KR20060036795A - Mother glass for organic electro luminescence device and fabricating method of organic electro luminescence device using the same - Google Patents

Mother glass for organic electro luminescence device and fabricating method of organic electro luminescence device using the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 픽셀불량을 방지할 수 있는 유기전계발광표시소자용 모기판 및 이를 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mother substrate for an organic light emitting display device capable of preventing pixel defects and a method of manufacturing the organic light emitting display device using the same.

본 발명에 따른 박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 다수의 유기전계발광어레이가 소정 간격을 두고 형성된 유기전계발광표시소자용 모기판에 있어서, 박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 다수의 유기전계발광어레이가 소정 간격을 두고 형성된 유기전계발광표시소자용 모기판에 있어서, In a mother substrate for an organic light emitting display device including a plurality of organic light emitting arrays including a thin film transistor array according to the present invention, a plurality of organic light emitting arrays including a thin film transistor array are disposed at a predetermined interval. In the formed mother substrate for an organic light emitting display device,

상기 각각의 유기전계발광어레이 사이에 위치함과 아울러 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽을 구비하는 것을 특징으로 한다. Located between each of the organic light emitting array and when forming an organic light emitting layer of the organic light emitting array using a mask to maintain a predetermined distance between the mask and the organic light emitting array and has a height that can contact the mask. At least one partition is characterized in that it is provided.

Description

유기전계발광표시소자용 모기판 및 이를 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법{Mother Glass For Organic Electro Luminescence Device and Fabricating Method of Organic Electro Luminescence Device Using The Same} Mother Glass For Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Of Organic Electro Luminescence Device Using The Same}             

도 1은 종래 능동형 유기전계발광표시소자를 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a conventional active organic light emitting display device.

도 2는 종래 유기전계발광표시소자의 발광원리를 설명하기 위한 다이어그램을 나타내는 도면이다. 2 is a diagram illustrating a diagram for explaining a light emission principle of a conventional organic light emitting display device.

도 3은 종래 능동형 유기전계발광표시소자의 픽셀을 나타내는 회로도이다. 3 is a circuit diagram illustrating a pixel of a conventional active organic light emitting display device.

도 4a 내지 도 4e는 종래 유기전계발광표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다. 4A to 4E illustrate a method of manufacturing a conventional organic light emitting display device.

도 5a 및 도 5b는 유기발광층 형성을 구체적으로 설명하기 위한 도면이다. 5A and 5B are diagrams for describing the organic light emitting layer formation in detail.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시소자용 모기판을 나타내는 도면이다. 6 is a diagram illustrating a mother substrate for an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 7은 도 6의 Ⅰ-Ⅰ' 선을 절단하여 도시한 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 6.

도 8은 도 7에 도시된 격벽의 역할을 설명하기 위한 도면이다.8 is a view for explaining the role of the partition shown in FIG.

도 9a 내지 도 9f는 도 7에 도시된 유기전계발광표시소자용 모기판을 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법을 단계적으로 나타내는 도면이다. 9A through 9F are diagrams illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device using the mother substrate for the organic light emitting display device illustrated in FIG. 7.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

52,152 : 기판 65 : 캡52,152: substrate 65: cap

76 : 실런트 60,160 : 유기전계발광어레이76: sealant 60,160: organic light emitting array

100,200 ; 제1 전극 78,178 : 유기발광층100,200; First electrode 78,178: organic light emitting layer

70,170 : 제2 전극 145 : 섀도우마스크70,170: second electrode 145: shadow mask

본 발명은 유기전계발광표시소자에 관한 것으로 특히, 유기발광층의 손상을 방지할 수 있는 능동형 유기전계발광표시소자용 모기판 및 이를 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to a mother substrate for an active organic light emitting display device capable of preventing damage to the organic light emitting layer and a method of manufacturing the organic light emitting display device using the same.

최근들어, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display : 이하 "LCD"라 함), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display : FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하 PDP"라 함) 및 일렉트로 루미네센스(Electro-luminescence:이하 "EL "이라 함)소자 등이 있다. 이와 같은 평판표시장치의 표시품질을 높이고 대화면화를 시도하는 연구들이 활발히 진행되고 있다. Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include liquid crystal displays (hereinafter referred to as "LCDs"), field emission displays (FEDs), plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs), and electroluminescence. Nessence ("EL") elements, etc. There are active researches to improve the display quality of such a flat panel display device and attempt to enlarge the screen.

이들 중 PDP는 구조와 제조공정이 단순하기 때문에 경박 단소하면서도 대화면화에 가장 유리한 표시장치로 주목받고 있지만 발광효율과 휘도가 낮고 소비전력이 큰 단점이 있다. 이에 비하여, 스위칭 소자로 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)가 적용된 액티브 매트릭스 LCD는 반도체공정을 이용하기 때문에 대화면화에 어렵고 백라이트 유닛으로 인하여 소비전력이 큰 단점이 있고, 편광필터, 프리즘시트, 확산판 등의 광학소자들에 의해 광손실이 많고 시야각이 좁은 특성이 있다. Among them, PDP is attracting attention as a display device which is light and small and is most advantageous for large screen because of its simple structure and manufacturing process. However, PDP has low luminous efficiency, low luminance and high power consumption. On the other hand, an active matrix LCD having a thin film transistor (TFT) as a switching element has a disadvantage in that it is difficult to make a large screen due to the semiconductor process and consumes a lot of power due to the backlight unit. , Optical prism sheet, diffusion plate, etc. are characterized by high optical loss and narrow viewing angle.

