KR20060066608A - 특정 양이온성 디아조 화합물, 이를 직접 염료로 함유하는조성물, 케라틴 섬유의 염색 방법 및 이를 위한 장치 - Google Patents

특정 양이온성 디아조 화합물, 이를 직접 염료로 함유하는조성물, 케라틴 섬유의 염색 방법 및 이를 위한 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 식의 양이온성 디아조 화합물에 관한 것이다:
염료 1 - LK - 염료 2
[상기 식에서,
염료 1 및 염료 2는 다음과 같다:
Figure 112005033562604-PAT00001
{상기 식에서,
W1, W6: -NR1R2, -OR3/W6: -NR'1-
W2, W5, W'5: 하기 화학식 (a) 내지 (c)의 기:
Figure 112005033562604-PAT00002
W3, W4: 양이온성 방향족 헤테로사이클};
LK: 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 시클릭 또는 비-시클릭, 방향족 또는 비방향족, 임의로 치환되고 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기에 의해 임의로 차단된 C1-C40 탄화수소-기초 사슬].
또한, 본 발명은 직접 염료로서 상기 화합물을 포함하는 염료 조성물, 이 조성물을 사용하여 케라틴 섬유를 염색하는 방법, 및 다중 구획 장치에 관한 것이다.
직접 염료, 케라틴 섬유, 염색, 다중 구획 장치

Description

특정 양이온성 디아조 화합물, 이를 직접 염료로 함유하는 조성물, 케라틴 섬유의 염색 방법 및 이를 위한 장치{PARTICULAR CATIONIC DIAZO COMPOUNDS, COMPOSITIONS COMPRISING THEM AS DIRECT DYE, PROCESS FOR DYEING KERATIN FIBRES AND DEVICE THEREFOR}
본 발명은, 특정 양이온성 디아조 화합물, 이들 화합물을 케라틴 섬유 염색에 적절한 매질 내에 직접 염료로 함유하는 조성물, 및 이러한 조성물을 사용하는 케라틴 섬유의 염색 방법 및 다중 구획 장치에 관련된다.
특히 모발과 같은 인간 케라틴 섬유를 직접 염료 함유 조성물로 케라틴 섬유를 염색하는 것은 공지이다. 이들 화합물은 착색된 것으로 착색 분자는 섬유에 대한 친화성을 가지는 것이다. 일례로, 니트로벤젠 타입, 안트라퀴논 염료, 니트로피리딘 및 아조, 잔텐, 아크리딘, 아진 또는 트리아릴메탄 타입 염료의 직접 염료를 사용하는 것은 공지이다.
이들 염료는, 섬유에 보통 적용되며, 섬유의 동시 탈색을 도모하고자 하는 경우에는, 산화제의 존재하에서 임의로 적용된다. 유지 시간 (LEAVE-IN TIME)이 경과한 후, 섬유를 린스하고 임의로는 세정 및 건조한다.
직접 염료의 사용에 의한 착색은 일시 또는 반영구적 착색인데, 이는 직접 염료가 케라틴 섬유에 결합하는 상호 작용의 성질, 및 섬유의 표면 및/또는 핵으로부터의 이들의 분리가, 세정 또는 발한에 대한 이들의 상대적으로 열악한 내성 및 이들의 열악한 염색능의 원인이기 때문이다.
특정 색을 얻기 위한 사실과 맞물려 추가의 문제가 또 발생하는데, 이는 전부는 아니더라도 대부분의 경우에서 수개의 염료를 함께 혼합하는 것이 필수라는 것이다. 그러나, 각 염료는 섬유에 대해 동일한 친화성을 가지지 않으며, 이는, 비균질 착색 또는 일례로 수회의 섬유 세척, 일광에 노출 등 시간에 걸쳐 색이 변함에 의해 나타난다.
본 발명의 목적은, 존재하는 직접 염료의 문제를 가지지 않는 직접 염료를 제공하는 것이다.
특히, 본 발명의 한 목적은, 시간에 걸친 색 변화의 문제 없이 다양한 색조를 수득할 수 있는 직접 염료를 제공하는 것이다.
이들 목적 및 기타의 것들은 본 발명에 의해 달성되며, 이중 하나의 주제는, 하기 화학식 1의 신규한 양이온성 디아조 화합물 또는 이의 산부가염이다:
[화학식 1]
염료1-LK-염료2:
[상기 식 중 염료1 및 염료2는 다음과 같다:
염료1:
Figure 112005033562604-PAT00003
염료2:
Figure 112005033562604-PAT00004
{상기 식 중,
W1 및 W'6 은, 상호 독립적으로, -NR1R2 또는 -OR3 기를 나타내며, 여기에서, R1, R2 및 R3 는 상호 독립적으로, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C20, 바람직하게는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는, 임의로는 하나 이상의 바람직하게는 산소 및 질소인 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; R1 및 R2 는 이들이 연결된 질소 원자와 함께, 임의로 다른 질소 또는 비질소 원자를 함유한, 임의 치환된 5- 또는 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고;
W'6 에서 유도된 R1, R2 또는 R3 기는 상호 독립적으로, 각각이 연결된 질소 또는 산소 원자 또는 LK 기의 일부와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향 족의 5- 내지 7-원의 임의 치환된 헤테로사이클을 임의로 형성할 수 있고;
W6는 -NR'1- 또는 -O-기로서, 여기에서 R'1은, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C20, 바람직하게는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는, 임의로는 하나 이상의 바람직하게는 산소 및 질소인 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상으로 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; W6에서 유도된 R'1 라디칼은, 연결된 질소 원자 또는 LK 기의 일부와 함께, 질소 및 산소에서 선택된 다른 헤테로 원자를 임의로 함유한, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 5- 내지 7-원의 임의 치환된 헤테로사이클을 임의로 형성할 수 있고;
W2, W5, 및 W'5는 상호 독립적으로 하기 화학식 (a) 내지 (c)의 기를 나타내며;
Figure 112005033562604-PAT00005
(상기 식들 중;
- X1는 질소 원자 또는 CR7를 나타내며;
- X2는 질소 원자 또는 CR8를 나타내며;
- Z1는 질소 원자 또는 CR10를 나타내며;
- Z2는 질소 원자 또는 CR11를 나타내며;
- R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10, 및 R11 은 상호 독립적으로 다음과 같고:
- 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는, 임의로는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상 임의 치환된 3- 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고;
- 히드록실기,
- C1-C4 알콕시기, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-; R은 C1-C4 알킬기임) 또는 알킬카르보닐옥시기 (RCO-O-; R은 C1-C4 알킬기임)이고;
- 아미노기, 동일 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되고, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 결합되는 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 갖는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타 냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식중, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 (N(R)2-CO-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 술폰아미드기 ((R)2N-SO2-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(=NH2 +)-NR-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
- 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
- R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은 수소 원자를 나타낼 수 있고;
- R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은 서로 독립적으로, 기 W'1 또는 W'6 의 전부 또는 일부와 함께, 포화 또는 불포화, 임의 치환된 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 임의로 형성할 수 있고;
- W'5 와 W'6 또는 기 LK 사이의 결합;
- a 는 W2, W5 또는 W'5 와 아조기 -N=N- 사이의 결합을 나타내고;
- b 는 W2 와 W1, W5 와 W6 또는 W'5 와 W'6 사이의 결합을 나타내고;
- R9 는 하기를 나타내고;
- 수소 원자,
- 하나 이상의 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬,
- n 및 n' 는 정수를 나타내고, 이들의 합은 6 이하이고; n 과 n' 의 합이 6 미만이면, 각각의 분리 치환기는 수소 원자임에 유의해야 하고;
W 3 및 W 4 는 서로 독립적으로, 하기 화학식 (1) 내지 (11) 중 하나로 표시되는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타낸다:
Figure 112005033562604-PAT00006
(식 중,
- R'4 는 동일 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환시키며, 하기를 나타내고:
ㆍ 하나 이상의 헤테로 원자 또는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선 택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기에 의해 임의로 간섭된 하나 이상의 3- 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬;
ㆍ 히드록실기,
ㆍ C1-C4 알콕시기, C2-C4 (폴리)히드록시 알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 또는 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ 아미노기, 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되고, 서로 독립적으로 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 결합되는 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 갖는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR'-) (식중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 (N(R)2-CO-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 술폰아미드기 ((R)2N-SO2-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(=NH2 +)-NR-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
ㆍ 주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자가 갖는 2 개의 라디칼 R'4 는 하나 이상의 수소; 하나 이상의 히드록실기; 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4 알콕시 라디칼; 하나 이상의 C2-C4(폴리)히드록시알콕시 라디칼; 하나 이상의 아미노 라디칼; 동일 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되고 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 하나 이상의 아미노 라디칼로 임의 치환된 방향족 또는 비방향족의, 5- 또는 6-원 2 차 고리를 임의로 형성할 수 있고; 바람직하게는, 상기 2 차 고리는 상기 나타낸 바와 같이 임의 치환된 6-원 방향족 고리이고;
- 4 차화 질소 원자가 갖는 R'5 는, W4 의 경우에서, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 바람직하게는 산소 또는 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기에 의해 임의로 간섭된 하나 이상의 임의 치환된 3- 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬을 나타내고; 상기 라디칼 R'5 는 4 차화 질소 원자에 직접 결합된 원자가 탄소 원자이도록 하고;
- 4 차화 질소 원자가 갖는 R'5 는, W3 의 경우에서, LK 에 대한 결합을 나타내고;
- R'7 은 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼; 임의 치환된 페닐 라디칼; 임의 치환된 벤질 라디칼을 나타내고;
- 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 의해 정의되는 양이온성 라디칼을 아조기에 연결시키고; 상기 결합은 주 고리 또는 2 차 고리상에 있을 수 있고; 바람직하게는, 아조기를 갖는 결합 a 는 주 고리상에 있고;
- p 는 0 내지 4 범위의 정수이고, p' 는 0 내지 2 범위의 정수이고, p" 는 0 내지 3 의 정수이고; 주요 고리가 치환기의 최고수를 가지지 않는 경우, 비치환 부분(들)이 질소를 갖는다는 점에 유의하여야 함)};
LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 포함하는 기가 임의 개입된, 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환상 또는 비환상, 방향족 또는 비방향족, 임의 치환된 C2-C40, 바람직하게는 C2-C20 탄화수소계 사슬을 나타내고; LK 기는 추가의 퍼옥소, 니트로 또는 니트로소 기 또는 결합을 포함하지 않으며; LK 가 W'5 에 연결되면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 포함하는 기를 갖는 말단일 수 있으며; LK 가 W6 에 연결되면, LK 는 -CO- 및 -SO2- 에서 선택된 하나 이 상의 헤테로 원자를 포함하는 기를 갖는 말단일 수 있으며; LK 가 W3 에 연결되면, 상기 결합은 탄소원자를 경유하여 이루어지며;
상기 화합물의 전기적 중립은 하나 이상의 상업적으로 입수가능한 음이온 An 에 의해 보장된다].
