KR20060044262A - Thin film patterning apparatus and method of fabricating color filter array substrate using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토리소그래피 공정을 사용하지 않고 패터닝 공정을 수행할 수 있는 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film patterning apparatus capable of performing a patterning process without using a photolithography process and a method of manufacturing a color filter array substrate using the same.

본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 기판 상에 화소영역을 구획하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 화소영역별로 해당 색의 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터가 형성된 기판 상에 투명수지를 코팅하는 단계와; 상기 투명 수지가 형성된 기판 상부에 홈과 돌기를 가지는 소프트 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 소프트 몰드로 상기 투명수지를 성형하여 오버코트층을 형성함과 동시에 상기 화소영역마다 액정의 배열방향이 다수개로 조정되도록 리브를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a color filter array substrate, the method including: forming a black matrix partitioning a pixel region on the substrate; Forming a color filter of a corresponding color for each pixel region; Coating a transparent resin on a substrate on which the color filter is formed; Arranging a soft mold having grooves and protrusions on the substrate on which the transparent resin is formed; And forming an overcoat layer by forming the transparent resin with the soft mold and forming ribs to adjust a plurality of alignment directions of liquid crystals in each pixel region.

Description

박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법{Thin Film Patterning Apparatus And Method Of Fabricating Color Filter Array Substrate Using The Same} Thin Film Patterning Apparatus And Method Of Fabricating Color Filter Array Substrate Using The Same}             

도 1은 종래 수직 배향형 액정표시패널을 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a conventional vertical alignment liquid crystal display panel.

도 2a 내지 도 2e는 도 1에 도시된 수직 배향형 액정표시패널의 제조방법을 나타내는 단면도이다.2A through 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the vertically aligned liquid crystal display panel illustrated in FIG. 1.

도 3은 본 발명에 따른 수직 배향형 액정표시패널을 나타내는 평면도이다.3 is a plan view illustrating a vertically aligned liquid crystal display panel according to the present invention.

도 4는 도 3에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절취한 수직 배향형 액정표시패널을 나타내는 단면도이다.FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a vertically aligned liquid crystal display panel taken along the line "I-I '" in FIG.

도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 수직 배향형 액정표시패널의 제조방법을 나타내는 단면도이다.
5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the vertically aligned liquid crystal display panel illustrated in FIG. 4.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1,21,101 : 기판 2,102 : 블랙매트릭스1,21,101: Substrate 2,102: Black Matrix

4,104 : 컬러필터 6,106 : 공통전극4,104: color filter 6,106: common electrode

8 : 액정 10 : 컬러필터 어레이 기판 8: liquid crystal 10: color filter array substrate                 

12 : 게이트라인 14 : 화소전극12 gate line 14 pixel electrode

16 : 박막트랜지스터 18 : 데이터라인16: thin film transistor 18: data line

20 : 박막트랜지스터 어레이 기판 22,122 : 오버코트층20: thin film transistor array substrate 22,122: overcoat layer

24,124 : 리브 184 : 소프트 몰드
24,124: rib 184: soft mold

본 발명은 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법에 관한 것으로, 특히 포토리소그래피 공정을 사용하지 않고 패터닝 공정을 수행할 수 있는 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film patterning apparatus and a method of manufacturing a color filter array substrate using the same, and more particularly, to a thin film patterning apparatus capable of performing a patterning process without using a photolithography process and a method of manufacturing a color filter array substrate using the same. will be.

액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 액정 표시 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 서로 대향하여 합착된 박막 트랜지스터 어레이 기판(10) 및 칼러 필터 어레이 기판(20)과, 두 어레이 기판(10,20) 사이에서 셀갭을 일정하게 유지시키기 위한 스페이서와, 스페이서에 의해 마련된 액정공간에 채워진 액정(8)을 구비한다.The liquid crystal display device displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device maintains a constant cell gap between the thin film transistor array substrate 10 and the color filter array substrate 20 bonded together to face each other, and the two array substrates 10 and 20. And a liquid crystal 8 filled in the liquid crystal space provided by the spacer.

박막 트랜지스터 어레이 기판(20)은 서로 교차되게 형성된 게이트라인(12) 및 데이터라인(18)과, 그들(12,18)의 교차부에 형성된 박막트랜지스터(16)와, 박막트랜지스터(16)와 접속된 화소전극(14)과, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 하 부 배향막으로 구성된다. The thin film transistor array substrate 20 is connected to the gate line 12 and the data line 18 formed to cross each other, the thin film transistor 16 formed at the intersection of the 12 and 18, and the thin film transistor 16. A pixel electrode 14 and a lower alignment film coated thereon for liquid crystal alignment.