이에 비하여, EL소자는 발광층의 재료에 따라 무기EL소자와 유기EL소자로 대별되며 스스로 발광하는 자발광소자로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 무기EL소자는 유기EL소자에 비하여 전력소모가 크고 고휘도를 얻을 수 없으며 R, G, B의 다양한 색을 발광시킬 수 없다. 반면에, 유기EL소자는 수십 볼트의 낮은 직류 전압에서 구동됨과 아울러, 빠른 응답속도를 가지고, 고휘도를 얻을 수 있으며 R, G, B의 다양한 색을 발광시킬 수 있어 차세대 평판 디스플레이소자에 적합하다. On the other hand, EL devices are classified into inorganic EL devices and organic EL devices according to the material of the light emitting layer. The EL devices are self-luminous devices that emit light by themselves, and have fast response speed, high luminous efficiency, high brightness, and high viewing angle. Inorganic EL devices have higher power consumption and higher luminance than organic EL devices and cannot emit various colors of R, G, and B. On the other hand, the organic EL device is driven at a low DC voltage of several tens of volts, has a fast response speed, obtains high brightness, and emits various colors of R, G, and B, which is suitable for next-generation flat panel display devices.

이러한 유기EL소자를 구동하는 방식은 수동 매트릭스형(passive matrix type)과 능동 매트릭스형(active matrix type)으로 나눌 수 있다. The method of driving such an organic EL device can be divided into a passive matrix type and an active matrix type.

수동 매트릭스형 유기EL표시소자는 그 구성이 단순하여 제조방법 또한 단순 하나 높은 소비전력과 표시소자의 대면적화에 어려움이 있으며, 배선의 수가 증가하면 할 수록 개구율이 저하되는 단점이 있다. The passive matrix organic EL display device has a simple structure and a simple manufacturing method. However, the passive matrix organic EL display device has a high power consumption and a large area of the display device, and the opening ratio decreases as the number of wires increases.

반면 능동 매트릭스형 유기EL표시소자는 높은 발광효율과 고화질을 제공할 수 있는 장점이 있다. On the other hand, an active matrix organic EL display device has an advantage of providing high luminous efficiency and high image quality.

도 1은 종래의 능동형 유기EL표시소자의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다. 1 is a diagram schematically showing the configuration of a conventional active organic EL display element.

도 1에 도시된 유기EL표시소자는 투명한 기판(52)의 상부에 박막트랜지스터(T) 어레이(74)를 포함하는 유기EL어레이(60)와, 유기EL어레이를 패키징하기위한 캡(65)으로 구성된다.The organic EL display device shown in FIG. 1 includes an organic EL array 60 including a thin film transistor (T) array 74 on the transparent substrate 52, and a cap 65 for packaging the organic EL array. It is composed.

유기EL어레이(60)는 상기 박막트랜지스터(T) 어레이(74)의 상부에 제1 전극(100), 각 픽셀(pixel)을 분리하기 위한 절연막(미도시), 유기 발광층(78) 및 제 2 전극(70)이 구성된다. The organic EL array 60 includes a first electrode 100, an insulating film (not shown) for separating each pixel, an organic emission layer 78, and a second layer on the thin film transistor (T) array 74. The electrode 70 is configured.

이때, 유기 발광층(78)은 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러를 표현하게 되는데, 일반적인 방법으로는 각 픽셀(Pixel:P)마다 유기물 및 적, 녹, 청색을 발광하는 별도의 유기물질이 패터닝됨으로 형성된다. At this time, the organic light emitting layer 78 expresses the colors of red (R), green (G), and blue (B). In general, organic light, red, green, and blue light is emitted for each pixel (Pixel: P). A separate organic material is formed by patterning.

이러한, 유기EL표시소자는 도 2에 도시된 바와 같이 제1 전극(100)과 제2 전극(70) 사이에 전압이 인가되면, 제2 전극(70)으로부터 발생된 전자는 전자 주입층(78a) 및 전자 수송층(78b)을 통해 발광층(78c) 쪽으로 이동된다, 또한, 제1 전극(100)으로 부터 발생된 정공은 정공 주입층(78d) 및 정공 수송층(78d)을 통해 발광층(18c) 쪽으로 이동한다. 이에 따라, 발광층(18c)에서는 전자 수송층(78b)과 정공 수송층(78d)으로부터 공급되어진 전자와 정공이 충돌하여 재결합함으로써 빛이 발생하게 되고, 이 빛은 제1 전극(100)을 통해 외부로 방출되어 화상이 표시되게 된다. In the organic EL display device, as shown in FIG. 2, when a voltage is applied between the first electrode 100 and the second electrode 70, electrons generated from the second electrode 70 may be an electron injection layer 78a. ) And the electron transport layer 78b are moved toward the light emitting layer 78c. Further, holes generated from the first electrode 100 are directed toward the light emitting layer 18c through the hole injection layer 78d and the hole transport layer 78d. Move. Accordingly, in the light emitting layer 18c, light is generated by collision and recombination of electrons and holes supplied from the electron transport layer 78b and the hole transport layer 78d, and the light is emitted to the outside through the first electrode 100. The image is displayed.

이러한 유기EL표시소자에는 수분 및 산소에 쉽게 열화되는 특성을 가지고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 봉지(Encapsulation) 공정이 실시됨으로써 유기EL어레이(60)가 형성된 기판(52)과 캡(65)이 실런트(76)를 통해 합착된다. The organic EL display device has a property of easily deteriorating with moisture and oxygen. In order to solve this problem, an encapsulation process is performed to bond the substrate 52 and the cap 65 on which the organic EL array 60 is formed through the sealant 76.

캡(65)은 발광시 발생하는 열을 방출함과 아울러 외력이나 대기중의 산소 및 수분으로부터 유기EL어레이(60)를 보호하게 된다. The cap 65 releases heat generated during light emission and protects the organic EL array 60 from external force or oxygen and moisture in the atmosphere.

게터(getter)(72)는 패키징 판(78)의 일부가 식각된 후 식각된 부분에 채워지고 반투막(75)에 의해 고정된다. The getter 72 is filled in the etched portion after a portion of the packaging plate 78 is etched and fixed by the semipermeable membrane 75.