본 발명의 주제는 또한 케라틴 섬유의 염색용으로 적절한 매질 중에 직접 염료로서 상기 화합물 또는 산에 의한 그의 산부가염을 함유하는 염료 조성물이다.
본 발명은 또한 원하는 효과를 수득하기에 충분한 시간동안, 상기 조성물이 상기 젖거나 건조한 섬유와 접촉하도록 두는 것으로 이루어지는, 케라틴 섬유의 염색 방법에 관한 것이다.
마지막으로, 본 발명은 제 1 구획 중에 본 발명에 따른 조성물, 및 제 2 구획 중에 산화용 조성물을 포함하는 다중 구획 장치에 관한 것이다.
화학식 (1) 의 화합물이 특히 샴푸와 같은 외용제에 대하여, 케라틴 섬유가 민감한 경우에서조차 양호한 고착력을 나타낸다는 것을 발견하였다.
또한, 비대칭 (dissymmetrical) 화합물인 상기 화합물이 대칭성 화합물에서 수득되는 것보다 못한 색상을 갖는 색채에 가깝다.
그러나, 본원의 상세한 설명 및 실시예를 읽는 동안 본 발명의 다른 특징 및 장점은 더욱 명백하게 드러날 것이다.
이하의 본문에서, 달리 지적되지 않는 한, 수치의 범위를 정하는 한계는 그 범위에 속하는 것이다.
또한, 본 발명에 따른 처리의 대상을 형성하는 케라틴 섬유는 인간의 케라틴 섬유, 특히 모발이다.
본 발명의 목적을 위하여는, 달리 지적되지 않는 한, 하기와 같다:
- 알킬 라디칼은 선형 또는 비선형이고;
- 알킬 라디칼 또는 라디칼의 알킬 부분은 하기 기로부터 선택된 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:
ㆍ 히드록실,
ㆍ C1-C4 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시,
ㆍ 동일 또는 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 아미노, 하나 이상의 C1-C4 알킬로 치환된 아미노, 상기 알킬기는 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는 5원 또는 6원 헤테로사이클을 형성할 수 있음;
- 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼 또는 아릴 또는 헤테로아릴 부분은 하기로부터 선택된 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:
ㆍ 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 아실아미노, 2 개의 동일 또는 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, C1-C16, 바람직하 게는 C1-C8 알킬 라디칼, 또는 상기 2 개의 라디칼은 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는, 5원 내지 7원, 바람직하게는 5원 또는 6원 헤테로사이클을 형성할 수 있음;
ㆍ 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;
ㆍ 히드록실기;
ㆍ C1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시알콕시 라디칼;
ㆍ 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 2 개의 동일 또는 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노, 또는 2 개의 임의 치환된 C1-C2 알킬 라디칼로 치환된 아미노;
ㆍ 아실아미노 라디칼 (-NR-COR') [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼이고, 라디칼 R' 는 C1-C2 알킬 라디칼임]; 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) [식 중, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼임]; 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼이고, 라디칼 R' 는 C1-C4 알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타냄]; 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) [식 중, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄];
- 비방향족 라디칼의 고리 또는 헤테로사이클 부분은 하기 기로부터 선택되는, 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:
ㆍ 히드록실,
ㆍ C1-C4 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시,
ㆍ 알킬카르보닐아미노((RCO-NR'-) [식 중, 라디칼 R' 는 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼이고, 라디칼 R 은 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일 또는 상이한 C1-C4 알킬로 치환된 C1-C2 알킬 라디칼, 아미노 라디칼, 상기 알킬 라디칼은 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는 5원 또는 6원 헤테로사이클을 형성할 수 있음.
앞서 지적한 바와 같이, 본 발명의 제 1 주제는 상기 화학식 (I) 에 대응하는 화합물로 이루어진다.
보다 상세하게는, 화학식 (I) 염료1-LK-염료2 의 화합물은 라디칼 R1, R2, R3 및 R'1 이 서로 독립적으로 하기를 나타내는 그러한 화합물이다:
- 수소 원자;
- 임의 치환된 C1-C6 알킬 라디칼;
- 페닐 또는 벤질과 같은 아릴 또는 아릴알킬 라디칼, 상기 아릴 부분은 임 의 치환됨;
- W'6 으로부터 유도된 라디칼 R1, R2 또는 R3 은 서로 독립적으로 LK 기 부분 및 이들에 부착된 질소와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 임의 치환된 5원 내지 7원 헤테로사이클을 임의로 형성할 수 있음;
- W6 으로부터 유도된 라디칼 R'1 은 이들에 부착된 질소 및 LK 기 부분과 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족이고 질소 또는 산소에서 선택되는 다른 헤테로 원자를 임의 함유하는 임의 치환된 5원, 6원 또는 7원 헤테로사이클을 임의로 형성할 수 있음;
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 라디칼 R1, R2, R3 및 R'1 은, 동일하또는 상이할 수 있으며, 하기를 나타낸다:
- 수소 원자;
- 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 2-메톡시에틸과 같은, 치환될 수 있는 C1-C3 알킬 라디칼;
- 히드록시, C1-C2 알콕시 및 아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록실 기를 가지는, 하나 이상의 C1-C4 기로 치환된 아미노 라디칼;
- W6 으로부터 유래한 R'1 은, LK 기에 부착되어 있고, 그 부분을 이루는 질소 원자와 함께, 하나 이상의 메틸, 히드록시, 아미노 또는 (디)메틸아미노 라디 칼로 치환될 수 있는, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 호모피페라진 형태의 5원 또는 6원 헤테로사이클을 형성할 수 있다.
본 발명의 더욱 바람직한 변형에 따르면, 라디칼 R1, R2, R3 및 R'1 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 하기를 나타낸다:
- 수소 원자;
- 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼;
- 히드록시, 메톡시, 아미노, (디)메틸아미노 또는 (디)(2-히드록시에틸)아미노 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼;
- W6 으로부터 유래한 R'1 은, LK 기에 부착되어 있고, 그 부분을 이루는 질소 원자와 함께, 피롤리딘, 3-히드록시피롤리딘, 3-디메틸아미노피롤리딘, 피페리딘, 2-(2-히드록시에틸피페리딘), 4-(아미노메틸)피페리딘, 4-(2-히드록시에틸)피페리딘, 4-(디메틸아미노)피페리딘, 피페라진, 1-메틸피페라진, 1-(2-히드록시에틸)피페라진, 1-(2-아미노에틸)피페라진, 1-히드록시에틸에톡시피페라진, 호모피페라진 또는 1-메틸-1,4-퍼하이드로디아제핀과같은 5원 내지 7원 헤테로사이클을 형성할 수 있다.
라디칼 R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 에 관하여는, 상기 라디칼들은 동일 또는 상이할 수 있으며, 더욱 특히 하기를 나타낸다:
- R4, R5, R7, R8, R10 및 R11 에 있어서 수소 원자;
- 치환될 수 있는 C1-C16, 바람직하게는 C1-C8 알킬 라디칼;
- 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;
- 히드록실 기;
- C1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시알콕시 라디칼;
- 아미노 라디칼; 하나 또는 둘의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼, 이는 동일 또는 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록시 또는 C1-C4 디알킬아미노기를 가질수 있음;
- 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) [식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄]; 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) [식 중, 라디칼 R 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실 기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬을 나타냄]; 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상이 히드록실 기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내며, 라디칼 R' 는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄]; 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) [식 중, 라디칼 R 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실 기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄];
- W'5 내지 W'6 의 결합.
더욱 특히, 상기 라디칼들은, 동일 또는 상이할 수 있으며 하기를 나타낸다:
- R4, R5, R7, R8, R10 및 R11 에 대하여 수소 원자;
- 히드록시 및 아실아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록실 기를 가질 수 있는 동일 또는 상이한 두개의 C1-C2 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼, 또는 C1-C2 알콕시 라디칼;
- 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실 기를 가질 수 있는, 하나 이상의 동일 또는 상이한 C1-C2 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼; 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 설포닐아미노 라디칼;
- 히드록시 라디칼; C1-C2 알콕시 라디칼;
- W'5 내지 W'6 의 결합.
