KR20060052573A - 감소된 수분 흡수성을 갖는 열가소성 성형 조성물 - Google Patents

감소된 수분 흡수성을 갖는 열가소성 성형 조성물 Download PDF

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KR20060052573A
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Abstract

본 발명은 폴리카르보네이트 및 1개 이상의 (코)폴리포르말을 포함하는 열가소성 성형 조성물을 개시한다. 상기 조성물은 낮은 수분 흡수성을 특징으로 하며, 성형품, 특히 컴팩트 디스크, 비디오 디스크, 디지탈 다기능 디스크 (DVD) 등의 광학 데이타 캐리어 및 1회 또는 반복적으로 기록가능 및 삭제가능한 광학 데이타 캐리어의 제조에 특히 적합하다.
폴리카르보네이트, 폴리포르말, 열가소성 성형 조성물, 수분 흡수성, 컴팩트 디스크, 비디오 디스크, DVD, 광학 데이타 캐리어

Description

감소된 수분 흡수성을 갖는 열가소성 성형 조성물 {THERMOPLASTIC MOLDING COMPOSITIONS HAVING REDUCED WATER ABSORPTION}
본 발명은 열가소성 성형 조성물, 특히 광학 데이타 캐리어 물품 제조용 물품에 적합한 감소된 수분 흡수성을 갖는 조성물에 관한 것이다.
폴리카르보네이트는 그의 투명성, 가열 하의 치수 안정성 및 치수 안정성과 같은 특성의 특정 조합으로 인해, 일반적으로 광학 데이타 캐리어의 사출 성형용 또는 사출 스탬핑용 재료로서 사용된다. 일반적으로 300 ℃ 내지 400 ℃ 범위의 온도에서 일어나는 이들의 가공능을 개선시키기 위해, 일반적으로 금형 이형제 및 안정화제와 같은 첨가제를 폴리카르보네이트에 첨가한다.
비스페놀 A 기재의 방향족 폴리카르보네이트가 특히 광학 데이타 캐리어 제조에 사용된다. 그러나, 이것은 0.34 중량％까지 수분을 흡수할 수 있으며, 이는 데이타 캐리어의 치수 안정성에 불리한 영향을 미칠 수 있다. 그러나, 특히 청색 또는 청-녹색 레이저의 이용에서는 개선된 치수 안정성이 중요하다.
미국 특허 제B 6,391,418호에는, 치수 안정성의 증가 (낮은 수축률)를 위해 첨가제로서 비페닐 유도체를 포함하는 데이타 캐리어 매체용 기판이 기재되어 있다.
문헌 [M. Ueda, Mitsubishi Engineering Plastics Corp., Technical Digest of Joint ISOM / ODS 2002 Waikoloa Hawaii, 8.7. 2002, page 33-35]에는, 소량의 m-테르페닐을 비스페놀 A 폴리카르보네이트에 첨가함으로써 수분 흡수성이 감소된다는 것이 기재되어 있다. 그러나, 이러한 비페닐 유도체는 이미 청색 또는 청-녹색 스펙트럼 범위에서 흡수하는 고도로 공액된 방향족 π-시스템이라는 단점을 갖는다. 이것은 상기 파장 범위에서 작용하는 저장 기술의 경우에 바람직하지 않다. 더욱이, 테르페닐은 비교적 강성 분자이며, 이는 폴리카르보네이트와의 혼합물에서 기계적 특성에 부정적 영향을 미친다.
또한, (i) 독일 특허 출원 제DE 10339357호 (미국 특허 출원 제2005049389 A1호의 대응 출원)에 보고되어 있는 분지화 폴리포르말 및 코폴리포르말, 그의 제조 및 용도, (ii) 독일 특허 출원 제10338909호 (국제 특허 출원 공개 제2005021629호의 대응 출원)에 보고되어 있는 폴리카르보네이트의 수분 흡수를 감소시키기 위한 첨가제로서의 방향족 포르말, (iii) 독일 특허 출원 제10333928호 (미국 특허 출원 제2005020802호의 대응 출원)에 보고되어 있는 감소된 수분 흡수성을 갖는 폴리포르말 및 코폴리포르말, 그의 제조 및 용도, 및 (iv) 독일 특허 출원 제10333927호 (미국 특허 출원 제2005031855호의 대응 출원)에 보고되어 있는 폴리카르보네이트 상의 공압출 보호층으로서의 폴리포르말의 개시가 본 발명과 관련된다.
따라서, 상기에 언급된 선행 기술에 기재되어 있는 가능성들은 모든 면에서 만족스런 결과를 제공하지는 못한다. 그러나, 선행 기술 문헌에는 폴리포르말이 수분 흡수를 감소시키기 위한 블렌드 파트너로서 적합할 것이라는 지적은 없다.
따라서, 본 발명의 목적은 감소된 수분 흡수성을 갖는 폴리카르보네이트를 포함하며, 그에 따라 양호한 치수 안정성을 나타내는 열가소성 성형 조성물을 제공하는 것이다. 특히, 예를 들어 디지탈 다기능 디스크 (DVD)와 같이 보다 높은 저장 용량 및 임의로는 보다 얇은 디스크 두께를 갖는 새로운 디스크 형태에는 CD에 비해 보다 높은 열 안정성이 요구된다. 성형품으로의 가공 동안의 재료 손상의 발생 및 도구내의 코팅 형성이 보다 중요해진다.
놀랍게도, 상기 목적은 본 발명에 따른 성형 조성물에 의해 데이타 저장 수단의 품질이 개선되고 사출 성형 또는 사출 스탬핑 공정에 의한 재료의 가공능이 개선되며 수분 흡수성이 감소되고, 따라서 궁극적으로 치수 안정성이 개선됨으로써 달성된다.
<발명의 요약>
본 발명은 폴리카르보네이트 및 1개 이상의 (코)폴리포르말을 포함하는 열가소성 성형 조성물을 개시한다. 상기 조성물은 낮은 수분 흡수성을 특징으로 하며, 성형품, 특히 컴팩트 디스크, 비디오 디스크, 디지탈 다기능 디스크 (DVD) 등의 광학 데이타 캐리어 및 1회 또는 반복적으로 기록가능 및 삭제가능한 광학 데이타 캐리어의 제조에 특히 적합하다.
따라서 본 발명은, 수분 흡수성을 감소시키기 위한 블렌드 파트너로서 1종 이상의 폴리포르말 및 1종 이상의 폴리카르보네이트를 포함하는 열가소성 성형 조성 물을 제공한다. 따라서 이들 폴리카르보네이트/폴리포르말 블렌드는 데이타 캐리어의 치수 안정성을 개선시킨다.
블렌드 파트너로서의 본 발명에 따른 폴리포르말은 하기 화학식 1의 반복 단량체 단위를 기재로 한다.
