타낸다.In addition, the fan 150 provided in the facility space 103 sucks air introduced into the facility space 103, that is, air containing foreign matter, and discharges it to the duct 104. Then, the air discharged to the duct 104 is returned back to the blower 188a along the duct 104. Here, the arrow 123 displayed on the duct 104 indicates the return direction of the air.

그러면, 상기 공기는 필터(188b) 및 가압실(188c)을 통해 정화되어, 상술한 바와 같은 방식으로 상기 작업공간(102)내에 분출됨으로써, 상기 작업공간(102)내의 이물질을 외부로 배출하게 된다.Then, the air is purified through the filter 188b and the pressurizing chamber 188c, and is blown into the work space 102 in the manner as described above, thereby discharging the foreign matter in the work space 102 to the outside. .

그러나, 종래의 클린룸에는 다음과 같은 문제점이 있었다.However, the conventional clean room has the following problems.

먼저, 도 1의 작업공간(102)내에 표시된 화살표(160)는 상기 작업공간(102)내의 공기의 흐름의 방향, 즉 기류의 방향을 나타낸 것이며, 상기 설비공간(103)내에 표시된 화살표(170)는 상기 설비공간(103)내에서의 팬(150)의 흡입력의 방향을 나타낸다.First, the arrow 160 indicated in the workspace 102 of FIG. 1 indicates the direction of air flow, that is, the direction of air flow, in the workspace 102, and the arrow 170 indicated in the installation space 103. Denotes a direction of suction force of the fan 150 in the installation space 103.

여기서, 상기 작업공간(102)내의 이물질을 효과적으로 제거하기 위해서는 상기 기류의 방향이 바닥면(190)에 대하여 수직하는 방향이 되어야 한다. 그러나, 설비공간(103)의 팬(150)이 상기 설비공간(103)의 양측 내벽에 설치됨으로 인해 상기 작업공간(102)내의 기류 방향이 상기 바닥면(190)에 대하여 수직하는 방향을 이루지 못하게 된다. Here, in order to effectively remove the foreign matter in the workspace 102, the direction of the airflow should be a direction perpendicular to the bottom surface 190. However, the fan 150 of the facility space 103 is installed on both inner walls of the facility space 103 so that the air flow direction in the work space 102 does not form a direction perpendicular to the bottom surface 190. do.

