KR20060002803A - 유해물질 검출 방법 및 테스트 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 이온 이동도 분석기(ion mobility spectrometer(IMS))의 단점들을 제거하거나 최소화하면서 유해물질을 검출하는 방법 및 장치를 개발하는 것이다. 본 발명의 방법에 의하면, 샘플 가스 흐름이 검출기(2,3,4,5)에 도달하기 전에 기준 가스(reference gas)와 혼합되어 IMS(2) 다음에 위치한 복수의 검출기(3,4,5)로 이송되며, 계량 공정(metering process) 전의 테스트 가스 경로(test gas path, 8)에서 가스 흐름과 기준 가스의 가스 흐름 사이의 비율에 관하여 얻어진 테스트 신호들은 테스트 가스에서 유해물질의 본래 농도를 계산하기 위해 사용된다. 여기서, 신호진폭(signal amplitude)이나 패턴인식(pattern recognition)의 간단한 비교를 통해, 사전에 정의되고 저장된 테스트 수치들에 의하여 경보가 발생될 수 수 있다. 테스트 시스템은 측정 단계 후 기준 가스, 필요에 따라서는 추가 세정 가스를 공급함으로써 세정(cleaning and rinsing)된다. 이러한 방법과 테스트 시스템은 대기의 유해물질을 식별을 위해 사용된다.

Description

유해물질 검출 방법 및 테스트 시스템{Method and test system for detecting harmful substances}
본 발명은 청구항 1의 전제부에 따른 방법과 청구항 7의 전제부에 따른 테스트 시스템에 관한 것이다.
상기 방법과 테스트 시스템은 대기의 유해물질을 검출하기 위해 사용된다. 사고나 재해 후 유해물질을 테스트하는 것은 예컨대 소방대나 경찰의 투입시 중요하다. 따라서 투입 인력을 보호하기 위해 독일에서는 가장 흔한 33개의 유해물질들의 목록이 작성되어 있다. 이 목록에는 농도가 나타나 있는데, 이 농도는 방독면 없이 4 시간에 걸쳐 안전하게 작업을 할 수 있는 소위 허용오차수치(ETW 목록)를 나타낸다. 현재, 국제적인 Acute Exposure Guideline Levels(AEGL)을 참조하면서 상기 목록을 확장시키고자 추진하고 있다.
군대 또는 얼마 전부터는 민간 투입력을 위해서도, 무엇보다도 화학 전투용 화생방 물질이나 폭약의 추가적인 테스트가 중요하다.
이러한 위험물질들은 주로 개별 가스 검출기들이나 여러 가지 가스 검출기의 조합으로 구성된 테스트 시스템을 가지고 부분적으로 탐지될 수 있다. 개별 가스 검출기들의 테스트 신호는 사전에 측정되거나 입력된 신호들과 비교되어 측정된 상태가 서술될 수 있다. 검출기로는 예를 들면 광이온화 검출기(Photo-ionisation detector(PID)), 전기화학 셀(electrochemical cell(EC)), 금속산화 센서(metal-oxide sensor(MOS))가 있다. 이차원 정보, 즉 스펙트럼을 제공하는 테스트 장치들도 사용된다. 이에 대한 예로는 질량 분석계(mass spectrometer(MS)), 후리에 변환 적외선 분광기(Fourier Transform Infrared Spectrometer(FTIR)) 또는 이온 이동도 분석기(ion mobiliy spectrometer(IMS))가 있다.
PID, MOS 또는 EC와 같은 간단한 검출기들은 위 ppb 영역 또는 아래 ppm 영역의 검출한계(detection limit)를 갖고, 많은 유해물질들을 검출하는데 적합하다. 하지만 전투용 화생방 물질을 검출하는 데는 너무 둔감하다. 또한, 필요한 안정성을 가지고 유해물질들을 검출하기에는 감도(selectivity)가 충분치 않다.
US 2959677에는 PID의 기본적인 기능특징들이 알려져 있다. UV 램프를 통하여, 검출하고자 하는 가스는 이온화되고 이어서 전기적으로 건출된다. 중요한 것은 무엇보다도 테스트하고자 하는 화합물의 이온화 전위(ionization potential)이다. 화합물의 이온화 에너지보다 자외선(UV radiation)의 에너지가 큰 경우에는 검출될 수 있다. 그러나, 많은 유해물질들이 검출될 수 없다는 단점이 있다. 스펙트럼 정보가 제공되지 않는다. 또 다른 단점으로는 PID 램프가 쉽게 오염이 되어 나쁜 신호 출력을 초래한다는 점이다.