이러한 능동형 유기EL표시소자는 도 3에 도시된 바와 같이 게이트라인(GL)과 데이터라인(DL)의 교차로 정의된 영역에 각각 배열되어진 픽셀(150)을 구비한다. 픽셀(150)들 각각은 게이트라인(GL)에 게이트펄스가 공급될 때 데이터라인(DL)으로부터의 데이터신호를 공급받아 그 데이터신호에 상응하는 빛을 발생하게 된다. As shown in FIG. 3, the active organic EL display device includes pixels 150 arranged in regions defined by intersections of the gate line GL and the data line DL. Each of the pixels 150 receives a data signal from the data line DL when the gate pulse is supplied to the gate line GL, and generates light corresponding to the data signal.

이를 위하여, 픽셀들(150) 각각은 기저 전압원(GND)에 음극이 접속된 EL 셀(0EL)과, 게이트라인(GL) 및 데이터 라인(DL)과 공급 전압원(VDD)에 접속되고 EL 셀(OEL)의 양극에 접속되어 그 EL 셀(OEL)을 구동하기 위한 셀 구동부(151)를 구비한다. 셀구동부(152)는 스위칭용 박막트랜지스터(T1), 구동용 박막트랜지스터(T2) 및 캐패시터(C)를 구비한다. To this end, each of the pixels 150 is connected to an EL cell 0EL having a cathode connected to a base voltage source GND, a gate line GL, a data line DL, and a supply voltage source VDD and It is provided with the cell drive part 151 connected to the anode of OEL and for driving the EL cell OEL. The cell driver 152 includes a switching thin film transistor T1, a driving thin film transistor T2, and a capacitor C.

스위칭용 박막 트랜지스터(T1)는 게이트 라인(GL)에 스캔 펄스가 공급되면 턴-온되어 데이터 라인(DL)에 공급된 데이터 신호를 제1 노드(N1)에 공급한다. 제1 노드(N1)에 공급된 데이터 신호는 캐패시터(C)에 충전됨과 아울러 구동용 박막 트랜지스터(T2)의 게이트 단자로 공급된다. 구동용 박막 트랜지스터(T2)는 게이트 단 자로 공급되는 데이터 신호에 응답하여 공급 전압원(VDD)으로부터 EL 셀(OEL)로 공급되는 전류량(I)을 제어함으로써 EL 셀(OEL)의 발광량을 조절하게 된다. 그리고, 스위칭용 박막 트랜지스터(T1)가 턴-오프되더라도 캐패시터(C)에서 데이터 신호가 방전되므로 구동용 박막 트랜지스터(T2)는 다음 프레임의 데이터 신호가 공급될 때까지 공급 전압원(VDD)으로부터의 전류(I)를 EL 셀(OEL)에 공급하여 EL 셀(OEL)이 발광을 유지하게 한다. The switching thin film transistor T1 is turned on when a scan pulse is supplied to the gate line GL, and supplies the data signal supplied to the data line DL to the first node N1. The data signal supplied to the first node N1 is charged to the capacitor C and supplied to the gate terminal of the driving thin film transistor T2. The driving thin film transistor T2 controls the amount of light emitted from the EL cell OEL by controlling the amount of current I supplied from the supply voltage source VDD to the EL cell OEL in response to a data signal supplied to the gate terminal. . Since the data signal is discharged from the capacitor C even when the switching thin film transistor T1 is turned off, the driving thin film transistor T2 is a current from the supply voltage source VDD until the data signal of the next frame is supplied. (I) is supplied to the EL cell OEL so that the EL cell OEL maintains light emission.

도 4a 내지 도 4e는 종래의 능동형 유기EL표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다. 4A to 4E are views for explaining a method of manufacturing a conventional active organic EL display element.

먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이 기판(52) 상에 박막트랜지스터(T) 어레이(74)가 형성된다. 여기서, 박막트랜지스터(T) 어레이(74)는 게이트 전극, 드레인 전극, 소스전극, 반도체 패턴 등으로 구성되는 박막 트랜지스터(T), 게이트 라인 등의 신호라인 등을 포함한다. First, as shown in FIG. 4A, a thin film transistor (T) array 74 is formed on a substrate 52. Here, the thin film transistor T array 74 includes a thin film transistor T composed of a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, a semiconductor pattern, and the like, and a signal line such as a gate line.

박막 트랜지스터(T) 어레이(74)가 형성된 기판(52) 상에 스퍼터링 등의 증착방법을 통해 투명전극 물질이 전면 증착된 후 포토리쏘그래피 공정 및 식각공정에 의해 투명전극 물질이 패터닝된다. 이에 따라, 도 4b에 도시된 바와 같이 박막 트랜지스트(T)와 접속됨과 아울러 발광영역(P1)에 위치하는 제1 전극(100)이 형성된다. 여기서, 투명전극물질로는 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide : ITO)이나 주석산화물(Tin Oxide : TO) 또는 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide : IZO)이 이용된다. After the transparent electrode material is entirely deposited on the substrate 52 on which the thin film transistor T array 74 is formed by sputtering or the like, the transparent electrode material is patterned by a photolithography process and an etching process. As a result, as illustrated in FIG. 4B, the first electrode 100 connected to the thin film transistor T and positioned in the emission region P1 is formed. Here, indium tin oxide (ITO), tin oxide (TO) or indium zinc oxide (IZO) is used as the transparent electrode material.

제1 전극(100)이 형성된 기판(52) 상에 폴리이미드 등의 감광성절연물질이 증착된 후 포토리쏘그래피 공정에 의해 절연물질이 패터닝됨으로써 도 4c에 도시된 바와 같이 발광영역(P1)의 제1 전극(100)을 노출시키는 절연막(80)이 형성된다. After the photosensitive insulating material such as polyimide is deposited on the substrate 52 on which the first electrode 100 is formed, the insulating material is patterned by a photolithography process, thereby forming the light emitting region P1 as shown in FIG. 4C. An insulating film 80 exposing the first electrode 100 is formed.