칼라 필터 어레이 기판(10)은 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스(2)와, 칼러 구현을 위한 칼라 필터(4), 칼라필터(4)에 의한 단차를 보상하기 위한 오버코트층(22), 화소전극(14)과 수직전계를 이루는 공통전극(6)과, 액정의 배열방향을 조정하기 위한 리브(24)와, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 상부 배향막으로 구성된다. The color filter array substrate 10 includes a black matrix 2 to prevent light leakage, a color filter 4 to implement color, an overcoat layer 22 to compensate for the step difference caused by the color filter 4, and a pixel electrode ( 14), a common electrode 6 forming a vertical electric field, a rib 24 for adjusting the alignment direction of the liquid crystal, and an upper alignment film coated thereon for liquid crystal alignment.

이러한 도 1에 도시된 액정표시장치는 리브(24)에 의해 액정의 배열방향이 다수개로 조정되어 멀티 도메인을 구현할 수 있다. 즉, 도 1에 도시된 수직 배향형 액정표시패널은 리브(24)에 의해 액정에 인가되는 전계가 왜곡되어 리브(24)를 기준으로 액정은 대칭적인 방향으로 배열되므로 시야각이 넓어진다.In the liquid crystal display illustrated in FIG. 1, a plurality of alignment directions of liquid crystals may be adjusted by the ribs 24 to implement a multi-domain. That is, in the vertically aligned liquid crystal display panel illustrated in FIG. 1, the electric field applied to the liquid crystal by the ribs 24 is distorted, and the viewing angles of the vertically aligned liquid crystal display panel are widened because the liquid crystals are arranged in a symmetrical direction with respect to the ribs 24.

도 2a 내지 도 2e는 도 1에 도시된 칼라필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.2A to 2E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter array substrate illustrated in FIG. 1.

도 2a를 참조하면, 상부기판(1) 상에 블랙 매트릭스(2)가 형성된다.Referring to FIG. 2A, a black matrix 2 is formed on the upper substrate 1.

블랙매트릭스(2)는 상부기판(1) 상에 불투명 수지 또는 불투명 금속이 도포된 후 마스크를 이용한 포토리소그래피공정과 식각공정으로 패터닝되어 형성된다. 불투명수지으로는 예를 들어 카본 블랙등이 이용되며, 불투명 금속으로는 예를 들어 크롬(Cr) 또는 크롬산화물(CrOx/Cr/CrOx, CrOx/Cr/CrSix)이 이용된다.The black matrix 2 is formed by applying an opaque resin or an opaque metal on the upper substrate 1 and patterning the photolithography and etching processes using a mask. As the opaque resin, for example, carbon black is used, and as the opaque metal, for example, chromium (Cr) or chromium oxide (CrOx / Cr / CrOx, CrOx / Cr / CrSix) is used.

도 2b를 참조하면, 블랙매트릭스(2)가 형성된 상부기판(1) 상에 칼라필터(4)가 형성된다.Referring to FIG. 2B, a color filter 4 is formed on the upper substrate 1 on which the black matrix 2 is formed.

칼라필터(4)는 블랙매트릭스(2)가 형성된 상부기판(1) 상에 적색, 녹색 및 청색 칼라수지 각각이 전면 도포된 후 마스크를 이용한 포토리소그래피공정에 의해 패터닝되어 형성된다.The color filter 4 is formed by applying a red, green and blue color resin on the upper substrate 1 on which the black matrix 2 is formed, and patterning the photolithography process using a mask.

도 2c를 참조하면, 칼라필터(4)가 형성된 상부기판(1) 상에 오버코트층(22)이 형성된다.Referring to FIG. 2C, an overcoat layer 22 is formed on the upper substrate 1 on which the color filter 4 is formed.

오버코트층(22)은 칼라필터(4)가 형성된 상부기판(1) 상에 아크릴계 수지 또는 에폭시계 수지 등의 투명절연층이 전면 도포됨으로써 형성된다.The overcoat layer 22 is formed by applying a transparent insulating layer such as an acrylic resin or an epoxy resin on the entire surface of the upper substrate 1 on which the color filter 4 is formed.

도 2d를 참조하면, 오버코트층(22)이 형성된 상부기판(1) 상에 공통전극(6)이 형성된다.Referring to FIG. 2D, the common electrode 6 is formed on the upper substrate 1 on which the overcoat layer 22 is formed.

공통전극(6)은 오버코트층(22)이 형성된 상부기판(1) 상에 ITO,IZO 등과 같은 투명도전막이 전면 증착됨으로써 형성된다.The common electrode 6 is formed by depositing a transparent conductive film, such as ITO or IZ, on the entire upper substrate 1 on which the overcoat layer 22 is formed.

도 2e를 참조하면, 공통전극(6)이 형성된 상부기판(1) 상에 리브(24)가 형성된다.Referring to FIG. 2E, ribs 24 are formed on the upper substrate 1 on which the common electrode 6 is formed.

