KR20060026795A - 도포액 도포장치의 썩백 제어장치 - Google Patents

도포액 도포장치의 썩백 제어장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20060026795A
KR20060026795A KR1020040075664A KR20040075664A KR20060026795A KR 20060026795 A KR20060026795 A KR 20060026795A KR 1020040075664 A KR1020040075664 A KR 1020040075664A KR 20040075664 A KR20040075664 A KR 20040075664A KR 20060026795 A KR20060026795 A KR 20060026795A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating liquid
air
flow rate
decay
valve
Prior art date
Application number
KR1020040075664A
Other languages
English (en)
Inventor
전형돈
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040075664A priority Critical patent/KR20060026795A/ko
Publication of KR20060026795A publication Critical patent/KR20060026795A/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02107Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02225Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
    • H01L21/0226Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
    • H01L21/02282Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02107Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02296Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
    • H01L21/02299Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment
    • H01L21/02307Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment treatment by exposure to a liquid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274Photolithographic processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조장치 도포액 썩백장치에 관한 것이다.
본 발명은 도포액을 저장하는 도포액 보틀과; 상기 도포액 보틀에 저장된 도포액에 압력을 가하여 도포액이 상기 도포액 보틀 외부로 전달되도록 하는 도포액 가압기와; 상기 도포액 보틀과 연결된 도포액 분사관과; 상기 도포액 분사관의 끝단에 연결되어 웨이퍼에 상기 도포액이 분사되도록 하는 도포액 분사노즐과; 상기 도포액 분사관에 설치되어 상기 도포액 분사관을 통과하는 도포액의 양을 조절하는 썩백 밸브와; 썩백 동작시 에어가 통과되도록 하는 에어라인과; 상기 에어라인을 통과하는 에어의 양을 조절하는 에어 밸브와; 상기 에어 밸브의 동작을 제어하는 에어 밸브 유속제어기;를 포함하는 도포액 도포장치의 썩백제어장치를 개시한다.
도포액, 썩백, 에어밸브, 유량센서, 썩백밸브

Description

도포액 도포장치의 썩백 제어장치{SUCK-BACK CONTROL DEVICE OF PHOTORESIST COATER}
도 1은 일반적인 도포액 도포장치의 구성도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도포액 도포장치의 구성도.
도 3은 썩백동작이 정상적을 이루어지는 경우와 썩백동작이 정상적으로 이루어지지 않는 경우의 도포액 분사노즐의 단면을 보여주는 도면이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
11, 110 : 도포액 보틀 12, 120 : 도포액 가압기
13, 130 : 썩백밸브 14, 140 : 도포액 분사관
15, 150 : 도포액 분사노즐 16, 160 : 에어밸브
17, 170 : 에어라인 20, 200 : 웨이퍼
30, 300 : 웨이퍼 척 500: 에어밸브 유속제어기
본 발명은 반도체 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조장 치 도포액 썩백장치에 관한 것이다.
일반적으로 포토리소그래피(Photolithography)공정에서는 웨이퍼의 최상층을 선택적으로 제거하거나 웨이퍼에 패턴을 형성하는 공정으로서, 웨이퍼에 필요로 하는 기능을 만족시키는 회로를 설계한 후에, 이를 토대로 마스크를 제작하고, 제작된 상기 마스크에 광원을 통과시켜 도포액(Photoresist)이 도포된 웨이퍼를 노광한다. 상기 노광으로 내부구조가 변화된 도포액을 선택 또는 제거하는 현상공정을 거쳐서 상기 현상공정에서 형성된 패턴으로 노출된 웨이퍼의 표면을 선택적으로 제거하는 식각공정 및 최종적으로 남은 도포액층을 제거하는 스트리핑(Stripping)공정을 수행하여 웨이퍼 패턴을 형성하게 된다.
그 중에서 상기 도포액이 도포된 웨이퍼를 제작하는 공정을 도포액 도포(Photoresist Coating)공정이라 칭하고, 상기 도포액 도포공정은, 도포액을 도포할 웨이퍼 표면위에 먼지나 습기를 제거하기 위하여 브러쉬(Brush) 및 고압순수를 사용하여 세정하는 웨이퍼 표면처리단계와, 도포될 도포액과 웨이퍼 표면간의 접착성을 증가시키기 위해 촉매제를 웨이퍼에 도포하는 촉매제 도포단계와, 웨이퍼위에 도포액을 원하는 두께로 일정하게 입히는 도포액 도포단계와, 오븐에서 도포된 도포액에 남아있는 솔벤트를 휘발시키고 도포액을 적당히 굳혀주는 소프트 베이크(Soft-Bake)단계로 이루어진다.
상기 도포액 도포단계에서 사용되는 방법은 액체를 웨이퍼에 입히는 일반적인 방법으로 스핀방법이 사용된다.
상기 스핀방법에 의한 스핀코팅(Spin Coating)기술은 도포액을 진공척에 흡 착된 웨이퍼 상면에 인가시키고 웨이퍼를 저속 또는 고속으로 회전시키는 기술로써 도포막의 엄격한 두께조절에 가장 적합한 기술이다.