본 발명의 바람직한 변형에 따르면, 라디칼 R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은, 각각 독립적으로, 하기를 나타낸다:
- R4, R5, R7, R8, R10 및 R11 에 대하여 수소 원자;
- 메틸, 에틸, 프로필, 2-히드록시에틸, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에틸옥시, 3-히드록시프로필옥시 또는 2-메톡시에틸 라디칼;
- 설포닐아미노 라디칼; 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 2-히드록시에 틸아미노, 3-히드록시프로필아미노 또는 아실아미노 라디칼; 히드록시 라디칼;
- 염소 원자;
- W'5 내지 W'6 의 결합.
라디칼 R9 에 관하여는, 이는 수소 원자 또는 C1-C15 알킬 라디칼; C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6-폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 페닐과 같은, 치환될 수 있는 아릴 라디칼; 벤질과 같은, 치환될 수 있는 아릴알킬 라디칼; C2-C6 아미도알킬 라디칼; C2-C6 아미노알킬 라디칼, 두개의 동일 또는 상이한, 치환될 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아민을 나타낸다. 게다가, R9 는 질소 원자에 직접적으로 결합되어 있는 원자가 탄소 원자이다.
바람직하게는, R9 는 수소 원자, C1-C6 알킬 라디칼 또는 C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 하나 이상의 염소 원자, 히드록실 기, RCO-NH- [식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄] 또는 두개의 동일 또는 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되어 있는 페닐 라디칼; 벤질 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼 [식 중, 아민은 두개의 동일 또는 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되어 있음] 을 나타낸다.
본 발명의 하나의 특정 변형에 의하면, W2, W5 및 W'5 는, 각각 독립적으로, 화학식 (a) 또는 (c) 의 기를 나타낸다.
상기 변형에 따르면, X1 은 바람직하게는 CR7 기를 나타낸다.
바람직하게는, 상기 변형에 따르면, X2 는 라디칼 CR8 을 나타낸다.
R4, R5, R6, R'6, R7 및 R8 은, 각각 독립적으로, 상기와 동일한 의미를 가진다.
W3 및 W4 기에 관해서는, 상기 기들은, 각각 독립적으로, 더욱 특히 하기 화학식 (1) 내지 (3) 의 헤테로사이클을 나타낸다:
[화학식 (1)]
Figure 112005033562604-PAT00007
[화학식 (2)]
Figure 112005033562604-PAT00008
[화학식 (3)]
Figure 112005033562604-PAT00009
[식 중, R'4, R'5, R'7, p, p' 및 a 는 상기 정의되었음].
바람직하게는, R'5 및 R'7 는 수소를 제외하고, R9과 동일한 의미를 가진다.
본 발명의 하나의 바람직한 구현예를 따르면, 양이온성 방향족 헤테로사이클 기는 2-이미다졸륨, 2-벤즈이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨, 5-인다졸륨, 6-인다졸륨 및 7-인다졸륨으로부터 선택된다.
본 발명의 더욱 더 특별한 구현예에 따르면, W3 및 W4기는 각각 독립적으로 수득되고, 2-이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴 놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨 및 7-인다졸륨으로부터 선택되는 양이온성 방향족 헤테로사이클을 나타낸다.
W3의 경우, 양이온성 헤테로사이클 라디칼은 4차화된 질소 원자, 즉 R'5를 통해 LK기에 결합한다.
화학식 (I)에서, LK 는 양이온성 전하를 갖지 않는다.
보다 상세하게는, LK 는 직쇄, 분지쇄 또는 고리형, 방향족 또는 비방향족 C2-C20 알킬 사슬을 나타낸다:
- 하나 이상의 헤테로 원자 및/또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR'-, -CO- 또는 -SO2-로 임의적으로 단절되고, 단, LK 기에 니트로, 니트로소 또는 페록소 기 또는 결합은 없고;
- 만약, LK 가 W'5에 연결된다면, 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 갖는 기로 임의적으로 종결되고;
- 만약, LK 가 W6에 연결된다면, -CO- 및 -SO2-로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 기로 임의적으로 종결되고;
- 만약, LK 가 4차화된 질소 원자를 통해 W3에 연결된다면, LK 는 탄소 원자를 통해 직접 W3에 연결되고; 그러므로, 달리 말하면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 없고;
- 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4(폴리)히드록시알콕시, 임의적으로 하나 이상의 히드록실 기를 갖는 하나 이상의 직쇄 또는 분지쇄 C1-C2 알킬기로 치환된 아미노로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의적으로 치환된다.
바람직하게는, LK 는 히드록실, 하나 이상의 히드록실기를 임의적으로 갖는 수 개의 직쇄 또는 분지쇄 C1-C4 알킬기로 치환된 아미노로 임의적으로 치환된 직쇄 또는 분지쇄 C2-C20 알킬 사슬을 나타낸다. 또한, LK 가 W'5에 연결될 때, LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR’-, -CO- 또는 -SO2-로 임의적으로 종결될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특별한 구현예에 따르면, LK 은 직쇄 또는 분지쇄 C2-C8 알킬 사슬을 나타내며, 헤테로사이클와 함께, 히드록실, C1-C2 알콕시 및 C1-C2 (디)알킬아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의적으로 치환된다. 또한, LK 가 W'5에 연결될 때, LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR’-, -CO- 또는 -SO2-로 임의적으로 종결될 수 있다.
An 은 유기성 또는 광물성 음이온 또는 음이온의 혼합물으로서, 예를 들어 할로겐화물, 예를 들어 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드 또는 이오다이드; 히드록시드; 설페이트; 수소 설페이트; (C1-C6)알킬 설페이트, 예를 들어 메틸 설페이트 또는 에틸 설페이트; 포스페이트; 카르보네이트; 수소 카르보네이트; 퍼프클 로레이트; 아세테이트; 타르트레이트; 시트레이트; 옥살레이트; (C1-C6)알킬술포네이트 예를 들어 메틸술포네이트; 비치환되거나 C1-C4 알킬 라디칼, 예를 들어 4-톨릴술포네이트로 치환된 아릴술포네이트로부터 선택되는 화합물의 전기적 중성을 존중한다.
화학식 (I)의 화합물의 산을 갖는 부가염은, 예를 들어 할로겐화물, 예를 들어 클로라이드 또는 브로마이드, 설페이트, 알킬 설페이트일 수 있고, 여기서 직쇄 또는 분지쇄 알킬부는 C1-C6, 예를 들어 메토설페이트 또는 에토설페이트 이온, 수소 카르보네이트, 퍼클로레이트, 카르복실산 염, 예를 들어 아세테이트; 시트레이트; 타르트레이트의 단독이거나 조합되어 있다.
본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 상기 화합물들은 하기의 화학식과 개별적으로 대응된다.
Figure 112005033562604-PAT00010
상기의 화학식 W1, R4, R5, R'5, 및 R'7 는 상기에서 정의되어 있다;
- 동일 또는 상이할 수 있는 x 및 x'은 1 내지 10, 바람직하게 1 내지 6 사이의 정수이며;
- 상기에서 정의된 대로 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 음이온 An 의 존재와 관련되는 분자의 전기적 중성.
상기 화합물은, 예를 들어 US 5 708 151, J. Chem. Res., Synop. (1998), (10), 648-649, US 3 151 106, US 5 852 179, Heterocycles, 1987, 26 (2) 313-317, Synth. Commun. 1999, 29 (13), 2271-2276, Tetrahedron, 1983, 39 (7), 1091-1101 의 문서에서 기술된 제조 공정으로부터 특별히 수득될 수 있다.
본 발명의 또 다른 주제는, 케라틴 섬유를 염색하기에 적당한 기질, 하나 이상의 화학식 (I) 의 화합물, 또는 산을 가진 상기의 첨가 염을 직접 염료로서 포함하는 조성물로 이루어진다.
화학식 (I) 의 화합물 또는 화학식 (I) 의 화합물들 각각의 농도는 염료 조성물의 총양과 비교하여 0.001 중량% 내지 20 중량% , 더욱 특별히 0.01 중량% 내지 10 중량%, 및 바람직하게 0.05 중량% 내지 5 중량% 의 범위일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 산화 염기를 포함할 수 있다. 상기 산화 염기는 예를 들어, 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르소-아미노페놀 및 헤테로사이클 염기 같이, 산화 염료에 통상적으로 사용되는 산화 염기로부터 선택될 수 있다.
더욱 특별히 언급될 수 있는 파라-페닐렌디아민 중에서, 예를 들어 파라-페닐렌디아민, 파라-토일렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐 렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸아닐린, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-클로라아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N-에틸-N-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노페닐피놀리딘, 2-티에닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸아미노-5-아미노톨루엔 및 산을 가진 첨가 염류가 있다.
상기에서 언급된 파라-페닐렌디아민 중에서, 파라-페닐렌디아민, 파라-토일렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌-디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민,
2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌-디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 및 산을 가진 상기의 첨가 염이 특히 바람직하다.
비스(페닐)알킬렌디아민은, 예를 들어, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'- 비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)-테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,6-디옥사옥탄, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.
파라-아미노페놀은 예를 들어, 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.
오르소-아미노페놀은 예를 들어, 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.
헤테로시클릭 염기는 예를 들어, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체를 언급할 수 있다.