Figure 112005064617711-PAT00001
식 중,
D는 각각 서로 독립적으로, 임의로 헤테로 원자를 함유하고, 임의로 C1-C12-알킬, 바람직하게는 C1-C1O-알킬, 특히 바람직하게는 C1-C8-알킬, 및(또는) 할로겐, 바람직하게는 불소 또는 염소로 치환되고, 추가로 임의로 지방족 또는 시클로지방족 라디칼을 함유하는, 6 내지 40개의 탄소 원자, 바람직하게는 6 내지 35개의 탄소 원자, 특히 6 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 방향족 라디칼을 나타낸다.
화학식 1 중 D는 바람직하게는 하기 화학식 1a의 라디칼을 나타낸다.
Figure 112005064617711-PAT00002
식 중,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 H, C1-C18-알킬, C1-C18-알콕시, 할로겐, 예를 들어 Cl 또는 Br을 나타내거나, 또는 각 경우에 임의로 치환된 아릴 또는 아르알킬, 바람직하게는 H 또는 C1-C12-알킬, 특히 바람직하게는 H 또는 C1-C8-알킬, 매우 특히 바람직하게는 H 또는 메틸을 나타내고,
X는 C1- 내지 C6-알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸로 치환될 수 있는 단일 결합, -SO2-, -CO-, -O-, -S-, C1- 내지 C6-알킬렌, C2- 내지 C5-알킬리덴 또는 C5- 내지 C6-시클로알킬리덴을 나타내거나, 또는 X는 임의로 헤테로 원자를 함유하는 추가의 방향족 고리와 축합될 수 있는 C6- 내지 C12-아릴렌을 나타낸다.
X는 바람직하게는 단일 결합, C1- 내지 C6-알킬렌, C2- 내지 C5-알킬리덴, C5- 내지 C6-시클로알킬리덴, -O-, -SO-, -CO-, -S-, -SO2- 또는 하기 화학식 1b의 라디칼을 나타낸다.
Figure 112005064617711-PAT00003
식 중,
R3 및 R4는 각각의 X1에 대해 개별적으로, 서로 독립적으로 수소 또는 C1- 내 지 C6-알킬, 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸을 나타내고,
X1은 탄소를 나타내며,
m은 4 내지 7, 바람직하게는 4 또는 5의 정수이되, 단 1개 이상의 원자 X1 상의 R3 및 R4는 동시에 알킬이다.
D는 바람직하게는, 하기 디페놀: 4,4'-디히드록시비페닐 (DOD), 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (비스페놀 A), 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (비스페놀 TMC), 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥산, 2,4-비스-(4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 1,3-비스-[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]-벤젠 (비스페놀 M), 1,3-비스[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]-벤젠 (비스페놀 M), 2,2-비스-(3-메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3-클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-메탄, 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-술폰, 2,4-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판 및 2,2-비스-(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)-프로판으로부터 유도된다.
D는 특히 바람직하게는, 하기 디페놀: 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (비스페놀 A), 4,4'-디히드록시비페닐 (DOD), 1,3-비스-[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]-벤젠 (비스페놀 M), 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 1,1-비스- (4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)-프로판, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥산 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (비스페놀 TMC)으로부터 유도된다.
D는 매우 특히 바람직하게는 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (비스페놀 A), 4,4'-디히드록시비페닐 (DOD), 1,3-비스[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]-벤젠 (비스페놀 M) 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (비스페놀 TMC)으로부터 유도된다.
D는 매우 특히 바람직하게는, 하기 화학식 1c 및(또는) 1d 및(또는) 1e의 라디칼을 나타낸다.
Figure 112005064617711-PAT00004
Figure 112005064617711-PAT00005
Figure 112005064617711-PAT00006
특히 바람직한 것은 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (비스페놀 A) 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (비스페놀 TMC)이다.
디페놀은 단독으로 또는 서로와의 혼합물로 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범주내에서 폴리포르말은 호모-및 코-폴리포르말, 및 시클릭 호모- 및 코-올리고포르말 양쪽 모두인 것으로 이해되어야 한다. 코폴리포르말은 일반적으로 화학식 1로부터 선택된 1개 이상의 추가의 디페놀을 (사용된 디페놀의 몰수 합을 기준으로) 적어도 50 몰％ 이하, 바람직하게는 45 몰％ 이하, 특히 바람직하게는 40 몰％ 이하, 특히 30 몰％ 이하로 함유한다. 디페놀은 문헌에 공지되어 있거나, 또는 문헌에 공지되어 있는 방법으로 제조할 수 있다 (예를 들어, 본원에 참고로서 인용된 문헌 [H.J. Busch et al., Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, VCH, New York 1991, 5th Ed., Vol 19, p. 348] 참조).
디페놀 단위로서 비스페놀 A를 갖는 폴리카르보네이트에 대해 보정한 겔 투과 크로마토그래피 (GPC)로 측정한 본 발명에 따른 폴리포르말의 분자량 (중량평균)은 600 내지 1,000,000 g/mol, 바람직하게는 600 내지 500,000 g/mol, 특히 바람직하게는 1000 내지 250,000 g/mol, 특히 10,000 내지 80,000 g/mol이다.
폴리포르말의 제법은 독일 특허 출원 제10 333 928 A호에 기재되어 있다. 폴리포르말은, 염기, 바람직하게는 수산화나트륨 또는 수산화칼륨의 존재 하에 30 내지 160 ℃의 온도에서 메틸렌 클로라이드 또는 알파,알파-디클로로톨루엔 및 적합한 고비점 용매, 예를 들어 N-메틸피롤리돈 (NMP), 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸 술폭시드 (DMSO), N-메틸카프로락탐 (NMC), 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠 또는 테트라히드로푸란 (THF)의 균질 용액 중에서 디페놀과 쇄 종결제를 반응 시킴으로써 제조할 수 있다. 바람직한 고비점 용매는 NMP, DMF, DMSO 및 NMC이고, 특히 바람직하게는 NMP, NMC, DMSO, 매우 특히 바람직하게는 NMP 및 NMC이다. 또한, 반응을 여러 단계로 수행할 수 있다. 유기상을 중성이 될 때까지 세척한 후, 필수적일 수 있는 시클릭 불순물의 분리를, 시클릭 화합물을 용해시키는 용매, 예를 들어 아세톤을 사용하여 조 생성물의 분별 혼련법에 의해 또는 침전법에 의해 수행한다. 이에 따라 시클릭 불순물을 용매 중에 거의 완전히 용해시키고, 용매를 일부분씩 혼련 및 교환함으로써 거의 완전히 분리할 수 있다. 예를 들어 약 6 kg의 양의 폴리포르말에, 예를 들어 5 부분으로 첨가된 약 10 L의 아세톤을 사용함으로써 혼련 후에 1 ％ 훨씬 미만의 시클릭 화합물 함량을 달성하는 것이 가능하다.