도 1은 일반적인 도포액 도포장치의 구성도로서, 도포액을 저장하고 있는 도포액 보틀(Bottle, 11)과, 그 도포액 보틀(11)의 내부를 가압시켜 도포액이 방출되도록 하는 가압기(12)와, 도포액 보틀(11)에서 방출되는 도포액을 전달하는 도포액 분사관(14) 및 도포액 분사노즐(15)과, 상기 도포액 분사관(14)에 설치되는 썩백밸브(13) 및 에어밸브(16), 에어라인(17)를 포함하여 구성된다.
웨이퍼척(30)에 웨이퍼(20)가 놓인 후에 상기 도포액 분사노즐(15)을 통해 도포액이 분사되어 상기 웨이퍼(20)에 도포액이 분사된다.
상기와 같이 구성된 종래의 썩백장치의 썩백 밸브 및 에어 밸브는 밸브를 동작하는 유량을 데이터화 할 수 없고, 오로지 엔지니어의 경험과 눈대중으로 썩백 밸브 및 에어 밸브를 제어하므로 썩백밸브 및 에어 밸브의 잘못된 동작을 보정하는데 몇 번의 시행착오를 거쳐 작업을 해야 하므로 정밀하고 신속한 제어를 할 수 없다는 문제점이 있다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 본 발명의 목적은 썩백동작이 정상적으로 이루어지지 않을 경우에 신속하게 정상적인 썩백동작이 이루어지도록 제어할 수 있는 도포액 도포장치의 썩백 제어장치를 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 도포액을 저장하는 도포액 보틀과; 상기 도포액 보틀에 저장된 도포액에 압력을 가하여 도포액이 상기 도포액 보틀 외부로 전달되도록 하는 도포액 가압기와; 상기 도포액 보틀과 연결된 도포액 분사관과; 상기 도포액 분사관의 끝단에 연결되어 웨이퍼에 상기 도포액이 분사되도록 하는 도포액 분사노즐과; 상기 도포액 분사관에 설치되어 상기 도포액 분사관을 통과하는 도포액의 양을 조절하는 썩백 밸브와; 썩백 동작시 에어가 통과되도록 하는 에어라인과; 상기 에어라인을 통과하는 에어의 양을 조절하는 에어 밸브와; 상기 에어 밸브의 동작을 제어하는 에어 밸브 유속제어기;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 에어밸브 유속제어기는: 상기 에어라인을 통과하는 에어의 유량을 측정하는 유량센서와; 상기 에어밸브 및 상기 썩백밸브의 동작을 제어하는 제어수단과; 상기 유량센서에 의해 측정된 에어의 유량값들을 저장하는 저장수단;을 포함한다.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제어수단은 상기 도포장치의 정상적인 썩백동작시의 상기 유량센서에 의해 측정된 정상 유량값들을 데이터화하고, 썩백동작 불량시 상기 정상 유량값들을 이용하여 상기 에어밸브의 개폐를 조절한다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도포액 도포장치의 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 도포액 도포장치는 도포액 보틀(Bottle, 110)과, 도포액 가압기(120)와, 도포액 분사관(140)과, 도포액 분사노즐(150)과, 썩백밸브(130)와, 에어밸브(160)와, 에어라인(170) 및 썩백밸브 유속제어부(500)를 포함하여 구성된다.
상기 도포액 보틀(110)은 도포액을 저장하기 위한 것이고, 상기 도포액 가압기(120)는 상기 도포액 보틀(110)의 내부를 가압시켜 도포액이 방출되도록 하기 위한 것이다.
도포액 분사관(140) 및 도포액 분사노즐(150)은 가압기(120)에 의해 도포액 보틀(110)에서 방출되는 도포액을 전달하여 웨이퍼에 분사되도록 하기 위한 것이다.