즉, 상기 작업공간(102)내의 전체적인 기류의 방향은 상기 팬(150)의 흡입력의 방향에 영항을 많이 받는데, 상기 팬(150)이 상기 설비공간(103)의 양측 내벽에 설치됨으로 인해, 상기 작업공간(102)내의 기류의 방향은 상기 바닥면(190)에 수직한 방향이 되지 못하고, 상기 팬(150)이 있는 방향, 즉 상기 설비공간(103)의 양측 내벽으로 쏠리게 된다. 이때, 상기 작업공간(102)내의 내벽에 근접한 부분의 공기는 상기 작업공간(102)의 내벽에 충돌하게 된다. 그러면, 상기 작업공간(102)의 내벽 부근에서 상승기류가 발생하고, 이에 의해 상기 작업공간(102)의 내벽 부근에 존재하는 이물질들이 부유하면서 상기 작업공간(102)내를 오염시키는 문제점이 발생한다.That is, the direction of the overall air flow in the working space 102 is affected by the direction of the suction force of the fan 150, because the fan 150 is installed on both inner walls of the installation space 103, The direction of airflow in the work space 102 does not become a direction perpendicular to the bottom surface 190, but is directed to the direction in which the fan 150 is located, that is, the inner walls of both sides of the facility space 103. At this time, the air in the portion close to the inner wall in the working space 102 will collide with the inner wall of the working space 102. Then, an upward airflow is generated near the inner wall of the workspace 102, thereby causing a problem of contaminating the inside of the workspace 102 while foreign matters existing near the inner wall of the workspace 102 are suspended. .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 설비공간의 양측 내벽에 차단막을 설치하여, 작업공간의 내벽에 근접한 공기가 팬의 흡입력에 의한 영향을 받지 않도록 함으로써, 상기 작업공간내에 상승기류가 발생하는 것을 방지할 수 있는 액정표시장치 제조용 클린룸을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, by installing a barrier film on the inner wall of both sides of the installation space, so that the air close to the inner wall of the working space is not affected by the suction force of the fan, thereby rising in the working space It is an object of the present invention to provide a clean room for manufacturing a liquid crystal display device which can prevent the generation of airflow.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸은, 필터를 통하여 얻은 청정 공기를 상부로부터 바닥으로 분출하고 바닥면의 개구부를 통하여 배출한 후 다시 상기 필터를 통하여 상부로부터 바닥으로 분출하는 수단을 갖는 액정표시장치 제조용 클린 룸에 있어서, 액정표시장치용 제조장비가 구비되며 바닥면에 다수개의 개구부가 형성된 작업공간; 상기 작업공간의 상부에 형성된 천정부; 상기 작업공간의 바닥면의 하부에 형성된 설비공간; 상기 천정부에 구비되며, 외부 공기 또는 덕트내의 공기를 흡입하여, 이를 정화시켜 상기 작업공간을 향해 수직으로 분출하는 공기정화필터; 상기 설비공간의 양측 내벽에 설치되어 상기 작업공간의 바닥면에 형성된 개구부를 통과한 공기를 흡입하여, 이를 외부로 배출하는 팬; 및, 상기 팬과 상기 작업공간의 바닥면 사이에 구비되어, 상기 바닥면의 개구부를 통과한 공기의 진행방향을 차단하는 차단막을 포함하여 구성되는 것을 그 특징으로 한다.In the clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object, the clean air obtained through the filter is ejected from the top to the bottom and discharged through the opening of the bottom surface and then again from the top through the filter CLAIMS 1. A clean room for manufacturing a liquid crystal display device having means for ejecting the same, comprising: a work space having a manufacturing device for a liquid crystal display device and having a plurality of openings formed on a bottom thereof; A ceiling formed in an upper portion of the workspace; A facility space formed below the bottom surface of the work space; An air purification filter provided in the ceiling and configured to suck outside air or air in the duct, purify it, and blow it vertically toward the working space; A fan installed on both inner walls of the facility space to suck air passing through the opening formed in the bottom surface of the work space and discharge the air to the outside; And a blocking film provided between the fan and the bottom surface of the working space to block a traveling direction of the air passing through the opening of the bottom surface.

여기서, 상기 차단막은 상기 설비공간의 바닥면으로부터 소정간격 이격되며, 일측이 상기 설비공간의 내벽에 접촉하는 것을 특징으로 한다.Here, the barrier film is spaced a predetermined distance from the bottom surface of the facility space, characterized in that one side is in contact with the inner wall of the facility space.

상기 차단막에는 상기 작업공간의 바닥면에 형성된 개구부를 마주보는 다수개의 개구부가 형성된 것을 특징으로 한다.The barrier layer is characterized in that a plurality of openings facing the opening formed on the bottom surface of the workspace.

상기 차단막의 개구부는 상기 팬과 가까운 차단막 부분에 형성되는 것을 특징으로 한다.The opening of the blocking film is formed in the blocking film portion close to the fan.

상기 설비공간의 바닥면과 상기 차단막 사이에 구비되어, 상기 차단막을 상 기 설비공간의 바닥면으로부터 소정간격 이격시킴과 아울러, 상기 차단막을 지지하는 다수개의 지지대를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.It is provided between the bottom surface of the facility space and the barrier film, and the barrier film is spaced apart from the bottom surface of the facility space, and further comprises a plurality of supports for supporting the barrier film. .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸의 구성도이다.2 is a block diagram of a clean room for manufacturing a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸은, 도 2에 도시된 바와 같이, 작업공간(202), 상기 작업공간(202)의 상부에 형성된 천정부(201), 및 상기 작업공간(202)의 하부에 형성된 설비공간(203)을 포함한다.As shown in FIG. 2, the clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention includes a work space 202, a ceiling part 201 formed on the work space 202, and the work space. And a facility space 203 formed below the 202.