피리딘 유도체는 예를 들어, 특허 GB 1 026 978 및 GB 1 153 196 에 기술된, 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시에틸)아미노-3-아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노-피리딘, 및 이의 산 부가염과 같은 화합물을 언급할 수 있다.
피리미딘 유도체는, 예를 들어, 특허 DE 2 359 399; JP 88-169 571; JP 05-163 124; EP 0 770 375 또는 특허출원 WO 96/15765 에 기술된, 2,4,5,6-테트라아미 노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노피리미딘, 및 특허출원 FR-A-2 750 048 에 언급된 바와 같은 피라졸로피리미딘 유도체, 예컨대 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올; 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올, 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]-피리미딘-3,7-디아민, 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,5,N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노피라졸로[1,5-a]-피리미딘, 및 이의 산 부가염 및 호변성 평형이 존재하는 경우, 이의 호변체 형태와 같은 화합물을 언급할 수 있다.
피라졸 유도체는 특허 DE 3 843 892 및 DE 4 133 957 및 특허출원 WO 94/08969, WO 94/08970, FR-A-2 733 749 15 및 DE 195 43 988 에 기술된, 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3- tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노-피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 및 이의 산 부가염과 같은 화합물을 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 케라틴 섬유를 염색할 때 통상적으로 사용되는 하나 이상의 커플러를 포함할 수 있다. 이러한 커플러들 중에서, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌-계 커플러 및 헤테로시클릭 커플러를 언급할 수 있다.
언급할 수 있는 예로서 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 6-클로로-2-메틸-5-아미노페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 3-우레이도아닐린, 3-우레이도-1-디메틸아미노벤젠, 세사몰, 1-β-히드록시에틸아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, α-나프톨, 2-메틸-1-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인 돌, 2-아미노-3-히드록시피리딘, 6-히드록시벤조모르폴린, 3,5-디아미노-2,6-디메톡시피리딘, 1-N-(β-히드록시에틸)아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠 및 2,6-비스(β-히드록시에틸아미노)톨루엔 및 이의 산 부가염을 포함한다.
본 발명의 조성물에서, 커플러는 일반적으로 염료 조성물 총 중량에 대하여, 0.001 내지 10 중량%, 및 보다 바람직하게는 0.005 내지 6 중량% 범위의 양으로 존재한다. 산화 염기는 바람직하게는 염료 조성물 총 중량에 대하여, 0.001 내지 10 중량%, 및 보다 바람직하게는 0.005 내지 6 중량% 범위의 양으로 존재한다.
일반적으로, 산화 염기 및 커플러에 대한 본 발명의 염료 조성물과 관련하여 사용될 수 있는 산 부가염은 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 설페이트, 시트레이트, 숙시네이트, 타르트레이트, 락테이트, 토실레이트, 벤젠설포네이트, 포스페이트 및 아세테이트로부터 선택된다.
본 발명의 조성물은 임의로 화학식(I)의 화합물 이외의 하나 이상의 부가 직접 염료를 포함할 수 있다. 상기 염료는 양이온 및 음이온 종으로부터 선택될 수 있다.
언급될 수 있는 비제한적인 예로서 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 크산텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄-계 염료 및 천연 염료, 단독 또는 혼합물로 포함한다.
예를 들어, 하기의 적색 또는 오렌지색 니트로벤젠 염료로부터 선택될 수 있다:
- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(γ-히드록시프로필)아미노벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로-4-아미노벤젠,
- 1-아미노-3-메틸-4-N-(β-히드록시에틸)아미노-6-니트로벤젠,
- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,
- 1,4-디아미노-2-니트로벤젠,
- 1-아미노-2-니트로-4-메틸아미노벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-파라-페닐렌디아민,
- 1-아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노-5-클로로벤젠,
- 2-니트로-4-아미노디페닐아민,
- 1-아미노-3-니트로-6-히드록시벤젠,
- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸옥시)벤젠,
- 1-(β,γ-디히드록시프로필)옥시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)-아미노벤젠,
- 1-히드록시-3-니트로-4-아미노벤젠,
- 1-히드록시-2-아미노-4,6-디니트로벤젠,
- 1-메톡시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,
- 2-니트로-4'-히드록시디페닐아민, 및
- 1-아미노-2-니트로-4-히드록시-5-메틸벤젠.
추가적인 직접 염료는 또한 황색 및 녹색-황색 니트로벤젠 직접 염료로부터 선택될 수 있으며; 예를 들어 하기로부터 선택되는 화합물을 언급할 수 있다:
- 1-β-히드록시에틸옥시-3-메틸아미노-4-니트로벤젠,
- 1-메틸아미노-2-니트로-5-(β,γ-디히드록시프로필)옥시벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-메톡시-4-니트로벤젠,
- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-5-메톡시벤젠,
- 1,3-디(β-히드록시에틸)아미노-4-니트로-6-클로로벤젠,
- 1-아미노-2-니트로-6-메틸벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-히드록시-4-니트로벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-4-트리플루오로메틸아닐린,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤젠술폰산,
- 4-에틸아미노-3-니트로벤조산,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로클로로벤젠,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로메틸벤젠,
- 4-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-3-니트로트리플루오로메틸벤젠,
- 1-(β-우레이도에틸)아미노-4-니트로벤젠,
- 1,3-디아미노-4-니트로벤젠,
- 1-히드록시-2-아미노-5-니트로벤젠,
- 1-아미노-2-[트리스(히드록시메틸)메틸]아미노-5-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠, 및
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤즈아미드.
청색 또는 바이올렛 니트로벤젠 직접 염료는 예를 들어 하기를 언급할 수 있 다:
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(γ-히드록시프로필)아미노-4,N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-메틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 하기 화학식을 가진 2-니트로-파라-페닐렌디아민:
Figure 112005033562604-PAT00011
[식 중:
- Rb 는 C1-C4 알킬 라디칼 또는 β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내며;
- Ra 및 Rc 은, 상동이거나 또는 상이할 수 있고, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필, γ-히드록시프로필 또는 β,γ-디히드록시프로필 라디칼을 나타내며, 하나 이상의 라디칼 Rb, Rc 또는 Ra 는 γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내며, 프랑스 특허 FR 2 692 572 에 기재된 바와 같이 Rb 가 γ-히드록시프로필 라디칼인 경우 Rb 및 Rc 는 동시에 β-히드록시에틸 라디칼을 나타낼 수 없다].
본 발명에 따라 사용될 수 있는 아조 직접 염료 중에서, 특허 출원 WO 95/15144, WO 95/01772 및 EP 714 954 에 기재되어 있는 양이온성 아조 염료를 언급할 수 있다.
상기 화합물들 중에서, 하기 염료들이 가장 특히 바람직하다:
1,3-디메틸-2-[[4-(디메틸아미노)페닐]아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,
1,3-디메틸-2-[(4-아미노페닐)아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,
1-메틸-4-[(메틸페닐히드라조노)메틸]피리디늄 메틸 설페이트.
언급될 수 있는 아조 직접 염료로는, Colour Index International 제 3 판 에 기재되어 있는 하기 염료가 있다:
Disperse Red 17
Acid Yellow 9
Acid Black 1
Basic Red 22
Basic Red 76
Basic Yellow 57
Basic Brown 16
Acid Yellow 36
Acid Orange 7
Acid Red 33
Acid Red 35
Basic Brown 17
Acid Yellow 23
Acid Orange 24
Disperse Black 9.
또한, 1-(4'-아미노디페닐아조)-2-메틸-4-[비스(β-히드록시에틸)아미노]벤젠 및 4-히드록시-3-(2-메톡시페닐아조)-1-나프탈렌술폰산을 언급할 수 있다.
언급될 수 있는 퀴논 직접 염료 중에는 하기가 있다:
Disperse Red 15
Solvent Violet 13
Acid Violet 43
Disperse Violet 1
Disperse Violet 4
Disperse Blue 1
Disperse Violet 8
Disperse Blue 3
Disperse Red 11
Acid Blue 62
Disperse Blue 7
Basic Blue 22
Disperse Violet 15
Basic Blue 99
및 또한 하기 화합물:
1-N-메틸모르폴리늄프로필아미노-4-히드록시안트라퀴논
1-아미노프로필아미노-4-메틸아미노안트라퀴논
1-아미노프로필아미노안트라퀴논
5-β-히드록시에틸-1,4-디아미노안트라퀴논
2-아미노에틸아미노안트라퀴논
1,4-비스(β,γ-디히드록시프로필아미노)안트라퀴논.