리브(24)는 공통전극(6)이 형성된 상부기판(1) 상에 아크릴계 수지 또는 에폭시계 수지 등의 고분자 수지가 전면 도포된 후 포토리소그래피공정으로 패터닝됨으로써 형성된다.The rib 24 is formed by applying a polymer resin such as an acrylic resin or an epoxy resin to the upper substrate 1 on which the common electrode 6 is formed, and then patterning the same by a photolithography process.

이와 같이, 종래 수직 배향형 액정표시패널의 제조 방법에 있어서, 다수의 박막패턴은 포토리소그래피공정에 의해 형성된다. 이 포토리소그래피공정은 포토레지스트의 도포, 마스크 정렬, 노광 및 현상을 포함하는 일렬의 사진공정이다. 이 포토리소그래피공정은 공정 소요시간이 길고 포토레지스트와, 포토레지스트패턴을 현상하기 위한 현상액의 낭비가 크며, 노광장비 등의 고가장비가 필요한 문제점 이 있다. 또한, 리브(24) 형성공정과 오버코트층(22) 형성공정이 개별적으로 진행되어 제조공정시간이 길어지며 비용이 상승하는 문제점이 있다.
As described above, in the conventional method for manufacturing a vertically aligned liquid crystal display panel, a plurality of thin film patterns are formed by a photolithography process. This photolithography process is a series of photolithography processes including the application of photoresist, mask alignment, exposure and development. This photolithography process has a long process time, high waste of photoresist and developer for developing photoresist patterns, and requires expensive equipment such as exposure equipment. In addition, the process of forming the rib 24 and the process of forming the overcoat layer 22 may be performed separately, thereby increasing the manufacturing process time and increasing the cost.

따라서, 본 발명의 목적은 포토리소그래피공정을 사용하지 않고 패터닝공정을 수행할 수 있음과 아울러 제조공정을 단순화할 수 있는 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법을 제공하는 것이다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a thin film patterning apparatus capable of performing a patterning process without using a photolithography process and simplifying a manufacturing process, and a method of manufacturing a color filter array substrate using the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 수직 배향형 액정표시패널의 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 기판 상에 화소영역을 구획하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 화소영역별로 해당 색의 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터가 형성된 기판 상에 투명수지를 코팅하는 단계와; 상기 투명 수지가 형성된 기판 상부에 홈과 돌기를 가지는 소프트 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 소프트 몰드로 상기 투명수지를 성형하여 오버코트층을 형성함과 동시에 상기 화소영역마다 액정의 배열방향이 다수개로 조정되도록 리브를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a color filter array substrate of a vertical alignment liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a black matrix partitioning a pixel region on the substrate; Forming a color filter of a corresponding color for each pixel region; Coating a transparent resin on a substrate on which the color filter is formed; Arranging a soft mold having grooves and protrusions on the substrate on which the transparent resin is formed; And forming an overcoat layer by forming the transparent resin with the soft mold and forming ribs to adjust a plurality of alignment directions of liquid crystals in each pixel region.

상기 오버코트층과 리브를 동시에 형성하는 단계는 상기 리브와 대응하는 홈을 가지는 소프트몰드로 상기 투명수지를 가압하는 단계와; 상기 홈 내로 상기 투명수지가 이동하여 리브를 형성함과 아울러 상기 소프트 몰드의 표면과 상기 투명 수지가 접촉되어 표면이 평탄해지는 오버코트층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Simultaneously forming the overcoat layer and the rib may include pressing the transparent resin with a soft mold having a groove corresponding to the rib; And moving the transparent resin into the groove to form ribs, and forming an overcoat layer having a flat surface by contacting the surface of the soft mold with the transparent resin.

상기 투명수지 상에 상기 스페이서와 대응하는 홈을 가지는 소프트몰드를 가압하는 단계는 상기 소프트 몰드의 자중 정도의 무게로 상기 투명수지를 약 10분~2시간 동안 130℃이하의 온도에서 가압하거나 상기 투명수지에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Pressing the soft mold having a groove corresponding to the spacer on the transparent resin may be performed by pressing the transparent resin at a temperature of 130 ° C. or less for about 10 minutes to 2 hours by the weight of the soft mold. And irradiating ultraviolet rays to the resin.

상기 투명수지는 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 한다.The transparent resin is characterized in that it is formed of any one of a liquid polymer precursor and a liquefied polymer.

상기 소프트 몰드는 폴리디메틸실록세인, 폴리 우레탄 및 크로스 링크드 노볼락 수지 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.The soft mold is characterized in that it comprises any one of polydimethylsiloxane, polyurethane and cross linked novolac resin.