여기서, 상기 작업공간(202)에는 각종 액정표시장치용 제조장비들(도시되지 않음)이 구비되어 있으며, 상기 작업공간(202)의 바닥면(290)에는 다수개의 개구부(215)가 형성되어 있다. 그리고, 상기 천정부(201)에는 송풍기(288a), 가압실(288c)(High pressure chamber) 및 고성능 필터(288b)로 이루어진 필터장치(288)가 구비되어 있다. 그리고, 상기 설비공간(203)의 양측 내벽에는 팬(250)이 구비되어 있다.Here, the work space 202 is provided with a variety of liquid crystal display manufacturing equipment (not shown), and a plurality of openings 215 are formed on the bottom surface 290 of the work space 202. . The ceiling unit 201 is provided with a filter device 288 composed of a blower 288a, a high pressure chamber 288c, and a high performance filter 288b. The fan 250 is provided on both inner walls of the facility space 203.

그리고, 상기 팬(250)과 상기 작업공간(202)의 바닥면(290) 사이에는 차단막(222)이 구비되어 있는데, 상기 차단막(222)은 상기 바닥면(290)의 개구부(215)를 통과한 공기가 상기 팬(250)을 향해 직접 이동하는 것을 차단하는 역할을 한다.A blocking film 222 is provided between the fan 250 and the bottom surface 290 of the workspace 202, and the blocking film 222 passes through the opening 215 of the bottom surface 290. It serves to block air from moving directly toward the fan 250.

여기서, 상기 차단막(222)은 상기 설비공간(203)의 바닥면(290)으로부터 소정간격 이격되어 위치하며, 일측이 상기 설비공간(203)의 내벽에 접촉한다. 그리 고, 상기 차단막(222)과 상기 설비공간(203)의 바닥면 사이에는 다수개의 지지대(244)가 형성되어 있다. 상기 지지대(244)는 상기 차단막(222)을 상기 설비공간(203)의 바닥면(290)으로부터 소정간격 이격시킴과 아울러, 상기 차단막(222)을 지지하는 역할을 한다.Here, the blocking film 222 is located at a predetermined interval from the bottom surface 290 of the facility space 203, one side is in contact with the inner wall of the facility space 203. In addition, a plurality of supports 244 are formed between the blocking film 222 and the bottom surface of the facility space 203. The support 244 serves to support the blocking film 222 while separating the blocking film 222 from the bottom surface 290 of the facility space 203 by a predetermined distance.

한편, 상기 클린룸의 외부에는 상기 팬(250)으로부터 배출된 공기를 상기 천정부(201)로 귀환시키기 위한 덕트(204)가 형성되어 있다. On the other hand, the outside of the clean room is formed with a duct 204 for returning the air discharged from the fan 250 to the ceiling (201).

이와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸에서, 상기 설비공간(203)의 양측 내벽에는 차단막(222)이 형성되어 있어서, 상기 설비공간(203)의 양측 내벽에 설치된 팬(250)의 흡입력에 의해 상기 작업공간(202)의 양측 내벽에 발생하는 상승기류를 방지할 수 있다.As described above, in the clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the first exemplary embodiment of the present invention, a blocking film 222 is formed on both inner walls of the facility space 203, and is provided on both inner walls of the facility space 203. By the suction force of the fan 250 it is possible to prevent the rising air generated on both inner walls of the workspace (202).

이를, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸의 공기정화 순서를 통해 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail through the air purification procedure of the clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

여기서, 도 2의 작업공간(202)내에 표시된 화살표(260)는 상기 작업공간(202)내의 공기의 흐름의 방향, 즉 기류의 방향을 나타낸 것이며, 상기 설비공간(203)내에 표시된 화살표(270)는 상기 설비공간(203)내에서의 팬(250)의 흡입력의 방향을 나타낸다.Here, the arrow 260 indicated in the workspace 202 of FIG. 2 indicates the direction of the flow of air in the workspace 202, that is, the direction of air flow, and the arrow 270 displayed in the installation space 203. Denotes a direction of suction force of the fan 250 in the installation space 203.