절연막(80)이 형성된 기판(52) 상에 진공증착, 열성착 등의 증착방법을 이용하여 적(R), 녹(G), 청색(B)의 유기물이 증착됨으로써 도 4d에 도시된 바와 같이 유기발광층(78)이 형성된다. 이때, 상기 유기발광층(78)은 정공 수송층, 정공 주입층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 등으로 구성된다. Red (R), green (G), and blue (B) organic substances are deposited on the substrate 52 on which the insulating film 80 is formed by using a deposition method such as vacuum deposition or thermal deposition, as shown in FIG. 4D. The organic light emitting layer 78 is formed. In this case, the organic light emitting layer 78 is composed of a hole transport layer, a hole injection layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer.

이어서, 상기 유기발광층(78)의 상부에 스퍼터링등의 증착방법을 통해 도전성 금속물질이 증착됨으로써 도 4e에 도시한 바와 같이 제2 전극(70)이 형성된다. 여기서, 도전성 금속물질로는 알루미늄(Al)과 칼슘(Ca)과 마그네슘(Mg)중 선택된 하나로 형성하거나 리튬플루오린/알루미늄(LIF/Al)의 이중 금속층으로 형성할 수 있다. Subsequently, a conductive metal material is deposited on the organic light emitting layer 78 through a deposition method such as sputtering to form a second electrode 70 as shown in FIG. 4E. Here, the conductive metal material may be formed of one selected from aluminum (Al), calcium (Ca), and magnesium (Mg), or may be formed of a double metal layer of lithium fluorine / aluminum (LIF / Al).

이와 같이, 박막트랜지스터(T) 어레이(74) 내지 제2 전극(70) 등을 포함하는 유기EL어레이가 형성된 기판(52)이 실런트(76)를 통해 캡(65)과 합착됨으로써 능동형 유기EL표시소자가 형성된다. As such, the substrate 52 having the organic EL array including the thin film transistor T array 74 to the second electrode 70 is bonded to the cap 65 through the sealant 76 to display the active organic EL display. The element is formed.

한편, 이러한 능동형 유기EL표시소자는 유기발광층(78) 형성시 섀도우 마스크의 표면에 들러 붙는 유기물이 제1 전극(100)상의 유기물에 스크래치를 가함과 아울러 제1 전극(100)을 노출시킴으로써 제1 및 제2 전극(100,70)이 서로 전기적으로 도통되는 일이 빈번히 일어난다. On the other hand, in the active organic EL display device, the organic material that adheres to the surface of the shadow mask when the organic light emitting layer 78 is formed scratches the organic material on the first electrode 100 and exposes the first electrode 100 to the first electrode 100. And the second electrodes 100 and 70 are electrically connected to each other frequently.

이를 도 5a 내지 도 5b를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다. This will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 5B.

먼저, 제1 전극(100)이 형성된 기판(52) 상에 공통마스크(35)가 정렬된 후 정공주입층 및 정공수송층(이하 "제1 유기물"이라 한다)(79)이 유기EL어레이(60) 전면에 형성된다. 여기서, 공통 마스크(35)는 유기EL어레이(60) 영역을 전면 노출시킴으로써 도 5a에 도시된 바와 같이 제1 유기물(79)이 제1 전극(100)이 형성된 발광영역(P1) 뿐만 아니라 비발광영역(P2) 위에도 증착된다. First, after the common mask 35 is aligned on the substrate 52 on which the first electrode 100 is formed, the hole injection layer and the hole transport layer (hereinafter referred to as “first organic material”) 79 are organic EL arrays 60. A) is formed on the front. In this case, the common mask 35 exposes the entire area of the organic EL array 60 so that the first organic material 79 may not emit light as well as the light emitting region P1 in which the first electrode 100 is formed, as shown in FIG. 5A. It is also deposited over the area P2.

이후, 기판(2) 상부에 섀도우 마스크(45)가 정렬되고 마스크(45)의 투과부(46)를 통해 노출된 영역에 특정 발광층(78c) 예를 들어, 도 5b에 도시된 바와 같이 적색(R)을 구현하는 발광층(78c)이 형성된다. 이후, 동일한 마스크(45)를 순차적으로 이동시켜 녹색(G)을 구현하는 발광층(78c) 및 청색(B)을 구현하는 발광층(78c)을 형성한다. 여기서, 섀도우 마스크(45)는 예를 들어, 적색(R)을 구현하는 발광층(78c) 형성시 비발광영역(P2)에 형성된 제1 유기물(79)과 접촉하게 됨으로써 작은 충격 및 공정마진 등에 의해 제1 유기물(79)이 찢겨져 섀도우 마스크(45)에 들러 붙게 된다. 이러한, 제1 유기물(79)이 붙어 있는 섀도우 마스크(45)를 순차적으로 이동시켜 청색, 녹색 발광층(78c)을 형성하는 경우 섀도우 마스크(45)에 붙어 있던 제1 유기물(79)이 발광영역(P1)에 형성된 유기물에 손상을 가하게 된다. 이로써, 발광영역에(P1)는 스크래치가 발생되고 심한 경우 제1 전극(100)이 노출됨으로써 이후 형성될 제2 전극(70)과 제1 전극(100)이 전기적으로 도통되는 등의 픽셀불량 문제가 발생된다.Thereafter, the shadow mask 45 is aligned on the substrate 2 and a specific light emitting layer 78c (eg, as illustrated in FIG. 5B) in the region exposed through the transmissive portion 46 of the mask 45 may be red (R). Emissive layer 78c is formed. Thereafter, the same mask 45 is sequentially moved to form the light emitting layer 78c that implements green (G) and the light emitting layer 78c that implements blue (B). Here, the shadow mask 45 comes into contact with the first organic material 79 formed in the non-emission region P2 when the light emitting layer 78c that implements the red R is formed, for example, by a small impact and a process margin. The first organic material 79 is torn and stuck to the shadow mask 45. When the shadow mask 45 to which the first organic material 79 is attached is sequentially moved to form the blue and green light emitting layers 78c, the first organic material 79 attached to the shadow mask 45 is formed in the light emitting region ( It damages the organic material formed in P1). As a result, in the light emitting area P1, scratches occur and, in severe cases, the first electrode 100 is exposed, thereby causing a pixel defect such as the second electrode 70 and the first electrode 100 to be electrically connected. Is generated.