또한, 시클릭 폴리포르말은 원하는 중합체에 대해서는 비-용매이면서 원치 않는 시클릭 화합물에 대해서는 용매로서 작용하는 적합한 용매 중에서 침전법에 의해 분리할 수 있다. 이러한 용매는 바람직하게는 알콜 또는 케톤이다.
제2 반응물은, 예를 들어 메틸렌 클로라이드 또는 알파,알파-디클로로톨루엔이다.
반응 온도는 30 ℃ 내지 160 ℃, 바람직하게는 40 ℃ 내지 100 ℃, 특히 바람직하게는 50 ℃ 내지 80 ℃, 매우 특히 바람직하게는 60 ℃ 내지 80 ℃이다.
본 발명에 따른 조성물은 일반적으로 폴리포르말을 폴리카르보네이트 및 폴리포르말의 조성물을 기준으로 0.1 내지 30 중량％, 바람직하게는 1 내지 30 중량％, 특히 바람직하게는 2 내지 30 중량％, 매우 특히 바람직하게는 5 내지 30 중량％의 양으로 함유한다.
바람직, 특히 바람직 또는 매우 특히 바람직하다고 언급한 파라미터, 화합물, 정의 및 설명을 이용한 실시양태가 바람직, 특히 바람직 또는 매우 특히 바람직하다.
그러나, 바람직한 것의 범주내에서 또는 기재 중에 일반적으로 언급된 정의, 파라미터, 화합물 및 설명은 원하는 경우 서로 조합될 수도 있으며, 다시 말해서 바람직한 특정 범위 및 범주내에서 서로 조합될 수 있다.
또한 본 발명은, 상기 성형 조성물의, 예를 들어 컴팩트 디스크, 비디오 디스크, 디지탈 다기능 디스크 (DVD) 등의 광학 데이타 캐리어 및 또한 1회 또는 반복적으로 기록가능 및 삭제가능한 광학 데이타 캐리어의 제조에서의 용도, 및 본 발명의 중합체 혼합물로부터 제조될 수 있는 광학 데이타 캐리어 자체에 관한 것이다.
본 발명에 따른 조성물은, 고분자량을 갖는 폴리카르보네이트가 요구되는 폴리카르보네이트 응용물을 비롯하여 기타 통상의 폴리카르보네이트 응용물에 사용될 수도 있다. 이들 응용물은, 예를 들어 식품 및 음료 포장재, 광학 렌즈 및 프리즘, 조명용 렌즈, 운송수단 헤드램프 렌즈, 건축물 및 자동차 운송수단용 창유리, 다른 종류의 창유리, 예컨대 온실, 소위 쌍벽(twin-wall) 시트 또는 중공-챔버 시트와 같이 투명하거나 불투명할 수 있다. 응용물의 다른 예로는, 예를 들어 의료 장치, 가정용 제품, 예컨대 쥬스 추출기, 커피 기계, 믹서용; 사무 기기, 예컨대 컴퓨터, 모니터, 프린터, 복사기용; 플레이트, 튜브, 전기 설비용 도관, 건축물 부분의 창문, 문 및 프로파일, 인테리어 비품 및 옥외용품용; 전기 공학 분야에서, 예를 들어 스위치 및 소켓용의 임의의 종류의 케이싱 부품, 필름, 프로파일이 있다. 본 발명에 따른 성형품은 철도 운송수단, 선박, 항공기, 버스 및 기타 자동차 운송수단용 인테리어 비품 및 부품, 및 자동차 운송수단의 차체 부품용으로 사용될 수도 있다.
본 발명의 범주내의 열가소성 성형 조성물은 방향족 폴리카르보네이트를 주성분으로 한다. 폴리카르보네이트는 호모폴리카르보네이트 및 코폴리카르보네이트 양쪽 모두인 것으로 이해되고, 폴리카르보네이트는 공지된 방식으로 선형이거나 분지화될 수 있다. 겔 투과 크로마토그래피 (디페놀 단위로서 비스페놀 A를 갖는 폴리카르보네이트에 대해 보정)로 측정한 이들의 중량평균 분자량은 5000 내지 80,000, 바람직하게는 10,000 내지 40,000이다. 상기 분자량은 특히 바람직하게는 15,000 내지 35,000, 특히 15,000 내지 22,000이다.
이러한 폴리카르보네이트의 제조는 디페놀, 카르본산 유도체, 임의로 쇄 종결제 및 임의로 분지화제로부터 공지된 방식으로 수행된다.
폴리카르보네이트의 제법은 일반적으로 공지되어 있으며, 예를 들어 문헌 [Schnell, "Chemistry and Physics of Polycarbonates", Polymer Reviews, Volume 9, Interscience Publishers, New York, London, Sydney 1964], [D. Freitag, U. Grigo, P.R. Mueller, H. Nouvertne' BAYER AG, "Polycarbonates" in Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, Volume 11, Second Edition, 1988, pages 648-718] 및 [Dres. U. Grigo, K. Kirchner and P.R. Mueller "Polycarbonates" in Becker/Braun, Kunststoff-Handbuch, Volume 3/1, Polycarbonates, Polyacetale, Polyester, Celluloseester, Carl Hanser Verlag Munich, Vienna 1992, pages 117-299]에 공지되어 있다.
폴리카르보네이트에 대한 디페놀 단위로서 적합한 것은 일반적으로 상기에 화학식 1로서 기재된 디페놀이다.
폴리카르보네이트 제조에 적합한 방향족 디히드록시 화합물은, 예를 들어 히드로퀴논, 레조르시놀, 디히드록시디페닐, 비스-(히드록시페닐)-알칸, 비스-(히드록시페닐)-시클로알칸, 비스-(히드록시페닐)술피드, 비스-(히드록시페닐)에테르, 비스-(히드록시페닐)케톤, 비스-(히드록시페닐)-술폰, 비스-(히드록시페닐)술폭시드, α,α'-비스-(히드록시페닐)-디이소프로필벤젠 및 이들의 고리내에서 알킬화 및 할로겐화 화합물이다.
바람직한 디페놀은, 4,4'-디히드록시디페닐, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판, 2,4-비스-(4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-p-디이소프로필벤젠, 2,2-비스-(3-메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3-클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 비스-(3,5-디메틸-4-히드록시-페닐)-메탄, 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-술폰, 2,4-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 1,4-비스-[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]벤젠, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)-프로판, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 및 1,3-비스-[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]벤젠이다.
