KR20060046579A

KR20060046579A - 광도파로의 작성 방법

Info

Publication number: KR20060046579A
Application number: KR1020050066638A
Authority: KR
Inventors: 겐지 이마이
Original assignee: 간사이 페인트 가부시키가이샤
Priority date: 2004-07-22
Filing date: 2005-07-22
Publication date: 2006-05-17
Also published as: CN100426027C; CN1725048A; US20060018615A1; US7310467B2; KR100687260B1; JP2006030919A

Abstract

박리 가능한 기재 (a) 표면에 코어층 (c)를 형성해, 그 다음에 코어층 (a)의 표면 및 기재 표면에 클래드층 (d)를 형성하여 기재 (a)를 코어층 (a) 및 클래드층 (d)로부터 박리해, 코어층 (a)의 상층면 (e) 또는 하층면이 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 작성 방법.

광도파로

Description

광도파로의 작성 방법{Method of fabricating optical waveguide}

[도 1]은, 본 발명의 광도파로의 작성 방법의 각 공정의 한 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

[도 2]는, 본 발명의 광도파로의 작성 방법의 각 공정의 한 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

[도 3]은, 코어층의 상층면과 클래드층의 상층면의 높이의 차를 나타내는 개략 단면도이다.

[도 4]는, 본 발명의 광도파로의 작성 방법의 각 공정의 한 형태를 나타내는 개략 단면도이다.

본 발명은, 광집적회로로서 매우 적합하게 사용할 수 있는 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로의 작성 방법에 관한 것이다.

근년, 광통신 시스템이나 컴퓨터에 있어, 정보처리의 대용량화 및 고속화의 요구로부터, 빛의 전송 매체로서 광도파로가 주목받고 있다.

광도파로의 작성 방법으로서는, 예를 들면, 표면에 홈을 가지는 제 l의 클래드부재를 준비하는 공정과 제 1의 클래드부재 위에 제 1의 액상 고분자 재료를 도포하여, 홈 및 홈 주변을 덮는 공정과 도포한 제 1의 액상 고분자 재료를 열처리 해, 표면에 홈 주변보다 홈으로 낮아지는 웅덩이를 가지고, 한편, 웅덩이 깊이가 홈 주변에서의 두께와 비교해 동등 혹은 큰 코어부재를 형성하는 공정과 제 1의 클래드부재 및 코어부재 위에 제 2의 액상 고분자 재료를 도포하는 공정과 도포한 제 2의 액상 고분자 재료를 열처리 해, 제 2의 클래드부재를 형성하는 공정을 포함하는 방법이 알려져 있다. (특개 2002-35066l 호 공보 참조 )

그러나, 이러한 방법에서는, 코어부 표면에 클래드층이 없는 광도파로를 형성할 수 없다.

한편, 코어부재가 클래드부재로 피복되어 있지 않은 광도파로를 제조하는 방법은 있다. 그러한 광도파로의 제조 방법으로서 예를 들면, 기판 위에 감광성 재료로 구성 되는 막을 형성해, 그 다음에 그 막에 광도파로 코어 패턴을 노광해, 그 후 감광성 재료 또는 그 유도체를 안정화 처리해, 코어부와 클래드부로 구성 되는 패턴층을 형성하는 방법이 알려져 있다. (특개 2003-14966호 공보 참조)

그러나, 이러한 방법에서는, 코어의 상층면 및 하층면의 양쪽 모두가 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로가 형성되는 것이며, 코어의 상층면 및 하층면 중에 한 쪽만이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로는 형성할 수 없다.

{발명의 개시}

본 발명의 목적은, 코어층 및 클래드층으로 구성된 광도파로이며, 클래드층 내에 코어층이 설치되어 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로의 작성 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명은, 박리 가능한 기재 표면에 코어층을 형성해, 그 다음에 코어층의 표면 및 그 기재 표면에 클래드층을 형성해, 그 기재를 코어층 및 클래드층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 일을 특징으로 하는 광도파로의 작성 방법이다.