US 3631436에는 금속산화 센서들(metal-oxide sensors)의 기본적인 기능특징 들이 알려져 있다. 이 센서들은 환원하고 산화시키는 가스들과 반응한다. 상기 센서들은 비교적 강한 교차감도(cross sensitivity)를 가지나, 높은 오보율로 인해 개별 물질 인식이나 경계 경보기로는 사용될 수 없다. MOS 센서들은 가스노출 후 매우 빠른 반응시간이 특징이나, 낙차시간이 현저히 오랫동안 정지되는 단점이 있다.
전기화학 셀은 MOS 센서들보다 감도가 높다. 그러나 개별 물질들을 측정하는 것은 불가능하다. 왜냐하면 여기에서도 교차감도가 등장하거나 모든 물질들에 대해 전기화학적 셀들이 제공되지 않기 때문이다. US 3925183에는 전기화학 셀들의 기본적인 기능특징들이 알려져 있다.
이온 이동도 분석기(IMS) 또는 플라스마 크로마토그래프(Plasma-Chromatograph)는 오래 전부터 알려져 있다. 다른 분석기(spectrometer)와는 달리 IMS는 움직일 수 있거나 고가인 부품들이 필요치 않다. 따라서 이러한 시스템들은 소형으로 저렴하게 구성될 수 있다. 많은 화합물들에 대해, ppt-ppb 범위에서 매우 작은 검출한계가 달성될 수 있다. 이로 인해, 상기 시스템들은 몇 년 전부터 군대에서 전투용 화생방 물질을 검출하기 위해 사용되고 있다.
IMS의 개별 구성요소는 예를 들면 US 3621240에 기재되어 있다. 이온들의 여러 가지 유동성은 IMS에서 유용하게 이용된다. 이 기계들은 흡입 시스템과 전형적으로 방사능 Ni63 필름들이 사용되는 이온 소스(ion source)와, 이온들이 소정 시작 후 대기압에서 이동된 후에 전기적으로 접속된 격자(grid)를 통하여 분리되는 전기 드리프트 튜브(drift tube)와, 발생된 이온들에 의한 적은 전기 흐름들을 검 출하기 위한 센서로 구성된다. 이온 소스에서는 대기압에서 주로 공기분자들이 이온화되고, 이어서 상기 분자들은 물 덩어리(water cluster)를 이온화한다.이 물 덩어리는 반응이온(reactant ion)이라고도 불린다. 이어서, 양성자 이동(proton transfer) 반응, 전자 이동 반응, 또는 양성자 분리(proton abstraction) 반응을 통해 유해물질들이 이온화된다. 드리프트 구간의 양극성의 변경으로 인해, 양성(positive) 작동 모드에서는 양이온들이 검출되고 음성(negative) 작동 모드에서는 음이온들이 검출될 수 있다.
이동성(mobile) 시스템들에서 흡입구는 보통의 경우 박막(membrane)을 포함한다. US 4311669에는 IMS를 위한 박막 흡입 시스템이 기재되어 있다. 막을 통해 습기, 압력, 온도와 같은 방해물에 의한 테스트 신호의 영향력은 감소되고, 이로 인해 IMS 시스템을 소형의 휴대용으로 제조할 수 있다는 장점이 있다. 박막은 반응시간에 있어 테스트 시스템을 약간 느리게 한다는 단점이 있다.
IMS의 커다란 단점은 기계를 켠 후 시스템을 다시 측정하기 위해 준비하는데 걸리는 시간이 길다는 점이다. IM 검출기는 꺼진 상태 동안 축적된 방해물질들을 시스템에서 씻어내야 하기 때문에 이러한 시간을 필요로 한다. 또 다른 단점은 단기적인 과다투여(overdosage)시 시스템들이 더 이상 테스트 준비가 되지 않으며, 몇 분 내지 몇 시간동안 세정하여야 한다는 점이다. 스펙트럼이 농도에 좌우된다는 점도 방해가 된다.