먼저, 송풍기(288a)는 외부로부터의 공기 또는 팬(250)으로부터 배출된 공기를 흡입하고, 상기 흡입된 공기를 필터(288b)로 전달한다. 그러면, 상기 필터(288b)는 상기 전달받은 공기를 정화시켜, 이를 가압실(288c)로 전달한다. 그러면, 상기 가압실(288c)은 상기 정화된 공기를 가압하여 상기 작업공간(202)내로 분출한 다. 이때, 상기 가압실(288c)로부터 나온 공기는 상기 작업공간(202)의 바닥면(290)에 대하여 수직하는 방향으로 상기 작업공간(202)내로 분출된다. First, the blower 288a sucks air from the outside or air discharged from the fan 250 and transfers the sucked air to the filter 288b. Then, the filter 288b purifies the received air and delivers it to the pressure chamber 288c. Then, the pressure chamber 288c pressurizes the purified air and blows it into the work space 202. At this time, the air from the pressurizing chamber 288c is blown into the workspace 202 in a direction perpendicular to the bottom surface 290 of the workspace 202.

여기서, 상기 작업공간(202)내로 분출된 공기는 상기 작업공간(202)의 바닥면(290)에 형성된 다수개의 개구부(215)를 통과하면서, 상기 설비공간(203)내로 유입된다. 이때, 상기 분출된 공기는 상기 설비공간(203)으로 빠져나가면서, 상기 작업공간(202)내의 이물질을 상기 설비공간(203)내로 배출시킨다.Here, the air blown into the workspace 202 is introduced into the facility space 203 while passing through the plurality of openings 215 formed in the bottom surface 290 of the workspace 202. At this time, the blown air exits the facility space 203 and discharges foreign substances in the work space 202 into the facility space 203.

한편, 상기 작업공간(202)내의 전체적인 공기 흐름은 상기 팬(250)의 흡입력에 영항을 많이 받는데, 상기 차단막(222)은 상기 설비공간(203)의 양측 내벽에 설치됨으로써, 상기 팬(250)의 흡입력이 상기 설비공간(203)의 가장자리에 미치는 힘을 최소화한다. 따라서, 상기 팬(250)의 흡입력은 상기 설비공간(203)의 중심부에 강하게 형성된다. 그리고, 상기 설비공간(203)의 중심부에 형성된 강한 흡입력은 상기 작업공간(202)내의 기류를 중심부로 쏠리게 만든다(도 2의 화살표(270) 방향). 즉, 상기 작업공간(202)내의 전체적인 기류는 상기 작업공간(202)의 바닥면(290)의 중심부를 향하는 방향을 나타낸다.On the other hand, the overall air flow in the workspace 202 is affected by the suction force of the fan 250, the blocking film 222 is installed on both inner walls of the installation space 203, the fan 250 Minimize the force of the suction force on the edge of the installation space (203). Therefore, the suction force of the fan 250 is strongly formed in the center of the installation space 203. In addition, the strong suction force formed at the center of the facility space 203 causes the air flow in the work space 202 to be directed to the center (in the direction of the arrow 270 of FIG. 2). That is, the overall air flow in the workspace 202 represents a direction toward the center of the bottom surface 290 of the workspace 202.

따라서, 상기 작업공간(202)의 양측 내벽쪽의 기류는 상기 중심부로 향하게 된다. 즉, 상기 작업공간(202)의 양측 내벽쪽의 기류는 상기 내벽에 충돌하지 않게 되므로, 상승기류가 발생하지 않는다.Therefore, the airflows on both inner wall sides of the work space 202 are directed to the central portion. That is, the airflows on both inner wall sides of the work space 202 do not collide with the inner wall, so that no upward airflow occurs.

그리고, 상기 설비공간(203)으로 배출된 공기, 즉 상기 작업공간(202)내의 이물질이 함유된 공기는 상기 팬(250)을 통해 덕트(204)로 배출된다. 그리고, 상기 덕트(204)로 배출된 공기는 상기 덕트(204)를 따라 다시 송풍기(288a)로 귀환한다. 여기서, 상기 덕트(204)내에 표시된 화살표(223)는 상기 공기의 귀환방향을 나타낸다.In addition, air discharged into the facility space 203, that is, air containing foreign matter in the work space 202, is discharged to the duct 204 through the fan 250. The air discharged to the duct 204 is returned to the blower 288a along the duct 204. Here, an arrow 223 indicated in the duct 204 indicates the return direction of the air.