게다가 본 발명의 대표적인 형태(embodiment)는, 박리 가능한 기재 표면에, 네거티브형 감(感)에너지선성(線性)재료 또는 포지티브형 감에너지선성 재료를 도포해, 에너지선을 조사(照射)하여, 현상을 실시해 코어층을 형성하고, 그 다음에 코어층의 표면, 및 그 기재의 표면 중 클래드층을 형성해야 할 부분에 클래드층 형성용 재료를 도포해, 코어층의 굴절률보다 낮은 굴절률의 클래드층을 형성하여, 그 기재를 코어층 및 클래드층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복 되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 광도파로의 작성 방법이다.

게다가 본 발명의 다른 형태는, 박리 가능한 기재 표면에, 감에너지선성 굴절률 변화성 재료를 도포하여, 에너지선을 조사해 코어층과 클래드층으로 구성 되는 굴절률 패턴층을 형성하고, 그 다음에 그 굴절률 패턴층의 표면에 더욱 클래드층을 형성하여, 그 기재를 굴절률 패턴층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면을 포함한 굴절률 패턴층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 광도파로의 작성 방법이다.

{바람직한 실시형의 상세한 설명}

이하, 본 발명의 매우 적합한 형태에 대해 그림을 이용해 설명한다.

도 1 및 도 2는, 박리 가능한 기재 표면에, 네가티브형 또는 포지티브형의 감에너지선성 재료를 도포해, 에너지선을 조사하여, 현상을 실시해 코어층을 형성하고, 그 다음에 코어층의 표면 및 그 기재의 표면 중 클래드층을 형성해야 할 부분에 클래드층 형성용 재료를 도포하여, 코어층의 굴절률보다 낮은 굴절률의 클래드층을 형성해, 그 기재를 코어층 및 클래드층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 방법을 나타내는 개략 단면도이다. 특히, 도 1에 나타나는 방법은 코어층의 형성용 재료로서 네가티브형 감에너지선성 재료를 사용한 예이며, 도 2에 나타내는 방법은 포지티브형 감에너지선성 재료를 사용한 예이다.

도 1에 나타낸 방법에서는, 우선, 박리 가능한 기재 (a) 표면에 코어층 형성용 네가티브형 감에너지선성 재료 (b)를 도포한다[도 1(1)]. 그 다음에, 코어층을 형성해야 할 부분에 대해서 에너지선을 패턴 모양으로 조사하여[도 1(2)], 현상을 실시해 소망 패턴의 코어층 (c)를 형성한다[도 l(3)]. 그 다음에, 코어층 (C)의 표면 및 기재 (a)의 표면 중 클래드층을 형성해야 할 부분에 클래드층 형성용 재료를 도포한다. 이 도포 후의 클래드층 형성용 재료를 소망에 따라 경화시켜, 클래드층 (d)를 형성한다[도 1(4)]. 이 클래드층 (d)의 굴절률은, 코어층 (C)의 굴절률보다 낮다. 클래드층 (d)을 형성한 후, 소망에 따라 이것을 상하 거꾸로 되도록 반전시 킨다[도 1(5)].

그 다음에, 기재 (a)를 코어층 (c) 및 클래드층 (d)로부터 박리해, 광도파로를 얻을 수 있다[도 l(6)].

이러한 방법에 의해 얻을 수 있는 광도파로는, 소망한 패턴 모양의 코어층 (C)의 하면 및 측면은 클래드층 (d)에 접하고 있으므로, 코어층 (C)가 클래드층 (d) 내에 설치된 구성을 가진다. 다만, 코어층 (C)의 상층면 (e)는 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않다. 또, 코어층 (c)의 상층면 (e)와 클래드층 (d)의 상층면 (j)의 높이의 차는 작다.

도 1에 나타낸 방법에서는, 클래드층 (d)를 형성한 후, 이것을 반전시켰지만[도 1(5)], 물론, 반전시키지 않고 기재 (a)를 아래쪽으로부터 박리하는 것도 가능하다. 반전시켜 기재 (a)를 박리했을 경우는, 코어층 (c)의 상층면 (e)가 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않은 광도파로를 얻을 수 있다. 한편, 반전시키지 않고 기재 (a)를 박리했을 경우는, 코어층 (c)의 하층면이 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않은 광도파로를 얻을 수 있다. 이것은, 후술하는 도 2 및 도 4에 나타내는 방법에 있어서도 같다.