또 다른 문제점은 IMS의 부분적으로 적은 감도이다. 경합하는 반응들에 의해 이온화 공간에서는 종종 관심 유해물질들이 이온화되지 않아 검출될 수 없는 것이 그 이유이다. 경합하는 이러한 반응들은, 암모니아와 같은 가스들이 있을 때 낮은 양성자 친화력(proton affinity)를 가진 많은 유해물질들, 예컨대 많은 용매들이 더 이상 스펙트럼에 나타나지 않도록 한다.
대응책에서는 보다 높은 농도들(ppm)에서 용매들이 존재함에 따라 전투용 화생방 물질의 검출이 불가능하거나 어려워진다. 그러면, 가스들로 이루어진 화합물에서 겹쳐진 스텍트럼으로 인해 오보율은 높아진다. 또한, 낮은 양성자 친화력이나 전자 친화력을 가진 유해물질들은 필요한 검출한계(detection limit)로 검출되지 않는다.
IMS의 또 다른 단점은 제한된 테스트 범위인데, 이 테스트 범위는 예를 들면 베타(beta) 광선 방사기에서 이온화 소스(ionization source)로서 일반적으로 최대 두 자리 수에 달한다. 따라서, 양적인(quantitative) 진술은 어렵다.
또 다른 문제점은 많은 유해물질들이 적은 증기압을 갖는다는 점이다. 따라서, 검출기들의 검출한계는 이것들을 기록하기에는 충분치 않다.
따라서 본 발명의 목적은 IMS의 단점들을 제거하거나 최소화하면서 상기 언급한 유해물질들을 탐지할 수 있는 방법과 장치를 개발하는 것이다.
상기 목적은 청구항 1의 특징부에 따른 방법과 청구항 7의 특징부에 따른 장치에 의해 달성된다.
본 발명의 바람직한 실시 형태들은 종속항 8 내지 11에 기재되어 있다.
본 발명에 의하여 상기 선행기술의 단점들은 제거될 수 있다.
IMS의 단점들의 일부는 IMS와 그 밖의 검출기들의 적합한 조합에 의해 제거될 수 있다. 추가적인 검출기들은 IMS에 의해 측정될 수 없는 유해물질들을 탐지할 수 있어야 한다. PID는 벤젠과 같은 방향제(aromatic)를 검출할 수 있다. 포스겐(phosgen)과 같은 화합물들은 낮은 검출한계를 가진 전기화학 셀로 검출될 수 있다. MOS 센서의 교차감도는 일산화탄소와 같은 다른 유해물질들을 검출하기 위해 전적으로 이용될 수 있다.
IMS의 감도를 개선하기 위한 또 다른 방법은 반응가스들의 계량 첨가(metered addition)에 의해 실현될 수 있다. US 4551624에 의하면, 양성 작동 모드에서 시스템의 감도는 예들 들면 전투용 화생방 물질과 같은 인 유기 화합물에 대하여 아세톤을 계량 첨가하여 개선된다. 음성 작동 모드에서 시스템의 감도는 유기질소 화합물(예: 폭약)에 대하여 테트라염화탄소를 사용하여 개선된다.
그러나, 상기 언급한 바와 같이 이러한 반응가스의 계량 첨가는 다수의 른 유해물질들이 더 이상 검출되지 않도록 한다.
따라서, 유해물질들의 일반적인 검출을 위해 반응가스가 첨가되지 않은 작동이 제공한다. 검사 결과에 안전 조치를 취하기 위해, 두 번째 단계에서 반응가스가 계량 첨가된다. 즉, 보다 개선되고 안전하게 전투용 화생방 물질을 검출하기 위해, 예를 들면 양성 작동 모드에서 아세톤 또는 암모니아가 사용될 수 있다. 음성 작동 모드에서는 폭발 화합물들을 검출하기 위해 디염화메탄(dichlormethane)이나 테트라염화탄소가 사용될 수 있다.
흡입구에서 정화된 신선한 공기와 같은 기준 가스(reference gas)를 소정양 계량 첨가하게 되면 IMS의 과다투여가 시작되는 것을 방지할 수 있다. 희석을 위한 조절 변수로서, IMS 또는 바람직하게는 예를 들면 MOS 센서와 같은 보다 빠른 검출기가 사용될 수 있다. 추가적으로, IMS의 테스트 범위는 한자릿수 내지 두자릿수까지 개선될 수 있다.
스위치를 켠 후 테스트 시스템의 테스트 준비과정을 개선하기 위해, 시스템은 꺼진 상태에서도 계속해서 신선한 공기로 세정된다. 테스트 시스템에서 오염물을 제거하여 시스템을 보다 빨리 사용할 수 있도록 준비하기 위해, 예컨대 오존 소스(ozone source)의 오존과 같은 세정 가스(cleansing gas)를 추가적으로 사용할 수 있다.
본 발명을 도면에 의해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예를 도시한 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
1: 테스트 시스템 2: IMS(이온 이동도 분석기)
3: PID(광이온화 검출기) 4: EC(전기화학 셀)
5,6: MOS(금속산화 센서) 7,9,15: 공급 펌프
8: 테스트 가스 경로 10: 반응가스 계량 유닛
11: 전자 컴퓨터 12: 디스플레이 유닛
13: 열원(Heat source) 14: 준비 장소
16: 전기 도선들
가스 형태의 유해물질을 검출하는 방법을 실행하는 장치는 기본적으로 테스트 시스템(1)으로 구성되며, 이 테스트 시스템은 예를 들면 IMS(2), PID(3), EC(4), 및 두 개의 MOS(5,6)로 구성된다. 측정되는 가스는 공급 펌프(9)를 통해 흡입되어 테스트 가스 경로의 분로를 통해 IMS와 그 밖의 검출기들에 도달한다. 상기 그 밖의 검출기들에 대한 경로는 두 개의 경로로 나눠진다. 이때, 하나의 경로는 EC(4)로 이어지고, 나머지 경로는 MOS(5,6)를 통해 PID(3)로 이어진다. 이후, 가스 경로들은 공급 펌프(9)와 연결되기 전에 합쳐진다.
상기 테스트 시스템은 기준 가스(reference gas)를 테스트 가스 경로(8)에 혼합하기 위해 또 다른 공급 펌프(7)를 갖는다. 상기 기준 가스는 상부에 위치한 공급 펌프(9)에 의해 흡입된다. 검출기들을 보호하기 위해, 테스트 시스템은 주로 기준 가스가 측정되도록 가동된다. 공급 펌프(7)의 공급량은 적은 테스트 신호들에서 감소된다. 따라서, 측정되어야 하는 대기의 몫은 감소된다. 기준 가스의 계량 첨가는 규정된 단계들을 통해 이루어질 수 있거나, 검출기의 테스트 신호에 의해 조정될 수 있다.
복합적인 IMS 스펙트럼이 있거나 또는 특히 근거도 있고 의심이 되는 경우들 에는, 반응가스가 계량 유닛(10)을 통해 IMS로 유도되어 IMS의 감도가 상승될 수 있다. 테스트 신호들을 평가할 때, 반응가스를 포함하거나 포함하지 않거나 스펙트럼의 결합을 통해 시스템의 감도는 개선될 수 있다.
전자 컴퓨터(11)는 개별 검출기들의 데이터를 평가하여 디스플레이 유닛(12)을 통해 그래프나 음향으로 나타낸다. 예를 들면, IMS에서는 반응 이온 피크(reactant ion peak)의 전후에 통합된 테스트 신호들만이 사용될 수 있다. 시스템은 음성 및 양성 작동 모드 모두에서 작동할 수 있기 때문에 네 개의 측정 채널이 생긴다. 다른 검출기들의 신호와 함께, 상기 언급한 형태(8)에는 테스트 채널들이 제공된다. 물론 IMS의 스펙트럼들은 보다 정밀하게 나눠져, 평가를 위해 기본적으로 4개 이상의 채널들이 동원될 수도 있다.
채널들은 이어지는 패턴인식(pattern recognition)을 위해 입력신호들로서 사용될 수 있다. 예를 들면 유클리드에 따른 간격 선별기(classificator)와 같은 간단한 거리 선별기들, 판별 선별기 또는 신경망(neural networks)도 사용될 수 있다.
IMS 검출기의 테스트 신호를 시간함수로 나타낸 IMS 스펙트럼도도 가능하며, 예를 들면 전투용 화생방 물질과 같은 개별 화합물을 확인하기 위해 필요하다.
오염된 표면들을 조사하기 위해서는, 예를 들면 적외선 발산을 통해 표면들을 가열시켜 화합물들을 증발시킬 수 있는 선택적인(optional) 열원(13)이 사용된다. 추가적으로, 테스트 시스템에는 예를 들면 GPS와 같은 위치확인 방법과 기억장치가 제공될 수 있다. 따라서, 검출기들의 테스트 신호들은 공간적으로나 시간적으 로 배치될 수 있다. 만약 테스트 시스템이 사용되지 않는 경우에는, 상기 테스트 시스템은 공급 펌프(15)를 구비한 특수 준비 장소(14)에 저장된다. 공급펌프는 시스템이 계속해서 기준 가스로 세정되도록 한다. 이렇게 함으로써, 방해 요소가 테스트 시스템에 쌓이는 것을 방지한다. 테스트 시스템은 몇 분 내에 사용될 준비가 된다. 준비 장소는 동시에 축전지들의 충전에 사용되며 시스템에 저장된 데이터들을 선택하여 필요한 경우 전달할 수도 있다.

Claims (11)

  1. 이온 이동도 분석기(IMS, 2)와 상기 IMS(2)로는 검출될 수 없는 유해물질들을 검출하는 그 밖의 검출기들로 구성되는 가스형태의 유해물질 검출 방법에 있어서,
    샘플 가스 흐름(sample gas flow)은 검출기들 또는 IMS(2)에 도달하기 전에 공급펌프(7)를 통해 계량 첨가된 기준 가스와 혼합되어 검출기로 향하는 유해물질의 농도를 항상 소정 농도 아래로 유지하며, 시스템의 감도를 상승시키기 위해 필요한 경우에는 측정 중 반응가스가 반응가스 계량 유닛(10)을 통해 IMS(2)에 공급되고, 계량공정 전 테스트 가스 경로(8)에서의 가스 흐름과 기준 가스의 가스 흐름의 비율에 대하여 얻어진 테스트 신호들은 테스트 가스에서 유해물질의 본래 농도를 계산하는 데 사용되며, 그 후 사전에 규정되고 저장된 테스트 수치들과 신호진폭(signal amplitude)이나 패턴인식(pattern recognition)의 간단한 비교를 통해 경보(alarm)를 발생할 수 있고, 여기서 모든 검출기 신호들은 사전에 저장된 신호들과 한 번에 비교되며, 테스트 시스템은 측정 단계 후 기준 가스를 공급함으로써, 필요에 따라서는 추가 세정 가스를 공급함으로써 세정(cleansing and rinsing)되는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 가스 형태의 유해물질들은 검출기들에 도달하기 전에, 또는 IMS(2)에 도달하기 전에 소정 양으로 공급된 기준 가스와 혼합되며, 여기서 예컨대 가능한 한 가장 높은 유량으로 시작되어 후에는 감소되고, 이어서 가스 흐름은 분할되어 IMS(2) 및 그 밖의 검출기들로 평행하게 유도되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 검출기의 테스트 신호가 증가하는 경우에는 공급펌프(7)의 가스 흐름을 단기적으로 증가시키고 검출기의 테스트 신호가 감소하는 경우에는 공급펌프(7)의 가스 흐름을 단기적으로 감소시키기 위하여, 예컨대 MOS(5)의 빠른 센서의 상대적(relative) 신호높이를 직접 사용함으로써, 하나 또는 복수의 검출기들의 테스트 신호를 기준 가스 계량공정의 조절을 위해 사용하며, 그 외에도 대략적인 조절, 즉 가스 흐름의 기준 가스 운반량의 최대범위와 최소범위 조절을 위하여, 보다 긴 기간 동안 절대적(absolute) 신호높이를 사용함으로써, 기준 가스의 가스 유량의 절대적인 범위들을 조정하기 위해 추가적으로 보다 느린 센서, 예컨대 IMS의 테스트 신호를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    가스형태의 유해물질들은 이온 이동도 분석기(2)와 광이온화 검출기(3)의 조 합을 통해 방향제(aromatic) 검출을 위해 운반되고, 필요한 경우에는 추가적인 전기화학 셀(4)에 의해 예컨대 포스겐(phosgen)과 같은 개별 물질들을 검출하기 위해 운반되며, 추가적인 금속산화 센서들(4,5)에 의해 예컨대 탄화수소나 일산화탄소를 검출하기 위해 운반되고, 이때 샘플 가스 흐름은 분할되어 직접 IMS(2)로 그리고 그 밖의 