따라서, 본 발명의 목적은 유기발광층의 손상을 방지함으로써 픽셀불량을 방 지할 수 있는 유기전계발광표시소자용 모기판 및 이를 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법을 제공하는 데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a mother substrate for an organic light emitting display device capable of preventing pixel defects by preventing damage to the organic light emitting layer, and a method of manufacturing the organic light emitting display device using the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 다수의 유기전계발광어레이가 소정 간격을 두고 형성된 유기전계발광표시소자용 모기판에 있어서, 상기 각각의 유기전계발광어레이 사이에 위치함과 아울러 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, in a mother substrate for an organic light emitting display device including a plurality of organic light emitting arrays including a thin film transistor array according to the present invention at a predetermined interval, located between each organic light emitting array. In addition, when forming an organic light emitting layer of the organic light emitting array by using a mask, at least one partition wall having a height that is in contact with the mask and maintains a predetermined distance between the mask and the organic light emitting array, characterized in that it comprises a do.

상기 유기전계발광어레이는 상기 박막 트랜지스터 어레이 상에 형성된 제1 전극; 상기 제1 전극 상에 발광영역을 정의하기 위한 절연막과; 상기 발광영역에 형성된 유기발광층과; 상기 유기발광층 상에 형성된 제2 전극을 구비하고, 상기 격벽의 높이는 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 상기 절연막의 높이의 합보다 4㎛~12㎛ 정도 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The organic light emitting array includes a first electrode formed on the thin film transistor array; An insulating film for defining a light emitting area on the first electrode; An organic light emitting layer formed in the light emitting region; And a second electrode formed on the organic light emitting layer, wherein the height of the barrier rib is 4 µm to 12 µm higher than the sum of the heights of the thin film transistor array and the insulating layer.

본 발명에 따른 유기전계발광표시소자의 제조방법은 모기판 상에 소정 간격을 두고 위치하는 다수의 유기전계발광어레이의 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계와; 상기 박막 트랜지스터어레이의 박막 트랜지스터와 접속되는 제1 전극을 형성하는 단계와; 상기 제1 전극 상에 발광영역을 정의하는 절연막을 형성하는 단계와; 상기 각각의 박막 트랜지스터 어레이 사이에 위치함과 아울러 제1 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 제1 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 제1 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽을 형성하는 단계와; 상기 격벽 및 상기 격벽과 접촉가능한 제1 마스크를 이용하여 상기 발광영역에 유기발광층을 형성하는 단계와; 상기 유기발광층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing an organic light emitting display device according to the present invention includes forming a thin film transistor array of a plurality of organic light emitting arrays disposed at predetermined intervals on a mother substrate; Forming a first electrode connected to the thin film transistor of the thin film transistor array; Forming an insulating layer on the first electrode to define a light emitting region; Located between each of the thin film transistor array, and when forming an organic light emitting layer of the organic light emitting array using a first mask to maintain a predetermined interval between the first mask and the organic electroluminescent array and Forming at least one partition wall having a contactable height; Forming an organic light emitting layer in the light emitting area by using the barrier rib and the first mask contactable with the barrier rib; Forming a second electrode on the organic light emitting layer is characterized in that it comprises.

상기 격벽의 높이는 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 상기 절연막의 높이의 합보다 4㎛~12㎛정도 높은 높이를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The height of the barrier rib may be formed to have a height of about 4 μm to about 12 μm higher than the sum of the heights of the thin film transistor array and the insulating layer.

상기 유기발광층을 형성하는 단계는 공통 마스크를 이용하여 정공주입층 및 정공수송층을 형성하는 단계와; 상기 정공주입층 및 정공수송층이 형성된 기판 상에 상기 격벽과 접촉되도록 상기 제1 마스크를 정렬하는 단계와; 상기 제1 마스크를 이용하여 발광층을 형성하는 단계와; 상기 발광층이 형성된 기판 상에 상기 공통 마스크를 이용하여 전자수송층 및 전자주입층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The forming of the organic light emitting layer may include forming a hole injection layer and a hole transport layer using a common mask; Arranging the first mask to be in contact with the partition on the substrate on which the hole injection layer and the hole transport layer are formed; Forming a light emitting layer using the first mask; The method may further include forming an electron transport layer and an electron injection layer on the substrate on which the light emitting layer is formed by using the common mask.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. Other objects and features of the present invention in addition to the above object will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 6 내지 도 9f를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 9F.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 능동형 유기EL표시소자용 모기판을 나타내는 도면이고, 도 7은 도 6에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'선을 절단하여 도시한 단면도이다. 6 is a diagram illustrating a mother substrate for an active organic EL display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 6.

도 6 및 도 7에 도시된 능동형 유기EL표시소자용 모기판(152)은 다수의 박막 트랜지스터(T) 어레이(174)를 포함하는 다수의 유기EL어레이(160)가 소정간격을 두고 형성되고, 각각의 유기EL어레이(160) 사이에는 소정높이를 갖는 격벽(185)이 형성된다.In the mother substrate 152 for the active organic EL display device illustrated in FIGS. 6 and 7, a plurality of organic EL arrays 160 including a plurality of thin film transistor (T) arrays 174 are formed at predetermined intervals. A partition 185 having a predetermined height is formed between each organic EL array 160.

능동형 유기EL표시소자의 유기EL어레이(160)는 투명한 기판(152)의 상부에 스위칭 및 구동을 위한 박막트랜지스터(T)등을 포함하는 어레이(174)와, 상기 박막트랜지스터(T) 어레이(174)의 상부에 제1 전극(200), 각 픽셀(pixel)을 분리하기 위한 절연막(180), 유기 발광층(178)과 제2 전극(170)으로 구성된다. The organic EL array 160 of the active organic EL display device includes an array 174 including a thin film transistor T for switching and driving on the transparent substrate 152, and the thin film transistor T array 174. ) Is formed of a first electrode 200, an insulating layer 180 for separating each pixel, an organic emission layer 178, and a second electrode 170.