박리 가능한 기재 (a)로서는, 예를 들면, 그 기재의 재료 자체가 이형성을 나타내는 것, 예를 들면, 폴리에틸렌 텔레프탈레이트(PET) 시트를 매우 적합하게 사용할 수 있다. 또, 예를 들면, 점착제층의 한 면(폴리염화비닐 필름층이 아닌 면)에, 실리콘, 왁스, 불소수지 등의 이형제로 처리한 종이, 금속 시트, 플라스틱 시트, 유리판 등의 이형성기재도 사용할 수 있다.

네가티브형 감에너지선성 재료 (b)로서는, 공지의 재료를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 그 재료로부터 형성되는 피막에 대해, 에너지선(가시광선, 자외선, 열선 등)이 조사된 개소가 경화해 현상액으로 불용성이 되고, 한편, 미조사(未照射)의 개소가 현상액에 의해 용해하는 것으로써, 코어층을 형성할 수 있는 재료를 사용할 수 있다.

재료 (b)를 기재 (a)에 도장 또는 인쇄하는 것으로써, 코어층을 구성하기 위한 피막을 형성할 수가 있다. 그 도장이나 인쇄의 방법으로서는, 예를 들면, 롤러법, 스프레이법, 커텐 롤법, 실크 스크린 프로세스법을 들 수 있다.

또, 에너지선으로서는, 예를 들면, 아르곤 레이저(488nm), 반도체 레이저(830nm), YAG 레이저(1.06μm) 등을 들 수 있다.

현상은, 예를 들면, 물처리 또는 유기용제 처리로 실시할 수가 있다. 또, 재료 (b)가 아니온성의 경우에는 알칼리성 현상액, 카치온의 경우에는 산성현상액을 이용해 처리를 실시할 수 있다. 이러한 현상 처리는 공지의 방법으로 실시할 수 있다.

클래드층 (d)의 형성용 재료는, 코어층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 클래드층을 형성하는 것이 가능한 재료면 좋고, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 열가소성 수지, 경화형 수지 등, 공지의 수지를 사용할 수 있다.

열가소성 수지로서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 실록산계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 오키세탄계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리페닐술파이드계 수지, 폴리에 테르이미드계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, PET(폴리에틸렌 텔레프탈레이트)계 수지, 페놀노보락계 수지, 에틸렌비닐알코올 공중합체, 에틸렌초산비닐 공중합체, 폴리스틸렌계 수지, 불소계 수지, 폴리부틸렌 텔레프탈레이트계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리에테르니트릴계 수지, 폴리아미드 11 , 폴리오레핀?이미드 공중합체, 아라미드계 수지, 액정 폴리머(폴리아세타르코폴리머, 아사히 화성공업 주식회사제, 상품명 테나크 시리즈), 시아네이트계 수지 등을 들 수 있다.

경화형 수지로서는, 예를 들면, 열경화형 수지, 상온 경화형 수지, 활성 에너지선 경화형 수지 등을 들 수 있다. 특히, 활성 에너지선 경화형 수지로서는, 상기한 네가티브형 감에너지선성 재료 (b)와 동류의 재료를 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 수지를 사용하는 경우는, 그 수지의 피막에 활성 에너지선을 전면 조사해 경화시키면 좋다.

클래드층 (d)의 형성용 재료를 드라이 필름(필요에 따라서 베이스 필름을 사용해도 좋다)으로 하고, 이 드라이 필름을 코어층 (b)의 표면에 열라미네이트 하여, 클래드층 (d)를 형성할 수도 있다.

최종적으로 형성된 클래드층 (b)의 굴절률은, 코어층 (c)의 굴절률과의 차가 0.1% 이상 낮은 것이 바람직하다.

