KR20060074560A - Chemical cleaning apparatus - Google Patents

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KR20060074560A
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김현진
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동부일렉트로닉스 주식회사
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    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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Abstract

본 발명은 약액세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid cleaning device.

본 발명은, 외조에 저장된 세정액을 내조로 순환시키기 위해 구비되는 세정액순환라인과 상기 내조 및 상기 외조의 세정액을 완전히 배출하기 위해 구비되는 세정액드레인라인을 구비하는 약액세정장치에 있어서, 상기 세정액순환라인으로부터 상기 세정액드레인라인에 직접 연통되도록 연결되는 연결드레인라인이 적어도 하나 이상 구비되고, 상기 연결드레인라인이 연통되도록 연결되는 상기 세정액순환라인상의 해당 개소에는 상기 연결드레인라인측으로의 연통을 개폐하는 밸브수단이 구비되는 것을 특징으로 한다.The present invention is a chemical liquid cleaning apparatus comprising a cleaning liquid circulation line provided to circulate a cleaning liquid stored in an outer tank to an inner tank and a cleaning liquid drain line provided to completely discharge the cleaning liquid of the inner tank and the outer tank. At least one connection drain line connected to the cleaning liquid drain line so as to directly communicate with the cleaning liquid drain line, and a valve means for opening and closing communication to the connection drain line side at a corresponding point on the cleaning liquid circulation line connected to communicate with the connection drain line. It is characterized in that the provided.

따라서, 세정액의 배출시 세정액순환라인상의 세정액도 완전히 배출되게 되므로, 설비조치시 작업자의 안전사고가 예방되며, 새로이 공급되는 세정액에도 영향을 미치지 않으므로 그 양호한 상태가 유지될 수 있어 사용수명이 길어지게 됨으로써 비용을 절감하고 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, when the cleaning liquid is discharged, the cleaning liquid on the cleaning liquid circulation line is completely discharged. Therefore, the safety accident of the worker is prevented during the installation of the equipment, and the new cleaning liquid is not affected. By doing so, it is possible to reduce costs and improve productivity.

약액, 세정, 순환, 드레인, 삼방향밸브Chemical, cleaning, circulation, drain, three way valve

Description

약액세정장치{CHEMICAL CLEANING APPARATUS}Chemical cleaning device {CHEMICAL CLEANING APPARATUS}

도 1은 종래의 약액세정장치를 보여주는 개략도, 1 is a schematic view showing a conventional chemical cleaning device,

도 2는 본 발명에 따른 약액세정장치를 보여주는 개략도이다. 2 is a schematic view showing a chemical liquid cleaning device according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 내조 20 : 외조10: inner twenty 20: outer tide

30 : 세정액순환라인 32 : 순환펌프30: washing liquid circulation line 32: circulation pump

34 : 필터 36 : 히터34 filter 36 heater

38a, 38b : 삼방향밸브 40 : 세정액드레인라인38a, 38b: Three-way valve 40: Cleaning liquid drain line

42 : 개폐밸브 44a, 44b : 연결드레인라인42: on-off valve 44a, 44b: connection drain line

본 발명은 약액세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 약액인 세정액의 사용수명이 다 되어 세정액을 교체하기 위해 우선 배출시 세정액순환라인상에 존재하는 세정액도 완전히 배출되도록 하여 새로이 공급되는 세정액에 섞여 악영향을 미치지 못하도록 하는 약액세정장치에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid cleaning device, and more particularly, the service life of the cleaning liquid, which is a chemical liquid, has been reached, and in order to replace the cleaning liquid, the cleaning liquid present on the cleaning liquid circulation line is completely discharged when mixed with the newly supplied cleaning liquid. It relates to a chemical liquid cleaning device to prevent adverse effects.

일반적으로, 반도체 소자는 다양한 단위공정을 진행함으로써 제조되게 되며, 이러한 단위공정에 개입되는 가장 기본적인 공정으로 각 단위공정을 거친 웨이퍼(wafer)상에 부착된 각종 오염물을 제거하는 세정공정이 있으며, 세정공정의 세정방식으로는 건식세정(dry cleaning)방식과 습식세정(wet cleaning)방식이 있는데, 이중 습식세정방식은 높은 생산성과 경제성의 이점 때문에 널리 이용되고 있고, 그 일련된 과정은 약액(chemical)세정, 초순수(DIW ; De-Ionized Water)세정, 건조 과정으로 이루어진다. In general, a semiconductor device is manufactured by going through various unit processes, and the most basic process involved in such a unit process includes a cleaning process for removing various contaminants adhering to a wafer that has passed through each unit process. Dry cleaning method and wet cleaning method are used for the cleaning of the process. The wet cleaning method is widely used because of the high productivity and economical advantages, and the series of processes is chemical. It consists of washing, de-ionized water (DIW) washing and drying.