특히 바람직한 디페놀은, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판 (BPA), 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)-프로판, 1,3-비스-[2-(4-히드록시 페닐)-2-프로필]벤젠 (BPM), 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥산 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (TMC)이다.
이들 및 추가의 적합한 디페놀은, 예를 들어, 모두 본원에 참고로서 인용된 미국 특허 제3 028 635호, 동 제2 999 835호, 동 제3 148 172호, 동 제2 991 273호, 동 제3 271 367호, 동 제4 982 014호 및 동 제2 999 846호, 독일 특허 제A 1 570 703호, 동 제A 2 063 050호, 동 제A 2 036 052호, 동 제A 2 211 956호 및 동 제A 3 832 396호, 프랑스 특허 명세서 제1 561 518호, 논문 [H. Schnell, Chemistry and Physics of Polycarbonates, Interscience Publishers, New York 1964] 및 일본 특허 공개 제62039/1986, 동 제62040/1986 및 동 제 105550/1986에 기재되어 있다.
디페놀은 그 자체로 또는 서로와의 혼합물로 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범주내에서, 폴리카르보네이트는 호모폴리카르보네이트 및 코폴리카르보네이트 양쪽 모두인 것으로 이해되어야 한다. 코폴리카르보네이트는 일반적으로 화학식 4 또는 5로부터 선택된 1종 이상의 추가의 디페놀을 (사용된 디페놀의 몰수 합을 기준으로) 적어도 50 몰％ 이하, 바람직하게는 45 몰％ 이하, 특히 바람직하게는 40 몰％ 이하, 특히 30 몰％ 이하로 함유한다. 디페놀은 문헌에 공지되어 있거나 또는 문헌에 공지되어 있는 방법으로 제조할 수 있다 (예를 들어, 문헌 [H.J. Buysch et al., Ullmatm's Encyclopedia of Industrial Chemistry, YCH, New York 1991, 5th Ed., Vol 19, p. 348] 참조).
특히 바람직한 것은 디페놀 단위로서 비스페놀 A (BPA) 및(또는) 트리메틸시클로헥실비스페놀 (TMC)을 함유하는 폴리카르보네이트이다. 매우 특히 바람직한 것 은 BPA의 호모폴리카르보네이트, 또는 디페놀 기준으로 바람직하게는 5 내지 60 중량％의 TMC를 갖는 BPA와 TMC의 코폴리카르보네이트이다.
적합한 카르본산 유도체는, 예를 들어 포스겐 또는 디페닐카르보네이트이다.
적합한 쇄 종결제는 모노페놀 및 모노카르복실산 양쪽 모두이다. 적합한 모노페놀은 페놀 자체, 알킬페놀, 예를 들어 크레졸, p-tert-부틸페놀, p-n-옥틸페놀, p-이소옥틸페놀, p-n-노닐페놀 및 p-이소노닐페놀, p-쿠밀페놀, 할로페놀, 예를 들어 p-클로로페놀, 2,4-디클로로페놀, p-브로모페놀, 아밀페놀 및 2,4,6-트리브로모페놀, 및 이들의 혼합물이다.
바람직한 쇄 종결제는 하기 화학식 I의 페놀이다.
<화학식 I>
Figure 112005064617711-PAT00007
식 중, R은 수소, tert-부틸 또는 분지화 또는 비분지화 C8- 및(또는) C9-알킬 라디칼이다.
그러나, p-쿠밀페놀 또한 바람직하게 사용될 수 있다. 에스테르교환 방법의 경우, 쇄 종결제는 사용된 디아릴 카르보네이트로부터 생성된다.
바람직하게는 계면법에서, 사용되는 쇄 종결제의 양은, 사용된 디페놀의 몰수를 기준으로 0.1 몰％ 내지 5 몰％이다. 쇄 종결제는 포스겐화 이전, 도중 또는 이후에 첨가할 수 있다.
적합한 분지화제는 폴리카르보네이트 화학에서 공지되어 있는 3개 이상의 관 능기를 갖는 화합물, 특히 3개 이상의 페놀성 OH기를 갖는 화합물이다.
적합한 분지화제는, 예를 들어 플로로글루시놀, 4,6-디메틸-2,4,6-트리-(4-히드록시페닐)-2-헵텐, 4,6-디메틸-2,4,6-트리-(4-히드록시페닐)-헵탄, 1,3,5-트리-(4-히드록시페닐)-벤젠, 1,1,1-트리-(4-히드록시페닐)-에탄, 트리-(4-히드록시페닐)-페닐메탄, 2,2-비스-[4,4-(비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥실]-프로판, 2,4-비스-(4-히드록시페닐-이소프로필)-페놀, 2,6-비스-(2-히드록시-5'-메틸-벤질)-4-메틸페놀, 2-(4-히드록시페닐)-2-(2,4-디히드록시페닐)-프로판, 헥사-(4-(4-히드록시페닐-이소프로필)-페닐)-오르쏘테레프탈산 에스테르, 테트라-(4-히드록시페닐)-메탄, 테트라-(4-(4-히드록시페닐-이소프로필)-페녹시)-메탄 및 1,4-비스-(4',4"-디히드록시-트리페닐)-메틸)-벤젠, 및 2,4-디히드록시벤조산, 트리메스산, 시아누릭 클로라이드, 및 심지어 일부 용도에서는 바람직하게는 3,3-비스-(3-메틸-4-히드록시페닐)-2-옥소-2,3-디히드로인돌이다.
특정 경우에 임의로 사용되는 분지화제의 양은, 역시 사용된 디페놀의 몰수를 기준으로 0.01 몰％ 내지 2 몰％이다.
계면법에서, 분지화제는 디페놀을 함유하는 반응 용기 중에 넣고, 쇄 종결제는 수성 알칼리상 중에 넣을 수 있거나, 또는 유기 용매 중의 용액 형태로 첨가할 수 있다. 에스테르교환 방법의 경우, 분지화제는 디페놀과 함께 사용할 수 있다.
열가소성 폴리카르보네이트의 제조를 위한 이들 수단은 모두 당업자에게 공지되어 있다.
또한, 본 발명에 따른 조성물은, 예를 들어 바람직하게는 UV선에 대한 안정 화제, 방염제, 착색제, 충전제, 포우밍(foaming)제, 광 증백제 및 대전방지제와 같은, 폴리카르보네이트에 대한 통상의 첨가제를 공지된 양으로 함유할 수 있다. 광학 용도에서는, 바람직하게는 재료의 투명성을 손상시키지 않는 이들 성분을 사용한다.
이들 성분은, 많은 문헌, 예를 들어 문헌 [Additives for Plastics Handbook, John Murphy, 1999]에서 찾아볼 수 있고, 상업적으로 입수가능하다.