유기발광층(178)은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자 주입층으로 구성되어 있다. The organic light emitting layer 178 is composed of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer.

이러한, 유기EL어레이(160)의 제1 전극(200)과 제2 전극(170) 사이에 전압이 인가되면, 제2 전극(170)으로부터 발생된 전자는 전자 주입층 및 전자 수송층을 통해 발광층 쪽으로 이동된다, 또한, 제1 전극(200)으로 부터 발생된 정공은 정공 주입층 및 정공 수송층을 통해 발광층 쪽으로 이동한다. 이에 따라, 발광층에서는 전자 수송층과 정공 수송층으로부터 공급되어진 전자와 정공이 충돌하여 재결합함으로써 빛이 발생하게 되고, 이 빛은 제1 전극(200)을 통해 외부로 방출되어 화상이 표시되게 된다. When a voltage is applied between the first electrode 200 and the second electrode 170 of the organic EL array 160, electrons generated from the second electrode 170 are directed toward the emission layer through the electron injection layer and the electron transport layer. In addition, holes generated from the first electrode 200 move toward the light emitting layer through the hole injection layer and the hole transport layer. Accordingly, in the light emitting layer, light is generated by collision and recombination of electrons and holes supplied from the electron transporting layer and the hole transporting layer, and the light is emitted to the outside through the first electrode 200 to display an image.

격벽(185)은 각각의 유기EL어레이(182) 사이에 위치함과 아울러 마스크를 이용하여 상기 유기EL어레이(182)의 유기발광층(178) 형성시 상기 마스크와 상기 유기EL어레이(182) 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나 이상 형성된다. The partition wall 185 is positioned between each organic EL array 182 and between the mask and the organic EL array 182 when the organic light emitting layer 178 of the organic EL array 182 is formed using a mask. At least one is formed to maintain a predetermined interval and have a height contactable with the mask.

예를 들어, 격벽(185)의 높이(d1)는 유기EL어레이(160)의 박막트랜지스터(T) 어레이(174) 및 절연막(180)의 높이의 합(d2)보다 높은 높이(d1)를 갖도록 형성된다. 좀더 구체적으로 격벽(185)의 높이(d1)는 절연막(180)의 위치(d2)보다 적어도 4~12㎛ 정도의 높은 높이(d3)를 갖도록 형성되거나 박막트랜지스터(T) 어레이(174)를 포함하는 전체 유기EL어레이(160) 보다 높은 높이를 갖는다.For example, the height d1 of the barrier rib 185 may have a height d1 higher than the sum d2 of the heights of the thin film transistor T array 174 of the organic EL array 160 and the insulating layer 180. Is formed. More specifically, the height d1 of the partition wall 185 is formed to have a height d3 of at least about 4 to 12 μm higher than the position d2 of the insulating layer 180 or includes the thin film transistor (T) array 174. Has a height higher than that of the entire organic EL array 160.

이러한, 격벽(184)은 높은 높이를 갖게 됨으로써 유기발광층(178) 형성시 픽셀불량을 방지하는 역할을 한다. The barrier rib 184 has a high height to prevent pixel defects when the organic light emitting layer 178 is formed.

이를 구체적으로 설명하면, 제1 전극(200)이 형성된 기판(152) 상에 공통마스크를 이용하여 유기EL어레이(160)의 전면에 정공주입층 및 정공수송층(179)(이하 "제1 유기물"이라 한다)이 형성된 후 도 8에 도시된 바와 같이 섀도우 마스크(145)를 순차적으로 이동시켜 적색, 녹색 및 청색을 구현하는 발광층을 형성하게 된다. 이때 섀도우 마스크는 절연막(180)의 위치보다 상대적으로 더 높은 높이(d3)를 갖는 격벽(185)과 접촉하게 됨으로써 제1 유기물(179)이 섀도우 마스크(145)에 들러붙게 되지 않게 된다. 이에 따라, 섀도우 마스크(145)를 순차적으로 이동시켜 예를 들어, 녹색 및 청색 발광층을 형성하도라도 제1 전극(200) 및 유기발광층(178) 등의 픽셀의 불량문제가 발생되지 않게 된다. Specifically, the hole injection layer and the hole transport layer 179 (hereinafter referred to as “first organic material”) on the entire surface of the organic EL array 160 using a common mask on the substrate 152 on which the first electrode 200 is formed. After forming, the shadow mask 145 is sequentially moved to form a light emitting layer that implements red, green, and blue colors as shown in FIG. 8. In this case, the shadow mask is in contact with the barrier rib 185 having a height d3 relatively higher than the position of the insulating layer 180, so that the first organic material 179 does not stick to the shadow mask 145. Accordingly, even when the shadow mask 145 is sequentially moved, for example, green and blue light emitting layers are formed, defects of pixels such as the first electrode 200 and the organic light emitting layer 178 may not occur.

이하, 도 9a 내지 도 9f는 본 발명의 따른 능동형 유기EL표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다. 9A to 9F are views for explaining a method of manufacturing an active organic EL display device according to the present invention.

먼저, 도 9a에 도시된 바와 같이 기판(152) 상에 박막트랜지스터(T) 어레이(174)가 형성된다. 여기서, 박막트랜지스터(T) 어레이부(174)는 게이트 전극, 드레 인 전극, 소스전극, 반도체 패턴 등으로 구성되는 박막 트랜지스터(T),게이트 라인 등의 신호라인 등을 포함한다. First, as shown in FIG. 9A, a thin film transistor (T) array 174 is formed on a substrate 152. Here, the thin film transistor (T) array unit 174 includes a thin film transistor (T) composed of a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, a semiconductor pattern, and the like, and a signal line such as a gate line.