그러면, 상기 공기는 필터(288b) 및 가압실(288c)을 통해 정화되어, 상술한 바와 같은 방식으로 상기 작업공간(202)내에 분출됨으로써, 상기 작업공간(202)내의 이물질을 외부로 배출하게 된다.Then, the air is purified through the filter 288b and the pressurizing chamber 288c, and is blown into the work space 202 in the manner described above, thereby discharging foreign matter in the work space 202 to the outside. .

한편, 상기 차단막(222)의 특정부분에 개구부(215)를 형성하여 상기 작업공간(202)내의 공기를 상기 작업공간(202)의 바닥면(290)에 대하여 수직하는 방향으로 분출시킬 수 있다.Meanwhile, an opening 215 may be formed in a specific portion of the blocking layer 222 to eject air in the work space 202 in a direction perpendicular to the bottom surface 290 of the work space 202.

이하, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described in detail.

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 클린룸의 구성도이고, 도 4는 도3의 차단막에 형성된 개구부를 설명하기 위한 도면이다.3 is a configuration diagram of a clean room according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view for explaining an opening formed in the blocking film of FIG. 3.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸은, 도 3에 도시된 바와 같이, 작업공간(302), 상기 작업공간(302)의 상부에 형성된 천정부(301), 및 상기 작업공간(302)의 하부에 형성된 설비공간(303)을 포함한다.As shown in FIG. 3, the clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention includes a work space 302, a ceiling part 301 formed above the work space 302, and the work space. And a facility space 303 formed under the 302.

여기서, 상기 작업공간(302)에는 각종 액정표시장치용 제조장비들(도시되지 않음)이 구비되어 있으며, 상기 작업공간(302)의 바닥면(390)에는 다수개의 개구부(315)가 형성되어 있다. 그리고, 상기 천정부(301)에는 송풍기(388a), 가압실(388c)(High pressure chamber) 및 고성능 필터(388b)로 이루어진 필터장치(388)가 구비되어 있다. 그리고, 상기 설비공간(303)의 양측 내벽에는 팬(350)이 구비되어 있다.Here, the work space 302 is provided with a variety of liquid crystal display manufacturing equipment (not shown), and a plurality of openings 315 are formed in the bottom surface 390 of the work space 302. . The ceiling 301 is provided with a filter device 388 including a blower 388a, a high pressure chamber 388c, and a high performance filter 388b. The fan 350 is provided on both inner walls of the facility space 303.

그리고, 상기 팬(350)과 상기 작업공간(302)의 바닥면(390) 사이에는 차단막(333)이 구비되어 있는데, 상기 차단막(333)은 상기 바닥면(390)의 개구부(315)를 통과한 공기가 상기 팬(350)을 향해 직접 이동하는 것을 차단하는 역할을 한다. In addition, a blocking film 333 is provided between the fan 350 and the bottom surface 390 of the workspace 302, and the blocking film 333 passes through the opening 315 of the bottom surface 390. It serves to block air from moving directly toward the fan 350.

여기서, 상기 차단막(333)에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 자신을 관통하는 다수개의 개구부(369)가 형성되어 있는데, 상기 개구부(369)는 상기 작업공간(302)의 바닥면(390)에 형성된 개구부(315)와 서로 마주보도록 형성되어 있다. 구체적으로, 상기 차단막(333)의 개구부(369)는 상기 바닥면(390)의 가장자리에 위치한 개구부(315)와 마주보도록 형성되어 있다.Here, as shown in FIG. 4, a plurality of openings 369 penetrating through the blocking film 333 are formed, and the openings 369 are bottom surfaces 390 of the workspace 302. It is formed to face each other with the opening 315 formed in the. In detail, the opening 369 of the blocking layer 333 is formed to face the opening 315 positioned at the edge of the bottom surface 390.

이때, 상기 개구부(369)들은 상기 차단막(333)의 전체 부분에 형성할 수도 있으며, 상기 차단막(333)의 일부분, 즉 상기 팬(350)에 가깝게 위치한 차단막(333) 부분에만 형성할 수도 있다. 다시말하면, 상기 개구부(369)들은 상기 설비공간(303)의 내벽에 가까운 차단막(333) 부분에만 선택적으로 형성할 수도 있다.In this case, the openings 369 may be formed in the entire portion of the blocking layer 333, or may be formed only in a portion of the blocking layer 333, that is, a portion of the blocking layer 333 positioned close to the fan 350. In other words, the openings 369 may be selectively formed only at a portion of the blocking film 333 close to the inner wall of the facility space 303.