1. 적합한 산화방지제의 예:
1.1. 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시-메틸페놀, 선형 또는 측쇄에서 분지화된 노닐페놀, 예를 들면 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데스-1'-일)페놀.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니 솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예를 들어 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤, 및 이들의 혼합물 (비타민 E).
1.5. 히드록실화 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐) 디술피드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토 부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸-페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸- 2'-히드록시-5'메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐] 테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. 0-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'디히드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질 메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질 메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질) 디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질) 술피드, 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-히드록시벤질) 말로네이트, 디옥타데실-2-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질) 말로네이트, 디도데실메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질) 말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시-벤질) 말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-tert부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert- 부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질) 이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질) 이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질) 이소시아누레이트.
1.11. 아실아미노페놀, 예를 들어 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시테아르아닐리드, 옥틸-N-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.12. β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르: 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥타놀, 이소옥타놀, 옥타데카놀, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리쓰리톨, 트리스(히드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데카놀, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 상기 에스테르. 옥타데카놀 (시바 스페셜티(Ciba Spec.)의 이르가녹스(IRGANOX) 1076 (등록상표))과의 상기 에스테르가 매우 특히 적합하고 바람직하다.
1.13. β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르: 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥타놀, 이소옥타놀, 옥타데카놀, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리쓰리톨, 트리스(히드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데카놀, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사시클로[2.2.2]옥탄과의 상기 에스테르.
1.14. β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르: 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥타놀, 옥타데카놀, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리쓰리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데카놀, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 상기 에스테르.
1.15. 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐아세트산의 에스테르: 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥타놀, 옥타데카놀, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리쓰리톨, 트리스(히드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데카놀, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 상기 에스테르.
1.16. β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들 어 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐]-프로피오닐옥시)에틸]옥사미드 (유니로얄(Uniroyal)의 나우가드(Naugard, 등록상표) XL-1).
1.17. 아스코르브산 (비타민 C)
1.18. 아민류 산화방지제, 예를 들어 N,N'-디이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시-디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-tert-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들어 p,p'-디-tert-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스-(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-tert-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미 노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, tert-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디-알킬화 tert-부틸-/tert-옥틸-디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 이소프로필-/이소헥실-디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 tert-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디-알킬화 tert-부틸-/tert-옥틸-페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 tert-옥틸페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N'N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일헥사메틸렌디아민), 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
1.19. 적합한 티오시너지스트는, 예를 들어 디라우릴티오디프로피오네이트 및(또는) 디스테아릴티오디프로피오네이트이다.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제를 본 발명에 따른 조성물 중에 조성물의 중량을 기준으로 0.1 내지 15 중량％, 바람직하게는 3 내지 8 중량％의 양으로 사용할 수 있다. 적합한 UV 흡수제 및 광 안정화제의 예:
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트 리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300과의 에스테르교환반응 생성물; [R-CH2CH2-COO-CH2CH2]2 (식 중, R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐), 2-[2'히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예를 들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4- 데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환 및 비치환 벤조산의 에스테르, 예를 들어 4-tert-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸 4-히드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디-tert-부틸 4-히드록시벤조에이트, 옥타데실-3,5-디-tert-부틸 4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸 4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-β-메톡시신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실-디에탄올아민 등의 추가의 리간드를 갖거나 갖지 않는 2,2'-티오비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물, 예를 들어 1:1 또는 1:2 착물, 니켈 디부틸디티오카르바메이트, 모노알킬 에스테르, 예를 들어 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈염, 4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질포스폰산의 니켈염, 케톡심, 예를 들어 2-히드록시-4-메틸페닐운데실케톡심의 니켈 착물, 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시피라졸의 니켈 착물 (추가의 리간드를 갖거나 갖지 않음).
2.6. 입체 장애된 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜), n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질-말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 시클릭 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진온), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질) 말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 시클릭 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로 [4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합 생성물 (CAS 등록 번호 [136504-96-6]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸과 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스(포르밀)-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시메틸렌말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물-α-올레핀 공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
2.7. 옥사미드, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그의 2-에톡시-2'-에틸-5,4'- 디-tert-부톡사닐리드와의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
3. 적합한 금속 유도체는, 예를 들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실랄-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일비스페닐 히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드이다. 이들 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
4. 적합한 과산화물 포획제는, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리쓰리톨 테트라키스(도데실메르캅토)프로피오네이트이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
5. 적합한 염기성 공-안정화제는, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시아노디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토 금속염, 예를 들어 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 리시놀레에이트 및 칼륨 팔미테이트, 안티모니 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
6. 적합한 기핵제는, 예를 들어 무기 물질, 예컨대 활석, 이산화티탄 또는 산화마그네슘 등의 금속 산화물, 바람직하게는 알칼리 토 금속의 포스페이트, 카르보네이트 또는 술페이트; 유기 화합물, 예컨대 모노- 또는 폴리-카르복실산 및 이들의 염, 예를 들면 4-tert-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 나트륨 숙시네이트 또는 나트륨 벤조에이트; 중합체 화합물, 예컨대 이온성 공중합체 (이오노머). 특히 바람직한 것은 1,3:2,4-비스(3',4'-디메틸벤질리덴)소르비톨, 1,3:2,4-디(파라메틸디벤질리덴)소르비톨 및 1,3:2,4-디(벤질리덴)소르비톨이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
7. 적합한 충전제 및 강화제는, 예를 들어 칼슘 카르보네이트, 실리케이트, 유리 섬유, 유리구, 석면, 활석, 카올린, 운모, 바륨 술페이트, 금속 산화물 및 금속 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 규회석, 목분 및 기타 천연물의 분말 또는 섬유, 합성 섬유이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
8. 기타 적합한 첨가제는, 예를 들어 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 점도 개질제, 촉매, 유동제, 광 증백제, 방염제, 대전방지제 및 발포제이다.
9. 적합한 벤조푸라논 및 인돌리논은, 예를 들어 미국 특허 제4,325,863호; 미국 특허 제4,338,244호; 미국 특허 제5,175,312호; 미국 특허 제5,216,052호; 미국 특허 제5,252,643호; 독일 특허 제A-4 316 611호; 독일 특허 제A-4 316 622호; 독일 특허 제A-4 316 876호; 유럽 특허 제A-O 589 839호; 또는 유럽 특허 제A-O 591 102호에 개시되어 있는 것들, 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-tert-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-[4-(2-스테아로일-옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-tert-부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-tert-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 하기 화학식 8의 화합물과 같은 락톤 산화방지제이다.
<화학식 8>
Figure 112005064617711-PAT00008
이들 화합물은, 예를 들어 산화방지제로서 작용한다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
10. 적합한 형광 가소제는, 문헌 ["Plastics Additives Handbook", eds. R. Gaechter and H. Mueller, Hanser Verlag, 3rd Edition, 1990, pages 775-789]에 기재되어 있는 것들이다.