도 1은 종래의 약액세정장치를 보여주는 개략도이다. 1 is a schematic view showing a conventional chemical liquid cleaning device.

약액세정장치는 내부에 다량 충진된 약액인 세정액중에 세정대상의 다수매의 웨이퍼가 투입되어 세정이 진행되는 내조(10)와, 내조(10)의 외측에 설치되며 내조(10)로부터 오버플로우(over flow)되는 세정액이 유입되는 외조(20)와, 외조(20)에 저장된 세정액을 내조(10)로 순환시키기 위해 상부 공간상에 구비되는 세정액순환라인(30)과, 내조(10) 및 외조(20)의 세정액을 완전히 배출하기 위하여 바닥측에 구비되는 세정액드레인(drain)라인(40)으로 구성된다. The chemical liquid cleaning apparatus is installed on the inner tank 10 in which a plurality of wafers to be cleaned are put in the cleaning liquid which is a large amount of the chemical liquid filled therein, and is cleaned outside the inner tank 10, and overflows from the inner tank 10. Outer tank 20 into which the overflowing washing liquid flows, The washing liquid circulation line 30 provided on the upper space for circulating the washing liquid stored in the outer tank 20 to the inner tank 10, The inner tank 10 and the outer tank It consists of a washing liquid drain line 40 provided in the bottom side in order to discharge the washing liquid of (20) completely.

그리고, 미도시하였으나 내조(10)의 상부측에는 세정액메인탱크가 구비되어 내조(10)에 새로운 세정액을 공급할 수 있도록 되어 있다. And, although not shown, the upper side of the inner tank 10 is provided with a cleaning liquid main tank to supply new cleaning liquid to the inner tank 10.

또한, 세정액순환라인(30)상에는 외조(20)측으로부터 순환되는 세정액이 순차적으로 거치게 되는 순환펌프(32), 필터(34), 히터(36)가 구비되어 있고, 세정액드레인라인(40)상에는 그 개폐를 위한 적어도 하나 이상의 개폐밸브(42)가 적절히 구비되어 있다. In addition, a circulating pump 32, a filter 34, and a heater 36, through which the cleaning liquid circulated from the outer tank 20 side, are sequentially provided on the cleaning liquid circulation line 30, and on the cleaning liquid drain line 40. At least one or more on / off valves 42 for opening and closing are appropriately provided.

여기서, 세정액순환라인(30)상의 순환펌프(32)는 세정액이 순환되도록 펌핑 하는 작용을 하며, 필터(34)는 순환되는 세정액중에 포함된 불순물을 제거하여 순도를 향상시키고, 히터(36)는 세정액을 소정온도로 가열하여 공급되도록 하게 된다. Here, the circulation pump 32 on the cleaning solution circulation line 30 serves to pump the cleaning solution to be circulated, and the filter 34 removes impurities contained in the circulating cleaning solution to improve purity, and the heater 36 The cleaning liquid is heated and supplied to a predetermined temperature.

이상과 같은 약액세정장치의 작용을 설명하면, 다량의 세정액이 담긴 내조(10)내에 다수매의 웨이퍼를 일정시켜 침지시켜 세정하는 과정을 반복하게 되며, 이때 내조(10)에서 넘쳐서 외조(20)에 담기게 되는 세정액은 세정액순환라인(30)을 통해 순환되어 다시 내조(10)에 공급되게 되며, 순환과정에서 그 불순물이 제거되고 소정온도로 가열되게 된다. Referring to the operation of the chemical cleaning device as described above, the process of repeatedly immersing and cleaning a plurality of wafers in the inner tank 10 containing a large amount of cleaning liquid, the overflow of the inner tank 10, the outer tank 20 The rinsing liquid contained in the circulating liquid is circulated through the rinsing liquid circulation line 30 to be supplied to the inner tank 10 again, and impurities are removed from the circulating process and heated to a predetermined temperature.