언급될 수 있는 아진 염료 중에는, 하기 화합물이 있다:
Basic Blue 17
Basic Red 2.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 트리아릴메탄 염료 중에는, 하기 화합물을 언급할 수 있다:
Basic Green 1
Acid Blue 9
Basic Violet 3
Basic Violet 14
Basic Blue 7
Acid Violet 49
Basic Blue 26
Acid Blue 7.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 인도아민 염료 중에는, 하기 화합물을 언급할 수 있다:
2-β-히드록시에틸아미노-5-[비스(β-4'-히드록시에틸)아미노]-아닐리노-1,4-벤조퀴논;
2-β-히드록시에틸아미노-5-(2'-메톡시-4'-아미노)아닐리노-1,4-벤조퀴논;
3-N(2'-클로로-4'-히드록시)페닐아세틸아미노-6-메톡시-1,4-벤조퀴논이민;
3-N(3'-클로로-4'-메틸아미노)페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민;
3-[4'-N-(에틸카르바밀메틸)아미노]페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 테트라아자펜타메틴 유형의 염료 중에서, 하기 표에 주어진 화합물들을 언급할 수 있으며, 이때 An 은 상기와 같이 정의된다:
Figure 112005033562604-PAT00012
Figure 112005033562604-PAT00013
본 발명에 따라 사용될 수 있는 천연 직접 염료 중에서, 로손 (lawsone), 주글론 (juglone), 알리자린 (alizarin), 퓨퍼린 (Purpurin), 카르민산(carminic acid), 케르메스산 (kermesic acid), 퓨퍼로갈린 (purpurogallin), 프로토카테칼데히드 (protocatechaldehyde), 인디고 (indigo), 이사틴 (isatin), 쿠르쿠민(curcumin), 스피눌로신 (spinulosin) 및 아피제니딘 (apigenidin) 을 들 수 있다. 이들 천연 염료를 함유한 추출물 또는 탕제 (decoction) 또한 사용할 수 있는데, 특히 헤나(henna)-기반 습포제 (poultice) 또는 추출물을 사용할 수 있다.
이들이 존재할 경우, 상기 조성물 중의 부가 직접 염료(들) 함량은 상기 조성물 중량을 기준으로 통상 0.001 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 상기 조성물 중량을 기준으로 0.01 중량% 내지 10 중량% 범위이다.
염색에 적당한 매질은 염료 지지체로도 공지되어 있으며, 통상 물 또는, 물및 수-용해성이 충분하지 않은 화합물들을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매의 혼합물로 이루어진다.
좀 더 구체적으로, 상기 유기 용매는 탄소수 2 내지 10 의 선형 또는 분지형의, 바람직하게는 포화된 모노알콜 또는 디올, 예컨대 에틸 알콜, 이소프로필 알콜, 헥실렌 글리콜 (2-메틸-2,4-펜탄디올), 네오펜틸 글리콜 및 3-메틸-1,5-펜탄디올; 방향족 알콜 예컨대 벤질 알콜 및 페닐에틸 알콜; 글리콜 또는 글리콜 에테르, 예를 들어 에틸렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 및 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 및 이의 에테르류, 예를 들어 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 부틸렌 글리콜 및 디프로필렌 글리콜; 및 또한 특히 C1-C4 의, 디에틸렌 글리콜 알킬 에테르류, 예를 들어 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 모노부틸 에테르로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택된다.
상기 기술한 보통의 용매들은, 이들이 존재할 경우, 통상 상기 조성물 전체 중량을 기준으로 1 중량% 내지 40 중량%, 좀 더 바람직하게는 5 중량% 내지 30 중량% 를 나타낸다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 모발 염색용 조성물에서 통상적으로 사용되는 다양한 아주번트 (adjuvant), 예컨대 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성, 양쪽성 (amphoteric) 또는 즈비터이온성 (zwitterionic) 계면활성제 또는 이들의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성, 양쪽성 또는 즈비터이온성 중합체 또는 이들의 혼합물, 무기 (mineral) 또는 유기 증점제 (thickener), 및 특히 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성 및 양쪽성의 회합형 중합성 증점제, 항산화제, 침투제 (penetrating agent), 격리제 (sequestering agent), 향신제 (fragrance), 완충제, 분산제, 조정제 (conditioning agent), 예를 들어 휘발성 또는 비휘발성 또는 개질된 또는 개질되지 않은 것일 수 있는 실리콘, 필름형성제, 세라마이드 (ceramide), 보존제 및 유탁제 (opacifier) 를 함유할 수 있다.
상기 아주번트는 통상 상기 조성물의 중량을 기준으로 각각 0.01 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재한다.
물론, 당업계의 숙련된 자는 본 발명에 따른 산화 염료 조성물에 본질적으로 관련된 유리한 특성들이 상기 파악된 부가물(들)에 의해 악영향을 받지 않거나 또는 실질적으로 받지 않도록 이 또는 이들 선택적인 부가 화합물들을 신중히 선택할 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물의 pH 는 통상 약 3 내지 12, 바람직하게는 약 5 내지 11 이다. 이는, 케라틴 섬유의 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하거나 또는 대안적으로 표준 완충계를 사용하여 원하는 값으로 조정할 수 있다.
산성화제 중에는, 예를 들어, 무기 또는 유기산 예컨대 염산, 오르토인산 (orthophosphoric acid), 황산, 카르복실산 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산을 들 수 있다.
염기성화제 중에는, 예를 들어, 암모니아수, 알칼라인 카르보네이트, 알카놀아민 예컨대 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민 및 이들의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식의 화합물을 들 수 있다:
Figure 112005033562604-PAT00014
[식 중, W 는 히드록실기 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이고; Ra, Rb, Rc 및 Rd 는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C1-C4 알킬 라디칼 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].
본 발명에 따른 염료 조성물은, 액, 크림 또는 겔 형태이거나, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색시키기에 적당한 임의의 다른 형태 등 다양한 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 조성물은 즉시 사용가능한 (ready-to-use) 조성물로 지칭된다.
본 발명의 목적상, 상기 "즉시 사용가능한 조성물" 이라는 용어는, 케라틴 섬유에 즉시 적용하도록 의도된 조성물을 의미하는데, 즉, 이는 사용전에 개질되지 않은 형태로 저장되거나 또는 둘 이상의 조성물의 즉석 혼합에 의해 생성될 수 있다.
상기 조성물은 또한 본 발명에 따른 조성물을 산화 조성물과 혼합함으로써 수득할 수 있다.
상기 산화제는 당분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 산화제일 수 있다. 따라서, 이는, 과산화수소, 과산화요소, 알칼리금속 브롬산염(bromate), 과염 (persalt) 예컨대 과붕산염 및 과황산염, 및 또한 효소에서 선택될 수 있고, 상기 효소 중에서는 퍼옥시다아제 (peroxidase), 2-전자 산화환원효소 (2-electron oxidoreductases) 예컨대 유리카제 (uricase), 및 4-전자 옥시게나제 (4-electron oxygenase), 예를 들어 라카아제 (laccase) 를 들 수 있다. 과산화수소를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
산화제의 함량은 일반적으로, 즉시 사용가능한 (ready-to-use) 조성물의 중량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 즉시 사용가능한 조성물의 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량% 이다.
일반적으로, 사용되는 산화 조성물은 수성 조성물이고 용액 또는 에멀젼의 형태일 수 있다.
통상, 산화제가 없는 조성물을 약 0.5 내지 10 중량 당량의 산화 조성물과 혼합한다.
즉시 사용가능한 조성물의 pH 는 보다 특별하게는 4 내지 12, 바람직하게는 7 내지 11.5 임을 유념해야 한다.
조성물의 pH 는 특히 본 발명에 따른 기술 내용에서 이미 언급된 것에서 선택된 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여 조정될 수 있다.
본 발명의 주제는 또한 본 발명에 따른 염료 조성물을 젖거나 마른 케라틴 섬유에 적용하는 것을 포함하는 염색 방법이다.
화학식 I 의 화합물(들) 또는 이의 산과의 부가 염, 임의로 하나 이상의 커플러와 임의 조합된 하나 이상의 산화 염기, 및 임의로 하나 이상의 추가적인 직접 염료를 포함하는 염료 조성물은 산화제의 존재 하에서 섬유에 적용될 수 있다.
이러한 산화제는, 사용시에 또는 케라틴 섬유에 직접, 화학식 I 의 화합물(들) 및 임의의 산화 염기, 커플러 및/또는 추가적인 직접 염료를 포함하는 조성물에 첨가될 수 있다.
산화 조성물은 또한, 모발 염색용 조성물에 통상 사용되고 상기 정의한 바와 같은 다양한 아주번트를 함유할 수도 있다.
산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH 는, 염료 조성물과 혼합 후 케라틴 섬유에 적용되는 생성된 조성물의 pH 가 바람직하게는 약 4 내지 12, 훨씬 더 바람직하게는 7 내지 11.5 의 범위가 되도록 한다. 이는 통상 케라틴 섬유의 염색에 사용되고 상기 정의한 바와 같은 산성화제 또는 염기성화제에 의해 목적한 값으로 조정될 수 있다.
케라틴 섬유에 최종적으로 적용되는 조성물은 다양한 형태, 예컨대, 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색시키기에 적합한 임의의 다른 형태일 수 있다.
한 특정 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물은 산화 염기 및 커플러가 없다.
적용되는 조성물은 임의로 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다.
따라서, 상기 조성물을 젖거나 마른 케라틴 섬유에 적용한 후, 원하는 착색을 얻기에 충분한 유지 (leave-in) 시간 동안 방치한다.
어떠한 변형법이 채택되던지 (산화제를 사용하든 사용하지 않든), 유지 시간은 일반적으로 수초 내지 1 시간, 바람직하게는 3 내지 30 분이다.
상기 조성물이 작용하도록 방치되는 온도는 일반적으로 15 내지 220°C, 보다 특별하게는 15 내지 80°C, 바람직하게는 15 내지 40°C 이다.
유지 시간 후, 상기 조성물을 물로 제거한 후, 임의로 샴푸로 세척한 후 임의로 건조시킨다.
본 발명의 다른 주제는, 제 1 구획이 본 발명의 염료 조성물을 함유하고 제 2 구획이 산화 조성물을 함유하는 다구획 (multi-compartment) 장치 또는 염색 "키트" 이다. 이 장치는 원하는 혼합물을 모발에 적용하기 위한 수단, 예컨대 특허 FR-2 586 913 에 기재된 장치를 구비할 수 있다.