11. 적합한 난연 첨가제는, 포스페이트 에스테르, 즉 트리페닐포스페이트, 레조르시놀 이인산 에스테르, 브롬 함유 화합물, 예를 들어 브롬화 인산 에스테르, 브롬화 올리고카르보네이트 및 폴리카르보네이트, 및 C4F9S03 -Na+ 등의 염이다.
12. 적합한 내충격성 부여제는, 스티렌-아크릴로니트릴 또는 메틸 메타크릴레이트가 그래프트된 부타디엔 고무, 말레산 무수물이 그래프트된 에틸렌-프로필렌 고무, 메틸 메타크릴레이트 또는 스티렌 아크릴로니트릴이 그래프트된 에틸- 및 부틸-아크릴레이트 고무, 메틸 메타크릴레이트 또는 스티렌-아크릴로니트릴이 그래프트된 상호관입 실록산 및 아크릴레이트 네트워크이다.
13. 적합한 중합체는, SAN, ABS, PMMA, PTFE, PSU, PPS, 폴리올레핀, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 에틸렌-프로필렌 고무, 에폭시 수지, 폴리에스테르, 예컨대 PBT, PET, PCT, PCTG 및 PETG, 및 계면법에 의해 제조된 기타 폴리카르보네이트이다.
14. 적합한 대전방지제는, 술포네이트염, 예를 들어 C12H25S03 - 또는 C8F17S03 -의 테트라에틸암모늄염이다.
15. 적합한 착색제는, 안료, 및 유기 및 무기 착색제이다.
16. 에폭시기 함유 화합물은, 예를 들어 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥실 카르복실레이트, 글리시딜 메타크릴레이트와 에폭시실란의 공중합체이다.
17. 무수물기 함유 화합물은, 예를 들어 말레산 무수물, 숙신산 무수물, 벤조산 무수물 및 프탈산 무수물이다.
18. 안정화제로서 적합한 포스파이트 및 포스포나이트는, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐알킬 포스파이트, 페닐디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실펜타에 리쓰리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)펜타에리쓰리톨 디 포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(tert-부틸페닐)펜타에리쓰리톨 디포스파이트, 트리스테아릴소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,1O-테트라-tert-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,1O-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트, 6-플루오로-2,4,8,1O-테트라-tert-부틸-12-메틸디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 2,2',2"-니트릴로-[트리에틸트리스(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일) 포스파이트], 2-에틸헥실(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일) 포스파이트, 5-부틸-5-에틸-2-(2,4,6-트리-tert-부틸페녹시)-1,3,2-디옥사포스피란이다. 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
특히 바람직한 것은 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트 (이르가포스(Irgafos, 등록상표) 168, 시바-가이기(Ciba-Geigy)) 또는 트리페닐포스핀이다.
16 및 17번 군의 화합물은 용융 안정화제로서 작용한다. 이들은 개별적으로 또는 혼합물 형태로 사용할 수 있다.
금형 이형제로서, 바람직하게는 일가 또는 다가 알콜과 장쇄 카르복실산의 에스테르, 예컨대 록시올(Loxiol) G32 또는 록시올 G33이 사용된다. 또한 바람직한 것은 완전히 에스테르화되지 않고, 따라서 자유 OH기를 함유하는 금형 이형제이다. 특히 바람직한 것은 16 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 포화 일가 지방산과 글리세롤, 트리메틸롤프로판, 펜타에리쓰리톨 또는 유사한 다가 알콜의 (부분)에스테르, 특히 글리세롤 모노스테아레이트 (GMS) 및 글리세롤 모노팔미테이트이다. 펜타에리쓰리톨 테트라스테아레이트 (PETS)도 바람직하다.
이러한 글리세롤의 포화 일가 지방산 에스테르는 그 자체로 또는 2종 이상의 성분과의 혼합물 형태로 사용된다. 글리세롤의 포화 모노에스테르는 통상적으로 수소화된 동물유 또는 식물유와 글리세롤과의 에스테르교환에 의해 제조된다. 반응 생성물이 글리세롤 에스테르 이외의 다른 에스테르를 함유할 수 있음에도 불구하고, 이는 금형 이형제로서 사용된다. 예를 들어, 혼합물은 소량 또는 다량의 디글리세리드 및 트리글리세리드를 함유할 수 있다.
CD 및 다른 광학 저장 매체 (DVD 등)의 제조에서의 금형 이형제의 최적량은, 한편으로는 적절한 금형 이형 작용에 의해, 다른 한편으로는 도구 상의 코팅 형성에 의해 결정된다. 통상적으로 사용되는 금형 이형제의 농도는 50 내지 1000 ppm, 보다 유리하게는 100 내지 500 ppm이다. 폴리카르보네이트의 다른 용도를 위해서는, 상기 농도가 100 내지 10,000 ppm, 바람직하게는 2000 내지 7000 ppm이다.
열 안정화제로서, 예를 들어, 임의의 제한 없이, 분자내에 방향족 라디칼 및 지방족 라디칼 양쪽 모두를 갖는 특정 포스파이트가 사용된다. 이들은 하기 구조를 갖는 화합물이다.
Figure 112005064617711-PAT00009
식 중,
n은 0 내지 5, 바람직하게는 1 내지 3, 매우 특히 바람직하게는 3의 수를 나타내고,
Y는 각각 서로 독립적으로 알킬 또는 임의로 치환된 아릴, 바람직하게는 C1-C4-알킬, 특히 바람직하게는 메틸, sec-부틸 및 tert-부틸을 나타내며,
m은 1 내지 3, 바람직하게는 3의 수를 나타내고,
X는 각각 서로 독립적으로 임의로 치환된 메틸렌 라디칼을 나타내며, 여기서 1개 이상의 메틸렌 라디칼은 완전히 치환되어야 하고, 치환체는 C1-C20-알킬기로부터 서로 독립적으로 선택되거나, 또는 별법으로는 완전히 치환된 메틸렌 라디칼 상의 2개의 치환체가 함께 하기 화학식의 라디칼을 나타낸다.
Figure 112005064617711-PAT00010
식 중, R1은 C1-C18-알킬, C3-C12-시클로알킬, C6-C30-알크아릴 및 아릴기로부터 선택되고, 여기서 이들 라디칼은 또한 1 내지 4개의 O-알킬렌-O 및(또는) 카르복실산 에스테르 COO 라디칼; 2 내지 10개의 히드록실기를 갖는 C2-C18-폴리히드록시알 킬; 2 내지 10개의 페놀성 OH기를 갖는 C2-C18-폴리페닐 라디칼로 치환될 수 있다.
바람직한 것은 하기 화학식의 화합물이다.