이와 같은 세정작업의 반복으로, 세정액의 사용한도 시점에 이르면, 세정액을 교체하게 되며, 이를 위해 세정액드레인라인(40)의 개폐밸브(42)를 개방시켜 내조(10)와 외조(20)내의 세정액이 자연적으로 배출되도록 한다. By repeating the cleaning operation, the cleaning liquid is replaced when the use time of the cleaning liquid is reached. For this purpose, the opening / closing valve 42 of the cleaning liquid drain line 40 is opened to clean the cleaning liquid in the inner tank 10 and the outer tank 20. Allow this to drain naturally.

그러나, 이때 세정액순환라인(30)상에 존재하는 세정액은 완전히 배출되지 못하고 잔류하게 되며, 이에 따라 작업자가 세정액순환라인(30)상의 각종 설비에 대한 수리작업 등을 진행하게 되면, 잔류하는 유독성의 세정액에 의해 안전사고가 발생될 수 있으며, 이후 상부측의 세정액메인탱크로부터 새로운 세정액이 공급되어도 잔류하던 세정액이 섞이게 되므로, 그 순도 등의 품질을 대폭 저하시켜 사용수명을 저하시키게 되므로, 세정액 수시 교체에 따른 비용상승을 유발시키고 생산성을 저하시키는 문제점이 있었다. However, at this time, the washing liquid present on the washing liquid circulation line 30 is not completely discharged and remains. Accordingly, when the worker performs repair work on various facilities on the washing liquid circulation line 30, A safety accident may be caused by the cleaning liquid, and even after the new cleaning liquid is supplied from the upper cleaning liquid main tank, the remaining cleaning liquid is mixed. Therefore, the quality of the purity is greatly reduced, thereby reducing the service life. There is a problem of causing a cost increase and lowering productivity.

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 상 부의 세정액순환라인으로부터 하부의 세정액드레인라인으로 직접 연결되는 연결드레인라인을 설치하여 세정액순환라인상에 잔류하는 세정액도 완전히 배출될 수 있도록 하는 약액세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention was devised to solve the above-mentioned problems, and by installing a connection drain line directly connected to an upper washing liquid drain line from an upper washing liquid circulation line, the washing liquid remaining on the washing liquid circulation line can be completely discharged. The purpose is to provide a chemical liquid cleaning device.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 외조에 저장된 세정액을 내조로 순환시키기 위해 구비되는 세정액순환라인과 상기 내조 및 상기 외조의 세정액을 완전히 배출하기 위해 구비되는 세정액드레인라인을 구비하는 약액세정장치에 있어서, 상기 세정액순환라인으로부터 상기 세정액드레인라인에 직접 연통되도록 연결되는 연결드레인라인이 적어도 하나 이상 구비되고, 상기 연결드레인라인이 연통되도록 연결되는 상기 세정액순환라인상의 해당 개소에는 상기 연결드레인라인측으로의 연통을 개폐하는 밸브수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 약액세정장치를 제공한다.The present invention for achieving the above object, a chemical liquid cleaning device having a cleaning liquid circulation line provided to circulate the cleaning liquid stored in the outer tank and the cleaning liquid drain line provided to completely discharge the cleaning liquid of the inner tank and the outer tank. At least one connection drain line is provided to be connected directly to the cleaning liquid drain line from the cleaning liquid circulation line, and the corresponding portion on the cleaning liquid circulation line connected to the connection drain line is connected to the connection drain line side. It provides a chemical liquid cleaning device, characterized in that the valve means for opening and closing the communication.

본 발명의 상기 목적과 여러가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 약액세정장치를 보여주는 개략도이다. 2 is a schematic view showing a chemical liquid cleaning device according to the present invention.

설명에 앞서, 종래와 동일한 부분에 대해서는 그 상세한 설명을 생략함을 밝힌다. Prior to the description, the same parts as in the prior art will be omitted.                     