상기 목적을 달성하기 위하여, 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스와, 칼러 구현을 위한 칼라 필터, 칼라필터에 의한 단차를 보상하기 위한 오버코트층 및 상기 오버코트층과 동일물질로 동시에 형성되며 액정의 배열방향을 조정하기 위한 리브를 가지는 칼라필터 어레이 기판을 제조하기 위한 본 발명에 따른 박막 패터닝 장치는 상기 오버코트층과 대응되는 영역에 형성되는 돌출부와; 상기 오버코트층으로부터 돌출되는 리브와 대응되는 영역에 형성되는 홈을 구비한다.In order to achieve the above object, a black matrix for preventing light leakage, a color filter for implementing color, an overcoat layer for compensating for the step by the color filter, and the same material as the overcoat layer are simultaneously formed and the alignment direction of the liquid crystal is adjusted. According to an aspect of the present invention, a thin film patterning apparatus for manufacturing a color filter array substrate having ribs includes: a protrusion formed in a region corresponding to the overcoat layer; And a groove formed in a region corresponding to the rib protruding from the overcoat layer.

상기 오버코트층과 리브는 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 한다.The overcoat layer and the ribs are formed of any one of a liquid polymer precursor and a liquefied polymer.

상기 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나는 상기 소프트 몰드와 접촉시 모세관힘에 의해 상기 홈내로 이동하는 것을 특징으로 한다. Any one of the liquid polymer precursor and the liquefied polymer is characterized in that it moves into the groove by capillary force upon contact with the soft mold.                     

상기 박막 패터닝 장치는 폴리디메틸실록세인, 폴리 우레탄 및 크로스 링크드 노볼락 수지 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.The thin film patterning device is characterized in that it comprises any one of polydimethylsiloxane, polyurethane and cross linked novolac resin.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 도 3 내지 도 5e를 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5E.

도 3은 본 발명에 따른 수직 배향형 액정표시패널의 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 평면도이며, 도 4는 도 3에서 선"Ⅰ-Ⅰ'"를 따라 절취한 수직 배향형 액정표시패널의 칼라필터 어레이 기판을 나타내는 단면도이다.3 is a plan view illustrating a color filter array substrate of a vertically aligned liquid crystal display panel according to the present invention, and FIG. 4 is a color filter array of a vertically aligned liquid crystal display panel cut along a line "I-I '" in FIG. It is sectional drawing which shows a board | substrate.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 컬러필터 어레이 기판은 상부기판(101) 상에 형성되는 블랙매트릭스(102), 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터(104), 칼라필터(104) 상에 일체화되도록 형성되는 오버코트층(122) 및 리브(124), 리브(124)를 덮도록 형성된 공통전극(106)을 구비한다.3 and 4, the color filter array substrate according to the present invention includes a black matrix 102, a red (R), a green (G), and a blue (B) color filter formed on the upper substrate 101. 104, an overcoat layer 122 formed to be integrated on the color filter 104, a rib 124, and a common electrode 106 formed to cover the rib 124.

블랙매트릭스(102)는 상부기판(101) 상에 매트릭스 형태로 형성되어 컬러필터(104)들이 형성되어질 다수의 셀영역들로 나눔과 아울러 인접 셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다. 이러한 블랙매트릭스(102)는 박막트랜지스터 어레이 기판의 화소전극을 제외한 영역, 즉 게이트라인, 데이터라인 및 박막트랜지스터와 중첩되게 형성된다. 이 블랙매트릭스(102)는 불투명 수지, 예를 들어 카본 블랙 등이 이용되거나 불투명 금속, 예를 들어 크롬(Cr) 또는 크롬산화물(CrOx/Cr/CrOx, CrOx/Cr/CrSix)로 형성된다. The black matrix 102 is formed in a matrix form on the upper substrate 101 to divide the color filters 104 into a plurality of cell regions in which the color filters 104 are to be formed and to prevent optical interference between adjacent cells. The black matrix 102 is formed so as to overlap an area of the thin film transistor array substrate except for the pixel electrode, that is, the gate line, the data line, and the thin film transistor. The black matrix 102 is made of an opaque resin such as carbon black or the like or formed of an opaque metal such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrOx / Cr / CrOx, CrOx / Cr / CrSix).                     

컬러필터(104)는 블랙 매트릭스(102)에 의해 분리된 셀영역에 형성된다. 이 컬러필터(104)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)을 구현한다.The color filter 104 is formed in the cell region separated by the black matrix 102. The color filter 104 implements red (R), green (G), and blue (B).