Figure 112005064617711-PAT00011
식 중,
R2는 C1-C6-알킬을 나타내고;
R3은 메틸 또는 에틸을 나타내며;
R4는 C1-C18-알킬, C3-C12-시클로알킬, C6-C30-알크아릴 및 아릴기로 이루어진 군에서 선택되고, 여기서 이들 라디칼은 또한 1 내지 4개의 O-알킬렌-O 및(또는) 카르복실산 에스테르 COO 라디칼; 2 내지 10개의 히드록실기를 갖는 C2-C18-폴리히드록시알킬; 2 내지 10개의 페놀성 OH기를 갖는 C2-C18-폴리페닐라디칼로 치환될 수 있다.
바람직한 것은 또한 하기 화학식의 화합물이다.
Figure 112005064617711-PAT00012
식 중,
Y 및 n은 상기에 기재한 의미를 갖고,
R5는 각각 서로 독립적으로 수소 및 C3-C20-알킬로 이루어진 군에서 선택되며, 바람직하게는 1개 이상의 R5가 알킬을 나타내고,
R6은 각각 서로 독립적으로 C1-C10-알킬을 나타낸다.
특히 바람직한 것은 하기 화학식의 화합물이다.
Figure 112005064617711-PAT00013
식 중, R1 및 R2는 메틸, sec-부틸 또는 tert-부틸이다.
추가로 특히 바람직한 것은 유럽 특허 제A1 0 038 876호의 제16 내지 20면에 정의된 화합물 및 상기 특허 명세서 제21면에 예시된 화합물이다.
매우 특히 바람직한 것은, 하기 구조를 갖는 (2,4,6-트리-t-부틸페닐)-(2-부 틸-2-에틸-프로판-1,3-디일)-포스파이트이다.
Figure 112005064617711-PAT00014
포스파이트는 단독으로, 또는 인의 산화수가 상이할 수도 있는 다른 인 화합물과 조합하여 사용할 수 있다. 따라서, 예를 들어 본 발명에 따른 포스파이트와 다른 포스파이트, 포스핀, 예를 들어 트리페닐포스핀, 포스포나이트, 포스페이트, 포스포네이트 등과의 조합을 사용할 수 있다.
사용되는 포스파이트는 일반적으로 공지되어 있거나, 공지된 포스파이트와 유사하게 제조할 수 있으며, 예를 들어 (2,4,6-트리-t-부틸페닐)-(2-부틸-2-에틸-프로판-1,3-디일)포스파이트가 유럽 특허 제A 702018호 및 유럽 특허 제635514호에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 중합체 혼합물은 일반적으로 인 화합물을 10 내지 5000 ppm, 바람직하게는 10 내지 1000 ppm, 특히 바람직하게는 20 내지 500 ppm, 매우 특히 바람직하게는 50 내지 250 ppm의 양으로 함유한다.
열가소성 성형 조성물에 대한 금형 이형제, 인 화합물 및 본 발명에 따른 포르말의 첨가는, 예를 들어 바람직하게는, 이들을 제조 후 및 폴리카르보네이트의 후처리(working-up) 동안 계량함으로써, 예를 들어 폴리카르보네이트-중합체 용액에, 또는 열가소성 성형 조성물의 용융물에 첨가함으로써 수행한다. 또한, 성분들을 상이한 작업 단계에서 서로 독립적으로, 예를 들어 한 성분은 중합체 용액의 후처리 동안, 그리고 다른 성분(들)은 용융물 중에서 계량하는 것도 가능하나, 단 모든 성분들이 최종 생성물 (성형품)의 제조 동안 존재하도록 보장한다.
CD, DVD 및 다른 광학 기록 매체 분야에서의 용도를 위해, 당업자는 물론 상기 첨가제들로부터 투명성을 손상하지 않는 첨가제를 선택할 것이다.
매우 특히 적합한 첨가제는, 특히 서로와의 혼합물 중의 이르가녹스 1076 (등록상표) (상기 참조) 및 2.1번 군의 벤조트리아졸 (소위 티누빈즈(Tinuvins)), 및 트리페닐포스핀 (TPP)이다.
본 발명에 따른 성형 조성물은 성형품, 바람직하게는 광학 매체의 제조, 특히 컴팩트 디스크 및 DVD의 제조 및 1회 또는 반복적으로 기록가능 및 삭제가능한 광학 매체의 제조에서의 폴리카르보네이트에 대해 공지된 방식으로 사용한다. 내부의 기록가능층은 특히 착색제 또는 금속층으로 구성되며, 후자는 기록 원리로서 무정형에서 결정성 상태로의 변화를 이용하며, 자기 특성을 갖는다.
광학 매체는 바람직하게는, 예를 들어 과립 형태로 얻어지는 본 발명에 따른 최종 성형 조성물로부터 제조된다. 그러나, 광학 매체는 성분들을 폴리카르보네이트 및(또는) 폴리카르보네이트로부터의 성형품 제조에서 통상적인 첨가제 중에 혼입함으로써 제조될 수도 있다.
따라서, 본 발명은 또한, 본 발명에 따른 열가소성 성형 조성물로부터 수득가능한, 특히 광학 데이타 캐리어, 바람직하게는 컴팩트 디스크 및 DVD 등의 성형품에 관한 것이다.
본 발명에 따른 열가소성 성형 조성물은 낮은 수분 흡수성 및 그에 따라 개 선된 치수 안정성을 나타낸다는 이점을 갖는다. 본 발명의 조성물은 낮은 용융 점도를 갖기 때문에, 추가로 개선된 유동 거동을 특징으로 한다
하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위해 제공된다. 본 발명은 이들 실시예로 제한되지 않는다.
<실시예>
실시예 A
비스페놀 TMC 및 비스페놀 A로부터 코폴리포르말의 합성
Figure 112005064617711-PAT00015
메틸렌 클로라이드 500 mL 중의 비스페놀 TMC 5.432 kg (17.5 몰) (x = 70 몰％), 비스페놀 A 1.712 kg (7.5 몰) (y = 30 몰％), 수산화나트륨 조각 2.5 kg (62.5 몰) 및 미분된 p-tert-부틸페놀 (알드리치(Aldrich)) 56.33 g (0.375 몰)을 교반하며 질소 보호 기체 하에 메틸렌 클로라이드 28.7 kg과 N-메틸-2-피롤리돈 (NMP) 40.18 kg의 용매 혼합물에 첨가하였다. 균질화 후, 혼합물을 환류 (78 ℃)로 가열하고, 이 온도에서 1시간 동안 교반하였다. 25 ℃까지 냉각시킨 후, 반응 배 치를 메틸렌 클로라이드 35 L 및 탈염수 20 L로 희석하였다. 분리기에서, 중성이 되고 염이 유리될 때까지 (전도도 15 μS·cm-1 미만) 배치를 물로 세척하였다. 분리기로부터 유기상을 분리하고, 증발 용기내에서 용매 메틸렌 클로라이드를 클로로벤젠으로 교환하였다. 이어서, ZSK 32 증발 압출기를 이용하여 280 ℃의 온도에서 재료의 압출을 수행하고, 이어서 과립화하였다. 예비 재료 배출 후, 코폴리포르말 총 5.14 kg을 투명한 과립 형태로 수득하였다. 이들은 여전히 불순물로서 저분자량의 시클릭 화합물을 함유하였다. 이 재료를 밤새 아세톤 약 5 L로 팽윤시켰다. 생성된 조성물을 말디-토프(Maldi-Tof)법에 의해 더 이상의 시클릭 화합물이 검출되지 않을 때까지 신선한 아세톤 여러 부분으로 혼련하였다. 정제된 재료를 클로로벤젠 중에 용해시키고, 270 ℃에서 증발 압출기로 다시 압출하였다. 예비 재료 배출 후, 폴리포르말 3.11 kg을 투명한 과립 형태로 수득하였다.