도 2에 나타낸 방법에서는, 우선, 박리 가능한 기재 (a) 표면에 코어층 형성용 포지티브형 감에너지선성 재료 (f)를 도포한다[도 2(1)]. 그 다음에, 코어층을 형성해야 할 부분 이외의 부분에 대해서 에너지선을 패턴 모양으로 조사하여[도 2(2)], 미노광 부분 (g)의 현상을 실시해 코어층 (h)를 형성한다[도 2(3)]. 그 다음에, 코어층 (h)의 표면, 및 기재 (a)의 표면 중 클래드층을 형성해야 할 부분에 클래드층 형성용 재료를 도포한다. 이 도포 후의 클래드층 형성용 재료를 소망에 따라 경화시켜, 클래드층 (d)를 형성한다[도 2(4)]. 이 클래드층 (d)의 굴절률은, 코어층 (h)의 굴절률보다 낮다. 클래드층 (d)를 형성한 후, 소망에 따라 이것을 상하 거꾸로 되도록 반전시킨다[도 1(5)]. 그 다음에, 기재 (a)를 코어층 (h) 및 클래드층 (d)로부터 박리 해, 광도파로를 얻을 수 있다[도 2(6)].

이러한 방법에 의해 얻을 수 있는 광도파로는, 소망한 패턴 모양의 코어층 (h)의 하면 및 측면은 클래드층 (d)에 접하고 있으므로, 코어층 (h)가 클래드층 (d) 내에 설치된 구성을 가진다. 다만, 코어층 (h)의 상층면 (i)은 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않다. 또, 코어층 (h)의 상층면 (i)와 클래드층 (d)의 상층면 (j)의 높이의 차는 작다.

도 2에 기재한 방법은, 도 1에 기재한 방법에서, 네가티브형 감에너지선성재료 (b)에 대신해, 포지티브형 감에너지선성 재료 (f)를 사용한 이외는 상기와 같은 방법이므로, 네가티브형과 포지티브형과의 차이에 대해 설명하는 이외는 생략 한다.

포지티브형 감에너지선성 재료 (f)로서는, 공지의 재료를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 그 재료로부터 형성되는 피막에 있어서, 에너지선(자외선, 가시광선이나 열선 등)이 조사된 피막 개소가 분해하는 것으로써 현상액에 의한 용해성이 늘어나, 현상 처리를 실시하는 것으로 코어층 (h)를 형성할 수 있는 재료를 사용할 수 있다.

도 3은, 코어층의 상층면 (e 또는 i)와 클래드층의 상층면 (j)와의 높이의 차를 나타낸다. 본 발명에서, 특히 코어층의 상층면 (e 또는 i)와 클래드층의 상층면 (j)의 높이의 차, 또는 코어층의 하층면과 클래드층의 하층면의 높이의 차가 0.1μm 이하인 것이 바람직하다. 이 차이를 작게 하려면, 예를 들면, 박리 가능한 기재 (a)로서 평활한 표면을 가지는 기재를 사용하는 것, 네가티브형 또는 포지티브형 감에너지선성 재료로서 액상 재료를 도포, 에너지선 조사, 현상을 실시해 코어층을 형성하는 것, 액상 열경화형 수지, 액상 상온 경화형 수지, 액상 활성 에너지선 경화형 수지를 사용해 클래드층 (d)를 형성하는 등의 방법이 바람직하다.

도 4는, 박리 가능한 기재 표면에, 감에너지선성 굴절률 변화성 재료를 도포하여, 에너지선을 조사해 코어층과 클래드층으로 구성 되는 굴절률 패턴층을 형성하고, 그 다음에 그 굴절률 패턴층의 표면에 더욱 클래드층을 형성해, 그 기재를 굴절률 패턴층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면을 포함한 굴절률 패턴층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 청구항 4에 기재한 광도파로의 작성 방법을 나타내는 개략 단면도이다.

도 4에 나타낸 방법에서는, 우선, 박리 가능한 기재 (a) 표면에 코어층 및 클래드층 형성용의 감에너지선성 굴절률 변화성 재료 (k)를 도포한다[도 4(1)]. 그 다음에, 에너지선을 조사해 굴절률 패턴층 (l)을 형성한다. 이 굴절률 패턴층 (1)의 굴절률이 높은 부분이 코어층 (m), 굴절률이 낮은 부분이 클래드층 (n)이 된다[도 4(2)]. 그 다음에, 이 굴절률 패턴층 (1) 표면에 클래드층 (p)을 형성한다[도 4(3)]. 이 클래드층 (p)를 형성한 후, 이것을 상하 거꾸로 되도록 반전시킨다[도 4(4)]. 그 다음에, 기재 (a)를 굴절률 패턴층 (1)로부터 박리 하여, 굴절률 패턴층 (l)의 상층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 얻는다[도 4(4)].