상기 썩백밸브(130)는 상기 도포액 분사관(140)에 설치되며, 에어 밸브 유속제어부(500)는 상기 에어 밸브(160)를 통과하는 에어의 유량을 측정하여 썩백동작을 제어한다.
상기 썩백밸브 유속제어부(500)는 상기 에어라인(170)을 통과하는 에어의 유량을 측정하는 유량센서와, 상기 에어밸브(160) 및 상기 썩백밸브(130)의 동작을 제어하는 제어수단과, 상기 유량센서에 의해 측정된 에어의 유량값들을 저장하는 저장수단으로 구성된다.
상기 제어수단은 상기 도포장치의 정상적인 썩백동작시의 상기 유량센서에 의해 측정된 정상 유량값들을 데이터화한다.
이하, 상기와 같이 구성되는 도포액 도포장치의 동작, 특히 썩백 제어동작에 대해서 설명하면 다음과 같다.
웨이퍼척(300)에 웨이퍼(200)가 놓이면 도포액 가압기(120)에 의해 가압된 도포액은 도포액 보틀(110)에서 방출되어 도포액 분사관(140)을 따라 이동하면서 썩백밸브(130)를 통과한 후 도포액 분사노즐(150)에 의해 웨이퍼(200) 위로 도포된다. 이때 상기 도포액 도포장치가 도포하는 도포액의 양은 도포시간(일례로, 2초)으로 제어되는데, 이는 도포가 시작된 후 2초가 지나면 썩백밸브(130) 및 에어밸브(160)를 동작시켜 도포액을 되빨아 들이는 썩백동작을 통해 달성된다. 이와 같은 썩백동작은 도포액의 도포를 제어함과 아울러 그 도포동작이 끝난 후에 노즐에 남아 있는 도포액이 웨이퍼로 떨어지는 것을 방지하기 위한 것으로, 노즐 끝에서부터 일정 높이까지 도포액을 빨아 들이는 동작으로써, 웨이퍼에 형성되는 도포액의 두께와 특성을 결정하는 중요한 동작이다.
썩백동작이 정상적으로 이루어지는지 아닌지에 따라 웨이퍼에 형성되는 도포액의 두께가 달라지게 되는데, 도 3은 썩백동작이 정상적을 이루어지는 경우와 썩백동작이 정상적으로 이루어지지 않는 경우의 도포액 분사노즐의 단면을 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, (a)에서는 썩백이 정상적으로 이루어지지 않아 도포동작이 끝난 후에 노즐에 남아 있던 도포액이 웨이퍼로 떨어지는 경우를 보여주고 있다. (a)에서와 같이 도포액이 웨이퍼에 떨어질 경우 웨이퍼에 도포되는 도포액의 두께가 달라져 웨이퍼의 특성에 변화를 주게 되어 결국 공정불량이 될 수 있다. (b)에서는 썩백이 정상적으로 이루어진 경우를 보여주고 있으며, 도포동작이 끝난 후 노즐에 남아 있던 도포액이 노즐 끝에서부터 일정 높이까지 빨아 들여져 웨이퍼로 떨어지지 않는다.
상기 썩백밸브 유속제어부(500)는 상기 도 3의 (b)에서 보인 바와 같이 썩백동작이 정상적으로 이루어지도록 제어하며, 이를 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 유량센서는 에어라인을 통하여 흐르는 에어의 유량을 측정한다. 상기 저장수단에서는 상기 유량센서에 의해서 측정된 에어의 유량값들을 저장한다. 상기 제어수단에서는 상기 도포장치의 정상적인 썩백동작시의 상기 유량센서에 의해 측정된 정상 유량값들을 데이터화한다. 그리고 썩백동작 불량시 상기 정상 유량값들을 이용하여 상기 에어밸브의 개폐를 조절한다.
이상에서, 본 발명의 구성 및 동작을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 반도체 도포액 도포장치의 에어라인을 흐르는 에어의 유량값을 데이터화하고 저장하여, 이를 이용하여 에어 밸브를 조절할 수 있으므로 썩백 불량시 정밀하고 신속한 작업을 함으로써 썩백 동작 불량으로 인한 웨이퍼의 불량률을 줄일 수 있다는 장점이 있다.