분석:
· 분자량 Mw = 39,901, Mn = 19,538, D = 2.04 (GPC (폴리카르보네이트에 대해 보정)로 측정)
· 유리 전이 온도 Tg = 148 ℃
· 메틸렌 클로라이드 중의 상대 용액 점도 (0.5 g/100 mL 용액) = 1.246
·1H = NMR (CDCl3 중)에서는 예상 혼입비 (x/y)가 나타남.
실시예 B
폴리카르보네이트와 폴리포르말의 화합물
하기와 같이 표 1에 기재돤 화합물을 제조하였다.
폴리카르보네이트 (CD2005, 바이엘　머티리얼사이언스 아게(Bayer MaterialScience AG)의 BPA 폴리카르보네이트, MVR 60 mL/10분) 및 실시예 A로부터의 폴리포르말을 표 1에 기재된 양으로 칭량하고, 메틸렌 클로라이드 약 100 mL 중에 용해시켰다. 이어서, 이렇게 얻어진 균질 용액을 80 ℃에서 진공 건조 캐비넷 중에서 밤새 증발시켜 건조물로 농축시키고, 잔류물을 분쇄하였다. 고형물을 250 ℃의 온도에서 체류 시간 3분으로 DSM 소형 사출 성형 기계 중에서 배합하였다.
얻어진 생성물에 대해, 상대 습도 95 ％의 습한 환경 및 저장 온도 30 ℃에서 저장한 후의 수분 흡수성을 측정하였다. 7일 및 14일 저장 후 얻어진 값을 표 1에 나타내었다.
Figure 112005064617711-PAT00016
실시예 2 내지 4의 본 발명에 따른 화합물은 비교예 1에 따른 순수 카르보네이트에 비해 현저히 낮은 수분 흡수성을 갖는 것을 알 수 있다.
본 발명을 예시 목적으로 상기에 상세히 기재하였으나, 이러한 상세한 설명은 단지 예시를 위한 것이며, 청구의 범위에 의해 제한될 수 있는 것을 제외하고는, 본 발명의 진의 및 범주로부터 벗어나지 않으면서 당업자에 의해 변형이 이루어질 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명에 따른 성형 조성물에 의해 데이타 저장 수단의 품질이 개선되고 사출 성형 또는 사출 스탬핑 공정에 의한 재료의 가공능이 개선되며 수분 흡수성이 감소되고, 따라서 궁극적으로 치수 안정성이 개선되며, 이는 성형품, 특히 컴팩트 디스크, 비디오 디스크, 디지탈 다기능 디스크 (DVD) 등의 광학 데이타 캐리어 및 1회 또는 반복적으로 기록가능 및 삭제가능한 광학 데이타 캐리어의 제조에 특히 적합하다.

Claims (17)

  1. 폴리카르보네이트, 및 하기 화학식 1로 표시되는 반복 구조 단위를 포함하는 폴리포르말을 포함하는 열가소성 성형 조성물.
    <화학식 1>
    Figure 112005064617711-PAT00017
    식 중,
    D는 임의로 헤테로 원자를 함유하고, 임의로 C1-C12-알킬, 바람직하게는 C1-C1O-알킬, 특히 바람직하게는 C1-C8-알킬, 및(또는) 할로겐, 바람직하게는 불소 또는 염소로 치환되고, 추가로 임의로 지방족 또는 시클로지방족 라디칼을 함유하는, 6 내지 40개의 탄소 원자를 갖는 방향족 라디칼을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 방향족 라디칼이 1개 이상의 축합된 방향족 핵을 함유하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 방향족 라디칼이 헤테로 원자를 함유하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 방향족 라디칼이 C1-C12-알킬 및 할로겐으로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 원으로 치환된 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 방향족 라디칼이 브릿지 원으로서 지방족 또는 시클로지방족 라디칼, 방향족 핵 또는 헤테로 원자를 함유하는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 D가 하기 화학식 1a로 표시되는 조성물.
    <화학식 1a>
    Figure 112005064617711-PAT00018
    식 중,
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 H, C1-C18-알킬, C1-C18-알콕시, 할로겐, 아릴 또는 아르알킬을 나타내고,
    X는 단일 결합, -SO2-, -CO-, -O-, -S-, C1-C6-알킬렌, C2-C5-알킬리덴, C5-C6-시클로알킬리덴 또는 C6- 내지 C12-아릴렌을 나타낸다.
  7. 제6항에 있어서, 상기 아릴 및(또는) 아르알킬이 치환된 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 상기 시클로알킬리덴이 C1- 내지 C6-알킬로 치환된 조성물.
  9. 제6항에 있어서, 상기 아릴렌이 1개 이상의 헤테로 원자를 함유하는 추가의 방향족 고리와 축합된 조성물.
  10. 제6항에 있어서, D가 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판, 4,4'-디히드록시비페닐, 1,3-비스-[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필]-벤젠 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산으로 이루어진 군에서 선택된 원으로부터 유도되는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 추가로 금형 이형제를 포함하는 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 이형제가 1개 이상의 자유 OH기를 함유하는 다가 알콜과 장쇄 카르복실산의 에스테르인 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 폴리카르보네이트의 중량평균 분자량이 15,000 내지 35,000인 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 폴리포르말이 폴리카르보네이트와 폴리포르말의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 30 ％의 양으로 존재하는 조성물.
  15. 제11항에 있어서, 금형 이형제가 조성물의 중량에 대해 0.01 내지 1.5 ％의 양으로 존재하는 조성물.
  16. 제1항에 따른 조성물을 포함하는 성형품.
  17. 제1항의 조성물을 포함하는 광학 데이타 캐리어.
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