오버코트층(122)은 컬러필터(104)와 블랙 매트릭스(102)와의 단차를 보상하기 위해 칼라필터(104)가 형성된 상부기판(101) 상에 형성된다. 이 오버코트층(122)은 친수성이 강한 고분자 등이 이용된다. 친수성이 강한 고분자는 예를 들어 액상 고분자 전구체(Liquid pre-polymer), 액상화된 고분자(Liqufied polymer) 또는 투과율이 높은 아크릴(Acryl)계나 에폭시(Epoxy)계 고분자 체인(polymer chain) 내에 친수성기를 가진 물질이 치환된 구조의 고분자 등이 이용된다. 여기서, 액상 고분자 전구체는 유기물, 바인더, 광개시제 등을 포함한다. 유기물은 소프트 몰드와 접촉시 반발력을 가지면서 착색도가 20이하인 투명도가 양호한 물질, 예를 들어 폴리 에틸렌 글리콜(Poly Ethylene Glycol ; PEG) 등이 이용된다. 바인더는 아크릴릭 모노머(acrylic monomer)에 고착성이 좋은 스틸렌 코모노머(styrene co-monomer)가 첨가된 스틸렌-아크릴 코모노머가 이용된다. The overcoat layer 122 is formed on the upper substrate 101 on which the color filter 104 is formed to compensate for the step difference between the color filter 104 and the black matrix 102. As the overcoat layer 122, a hydrophilic polymer or the like is used. Hydrophilic polymers are, for example, liquid pre-polymers, liquefied polymers, or materials having hydrophilic groups in an acrylic or epoxy-based polymer chain with high permeability. The polymer of this substituted structure, etc. are used. Here, the liquid polymer precursor includes an organic material, a binder, a photoinitiator and the like. The organic material has a resilience when it comes into contact with the soft mold and has a good transparency having a coloration of 20 or less, for example, polyethylene ethylene glycol (PEG). As the binder, a styrene-acrylic comonomer to which an styrene co-monomer having good adhesion to an acrylic monomer is added is used.

리브(124)는 오버코트층(122)과 동일 물질로 오버코트층(122)과 동시에 형성된다. 이 리브(124)는 액정에 인가되는 전계를 왜곡시켜 리브를 기준으로 대칭적인 방향으로 액정이 배열되도록 한다.The rib 124 is formed at the same time as the overcoat layer 122 of the same material as the overcoat layer 122. The rib 124 distorts an electric field applied to the liquid crystal so that the liquid crystals are arranged in a symmetrical direction with respect to the rib.

공통전극(106)은 오버코트층(122) 및 리브(124)가 형성된 상부기판(101) 상에 전면 형성된다. 이 공통전극(106)에는 액정 구동을 위한 기준전압이 인가된다.The common electrode 106 is entirely formed on the upper substrate 101 on which the overcoat layer 122 and the rib 124 are formed. A reference voltage for driving the liquid crystal is applied to the common electrode 106.

이와 같이, 본 발명에 따른 수직 배향형 액정표시패널의 칼라필터 어레이 기판은 오버코트층(122)과 리브(124)가 동일물질로 동시에 형성된다. 이에 따라, 제 조공정을 단순화함과 아울러 제조비용을 저감할 수 있다.As described above, in the color filter array substrate of the vertical alignment liquid crystal display panel according to the present invention, the overcoat layer 122 and the rib 124 are formed of the same material at the same time. Accordingly, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 컬러필터 어레이 기판의 제조방법을 나타내는 단면도이다.5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the color filter array substrate illustrated in FIG. 4.

먼저, 상부기판(101) 상에 불투명수지 또는 불투명 금속이 전면 도포된 후 패터닝됨으로써 도 5a에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(102)가 형성된다. 이 블랙매트릭스(102)가 형성된 상부기판(101) 상에 적색, 녹색 및 청색 수지가 각각 도포된 후 패터닝됨으로써 칼라필터(104)가 형성된다.First, an opaque resin or an opaque metal is coated on the upper substrate 101 and then patterned, thereby forming a black matrix 102 as shown in FIG. 5A. The red, green, and blue resins are coated on the upper substrate 101 on which the black matrix 102 is formed, and then patterned, thereby forming the color filter 104.

칼라필터(104)가 형성된 상부기판(101) 상에 도 5b에 도시된 바와 같이 친수성이 강한 고분자(182)가 스핀 코팅 또는 슬릿 코팅 방식으로 전면 인쇄된다. As shown in FIG. 5B, the hydrophilic polymer 182 is completely printed on the upper substrate 101 on which the color filter 104 is formed by spin coating or slit coating.