Claims (3)

  1. 도포액을 저장하는 도포액 보틀과;
    상기 도포액 보틀에 저장된 도포액에 압력을 가하여 도포액이 상기 도포액 보틀 외부로 전달되도록 하는 도포액 가압기와;
    상기 도포액 보틀과 연결된 도포액 분사관과;
    상기 도포액 분사관의 끝단에 연결되어 웨이퍼에 상기 도포액이 분사되도록 하는 도포액 분사노즐과;
    상기 도포액 분사관에 설치되어 상기 도포액 분사관을 통과하는 도포액의 양을 조절하는 썩백 밸브와;
    썩백 동작시 에어가 통과되도록 하는 에어라인과;
    상기 에어라인을 통과하는 에어의 양을 조절하는 에어 밸브와;
    상기 에어 밸브의 동작을 제어하는 에어 밸브 유속제어기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포액 도포장치의 썩백 제어장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 에어밸브 유속제어기는:
    상기 에어라인을 통과하는 에어의 유량을 측정하는 유량센서와;
    상기 에어밸브 및 상기 썩백밸브의 동작을 제어하는 제어수단과;
    상기 유량센서에 의해 측정된 에어의 유량값들을 저장하는 저장수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 도포액 도포장치의 썩백 제어장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 제어수단은 상기 도포장치의 정상적인 썩백동작시의 상기 유량센서에 의해 측정된 정상 유량값들을 데이터화하고, 썩백동작 불량시 상기 정상 유량값들을 이용하여 상기 에어밸브의 개폐를 조절하는 것을 특징으로 하는 도포액 도포장치의 썩백 제어장치.
KR1020040075664A 2004-09-21 2004-09-21 도포액 도포장치의 썩백 제어장치 KR20060026795A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040075664A KR20060026795A (ko) 2004-09-21 2004-09-21 도포액 도포장치의 썩백 제어장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040075664A KR20060026795A (ko) 2004-09-21 2004-09-21 도포액 도포장치의 썩백 제어장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060026795A true KR20060026795A (ko) 2006-03-24

Family

ID=37138079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040075664A KR20060026795A (ko) 2004-09-21 2004-09-21 도포액 도포장치의 썩백 제어장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060026795A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4688918A (en) Negative type photoresist developing apparatus
JP5036664B2 (ja) 液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置
US7237581B2 (en) Apparatus and method of dispensing photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment
JP2006503433A (ja) スピンコーティング方法および圧力センサを有するスピンコーティング装置
US20090291198A1 (en) Coating treatment method, computer-readable storage medium, and coating treatment apparatus
US20170343899A1 (en) Developing method
US8889337B2 (en) Film forming method, film forming apparatus and pattern forming method
KR100700181B1 (ko) 노즐대기부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법
KR100252224B1 (ko) 반도체장치 제조설비의 포토레지스트 셕크백장치
JPH11340119A (ja) 現像処理方法及び現像処理装置
JP3642752B2 (ja) 供給系を用いた吹き付け方法
KR20060026795A (ko) 도포액 도포장치의 썩백 제어장치
JP5683259B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR20060048152A (ko) 약액도포장치 및 약액도포방법
US20050211267A1 (en) Rinse nozzle and method
KR20100026388A (ko) 웨이퍼 세정 장치 및 방법
KR100545214B1 (ko) 반도체 제조공정의 포토레지스트 도포량 저감장치
KR20170113147A (ko) 현상 방법, 현상 장치 및 기억 매체
US7108750B2 (en) Thinning agent supplying systems
KR100727692B1 (ko) 반도체 제조용 트랙장비의 스핀 유닛 및 제어방법
JP2640815B2 (ja) 薄膜形成物質塗布方法
KR100826095B1 (ko) 반도체 제조용 현상장치
KR100708962B1 (ko) 포토레지스트 현상장치의 노광 유닛의 컵 클리닝 장치
KR100683381B1 (ko) 자동 감광제 더미 분사 장치
JPH10111561A (ja) 流体噴射装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination