JP2006519985A - 障害物質の検出方法および障害物質の検出システム - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- イオン移動度分光計IMSと該イオン移動度分光計では検出できない物質を検出するその他の検出器とを組み合わせた測定装置により測定を行う、
ガス状障害物質の検出方法において、
試験ガス流が各検出器またはそのうちのイオン移動度分光計に達する前にフィードポンプを介して調量された基準ガスと試験ガス流とを混合し、これにより検出器へ供給される障害物質の濃度をつねにあらかじめ設定された値以下に保持し、
必要に応じて測定中に反応ガス調量ユニットを介して反応ガスをイオン移動度分光計へ供給して測定装置の選択性を高め、
調量前の測定ガス路のガス流と基準ガスのガス流との比に関して得られた測定信号を用いて測定ガス中の元の障害物質濃度を計算し、
全ての検出器信号とあらかじめ定義および記憶された測定値の信号とを信号レベルの簡単な比較またはパターン識別により比較してアラームをトリガし、
測定フェーズ後には基準ガスおよび必要に応じて付加的な洗浄ガスを供給することにより測定装置を洗浄する
ことを特徴とする障害物質の検出方法。 - 基準ガスを、所定量、例えば可能最高流量から始めて徐々に低減して供給し、続いて該ガス流をイオン移動度分光計とこれに並列なその他の検出器とに分割して供給することにより、ガス状障害物質が各検出器またはそのうちのイオン移動度分光計に達する前にフィードポンプを介して試験ガスと基準ガスと混合する、請求項1記載の方法。
- 高速なセンサ、例えばMOSセンサの相対信号レベルを直接に用いて、測定信号が増大する場合にはフィードポンプによって基準ガス流を短時間だけ増大し、また測定信号が低下する場合にはガス流をフィードポンプによって基準ガス流を短時間だけ低減することにより、1つまたは複数の検出器の測定信号を基準ガスの調量制御に使用し、さらに、比較的長い時間にわたる絶対信号レベルを用いて基準ガス流量の粗調整、つまり最大領域および最小領域を形成することにより、付加的に慣性を有するセンサ、例えばイオン移動度分光計の測定信号から基準ガスのガス流量の絶対領域を形成する、請求項3記載の方法。
- ガス状障害物質を、イオン移動度分光計と芳香族検出用の光イオン化検出器との組み合わせ、必要に応じて付加的にフォスゲンなどの個々の物質の検出用の電気化学セルおよび例えば炭化水素または一酸化炭素検出用のMOSセンサへ供給し、その際に試験ガス流を分割して直接にイオン移動度分光計およびこれに並列な他の検出器へ供給する、請求項1記載の方法。
- 工業ソースの障害物質を検出する標準動作に代えてまたは標準動作の直後、通常の測定動作の前後に1つまたは複数の反応ガスを反応ガス調量ユニットを介して定義された状態で、つまり検出すべき障害物質よりも小さい陽子親和性または電子親和性を有し、かつ複数の障害的な化合物がイオン化されないために高い特異性を有する反応ガスを調量することにより、高い陽子親和性または電子親和性を有する障害物質、例えば化学兵器物質または爆薬を選択検出する測定動作を開始し、さらに必要に応じて反応ガスなしの状態と反応ガス有りの状態とにおけるイオン移動度分光計の測定信号を組み合わせて評価する、請求項1記載の方法。
- 測定フェーズの前後に、処理ステーションのフィードポンプを介して基準ガスにより洗浄を行い、測定装置から測定ガスまたは反応ガスを除去し、続いて必要に応じてフィードポンプからのガス流の送出を短時間だけ中断してオゾンなどの洗浄ガスが送出または発生されるようにし、さらに洗浄ガスを測定装置全体へ供給することにより汚染率を低下させて測定装置を直ちに再使用可能とする、請求項1記載の方法。
- ガス管を介して第1のフィードポンプ(9)へ接続されたイオン移動度分光計(2)およびその他の検出器から成るポータブルな測定装置(1)と、各検出器の前方またはそのうちのイオン移動度分光計の前方の第2のフィードポンプ(7)を備えた基準ガスの調量制御装置と、反応ガス調量ユニット(10)と、電子回路およびコンピュータ(11)と、ディスプレイユニット(12)と、付加的な光学的音響的警報信号発生器と、測定装置の洗浄のための第3のフィードポンプ(15)を備えた処理ステーション(14)とが配置されている
ことを特徴とするガス状障害物質の検出システム。 - 測定ガスが3つの測定ガス路、つまりイオン移動度分光計(2)へのガス路と電気化学セル(4)へのガス路と2つのMOSセンサ(5,6)およびこれに続く光イオン化検出器(3)へのガス路とへ分割されるように各検出器が配置されており、選択的に、イオン移動度分光計の箇所に必要に応じてガスフラスコ、拡散細管または浸透容器に貯蔵されている1つまたは複数の反応ガスをバルブを介して調量する反応ガス調量ユニット(10)が位置している、請求項7記載のシステム。
- 処理ステーション(14)が測定装置に設けられており、洗浄ガスの発生源から洗浄ガスを第3のフィードポンプ(15)により測定装置へ供給して洗浄を行うか、または例えば光イオン化検出器のUVランプへアクセス可能であるか、または蓄電池の充電ユニットなどを備えている、請求項7記載のシステム。
- 表面検査のために表面の物質を蒸発させる熱源(13)、有利には赤外線ランプが測定装置に配置されている、請求項7記載のシステム。
- 処理ステーション(14)での保管時に読み出しおよび必要に応じた中央コンピュータへのデータ転送を行う測位装置およびメモリが測定装置に設けられている、請求項7記載のシステム。
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