이 친수성이 강한 고분자(182)가 형성된 상부기판(101) 상에 도 5c에 도시된 바와 같이 홈(186a)과 돌출부(186b)를 가지는 소프트 몰드(184)가 정렬된다. 소프트 몰드의 홈(186a)은 리브가 형성될 영역과 대응된다. 이 소프트 몰드(184)는 탄성이 큰 고무 재료, 예를 들어 폴리디메틸실록세인(Polydimethylsiloxane ; PDMS), 폴리 우레탄(Polyurethane), 크로스 링크드 노볼락 수지(Cross-linked Novolac Resin) 등이 이용된다. 이러한 소프트 몰드(184)는 자신의 자중 정도의 무게로 친수성이 강한 고분자(182)에 가압된다. 이 때, 기판(101)이 약 130℃이하의 온도로 베이킹되거나 친수성이 강한 고분자(182)에 자외선이 조사됨으로써 친수성이 강한 고분자(182)는 소프트(soft) 경화된다. 자외선의 광량은 친수성이 강한 고분자(182)에 포함된 베이스 물질 및 광개시제 중 적어도 어느 하나에 따라 변화된다. 예를 들어, 친수성이 강한 고분자(182)에 포함된 베이스 물질이 에폭시계열인 경우 자외선 광량은 2000~2500mJ/㎠이며, 아크릴계열인 경우 자외선 광량은 500~1000mJ/㎠이다. 그러면, 소프트 몰드(184)와 기판(101) 사이의 압력으로 발생하는 모세관힘(Capillary force)과, 소프트 몰드(34)와 친수성이 강한 고분자(182) 사이의 반발력에 의해 친수성이 강한 고분자(182)가 소프트 몰드의 홈(186a) 내로 이동한다. 그 결과, 도 5d에 도시된 바와 같이 소프트 몰드의 홈(186a)과 반전 전사된 패턴 형태의 리브(124)와, 소프트 몰드의 돌출부(186b)와 접촉되는 오버코트층(122)이 형성된다. 그런 다음, 소프트 몰드(184)와 기판(101)이 분리된 후 기판(101)은 약 150℃이상에서 큐어링(curing)된다.The soft mold 184 having the groove 186a and the protrusion 186b is aligned on the upper substrate 101 on which the hydrophilic polymer 182 is formed, as shown in FIG. 5C. The groove 186a of the soft mold corresponds to the region where the rib is to be formed. The soft mold 184 is made of a highly elastic rubber material such as polydimethylsiloxane (PDMS), polyurethane, cross-linked Novolac Resin, or the like. The soft mold 184 is pressed against the hydrophilic polymer 182 by the weight of its own weight. At this time, the substrate 101 is baked at a temperature of about 130 ° C. or less, or ultraviolet rays are irradiated onto the hydrophilic polymer 182 to soften the hydrophilic polymer 182. The amount of ultraviolet light varies depending on at least one of the base material and the photoinitiator included in the high hydrophilic polymer 182. For example, when the base material included in the high hydrophilic polymer 182 is epoxy series, the ultraviolet light amount is 2000-2500 mJ / cm 2, and in the acrylic series, the ultraviolet light amount is 500-1000 mJ / cm 2. Then, the hydrophilic polymer 182 is caused by the capillary force generated by the pressure between the soft mold 184 and the substrate 101 and the repulsion force between the soft mold 34 and the hydrophilic polymer 182. ) Moves into the groove 186a of the soft mold. As a result, as shown in FIG. 5D, the groove 186a of the soft mold and the rib 124 in the form of reverse transfer are formed, and the overcoat layer 122 contacting the protrusion 186b of the soft mold is formed. Then, after the soft mold 184 and the substrate 101 are separated, the substrate 101 is cured at about 150 ° C. or more.

리브(124)와 오버코트층(122)이 동시에 형성된 기판(101) 상에 투명도전막, 예를 들어 ITO, IZO 등이 전면 증착됨으로써 도 5e에 도시된 바와 같이 공통전극(106)이 형성된다.A transparent conductive film, for example, ITO, IZO, or the like is deposited on the substrate 101 on which the rib 124 and the overcoat layer 122 are formed at the same time, thereby forming the common electrode 106 as shown in FIG. 5E.

이와 같이, 본 발명에 따른 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 포토리소그래피공정을 사용하지 않고 소프트 몰드를 이용하여 오버코트층(122)과 리브(124)를 동시에 형성한다. 이에 따라, 고가의 노광장비가 필요없게 되며, 공정이 간단하면서 정밀도가 높아 공정시간을 줄일 수 있어 제조수율이 향상된다. As described above, the method for manufacturing a color filter array substrate according to the present invention simultaneously forms the overcoat layer 122 and the rib 124 using a soft mold without using a photolithography process. As a result, expensive exposure equipment is not required, and the process is simple and the precision is high, so that the processing time can be shortened and the manufacturing yield is improved.