[실시예]
하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위해 제공되지만, 절대 한정하는 것은 아니다.
실시예 1
1/ 하기 화합물의 합성:
Figure 112005033562604-PAT00015
Figure 112005033562604-PAT00016
상기 화합물들은 하기의 방식으로 수득될 수 있다:
Figure 112005033562604-PAT00017
할로겐화 유도체의 합성
Figure 112005033562604-PAT00018
하기 방식으로 할로겐화 유도체 (화합물 3) 를 제조하였다:
Figure 112005033562604-PAT00019
화합물 1 은 특허 US 5 708 151 에 따라 합성된다.
절차
단계 1
교반하면서, 삼목 플라스크 (three-necked flask) 내의 50 ml 의 이소프로판올에 화합물 1 (10 g) 을 넣고 무수 디메틸포름아미드에 넣은 후; 50 ml 의 이소프로판올에 미리 용해시킨 아민 (4.85 g; 1 당량) 을 반응 매질에 첨가하였다. 이 혼합물을 교반하면서 80°C (내부 온도) 로 가열하였다.
10 시간 후, 가열을 중지하고 반응 혼합물을 실온으로 냉각시켰다.
생성물을 아세톤/에틸 아세테이트 혼합물 (100 ml/400 ml) 로부터 침전시킨 후 여과하여, 10.83 g 의 적자색 고체를 회수하였다.
NMR 및 질량 스펙프럼은 화합물 2 와 일치하였다.
단계 1
화합물 2 (1 g), 1,3-디메틸-3,4,5,6-테트라히드로-2(1H)-피리미디논 (20 ml), 메탄설포닐 클로라이드 (1.27 ml, 6 당량) 및 피리딘 (1.3 g, 6 당량) 을 삼목 플라스크에 넣었다,
이 혼합물을 실온에서 4 일간 교반하였다.
생성물을 에틸 아세테이트로부터 침전시킨 후 여과하였다. 침전물을 물에 용해시킨 후 디클로로메탄으로 추출하였다. 유기 상을 황산나트륨으로 건조시키고, 여과 후 농축시켰다.
화합물 3 을 무광택의 암적색 분말 형태로 회수하였다.
NMR 및 질량 스펙트럼은 화합물 3 과 일치하였다.
실시예 1 내지 4 의 합성:
동일한 절차에 따라 4 개의 표본을 합성하였다:
화합물 3 (2.61 mmol), 이차 염료 (2.61 mmol), 1,3-디메틸-3,4,5,6-테트라히드로-2(1H)-피리미디논 (4 ml) 및 촉매량 (10%) 의 KI 를 95℃ 에서 14 시간 동안 둥근 바닥 플라스크에 넣었다. 이어서, 생성물을 에틸 아세테이트로부터 침전시킨 후 크로마토그래피로 정제하였다.
실시예 1 의 합성:
Figure 112005033562604-PAT00020
산성 매질 중에서의 3-(에틸아미노)-4-메틸페놀과 3-아미노피리딘의 디아조늄 염의 커플링 반응에 의해 화합물 4 를 수득하였다.
사용량
화합물 4: 67 mg
화합물 3: 100 mg
수행된 분석은 화합물 5 에 대해 제안된 구조와 일치하였다.
염료예:
하기 조성물을 제조하였다:
성분 양
60% 완충 수용액으로서의 (50/50 C8/C10) 알킬 폴리글루코시드 (2) 12 g
순수한 절대 에탄올 20 g
순수한 벤질 알콜 4 g
폴리에틸렌 글리콜 400 (8 EO) 6 g
탈염수 적량 100 g
5 × 10-3 mol/l 의 화합물 5 를 상기 조성물에 용해시켰다.
이렇게 수득된 조성물을, 흰머리가 90% 인 모발 뭉치에 적용하였다.
화합물 5 로써 오렌지-적색 색조가 얻어진다.
Figure 112005033562604-PAT00021
화합물 6은 출판물 Tetrahedron, 1983, 39 (7), 1091-1101에 기재된 절차에 따라 얻어진다.
사용된 양:
화합물 6: 55.8 mg
화합물 3: 100 mg
수행된 분석은 화합물 7을 위해 제안된 구조와 일치한다.
염색 실시예:
상기 실시예 1의 방법에 따라 수행된다.
오렌지-레드 색조가 화합물 7로 얻어진다.
실시예 3의 합성:
Figure 112005033562604-PAT00022
화합물 8은 상업적으로 입수가능한 제품이다.
사용된 양:
화합물 8: 59.2 mg
화합물 3: 100 mg
수행된 분석은 화합물 9를 위해 제안된 구조와 일치한다.
염색 실시예:
상기 실시예 1의 방법에 따라 수행된다.
불변의 보라색 색조가 화합물 9로 얻어진다.
실시예 4의 합성:
Figure 112005033562604-PAT00023
화합물 10은 하기 3 단계에 의해 얻어진다:
- p-아미노페놀의 디아조니움 염과 이미다졸의 커플링 반응
- 메탄올 환류의 산성 매개물에서 O-알킬화 반응
- 환류하는 디메틸 카르보네이트 및 K2CO3의 존재 하에서의 N-알킬화 반응
사용된 양:
화합물 10: 56.6 mg
화합물 3: 100 mg
수행된 분석은 화합물 11을 위해 제안된 구조와 일치한다.
염색 실시예:
상기 실시예 1의 방법에 따라 수행된다.
퓨셔(fuchsia)-레드 색조가 화합물 11로 얻어진다.
2/실시예 5의 합성:
Figure 112005033562604-PAT00024
절차
단계 1
화합물 12 (20 g) 및 에탄올 (200 ml)을 3-목 플라스크에 넣고, 6-아미노헥산올 (43.9 g, 5 당량)를 첨가한다.
혼합물은 교반하면서 70 ℃ (외부 온도)까지 가열한다.
10 시간이 경과한 후에, 가열을 멈추고 혼합물을 상온까지 냉각시킨다.
용매를 증발시킨 후에, 화합물 13은 회수된다.
붉은 고체가 얻어진다. NMR 및 질량 스펙트럼은 화합물 13과 일치한다.
단계 2
화합물 13 (3 g), 1,3-디메틸-3,4,5,6-테트라하이드로-2(1H)-피리미디논 (80 ml), 메타네설포닐 클로라이드 (4 ml, 6 당량) 및 피리딘 (4.12 ml, 6 당량)을 3-목 플라스크에 넣는다.
혼합물을 상온에서 4 일 동안 교반한다.
생성물은 에틸 아세테이트로부터 침전되고 그리고 나서 여과된다. 침전물은 물에 용해된 후에 디클로로메탄으로 추출된다. 유기상은 소디움 설페이트로 건조되고, 여과되고, 그리고 농축된다.
화합물 14는 매트 레드 (matt red) 파우더의 형태로 회수된다.
NMR 및 질량 스펙트럼은 화합물 14와 일치한다.
단계 3
화합물 14 (100 mg) 및 4 (69 mg), 1,3-디메틸-3,4,5,6-테트라하이드로-2(1H)-피리미디논 (4 ml) 및 KI의 촉매량을 3-목 플라스크에 넣는다.
혼합물을 95 ℃에서 14 시간 동안 교반한다.
생성물은 에틸 아세테이트로부터 침전되고 그리고 나서 여과된다. 침전물은 크로마토그래피로 정제된다.
수행된 분석은 화합물 15를 위해 제안된 구조와 일치한다.
염색 실시예:
상기 실시예 1의 방법에 따라 수행된다.
오렌지-레트 색조가 화합물 15로 얻어진다.
본 발명에 따르면, 존재하는 직접 염료의 문제를 가지지 않으며, 시간에 걸친 색 변화의 문제 없이 다양한 색조를 수득할 수 있는 직접 염료가 제공된다.