여기서, 상기 차단막(333)은 상기 설비공간(303)의 바닥면(390)으로부터 소정간격 이격되어 위치하며, 일측이 상기 설비공간(303)의 내벽에 접촉한다. 그리고, 상기 차단막(333)과 상기 설비공간(303)의 바닥면 사이에는 다수개의 지지대(344)가 형성되어 있다. 상기 지지대(344)는 상기 차단막(333)을 상기 설비공간(303)의 바닥면으로부터 소정간격 이격시킴과 아울러, 상기 차단막(333)을 지지하는 역할을 한다.Here, the blocking film 333 is located at a predetermined interval from the bottom surface 390 of the facility space 303, one side is in contact with the inner wall of the facility space 303. A plurality of supports 344 are formed between the blocking film 333 and the bottom surface of the facility space 303. The support 344 spaces the blocking film 333 from the bottom surface of the facility space 303 by a predetermined interval and supports the blocking film 333.

한편, 상기 클린룸의 외부에는 상기 팬(350)으로부터 배출된 공기를 상기 천 정부(301)로 귀환시키기 위한 덕트(304)가 형성되어 있다.On the other hand, the outside of the clean room is formed with a duct 304 for returning the air discharged from the fan 350 to the ceiling 301.

이와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸에서, 상기 설비공간(303)의 양측 내벽에는 차단막(333)이 형성되어 있어서, 상기 설비공간(303)의 양측 내벽에 설치된 팬(350)의 흡입력에 의해 상기 작업공간(302)의 양측 내벽에 발생하는 상승기류를 방지할 수 있으며, 또한 상기 차단막(333)에 형성된 개구부(369)를 통해 상기 작업공간(302)의 전체적인 기류 방향을 상기 바닥면(390)에 대하여 수직하도록 형성할 수 있다.As described above, in the clean room for manufacturing the liquid crystal display device according to the second exemplary embodiment of the present invention, barrier films 333 are formed on inner walls of both sides of the facility space 303, and are provided on both inner walls of the facility space 303. The suction force of the fan 350 may prevent rising air flows generated on both inner walls of the workspace 302, and may also prevent the overall flow of the workspace 302 through the openings 369 formed in the barrier layer 333. The air flow direction may be formed to be perpendicular to the bottom surface 390.

이를 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸의 공기정화 순서를 통해 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail through the air purification procedure of the clean room for manufacturing a liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention.

여기서, 도 4의 작업공간(302)내에 표시된 화살표(360)는 상기 작업공간(302)내의 공기의 흐름의 방향, 즉 기류의 방향을 나타낸 것이며, 상기 설비공간(303)내에 표시된 화살표(370a, 370b)는 상기 설비공간(303)내에서의 팬(350)의 흡입력의 방향을 나타낸다.Here, the arrow 360 indicated in the workspace 302 of FIG. 4 indicates the direction of air flow, that is, the direction of airflow, in the workspace 302. 370b represents the direction of suction force of the fan 350 in the installation space 303.

먼저, 송풍기(388a)는 외부로부터의 공기 또는 팬(350)으로부터 배출된 공기를 흡입하고, 상기 흡입된 공기를 필터(388b)로 전달한다. 그러면, 상기 필터(388b)는 상기 전달받은 공기를 정화시켜, 이를 가압실(388c)로 전달한다. 그러면, 상기 가압실(388c)은 상기 정화된 공기를 가압하여 상기 작업공간(302)내로 분출한다. 이때, 상기 가압실(388c)로부터 나온 공기는 상기 작업공간(302)의 바닥면(390)에 대하여 수직하는 방향으로 상기 작업공간(302)내로 분출된다. First, the blower 388a sucks air from the outside or air discharged from the fan 350 and delivers the sucked air to the filter 388b. Then, the filter 388b purifies the received air and delivers it to the pressure chamber 388c. Then, the pressurizing chamber 388c pressurizes the purified air and blows it into the work space 302. At this time, air from the pressure chamber 388c is blown into the workspace 302 in a direction perpendicular to the bottom surface 390 of the workspace 302.