이 방법에서, 박리 가능한 기재 (a), 에너지선 조사 등으로 사용하는 것이나 방법에 대해서는, 상기한 것과 같은 것이나 방법으로 실시할 수가 있다.

감에너지선성 굴절률 변화성 재료 (k)로서는, 공지의 재료를 사용할 수 있어, 예를 들면, 포토브리팅으로 불리고 있는 방법으로 사용되고 있는 재료를 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는, 감광성 폴리시란, 감광성 폴리이미드, 감광성 폴리시란 / 폴리시라잔, 산성 또는 염기성 분해성 화합물 / 산 또는 염기에 대해 비분해성 화합물 / 감에너지선 산 또는 염기 발생제 등을 들 수 있다.

이하, 본 발명에 대해 실시예를 들어 설명한다. 단, 본 발명은 이러한 실시예로 한정되는 것이 아니다. 이하의 기재에서「부」및「%」는, 각각「중량부」및 「중량%」를 의미한다.

{실시예 1}

본 실시예에서는, 도 1에 나타낸 각 공정에 따라, 이하와 같이 광도파로를 작성했다.

우선, 박리 가능한 기재 (a)로서 실리콘 처리한 평활한 면을 가지는 PET 시트(두께 1mm)를 준비했다.

또, 스틸렌아크릴산 공중합체(수지산가 293mg KOH/g, 스틸렌 / 아크릴산=80/20 중량비)에 그리시딜 메타크릴레이트 125부를 반응시켜 되는 광경화 성 수지(수지고형분 55%, 유기용매 프로필렌 그리콜모노메틸에테르, 수지산가 65mg KOH/g, 수평균 분자량 약 2만) 100부(고형분)와 광중합성개시제(티타노센 화합물, 치바가이기사제, 상품명 CGI-784) 3부와 광증감제(일본 감광 색소 주식회사제, 상품명 NKX-1595) 1부를 배합해, 네가티브형 감에너지선성 재료 (b)로서 이용하는 감광액을 얻었다.

또, 상기의 스틸렌 아크릴산 공중합체에 대신해 아크릴 수지(메틸 메타크릴레이트 / 부틸 메타크릴레이트= 80/20)를 이용한 것 이외는, 상기 감광액과 같게 하여 각 성분을 배합해, 클래드층 (d)의 형성용 재료로서 이용하는 감광액을 얻었다.

그리고, 기재 (a)의 표면에, 네가티브형 감에너지선성 재료 (b)를 도포하여, 아르곤 레이저(발진선 488nm)의 레이저광을 에너지 밀도 70mJ/㎠로 조사했다. 그 후, 알칼리 현상액으로서 탄산나트륨 수용액 (0.25%)를 이용해 현상을 실시하여, 코어층 (c)을 형성했다.

그 다음에, 코어층 (c) 및 클래드층이 되는 부분에 클래드층 (d) 형성용 재료를 도포했다. 그 후, 아르곤 램프를 이용해 에너지선을 에너지 밀도 70mJ/㎠로 전면 조사하여, 클래드층 (d) 형성용 재료를 경화시켜, 클래드층 (d)를 형성했다. 그 후, 기재 (a)를 코어층 (b) 및 클래드층 (d)로부터 박리하여 광도파로를 얻었다.

이 광도파로의 코어층 (b)의 상층면 (e)는 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않다. 코어층 (b) 및 클래드층 (d)의 표면의 높이의 차 (j 와 e의 차)는 0.1μm 이하 로 양호했다. 또, 이러한 계면에는 틈새 등이 없고 양호했다.

{실시예 2}

도 2에 나타낸 각 공정에 따라, 이하와 같이 하여 광도파로를 작성했다.

우선, 테트라히드로 프랑 200부/P-히드록시 스틸렌 65부/n-부틸 아크릴레이트 28부/아크릴산 11부로부터 얻을 수 있는 분자량 약 5200의 반응물과 비스페놀 화합물 및 2-클로로 에틸 비닐 에테르의 축합물(몰비 l : 2)인 지비닐 에테르 화합물 60부와 광산발생제(미도리화학주식회사제, 상품명 NAI-105) 10부와 광증감색소(쿠마린계 색소, 일본감광색소사제, 상품명 NKX-1595) 1.5부를 배합해, 포지티브형 감에너지선성 재료 (f)로서 이용하는 감광액을 얻었다.