박막 트랜지스터(T) 어레이(174)가 형성된 기판(152) 상에 스퍼터링 등의 증착방법을 통해 투명전극 물질이 전면 증착된 후 포토리쏘그래피 공정 및 식각공정에 의해 투명전극 물질이 패터닝된다. 이에 따라, 도 9b에 도시된 바와 같이 박막 트랜지스트(T)와 접속됨과 아울러 발광영역(P1)에 위치하는 제1 전극(200)이 형성된다. 여기서, 투명전극물질로는 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide : ITO)이나 주석산화물(Tin Oxide : TO) 또는 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide : IZO)이 이용된다. The transparent electrode material is entirely deposited on the substrate 152 on which the thin film transistor (T) array 174 is formed through a deposition method such as sputtering, and then the transparent electrode material is patterned by a photolithography process and an etching process. As a result, as illustrated in FIG. 9B, the first electrode 200 connected to the thin film transistor T and positioned in the emission region P1 is formed. Here, indium tin oxide (ITO), tin oxide (TO) or indium zinc oxide (IZO) is used as the transparent electrode material.

제1 전극(200)이 형성된 기판(152) 상에 폴리이미드 등의 감광성절연물질이 증착된 후 포토리쏘그래피 공정에 의해 절연물질이 패터닝됨으로써 도 9c에 도시된 바와 같이 발광영역(P1)의 제1 전극(200)을 노출시키는 절연막(180)이 형성된다. After the photosensitive insulating material such as polyimide is deposited on the substrate 152 on which the first electrode 200 is formed, the insulating material is patterned by a photolithography process, thereby forming the light emitting region P1 as shown in FIG. 9C. An insulating layer 180 exposing the first electrode 200 is formed.

이후, 기판(152) 상에 폴리이미드 등의 감광성절연물질이 증착된 후 포토리쏘그래피 공정에 의해 절연물질이 패터닝됨으로써 도 9d에 도시된 바와 같이 각각의 박막 트랜지스터(T) 어레이(174) 사이에 격벽(185)이 형성된다.Thereafter, a photosensitive insulating material such as polyimide is deposited on the substrate 152, and then the insulating material is patterned by a photolithography process, so that the thin film transistor (T) arrays 174 are interposed therebetween as shown in FIG. 9D. The partition 185 is formed.

여기서, 격벽(185)의 높이(d1)는 박막 트랜지스터(T) 어레이(174) 및 절연막(180)의 높이의 합(d2)보다 높은 높이를 갖도록 형성된다. 예를 들어, 격벽(185)의 높이(d1)는 절연막(180)의 위치(d2)보다 적어도 4~12㎛의 높은 높이(d3)를 갖도록 형성된다. 또는 이후 형성될 제2 전극을 포함하는 전체 유기EL어레이의 높이보다 높은 높이로 형성된다. Here, the height d1 of the barrier rib 185 is formed to have a height higher than the sum d2 of the heights of the array of thin film transistors T 174 and the insulating layer 180. For example, the height d1 of the partition wall 185 is formed to have a height d3 of at least 4 to 12 μm higher than the position d2 of the insulating film 180. Or it is formed to a height higher than the height of the entire organic EL array including the second electrode to be formed later.

격벽(185)이 형성된 기판(152) 상에 진공증착, 열성착 등의 증착방법을 이용하여 적(R), 녹(G), 청색(B)의 유기물이 증착됨으로써 도 9e에 도시된 바와 같이 유기발광층(178)이 형성된다. 이때, 상기 유기발광층(178)은 정공 수송층, 정공 주입층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 등으로 구성된다. 여기서, 정공 수송층, 정공 주입층, 전자 수송층, 전자 주입층을 형성하는 경우에는 유기EL어레이를 전면노출시키는 공통마스크가 이용되고, 발광층을 형성하는 경우에는 특정발광영역 만을 노출시키는 섀도우마스크가 이용된다. Red (R), green (G), and blue (B) organic materials are deposited on the substrate 152 on which the partition wall 185 is formed by using a deposition method such as vacuum deposition or thermal deposition, as shown in FIG. 9E. The organic light emitting layer 178 is formed. In this case, the organic light emitting layer 178 is composed of a hole transport layer, a hole injection layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer. Here, in forming the hole transporting layer, the hole injection layer, the electron transporting layer, and the electron injecting layer, a common mask for exposing the organic EL array is used. In the case of forming the light emitting layer, a shadow mask for exposing only a specific light emitting area is used. .

여기서 특정발광영역 예들 들어, 적색(R)을 구현하는 발광층을 형성하는 경우 도 8에 도시된 바와 같이 제1 유기물(179)이 형성된 후 발광층을 형성하는 경우 섀도우 마스크는 상대적으로 높은 높이로 형성된 격벽(185)과 접촉되게 된다. 이에 따라, 격벽(185)이 녹색(G), 청색(B)을 구현하는 발광층을 형성하기 위해 이동하는 경우 제1 유기물(179)이 새도우 마스크(145)에 묻지 않게 됨으로써 유기발광층 및 제1 전극의 불량을 방지할 수 있게 된다. Here, in the case of forming a light emitting layer for implementing a specific light emitting region, for example, red (R), as shown in FIG. 8, when the light emitting layer is formed after the first organic material 179 is formed, the shadow mask has a relatively high height partition wall (185). Accordingly, when the partition wall 185 moves to form a light emitting layer that implements green (G) and blue (B), the first organic material 179 is not buried in the shadow mask 145, thereby the organic light emitting layer and the first electrode. It is possible to prevent the failure of.

이어서, 상기 유기발광층(178)의 상부에 스퍼터링등의 증착방법을 통해 도전성 금속물질이 증착됨으로써 도 9f에 도시한 바와 같이 제2 전극(170)이 형성된다. 여기서, 도전성 금속물질로는 알루미늄(Al)과 칼슘(Ca)과 마그네슘(Mg)중 선택된 하나로 형성하거나 리튬플루오린/알루미늄(LIF/Al)의 이중 금속층으로 형성할 수 있다. 이로써, 유기EL어레이(160)가 형성된다.Subsequently, a conductive metal material is deposited on the organic light emitting layer 178 through a deposition method such as sputtering to form a second electrode 170 as illustrated in FIG. 9F. Here, the conductive metal material may be formed of one selected from aluminum (Al), calcium (Ca), and magnesium (Mg), or may be formed of a double metal layer of lithium fluorine / aluminum (LIF / Al). As a result, the organic EL array 160 is formed.