여기서, 상기 작업공간(302)내로 분출된 공기는 상기 작업공간(302)의 바닥 면(390)에 형성된 다수개의 개구부(315)를 통과하면서, 상기 설비공간(303)내로 유입된다. 이때, 상기 분출된 공기는 상기 설비공간(303)으로 빠져나가면서, 상기 작업공간(302)내의 이물질을 상기 설비공간(303)내로 배출시킨다.Here, the air blown into the workspace 302 is introduced into the facility space 303 while passing through a plurality of openings 315 formed in the bottom surface 390 of the workspace 302. At this time, the blown air exits the facility space 303 and discharges foreign substances in the work space 302 into the facility space 303.

한편, 상기 작업공간(302)내의 전체적인 공기 흐름의 방향은 상기 팬(350)의 흡입력에 영항을 많이 받는데, 상기 차단막(333)은 상기 설비공간(303)의 양측 내벽에 설치됨으로써, 상기 팬(350)의 홉입력이 상기 설비공간(303)의 가장자리(양측 내벽)에 미치는 힘을 최소화한다. On the other hand, the direction of the overall air flow in the working space 302 is affected by the suction force of the fan 350, the blocking film 333 is installed on both inner walls of the installation space 303, the fan ( The force of the hop input of 350 is minimized on the edges (both inner walls) of the facility space 303.

따라서, 상기 팬(350)의 흡입력은 상기 설비공간(303)의 중심부에 강하게 작용한다(도 3의 화살표(370a) 방향). 한편, 상기 차단막(333)의 일부분, 즉 상기 설비공간(303)의 양측 내벽에 가까운 부분에는 다수개의 개구부(369)가 형성되어 있어서, 상기 팬(350)은 상기 차단막(333)의 개구부(369)를 통해서 상기 설비공간(303)의 양측 내벽쪽에도 소정의 흡입력을 가하게 된다(도 3의 화살표(370b) 방향). Therefore, the suction force of the fan 350 acts strongly on the center of the facility space 303 (in the direction of the arrow 370a of FIG. 3). Meanwhile, a plurality of openings 369 are formed at a portion of the blocking film 333, that is, at portions close to both inner walls of the facility space 303, so that the fan 350 has an opening 369 of the blocking film 333. A predetermined suction force is also applied to both inner wall sides of the facility space 303 () in the direction of the arrow 370b of FIG. 3).

따라서, 상기 작업공간(302) 내부의 기류는 상기 설비공간(303)의 중심부에 형성된 강한 흡입력에 의해 상기 작업공간(302)의 중심부로 쏠리는 한편, 상기 설비공간(303)의 양측 내벽쪽에 형성된 약한 흡입력에 의해 상기 작업공간(302)의 양측 내벽쪽으로도 약하게 쏠린다. 따라서, 상기 작업공간(302)내의 모든 부분에서의 전체적인 기류의 방향은 상기 작업공간(302)의 바닥면(390)에 대하여 거의 수직하게 형성된다. 물론, 상기 작업공간(302)내의 기류가 상기 작업공간(302)의 바닥면(390)에 대하여 수직하는 방향으로 형성되므로 상승기류는 발생하지 않는다. Therefore, the airflow inside the work space 302 is directed to the center of the work space 302 by a strong suction force formed in the center of the facility space 303, and weakly formed on both inner wall sides of the facility space 303. The suction force is also weakly directed toward both inner walls of the workspace 302. Thus, the direction of the overall air flow in all parts of the workspace 302 is formed substantially perpendicular to the bottom surface 390 of the workspace 302. Of course, since the airflow in the workspace 302 is formed in a direction perpendicular to the bottom surface 390 of the workspace 302, no air flow is generated.

이후, 상기 설비공간(303)에 유입된 공기, 즉 상기 작업공간(302)내의 이물질이 함유된 공기는 상기 팬(350)을 통해 덕트(304)로 배출된다. 그리고, 상기 덕트(304)로 배출된 공기는 상기 덕트(304)를 따라 다시 송풍기(388a)로 귀환한다. 여기서, 상기 덕트(304)에 표시된 화살표(323)는 상기 공기의 귀환방향을 나타낸다.Thereafter, air introduced into the facility space 303, that is, air containing foreign matter in the work space 302, is discharged to the duct 304 through the fan 350. The air discharged to the duct 304 is returned to the blower 388a along the duct 304. Here, the arrow 323 displayed on the duct 304 indicates the return direction of the air.