본 발명에 따르면, 외조(20)에 저장된 세정액을 내조(10)로 순환시키기 위해 상부 공간상에 구비되는 세정액순환라인(30)으로부터 내조(10) 및 외조(20)의 세정액을 완전히 배출하기 위해 바닥측에 구비되는 세정액드레인라인(40)으로 직접 연결되도록 적어도 하나 이상의 연결드레인라인(44a, 44b)이 구비되게 되며, 연결드레인라인(44a, 44b)이 연통되도록 연결되는 부분의 세정액순환라인(30)상에는 각각 삼방향밸브(3 way valve)(38a, 38b)가 구비되게 된다. According to the present invention, in order to completely discharge the cleaning liquid of the inner tank 10 and the outer tank 20 from the washing liquid circulation line 30 provided on the upper space for circulating the cleaning liquid stored in the outer tank 20 to the inner tank 10. At least one connection drain line 44a, 44b is provided to be directly connected to the cleaning liquid drain line 40 provided on the bottom side, and the cleaning liquid circulation line of the portion connected to connect the connection drain lines 44a, 44b ( 30 are provided with three way valves 38a and 38b, respectively.

여기서, 바람직하게 연결드레인라인(44a, 44b)은 각각 세정액순환라인(30)상의 순환펌프(32)의 전방측과 후방측에 연결되도록 2개가 구비될 수 있는데, 이는 순환펌프(32)가 세정액순환라인(30)상의 잔류 세정액의 흐름을 방해할 수 있기 때문이다. Here, preferably, the connection drain lines 44a and 44b may be provided in two so as to be connected to the front side and the rear side of the circulation pump 32 on the cleaning liquid circulation line 30, respectively, which means that the circulation pump 32 is the cleaning liquid. This is because the residual cleaning liquid on the circulation line 30 may be disturbed.

그리고, 구비되는 삼방향밸브(38a, 38b)는 세정액드레인라인(40)상에 적어도 하나 이상 구비되는 개폐밸브(42)와 연동하여 연결드레인라인(44a, 44b)측으로의 연통을 개폐하도록 자동으로 작동제어될 수 있다. And, the three-way valve (38a, 38b) is provided to automatically open and close the communication to the connection drain line (44a, 44b) in conjunction with at least one valve 42 provided on the cleaning liquid drain line (40) Operation can be controlled.

이상과 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 약액세정장치의 작용에 대하여 이하 설명한다. The operation of the chemical liquid cleaning device according to the present invention having the above configuration will be described below.

내조(10)에서의 웨이퍼 세정작업이 진행되는 시점에서 내조(10)에서 넘쳐서 외조(20)에 담기게 되는 세정액은 세정액순환라인(30)을 통해 순환되게 되며, 순환과정에서 그 불순물이 제거되고 소정온도로 가열되게 된다.When the wafer cleaning operation in the inner tank 10 is in progress, the cleaning liquid overflowed from the inner tank 10 and contained in the outer tank 20 is circulated through the cleaning liquid circulation line 30, and the impurities are removed in the circulation process. It is heated to a predetermined temperature.

그리고, 이때에는 세정액순환라인(30)을 통해서 원활히 세정액이 순환되도록 구비된 삼방향밸브(38a, 38b)는 연결드레인라인(44a, 44b)측으로의 연통을 차단하 도록 작동된 상태를 유지한다. At this time, the three-way valves 38a and 38b provided to smoothly circulate the cleaning solution through the cleaning solution circulation line 30 maintain the operated state to block communication to the connection drain lines 44a and 44b.

이와 같은 세정작업이 반복되어, 세정액의 사용한도 시점에 이르면, 세정액을 교체하게 되는데, 이를 위해 세정액드레인라인(40)의 개폐밸브(42)를 개방시켜 내조(10)와 외조(20)내의 세정액이 자연적으로 배출되도록 하며, 이와 동시에 개폐밸브(42)의 개방시점에서 세정액순환라인(30)상에 구비된 각각의 삼방향밸브(38a, 38b) 또한 연결드레인라인(44a, 44b)측으로의 연통을 개방하도록 작동되게 되고, 이에 따라 세정액순환라인(30)상에 존재하는 세정액은 자연적으로 연결드레인라인(44a, 44b)을 통해 하부의 세정액드레인라인(40)으로 완전히 배출되게 된다. This cleaning operation is repeated, and when the usage time of the cleaning liquid is reached, the cleaning liquid is replaced. For this purpose, the opening and closing valve 42 of the cleaning liquid drain line 40 is opened to clean the cleaning liquid in the inner tank 10 and the outer tank 20. Is discharged naturally, and at the same time, the three-way valves 38a and 38b provided on the cleaning liquid circulation line 30 at the time of opening and closing the valve 42 also communicate with the connection drain lines 44a and 44b. The cleaning liquid present on the cleaning liquid circulation line 30 is naturally discharged completely to the lower cleaning liquid drain line 40 through the connection drain lines 44a and 44b.