이와 같이, 박막 트랜지스터(T) 어레이부(174) 내지 제2 전극(170) 등을 포함하는 유기EL어레이(160)가 캡(미도시)에 의해 패키징된 후 스트라이빙공정이 실 시됨으로써 다수의 유기EL표시소자가 형성된다. As such, after the organic EL array 160 including the thin film transistor T array unit 174 to the second electrode 170 is packaged by a cap (not shown), a striing process is performed. An organic EL display element is formed.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기전계발광표시소자용 모기판 및 이를 이용한 유기전계발광표시소자의 제조방법은 박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 각각의 유기전계발광어레이 사이에 위치함과 아울러 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽이 형성된다. 이에 따라, 마스크와 전극간의 거리를 충분히 멀게 됨으로써 유기발광층의 손상, 제1 및 제2 전극의 도통 등에 의한 픽셀불량을 방지할 수 있게 된다. As described above, the mother substrate for the organic light emitting display device and the method of manufacturing the organic light emitting display device using the same according to the present invention are located between each organic light emitting array including a thin film transistor array and using a mask. Thus, when forming the organic light emitting layer of the organic light emitting array, at least one partition wall is formed to maintain a predetermined distance between the mask and the organic light emitting array and have a height contactable with the mask. As a result, the distance between the mask and the electrode is sufficiently far to prevent the pixel defect due to the damage of the organic light emitting layer, the conduction of the first and second electrodes, and the like.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정해 져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (5)

박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 다수의 유기전계발광어레이가 소정 간격을 두고 형성된 유기전계발광표시소자용 모기판에 있어서, In a mother substrate for an organic light emitting display device in which a plurality of organic light emitting arrays including a thin film transistor array are formed at predetermined intervals, 상기 각각의 유기전계발광어레이 사이에 위치함과 아울러 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시소자용 모기판. Located between each of the organic light emitting array and when forming an organic light emitting layer of the organic light emitting array using a mask to maintain a predetermined distance between the mask and the organic light emitting array and has a height that can contact the mask. A mother substrate for an organic light emitting display device comprising at least one partition wall. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유기전계발광어레이는 The organic electroluminescent array is 상기 박막 트랜지스터 어레이 상에 형성된 제1 전극;A first electrode formed on the thin film transistor array; 상기 제1 전극 상에 발광영역을 정의하기 위한 절연막과;An insulating film for defining a light emitting area on the first electrode; 상기 발광영역에 형성된 유기발광층과;An organic light emitting layer formed in the light emitting region; 상기 유기발광층 상에 형성된 제2 전극을 구비하고,A second electrode formed on the organic light emitting layer, 상기 격벽의 높이는 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 상기 절연막의 높이의 합보다 4㎛~12㎛ 정도 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시소자용 모기판.The barrier rib has a height of 4 μm to 12 μm higher than a sum of the heights of the thin film transistor array and the insulating layer. 모기판 상에 소정 간격을 두고 위치하는 다수의 유기전계발광어레이의 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계와; Forming a thin film transistor array of a plurality of organic light emitting arrays disposed on the mother substrate at predetermined intervals; 상기 박막 트랜지스터어레이의 박막 트랜지스터와 접속되는 제1 전극을 형성하는 단계와; Forming a first electrode connected to the thin film transistor of the thin film transistor array; 상기 제1 전극 상에 발광영역을 정의하는 절연막을 형성하는 단계와; Forming an insulating layer on the first electrode to define a light emitting region; 상기 각각의 박막 트랜지스터 어레이 사이에 위치함과 아울러 제1 마스크를 이용하여 상기 유기전계발광어레이의 유기발광층 형성시 상기 제1 마스크와 상기 유기전계발광어레이 사이에 소정간격을 유지시키며 상기 제1 마스크와 접촉가능한 높이를 갖는 적어도 하나의 격벽을 형성하는 단계와;Located between each of the thin film transistor array, and when forming an organic light emitting layer of the organic light emitting array using a first mask to maintain a predetermined interval between the first mask and the organic electroluminescent array and Forming at least one partition wall having a contactable height; 상기 격벽 및 상기 격벽과 접촉가능한 제1 마스크를 이용하여 상기 발광영역에 유기발광층을 형성하는 단계와;Forming an organic light emitting layer in the light emitting area by using the barrier rib and the first mask contactable with the barrier rib; 상기 유기발광층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시소자의 제조방법.A method of manufacturing an organic light emitting display device, comprising the step of forming a second electrode on the organic light emitting layer. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 격벽의 높이는 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 상기 절연막의 높이의 합보다 4㎛~12㎛정도 높은 높이를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시소자의 제조방법.The height of the partition wall is formed to have a height of about 4㎛ ~ 12㎛ higher than the sum of the height of the thin film transistor array and the insulating film. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 유기발광층을 형성하는 단계는 Forming the organic light emitting layer is 공통 마스크를 이용하여 정공주입층 및 정공수송층을 형성하는 단계와; Forming a hole injection layer and a hole transport layer using a common mask; 상기 정공주입층 및 정공수송층이 형성된 기판 상에 상기 격벽과 접촉되도록 상기 제1 마스크를 정렬하는 단계와; Arranging the first mask to be in contact with the partition on the substrate on which the hole injection layer and the hole transport layer are formed; 상기 제1 마스크를 이용하여 발광층을 형성하는 단계와; Forming a light emitting layer using the first mask; 상기 발광층이 형성된 기판 상에 상기 공통 마스크를 이용하여 전자수송층 및 전자주입층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시소자의 제조방법.And forming an electron transport layer and an electron injection layer by using the common mask on the substrate on which the light emitting layer is formed.
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