한편, 리브(124)와 오버코트층(122)은 소프트 몰드(184)를 이용하여 진공상태에서 형성할 수 있다. 이 경우, 리브(124)와 오버코트층(122)의 재질인 친수성이 강한 고분자와 소프트 몰드(184)와의 접촉시 버블(bubble)의 발생을 방지할 수 있다.
Meanwhile, the rib 124 and the overcoat layer 122 may be formed in a vacuum state using the soft mold 184. In this case, bubbles may be prevented when the hydrophilic polymer, which is a material of the rib 124 and the overcoat layer 122, and the soft mold 184 are in contact with each other.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 박막 패터닝 장치 및 그를 이용한 칼라필터 어레이 기판의 제조방법은 포토공정을 사용하지 않고 소프트 몰드를 이용하여 액정의 배열방향을 조정하는 리브와 오버코트층을 동시에 형성한다. 이에 따라, 제조공정이 단순화되어 제조수율이 향상된다.As described above, the thin film patterning apparatus and the method of manufacturing the color filter array substrate using the same according to the present invention simultaneously form a rib and an overcoat layer for adjusting the alignment direction of the liquid crystal using a soft mold without using a photo process. Accordingly, the manufacturing process is simplified and the manufacturing yield is improved.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (9)

기판 상에 화소영역을 구획하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와;Forming a black matrix partitioning pixel regions on the substrate; 상기 화소영역별로 해당 색의 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a color filter of a corresponding color for each pixel region; 상기 컬러필터가 형성된 기판 상에 투명수지를 코팅하는 단계와;Coating a transparent resin on a substrate on which the color filter is formed; 상기 투명 수지가 형성된 기판 상부에 홈과 돌기를 가지는 소프트 몰드를 정렬하는 단계와;Arranging a soft mold having grooves and protrusions on the substrate on which the transparent resin is formed; 상기 소프트 몰드로 상기 투명수지를 성형하여 오버코트층을 형성함과 동시에 상기 화소영역마다 액정의 배열방향이 다수개로 조정되도록 리브를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 어레이 기판의 제조방법.Forming an overcoat layer by forming the transparent resin with the soft mold, and forming ribs to adjust a plurality of alignment directions of liquid crystals in each pixel region. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 오버코트층과 리브를 동시에 형성하는 단계는Simultaneously forming the overcoat layer and the ribs 상기 리브와 대응하는 홈을 가지는 소프트몰드로 상기 투명수지를 가압하는 단계와;Pressing the transparent resin with a soft mold having a groove corresponding to the rib; 상기 홈 내로 상기 투명수지가 이동하여 리브를 형성함과 아울러 상기 소프트 몰드의 표면과 상기 투명수지가 접촉되어 표면이 평탄해지는 오버코트층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 어레이 기판의 제조방법.And forming a rib by moving the transparent resin into the groove, and forming an overcoat layer in which the surface of the soft mold is in contact with the transparent resin to make the surface flat. Way. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 투명수지 상에 상기 스페이서와 대응하는 홈을 가지는 소프트몰드를 가압하는 단계는Pressing the soft mold having a groove corresponding to the spacer on the transparent resin 상기 소프트 몰드의 자중 정도의 무게로 상기 투명수지를 약 10분~2시간 동안 130℃이하의 온도에서 가압하거나 상기 투명수지에 자외선을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 칼라필터 어레이 기판의 제조방법.Manufacturing the color filter array substrate by pressing the transparent resin at a temperature of about 130 ° C. or less for about 10 minutes to 2 hours or by irradiating ultraviolet rays to the transparent resin with a weight of the soft weight of the soft mold. Way. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명수지는 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터 어레이 기판의 제조방법.The transparent resin is a method of manufacturing a color filter array substrate, characterized in that formed of any one of a liquid polymer precursor and a liquefied polymer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소프트 몰드는 폴리디메틸실록세인, 폴리 우레탄 및 크로스 링크드 노볼락 수지 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 어레이 기판의 제조방법.The soft mold is a method of manufacturing a color filter array substrate, characterized in that it comprises any one of polydimethylsiloxane, polyurethane and cross linked novolac resin. 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스와, 칼러 구현을 위한 칼라 필터, 칼라필터에 의한 단차를 보상하기 위한 오버코트층 및 상기 오버코트층과 동일물질로 동시에 형성되며 액정의 배열방향을 조정하기 위한 리브를 가지는 칼라필터 어레이 기판을 제조하기 위한 박막 패터닝 장치에 있어서,A color filter having a black matrix for preventing light leakage, a color filter for color implementation, an overcoat layer for compensating for the step by the color filter, and ribs for adjusting the alignment direction of the liquid crystal, which are simultaneously formed of the same material as the overcoat layer. A thin film patterning apparatus for manufacturing an array substrate, 상기 오버코트층과 대응되는 영역에 형성되는 돌출부와, 상기 오버코트층으 로부터 돌출되는 리브와 대응되는 영역에 형성되는 홈을 가지는 소프트 몰드를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.And a soft mold having a protrusion formed in a region corresponding to the overcoat layer, and a groove formed in a region corresponding to a rib protruding from the overcoat layer. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 오버코트층과 리브는 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.The overcoat layer and the rib is a thin film patterning device, characterized in that formed of any one of a liquid polymer precursor and a liquefied polymer. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 액상 고분자 전구체 및 액상화된 고분자 중 어느 하나는 상기 소프트 몰드와 접촉시 모세관힘에 의해 상기 홈내로 이동하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.Thin film patterning device, characterized in that any one of the liquid polymer precursor and the liquefied polymer is moved into the groove by capillary force when in contact with the soft mold. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 소프트 몰드는 폴리디메틸실록세인, 폴리 우레탄 및 크로스 링크드 노볼락 수지 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 패터닝 장치.Wherein said soft mold comprises any one of polydimethylsiloxane, polyurethane and cross linked novolac resin.
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DE102005030339A DE102005030339B8 (en) 2004-11-11 2005-06-29 Method for producing a color filter array substrate
TW094122146A TWI269074B (en) 2004-11-11 2005-06-30 Thin film patterning apparatus and method of fabricating color filter array substrate using the same
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US12/841,680 US8455046B2 (en) 2004-11-11 2010-07-22 Thin film patterning apparatus and method of fabricating color filter array substrate using the same