그러면, 상기 공기는 필터(388b) 및 가압실(388c)을 통해 정화되어, 상술한 바와 같은 방식으로 상기 작업공간(302)내에 분출됨으로써, 상기 작업공간(302)내의 이물질을 외부로 배출하게 된다.Then, the air is purified through the filter 388b and the pressurization chamber 388c, and is blown into the work space 302 in the manner described above, thereby discharging the foreign matter in the work space 302 to the outside. .

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸에는 다음과 같은 효과가 있다.The clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention as described above has the following effects.

본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 클린룸의 설비공간에는 차다막이 형성되어 있다. 즉, 상기 차단막은 작업공간의 바닥면과 팬 사이에 구비되어, 상기 팬의 흠입력이 상기 설비공간의 양측 내벽에 미치는 힘을 최소화하고 있다. 따라서, 상기 설비공간의 양측 내벽에 설치된 팬의 흡입력에 의해 상기 작업공간의 양측 내벽에 발생하는 상승기류를 방지할 수 있다. A shielding film is formed in a facility space of a clean room for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. That is, the barrier film is provided between the bottom surface of the work space and the fan, thereby minimizing the force applied to the inner walls of both sides of the facility space by the fault input of the fan. Therefore, it is possible to prevent the rising air generated on both inner walls of the working space by the suction force of the fan installed on both inner walls of the facility space.

또한, 상기 설비공간의 내벽에 가까운 차단막 부분에 개구부를 더 형성하여, 상기 팬이 상기 설비공간의 양측 내벽쪽에 소정의 흡입력을 가하도록 함으로써, 상기 설비공간(303)의 양측 내벽쪽에 형성된 소정의 흡입력이 상기 설비공간(303)내의 중심부에 강하게 형성된 흡입력을 어느 정도 약화시키게 할 수 있다. 이렇게 하면, 상기 설비공간내의 모든 부분에서의 전체적인 흡입력이 거의 동일해지고, 결국, 상기 작업공간내의 기류 방향이 상기 작업공간의 바닥면에 대하여 거의 수직하도록 형성된다.In addition, an opening is further formed in a portion of the barrier film close to the inner wall of the facility space so that the fan applies a predetermined suction force to both inner wall sides of the facility space, thereby providing a predetermined suction force formed on both inner wall sides of the facility space 303. It is possible to weaken the suction force strongly formed in the center of the installation space 303 to some extent. In this way, the overall suction force in all parts of the installation space is almost the same, and as a result, the air flow direction in the work space is formed to be substantially perpendicular to the bottom surface of the work space.

Claims

In a clean room for manufacturing a liquid crystal display device,

A working space having a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device and having a plurality of openings formed on a bottom thereof;

A ceiling formed in an upper portion of the workspace;

A facility space formed below the bottom surface of the work space;

An air purification filter provided in the ceiling and configured to suck outside air or air in the duct, purify it, and blow it vertically toward the working space;

A fan installed at both inner edges of the facility space to suck air passing through the opening formed in the bottom surface of the work space and discharge the air to the outside; And,

And a blocking film provided between the fan and a bottom surface of the work space to block a traveling direction of air passing through the opening of the bottom surface.

The method of claim 1,

The barrier layer is spaced apart from the bottom surface of the facility space, the clean room for manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that one side is in contact with the inner wall of the edge of the facility space.

The method of claim 2,

And a plurality of openings formed in the blocking layer facing the openings formed on the bottom surface of the working space.

The method of claim 3, wherein

The opening of the blocking film is formed in the portion of the blocking film close to the fan clean room for manufacturing a liquid crystal display device.

The method of claim 2,

It is provided between the bottom surface of the installation space and the barrier film, the barrier film spaced a predetermined distance from the bottom surface of the installation space, and further comprises a plurality of supports for supporting the barrier film Clean room for manufacturing displays.