Claims (42)

  1. 하기 화학식 (I)의 양이온성 화합물, 또는 이의 산부가염:
    [화학식 I]
    염료1-LK-염료2:
    [상기 식 중 염료1 및 염료2는 다음과 같다:
    염료1:
    Figure 112005033562604-PAT00025
    염료2:
    Figure 112005033562604-PAT00026
    {상기 식 중,
    W1 및 W'6은, 서로 독립적으로, -NR1R2 또는 -OR3 기를 나타내며, 여기에서, R1, R2 및 R3 는 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C20 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있 는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; R1 및 R2 는 이들이 연결된 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 치환될 수 있는 5- 또는 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고;
    W 6 는 -NR'1- 또는 -O-기로서, 여기에서 R'1 은, 수소 원자, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C20 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고;
    W'6에서 유도된 R1, R2 및 R3 라디칼은 서로 독립적으로, LK 기의 일부 및 서로 연결된 질소 또는 산소 원자와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족, 치환될 수 있는 5- 내지 7- 헤테로사이클을 형성할 수 있고;
    W6 에서 유도된 R'1 라디칼은, 연결된 질소 원자 및 LK 기의 일부와 함께, 질소 및 산소에서 선택된 다른 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 5- 내지 7-원의 치환될 수 있는 헤테로사이클을 형성할 수 있고;
    W 2 , W 5 및 W' 5 는 서로 독립적으로 하기 화학식 (a) 내지 (c)의 기를 나타내며;
    Figure 112005033562604-PAT00027
    (상기 식들 중;
    - X1는 질소 원자 또는 CR7를 나타내며;
    - X2는 질소 원자 또는 CR8를 나타내며;
    - Z1는 질소 원자 또는 CR10를 나타내며;
    - Z2는 질소 원자 또는 CR11를 나타내며;
    - R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은 서로 독립적으로 다음과 같고:
    - 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고;
    - 히드록실기,
    - C1-C4 알콕시기, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-; R은 C1-C4 알킬라디칼을 나타냄) 또는 알킬카르보닐옥시라디칼 (RCO-O-; R 은 C1-C4 알킬라디칼임)이고;
    - 아미노기, 동일 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되고, 하나 이상의 히드록실기를 갖고 있을 수 있는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 연결된 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 갖고 있을 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식중, 라디칼 R 은 동일하거나 상이할 수 있고, 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 (N(R)2-CO-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 술폰아미드기 ((R)2N-SO2-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(=NH2 +)-NR-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    ㆍ 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자;
    ㆍ R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은 수소 원자를 나타낼 수 있고;
    ㆍ R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 은 서로 독립적으로, W'1 또는 W'6 기의 전부 또는 일부와 함께 포화 또는 불포화, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고;
    ㆍ W'5 와 W'6 또는 LK 기 사이의 결합;
    ㆍ a 는 W2, W5 또는 W'5 와 아조기 -N=N- 사이의 결합을 나타내고;
    ㆍ b 는 W2 와 W1, W5 와 W6, W'5 와 W'6 사이의 결합을 나타내고;
    - R9 는 하기를 나타내고:
    - 수소 원자,
    - 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 수소계 사슬;
    - n 및 n' 는 정수를 나타내고, 이들의 합은 6 이하이고; n 및 n' 의 합이 6 미만일 경우, 누락된 각 치환체는 수소 원자임을 주목해야 함);
    W 3 및 W 4 는 서로 독립적으로, 하기 화학식 (1) 내지 (11) 중 하나로 표시되는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타낸다:
    Figure 112005033562604-PAT00028
    Figure 112005033562604-PAT00029
    (식 중:
    - R'4 는 동일하거나 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 하기를 나타내고:
    ■ 선형 또는 분지형, 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 3 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 중간 삽입될 수 있으며;
    ■ 히드록실기;
    ■ C1-C4 알콕시기, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; R 이 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 알콕시카르보닐기 (RO-CO-), 또는 R 이 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-);
    ■ 아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있으며 서로 독립적으로, 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되는 아미노기로, 2 개의 알킬 라디칼은 부착되는 질소 원자와 함께 또다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 갖고 있을 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성할 수 있으며; 라디칼 R 이 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 이 수소 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 알킬카르보 닐아미노기 (RCO-NR'-); 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 카르바모일기 ((R)2N-CO-); 라디칼 R 및 R' 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 우레이도기 (N(R)2-CO-NR'-); 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 술폰아미드기 ((R)2N-SO2-); 라디칼 R 및 R' 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-); 라디칼 R 및 R' 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 구아니디늄기 ((R')2N-C(=NH2 +)-NR-);
    ■ 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자;
    ■ 주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자에 의해 생긴 2 개의 라디칼 R'4 는 방향족 또는 비방향족, 5- 또는 6-원 2 차 고리를 형성할 수 있으며, 하나 이상의 수소; 하나 이상의 히드록실기; 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4 알콕시 라디칼; 하나 이상의 C2-C4(폴리)히드록시알콕시 라디칼; 하나 이상의 아미노 라디칼; 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되는 하나 이상의 아미노 라디칼로 치환될 수 있고, 동일하거나 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 갖고 있을 수 있다;
    - 4 차화 (quaternized) 질소 원자에 의해 생긴 R'5 는 W4 의 경우, 선형 또는 분지형, 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬을 나타내며, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 가진 하나 이상의 기로 중간 삽입될 수 있고; 라디칼 R'5 는 4 차화 질소 원자에 직접 연결된 원자가 탄소 원자이며;
    - 4 차화 질소 원자에 의해 생긴 R'5 는 W3 의 경우, LK 로의 결합을 나타내며;
    - R'7 은 치환될 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼; 치환될 수 있는 페닐 라디칼; 치환될 수 있는 벤질 라디칼을 나타내며;
    - 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 정의된 양이온성 라디칼을 아조기에 연결하며; 상기 결합은 주 또는 2 차 고리상에 있을 수 있으며;
    - p 는 0 내지 4 의 범위의 정수이며, p' 는 0 내지 2 의 범위의 정수이고, p" 는 0 내지 3 의 범위의 정수이며; 상기는 주 고리가 최대수의 치환기를 가지지 않을 때, 비치환된 위치는 질소 원자를 가짐을 주목해야 함)};
    LK 는 포화된 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C2-C40 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 중간 삽입될 수 있고; 또한, LK 기가 임의의 페록소, 니트로 또는 니트로소기 또는 결합을 포함하지 않으며; 만약 LK 가 W'5 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W6 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO2- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W3 에 연결된다면, 상기 결합은 탄소 원자를 통해 발생하며;
    화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 미용적으로 허용가능한 음이온인 An 에 의해 확인됨].
  2. 제 1 항에 있어서, R1, R2, R3 및 R'1 이 서로 독립적으로 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 :
    - 수소 원자;
    - 치환될 수 있는 C1-C6 알킬 라디칼;
    - 페닐 또는 벤질을 포함하는 아릴 또는 아릴알킬 라디칼 (여기서, 아릴 부분은 치환될 수 있음);
    - W'6 유래의 라디칼 R1, R2, R3 는 서로 독립적으로, LK 기의 부분 및 각각이 부착되는 질소 또는 산소 원자와 함께 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있으며;
    - W6 유래의 라디칼 R'1 은 상기가 부착되는 질소 원자 및 LK 기의 부분과 함께, 질소 및 산소로부터 선택되는 또다른 헤테로 원자를 함유할 수 있는 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의 치환될 수 있는 5-, 6- 또는 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있음.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 라디칼 R1, R2, R3 및 R'1 은 동일하거나 상이할 수 있으며, 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 :
    - 수소 원자;
    - 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 2-메톡시에틸을 포함하는 치환될 수 있는 C1-C3 알킬 라디칼;
    - 히드록실, C1-C2 알콕시 및 아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록실기를 갖고 있을 수 있는 하나 이상의 C1-C4 기로 치환된 아미노 라디칼;
    - W6 유래의 라디칼 R'1 은 부착되는 질소 원자 및 LK 기의 부분과 함께, 하나 이상의 메틸, 히드록실, 아미노 또는 (디)메틸아미노 라디칼로 치환될 수 있는 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 호모피페라진 유형의 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성할 수 있음.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 동일 또는 상이할 수 있는 R1, R2, R3 및 R'1 이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - 수소 원자;
    - 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼;
    - 히드록실, 메톡시, 아미노, (디)메틸아미노 또는 (디)(2-히드록시에틸)아미노 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼;
    - W6 에서 유도된 라디칼 R'1 은 이것이 부착된 질소 원자 및 LK 기 일부와 함께, 피롤리딘, 3-히드록시피롤리딘, 3-디메틸아미노피롤리딘, 피페리딘, 2-(2-히드록시에틸피페리딘), 4-(아미노메틸)피페리딘, 4-(2-히드록시에틸)피페리딘, 4-(디메틸아미노)피페리딘, 피페라진, 1-메틸피페라진, 1-(2-히드록시에틸)피페라진, 1-(2-아미노에틸)피페라진, 1-히드록시에틸에톡시피페라진, 호모피페라진 또는 1-메틸-1,4-퍼히드로디아제핀을 포함하는, 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있음.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R9, R10 및 R11 이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - R4, R5, R7, R8, R10 및 R11 에 있어서 수소 원자;
    - 치환될 수 있는 C1-C16 알킬 라디칼;
    - 염소, 불소 또는 브롬을 포함하는 할로겐 원자;
    - 히드록실기;
    - C1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시알콕시 라디칼;
    - 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실 또는 C1-C4 디알킬아미노기를 가질 수 있으며, 동일 또는 상이할 수 있는 1 또는 2 개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼;
    - 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) (식에서, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고 라디칼 R' 은 수소 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) (식에서, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) (식에서, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) (식에서, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    - W'5 내지 W'6 의 결합.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R9, R10 및 R11 이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 에 있어서 수소 원자;
    - 히드록실 및 아실아미노 라디칼에서 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C1-C4 알킬 라디칼 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 1 개 또는 2 개의 동일 또는 상이한 C1-C2 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 또는 C1-C2 알콕시 라디칼;
    - 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 두 개의 동일 또는 상이한 C1-C2 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼; 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 설포닐아미노 라디칼;
    - 히드록실 라디칼; C1-C2 알콕시 라디칼;
    - W'5 내지 W'6 의 결합.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 동일 또는 상이할 수 있는 W2, W5 및 W'5 가 식 (a) 또는 (c) 의 화합물을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, X1 이 CR7 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제 8 항에 있어서, X2 가 CR8 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, W3 및 W4 가 서로 독립적으로 하기 식 (1) 내지 (3) 의 헤테로사이클을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112005033562604-PAT00030
    [식에서, R'4, R'5, R'7, p, p' 및 a 는 상기 정의한 바와 같다].