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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4964898B2 (en) * 2006-12-28 2012-07-04 シャープ株式会社 Liquid crystal display
CN102081253B (en) * 2009-11-30 2013-04-03 华映视讯（吴江）有限公司 Color filter and method for manufacturing test pattern
JP5463461B2 (en) * 2010-07-20 2014-04-09 株式会社ブイ・テクノロジー Color filter protrusion height measuring instrument and repair device
CN103189786B (en) * 2010-11-09 2016-01-06 夏普株式会社 Display panels
CN102692763B (en) * 2011-03-23 2015-01-07 黄继远 Manufacturing method of flexible display panel
CN102707484B (en) * 2012-04-24 2014-07-09 京东方科技集团股份有限公司 Semi-transmission and semi-reflection color-film substrate and manufacturing method thereof as well as liquid crystal display device
KR102189578B1 (en) * 2014-07-30 2020-12-14 삼성디스플레이 주식회사 Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN105988240B (en) * 2015-02-16 2020-03-20 上海仪电显示材料有限公司 Color filter manufacturing method, color filter and liquid crystal display device
CN104793396B (en) * 2015-05-07 2018-01-16 武汉华星光电技术有限公司 Colored filter and preparation method thereof, and liquid crystal display
CN105259692A (en) * 2015-10-28 2016-01-20 信利（惠州）智能显示有限公司 Manufacturing method for color filter
CN106773350A (en) * 2016-12-29 2017-05-31 惠科股份有限公司 Liquid crystal display panel and its manufacture method
CN107045222A (en) * 2016-12-29 2017-08-15 惠科股份有限公司 Liquid crystal panel and its manufacture method
CN106647002B (en) * 2017-01-16 2020-06-02 京东方科技集团股份有限公司 Color film substrate, preparation method thereof and display panel
JP2019139056A (en) * 2018-02-09 2019-08-22 株式会社ジャパンディスプレイ Display and color filter substrate
CN109491131B (en) * 2018-12-12 2021-08-24 惠科股份有限公司 Preparation method of optical filter, optical filter and display panel
CN109581721B (en) 2019-02-01 2021-09-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 Preparation method of substrate for display, substrate for display and display device
CN110488529A (en) * 2019-09-20 2019-11-22 合肥京东方显示技术有限公司 Display panel, color membrane substrates and its manufacturing method
CN115762328A (en) * 2020-03-17 2023-03-07 群创光电股份有限公司 Display device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0363628A (en) * 1989-08-02 1991-03-19 Mitsumura Genshiyokuban Insatsujiyo:Kk Spacer and formation thereof
JPH04324803A (en) * 1991-04-25 1992-11-13 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of color filter
JPH06265870A (en) * 1993-03-17 1994-09-22 Fujitsu Ltd Formation of color filter for liquid crystal display plate
JPH06281926A (en) * 1993-03-29 1994-10-07 Fujitsu Ltd Formation of color filter for liquid crystal display panel
JPH10221522A (en) * 1997-02-07 1998-08-21 Dainippon Printing Co Ltd Forming method for black matrix
JPH10282333A (en) * 1997-04-07 1998-10-23 Dainippon Printing Co Ltd Color filter and its manufacture
JP2000019527A (en) * 1998-06-30 2000-01-21 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
CN1324363C (en) * 2002-05-04 2007-07-04 三星电子株式会社 LCD device and filtering color picec array board

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