한편, 박리 가능한 기재 (a)와 클래드층 (d) 형성용 재료는, 실시예 1과 같은 것을 이용하는 것으로 했다.

그리고, 기재 (a)의 표면에, 포지티브형 감에너지선성 재료 (f)를 도포해, 아르곤 레이저 (발진선 488nm)의 레이저광을 에너지 밀도 70mJ/㎠으로 조사했다. 그 후, 알칼리 현상액으로서 탄산나트륨 수용액 (0.25%)를 이용해 현상을 실시하여, 코어층 (h)를 형성했다.

그 다음에, 코어층 (h) 및 클래드층이 되는 부분에 클래드층 (d) 형성용 재료를 도포했다. 그 후, 아르곤 램프를 이용해 에너지선을 에너지 밀도 70mJ/㎠로 전면 조사해 클래드층 (d) 형성용 재료를 경화시켜, 클래드층 (d)를 형성했다. 그 후, 기재 (a)를 코어층 (h) 및 클래드층 (d)로부터 박리하여 광도파로를 얻었다.

이 광도파로의 코어층 (h)의 상층면 (i)는, 클래드층 (d)로 피복되어 있지 않다. 코어층 (h) 및 클래드층 (d)의 표면의 높이의 차(j와 i의 차)는 0.1μm 이하로 양호했다. 또, 이러한 계면에는 틈새 등이 없고 양호했다.

본 발명에 의하면, 클래드층 내에 코어층이 설치되고, 그리고 코어층의 상층면 및 하층면 중 한 쪽은 클래드층으로 피복 되지 않고, 다른 한 쪽은 클래드층으로 피복 되어 있는 광도파로를 간단하고 쉬운 공정으로 얻을 수 있다. 게다가, 코어층의 상층면과 클래드층의 상층면의 높이의 차, 또는 코어층의 하층면과 클래드층의 하층면의 높이의 차가 0.lμm이하의 광도파로를 작성할 수 있다.

Claims

박리 가능한 기재 표면에 코어층을 형성해, 그 다음에 코어층의 표면 및 그 기재 표면에 클래드층을 형성하여, 그 기재를 코어층 및 클래드층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 것을 특징으로 하는 광도파로의 작성 방법.
청구항 1에 있어서 코어층의 형성용 재료로서, 네가티브형 감에너지선성 재료 또는 포지티브형 감에너지선성 재료를 이용하는 광도파로의 작성 방법.
청구항 2에 있어서 박리 가능한 기재 표면에, 네가티브형 감에너지선성 재료 또는 포지티브형 감에너지선성 재료를 도포해, 에너지선을 조사하여, 현상을 실시해 코어층을 형성하고, 그 다음에 코어층의 표면, 및 그 기재의 표면 중 클래드층을 형성해야 할 부분에 클래드층 형성용 재료를 도포해, 코어층의 굴절률보다 낮은 굴절률의 클래드층을 형성하여, 그 기재를 코어층 및 클래드층으로부터 박리해, 코어층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 광도파로의 작성 방법.
청구항 1에 있어서 코어층의 형성용 재료로서 감에너지선성 굴절률 변화성 재료를 이용한 광도파로의 작성 방법.
청구항 4에 있어서 박리 가능한 기재 표면에, 감에너지선성 굴절률 변화성 재료를 도포해, 에너지선을 조사하여 코어층과 클래드층으로 구성되는 굴절률 패턴층을 형성하고, 그 다음에 그 굴절률 패턴층의 표면에 더욱 클래드층을 형성해, 그 기재를 굴절률 패턴층으로부터 박리하여, 코어층의 상층면 또는 하층면을 포함한 굴절률 패턴층의 상층면 또는 하층면이 클래드층으로 피복되어 있지 않은 광도파로를 작성하는 광도파로의 작성 방법.
청구항 1에 있어서 코어층의 상층면과 클래드층의 상층면의 높이의 차, 또는 코어층의 하층면과 클래드층의 하층면의 높이의 차가, 0.1μm 이하인 광도파로의 작성 방법.