  11. 제 10 항에 있어서, 방향족 헤테로사이클이 2-이미다졸륨, 2-벤즈이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨, 5-인다졸륨, 6-인다졸륨 및 7-인다졸륨에서 선택되고, 두 개의 W3 또는 W4 기 중 하나 이상은 비치환 이미다졸륨기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, LK 가 어떠한 양전하도 지니지 않는 것을 특징으로 하는 화합물.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, LK 가 하기의 선형, 분지형 또는 시클릭, 방향족 또는 비방향족 C1-C20 알킬 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - LK 기 내에 니트로, 니트로소 또는 퍼옥소기 또는 결합이 없다면, -O-, -NR'-, -CO- 또는 -SO2- 를 포함하는 하나 이상의 헤테로 원자 및/또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기에 의해 중간 삽입될 수 있고;
    - LK 가 W'5 에 연결된다면, 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 기로서 끝날 수 있고;
    - LK 가 W6 에 연결된다면, -CO- 및 -SO2- 로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 갖는 기로서 끝날 수 있고;
    - LK 가 4차 질소 원자를 통해 W3 에 연결된다면, LK 는 탄소 원자를 통해 W3 에 직접 연결되고; 다시 말하면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원 자를 포함하는 기로서 끝날 수 없으며;
    - 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 하나 이상의 히드록실 기를 갖고 있을 수 있는 하나 이상의 선형 또는 분지형 C1-C2 알킬기로 치환될 수 있는 아미노로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있다.
  14. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하기 화학식에 대응되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112005033562604-PAT00031
    (상기 식에서, W1, R4, R5, R'5 및 R'7 는 상기에서 정의된 바와 같고;
    - x 및 x' 는 동일 또는 상이할 수 있고, 1 내지 10 사이의 정수이며;
    - 상기 분자의 전기적 중성은 상기에서 정의된 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 음이온 An 의 존재에 의해 지켜진다).
  15. 제 1 항 내지 제 2 항에 있어서, 화장용으로 허용가능한 음이온이 클로라이 드, 브로마이드, 플루오라이드 또는 아이오다이드를 포함하는 할라이드; 히드록시드; 설페이트; 황산수소; 메틸 설페이트 또는 에틸 설페이트를 포함하는 (C1-C6) 알킬 설페이트; 포스페이트; 카르보네이트; 탄산수소; 퍼클로레이트; 아세테이트; 타르트레이트; 시트레이트; 옥살레이트; 메틸설포네이트를 포함하는 (C1-C6) 알킬설포네이트; 4-톨릴설포네이트를 포함하는 C1-C4 알킬 라디칼로 치환 또는 비치환된 아릴설포네이트로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  16. 케라틴 섬유를 염색하기에 적합한 매질 내에, 제 1 항 또는 제 2 항에 따라 직접 염료로서 하나 이상의 화학식 Ⅰ의 화합물, 또는 이의 산 부가 염을 포함하는 염료 조성물.
  17. 제 16 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 화합물 또는 화학식 Ⅰ의 화합물 각각의 함량이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 20 중량%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 16 항에 있어서, 하나 이상의 부가적인 직접 염료, 및 하나 이상의 커플러와 결합될 수 있는 하나 이상의 산화 염기, 또는 그들의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 18 항에 있어서, 부가적인 직접 염료가 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 크산텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄계 염료 및 중성 염료 단독으로 또는 혼합물로부터 선택된 양이온성 또는 비이온성 염료인 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 18 항에 있어서, 산화 염기가 o-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 이중 염기, o-아미노페놀, p-아미노페놀 및 헤테로시클릭 염기, 이의 산 부가 염, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 18 항에 있어서, 커플러가 m-아미노페놀, m-페닐렌디아민, m-디페놀, 나프톨 및 헤테로시클릭 커플러, 이의 산 부가 염, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 16 항에 있어서, 하나 이상의 산화제를 포함하는 조성물.
  23. 케라틴 섬유를 염색하는 방법으로서, 제 16 항의 조성물을 원하는 효과를 얻기에 충분한 시간 동안, 상기 젖거나 마른 섬유에 접촉시켜 놓는 것으로 이루어지는 방법.
  24. 제 16 항의 조성물을 함유하는 1차 구획, 및 산화 조성물을 함유하는 2차 구획을 갖는 다중 구획 장치.
  25. 제 1 항에 있어서, W 1 및 W' 6 은, 서로 독립적으로, -NR1R2 또는 -OR3 기를 나타내며, 여기에서, R1, R2 및 R3 는 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; R1 및 R2 는 이들이 연결된 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 치환될 수 있는 5- 또는 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  26. 제 1 항에 있어서, W 1 및 W' 6 은, 서로 독립적으로, -NR1R2 또는 -OR3 기를 나타내며, 여기에서, R1, R2 및 R3 는 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C20 탄화수소계 사슬로, 이는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; R1 및 R2 는 이들이 연결된 질소 원자와 함 께, 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 함유할 수 있는, 치환될 수 있는 5- 또는 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  27. 제 1 항에 있어서, W 6 는 -NR'1- 또는 -O-기로서, 여기에서 R'1 은, 수소 원자, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  28. 제 1 항에 있어서, W 6 는 -NR'1- 또는 -O-기로서, 여기에서 R'1 은, 수소 원자, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C20 탄화수소계 사슬로, 이는, 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  29. 제 1 항에 있어서, R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 이 서로 독립적으로 다음과 같은 것을 특징으로 하는 화합물:
    선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는, 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있음.
  30. 제 1 항에 있어서, R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R10 및 R11 이 서로 독립적으로 니트로기; 시아노기; 염소 원자 또는 불소 원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  31. 제 1 항에 있어서, R'4 가 동일하거나 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    ■ 선형 또는 분지형, 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬로, 이는 하나 이상의 3 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며, 산소 또는 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 중간 삽입될 수 있음.
  32. 제 1 항에 있어서, R'4 가 동일하거나 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 니트로기; 시아노기; 염소 원자 또는 불소 원자를 나타내는 것을 특징으로 하 는 화합물.
  33. 제 1 항에 있어서, R'4 가 동일하거나 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자에 의해 생긴 2 개의 라디칼 R'4 는 방향족 또는 비방향족의 6-원 2 차 고리를 형성할 수 있으며, 하나 이상의 수소; 하나 이상의 히드록실기; 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼; 하나 이상의 C1-C4 알콕시 라디칼; 하나 이상의 C2-C4(폴리)히드록시알콕시 라디칼; 하나 이상의 아미노 라디칼; 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환되는 하나 이상의 아미노 라디칼로 치환될 수 있고, 동일하거나 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 갖고 있을 수 있음.
  34. 제 1 항에 있어서, 4 차화 질소 원자에 의해 생긴 R'5 는 W4 의 경우, 선형 또는 분지형, 포화된 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의 치환될 수 있는 C1-C16 탄화수소계 사슬을 나타내며, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며, 산소 또는 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 가진 하나 이상의 기로 중간 삽입될 수 있고; 라 디칼 R'5 는 4 차화 질소 원자에 직접 연결된 원자가 탄소 원자인 것을 특징으로 하는 화합물.
  35. 제 1 항에 있어서, 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 정의된 양이온성 라디칼을 아조기에 연결하며; 상기 결합은 주 또는 2 차 고리상에 있을 수 있으며; 상기 아조기를 가진 결합 a 가 상기 주 고리상에 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  36. 제 1 항에 있어서, LK 가 포화된 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C2-C20 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 중간 삽입될 수 있고; 또한, LK 기가 임의의 페록소, 니트로 또는 니트로소기 또는 결합을 포함하지 않으며; 만약 LK 가 W'5 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W6 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO2- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W3 에 연결된다면, 상기 결합은 탄소 원자를 통해 발생하는 것을 특징으로 하는 화합물.
  37. 제 1 항에 있어서, LK 가 포화된 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, 환형 또 는 비-환형, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C2-C40 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 산소 또는 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 중간 삽입될 수 있고; 또한, LK 기가 임의의 페록소, 니트로 또는 니트로소기 또는 결합을 포함하지 않으며; 만약 LK 가 W'5 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W6 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO2- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W3 에 연결된다면, 상기 결합은 탄소 원자를 통해 발생하는 것을 특징으로 하는 화합물.
  38. 제 1 항에 있어서, LK 가 포화된 또는 불포화된, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C2-C40 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 중간 삽입될 수 있고; 또한, LK 기가 임의의 페록소, 니트로 또는 니트로소기 또는 결합을 포함하지 않으며; 만약 LK 가 W'5 에 연결된다면, LK 는 산소 또는 질소에서 선택되는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W6 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO2- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있으며; 만약 LK 가 W3 에 연결된다면, 상기 결합은 탄소 원자를 통해 발생하는 것을 특징으로 하는 화합물.
  39. 제 5 항에 있어서, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R4, R5, R6, R'6, R7, R8, R9, R10 및 R11 이 치환될 수 있는 C1-C8 알킬 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  40. 제 13 항에 있어서, LK 가 W'5 에 연결된다면, 산소 또는 질소에서 선택되는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 기로서 끝날 수 있는, 선형, 분지형 또는 시클릭, 방향족 또는 비방향족 C1-C20 알킬 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  41. 제 14 항에 있어서, x 및 x' 가 동일 또는 상이할 수 있고, 1 내지 6 사이의 정수인 것을 특징으로 하는 화합물.
  42. 제 17 항에 있어서, 화학식 Ⅰ의 화합물 또는 화학식 Ⅰ의 화합물 각각의 함량이 염료 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 10 중량%인 것을 특징으로 하는 조성물.
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