이로써, 세정액순환라인(30)상에 전혀 세정액이 잔류하지 않게 되며, 이후 새로운 세정액을 공급하여도 해당 새로운 세정액의 양호한 상태가 유지될 수 있게 되는 것이며, 세정액 배출후 세정액순환라인(30)상의 설비에 대하여 조치를 취하여도 작업자는 안전할 수 있다. As a result, no cleaning solution remains on the cleaning solution circulation line 30, and even after supplying a new cleaning solution, a good state of the new cleaning solution can be maintained, and the equipment on the cleaning solution circulation line 30 after the cleaning solution is discharged. Workers can be safe even if they take action.

물론, 세정액의 배출과정이 완료되면, 삼방향밸브(38a, 38b)는 연결드레인라인(44a, 44b)측으로의 연통을 차단하도록 작동되어 원상태로 복귀하게 된다. Of course, when the process of discharging the cleaning liquid is completed, the three-way valve (38a, 38b) is operated to block the communication to the connection drain line (44a, 44b) side to return to the original state.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정과 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.In the foregoing description, it should be understood that those skilled in the art can make modifications and changes to the present invention without changing the gist of the present invention as merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention.

본 발명에 따르면, 세정액의 배출시 세정액순환라인상의 세정액도 완전히 배출되게 되므로, 설비조치시 작업자의 안전사고가 예방되며, 새로이 공급되는 세정 액에도 영향을 미치지 않으므로 그 양호한 상태가 유지될 수 있어 사용수명이 길어지게 됨으로써 비용을 절감하고 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 달성될 수 있다. According to the present invention, since the cleaning liquid on the cleaning liquid circulation line is completely discharged when the cleaning liquid is discharged, safety accidents of the worker are prevented during the installation of the cleaning solution, and thus the good condition can be maintained because it does not affect the newly supplied cleaning liquid. The longer lifespan can achieve the effect of reducing costs and improving productivity.

Claims (3)

외조에 저장된 세정액을 내조로 순환시키기 위해 구비되는 세정액순환라인과 상기 내조 및 상기 외조의 세정액을 완전히 배출하기 위해 구비되는 세정액드레인라인을 구비하는 약액세정장치에 있어서, In a chemical liquid cleaning device comprising a cleaning liquid circulation line provided to circulate the cleaning liquid stored in the outer tank to the inner tank and a cleaning liquid drain line provided to completely discharge the cleaning liquid of the inner tank and the outer tank. 상기 세정액순환라인으로부터 상기 세정액드레인라인에 직접 연통되도록 연결되는 연결드레인라인이 적어도 하나 이상 구비되고, At least one connection drain line connected to the cleaning liquid drain line directly from the cleaning liquid circulation line is provided, 상기 연결드레인라인이 연통되도록 연결되는 상기 세정액순환라인상의 해당 개소에는 상기 연결드레인라인측으로의 연통을 개폐하는 밸브수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 약액세정장치.And a valve means for opening and closing the communication to the connection drain line side at a corresponding portion on the cleaning liquid circulation line connected to communicate with the connection drain line. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 밸브수단은, The valve means, 상기 세정액드레인라인상에 구비된 개폐밸브에 연동하여 상기 연결드레인라인측으로의 연통을 개폐하는 것을 특징으로 하는 약액세정장치.And a communication device connected to the on / off valve provided on the cleaning liquid drain line to open and close the communication to the connection drain line side. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 연결드레인라인은, The connection drain line, 상기 세정액순환라인상에 구비되어 세정액을 펌핑하는 순환펌프의 전방측과 후방측에 각각 하나씩 연결 구비되는 것을 특징으로 하는 약액세정장치.The chemical liquid cleaning device is provided on the cleaning liquid circulation line and connected to each of the front side and the rear side of the circulation pump for pumping the cleaning liquid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115106329A (en) * 2022-06-17 2022-09-27 广东先导微电子科技有限公司 Wafer processing device

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