검출기들로 평행하게 유도되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    산업적 소스(source)의 유해물질들을 검출하기 위하여, 표준가동을 대체하여 또는 표준가동 후 곧 바로, 미리 또는 바람직하게는 보통의 테스트 가동 후에 하나 또는 여러 가지의 반응가스들을 반응가스의 계량 유닛(10)을 통해 IMS에 소정 양만큼 계량 첨가함으로써, 높은 양성자 친화력이나 전자 친화력을 가진 유해물질들, 예컨대 화학 전투용 화생방 물질이나 폭약의 감도 높은 검출을 위한 테스트 가동이 시작되며, 상기 반응가스들은 탐지되어야 하는 유해물질들보다 약간 낮은 양성자 친화력 또는 전자 친화력을 가지고, 이로 인해 많은 방해 화합물들이 이온화되지 않고 이어서 필요한 경우에는 IMS의 테스트 신호들의 조합이 반응가스가 없이 또는 반응가스와 함께 평가를 위해 사용되기 때문에 보다 높은 특이성(specificity)을 가진 검출이 가능한 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 시스템의 검출기들은 테스트 가스이나 반응가스를 제거하기 위해 테스트 단계의 전후에 준비 장소(14)에 있는 공급펌프(15)를 통해 기준 가스로 세정(cleansing and rinsing)되고, 이어서 오염물을 제거하여 테스트 시스템을 즉시 다시 사용할 수 있도록 준비하기 위하여, 오존과 같은 세정 가스가 공급되거나 발생되고 이어서 테스트 시스템을 통해 상기 세정 가스를 운반하여 사용할 수 있도록 필요한 경우에는 공급펌프(15)는 가스 흐름이 단기적으로 중단되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. IMS(2), 가스관들을 통해 공급펌프(9)와 연결된 그 밖의 검출기들, 상기 검출기들 앞 또는 IMS(2) 앞에 설치되어 공급펌프(7)를 통한 기준 가스의 조절된 계량을 위한 수단, 반응가스의 계량 유닛(10), 전자 컴퓨터들을 구비한 전자 기기(11), 디스플레이 유닛(12), 선택적으로 광학적 및 음향적 경고 신호기, 테스트 시스템을 세정(cleansing and rinsing)하기 위한 공급펌프(15)를 구비한 준비 장소(14)를 포함하는 이동성(mobile) 테스트 시스템(1)으로 구성된 가스형태의 유해물질 검출 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    검출기들의 배열을 포함하고, 상기 테스트 가스는 세 개의 테스트 가스 경로로 나눠지며, 그 중 하나의 경로는 IMS로 향하고 다른 하나의 경로는 전기화학 셀(4)로 향하며 나머지 하나의 경로는 두 개의 MOS(5,6)와 PID(3)로 이루어진 배열로 향하고, 대안적으로 IMS에는 계량 유닛(10)이 위치되어 필요한 경우에는 밸브를 통해 가스통, 확산 튜브 또는 침투 보관 용기에 저장된 하나 또는 여러 가지 반응가스를 계량 첨가할 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 테스트 시스템을 세정하기 위한 공급펌프(15), 세정 가스의 생성을 위한 소스(source) 또는 예컨대 PID의 UV 램프와 같은 소스에 대한 접근수단, 추가적으로 축전지들을 위한 충전유닛을 포함하는 준비 장소(14)를 가진 테스트 시스템으로 구성된 장치.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 테스트 시스템에는 표면의 조사를 위해 바람직하게는 적외선 램프 형태의 열원(13)이 배치되며, 상기 열원에 의해 표면에 있는 유해물질들이 증발되는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 테스트 시스템에는 위치확인 시스템과 기억장치가 제공되며, 상기 기억장치는 준비 장소(14)에 저장시 선택되어 필요한 경우에는 데이터를 중앙 컴퓨터로 전달하는 것을 특징으로 하는 장치.
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