KR20050103958A - 동축 협각 암시야 조명 - Google Patents

동축 협각 암시야 조명 Download PDF

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KR20050103958A
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Abstract

본 발명은 대칭성의 동축 협각 암시야 이미징 시스템을 제공한다. 이 시스템은 텔레센트릭 렌즈를 이용하여 대칭성의 동축 협각 암시야 조명으로 대상물을 조명한다. 이러한 조명 기술은 평면형 반사성 대상물 상의 결함부 또는 작은 피처들을 부각시키는데 특히 적합하다. 자세하게는, 동축 광원이 텔레센트릭 렌즈를 향하여 광선들을 보내고 이 텔레센트릭 렌즈는 실질적으로 평면인 반사성 대상물을 향하여 광선들을 다시 보낸다. 이 광선들은 텔레센트릭 렌즈를 통하여 카메라를 향해 되반사된다. 광선들이 대상물의 평면형 반사성 부분으로부터 반사되는 점에서, 광선들이 텔레센트릭 조리개에 의해 차단된다. 평면형 반사성 대상물에서의 결함부 또는 피처로부터 반사되는 광선들은 조리개에서의 개구를 통하여 카메라로 진행한다.

Description

동축 협각 암시야 조명{COAXIAL NARROW ANGLE DARK FIELD LIGHTING}
본 발명은 이미징 광학 장치와 관련 조명 시스템에 관한 것으로, 더욱 자세하게는, 하나 이상의 결함부를 갖는 평면형 반사성 대상물의 동축 협각 암시야 조명을 제공하는 장치에 관한 것이다.
반도체 제품 종들은 우수한 평면성 및 반사성(평탄성 및 광택성)을 갖고 있으며, 종종 평면성 및 반사성으로부터의 매우 작은 편차(deviation)들을 적절한 콘트라스트로 이미징하는 방식으로 이들 디바이스를 이미징시키는 것이 필요하다. 이러한 제품 종들 중 하나가 반도체 웨이퍼로서, 이 반도체 웨이퍼에는 무엇보다도 웨이퍼 수와 제조자를 나타내는 표시가 제공될 수 있다. 이들 표시는 웨이퍼의 표면의 결함부로서, 통상적으로 레이저 에칭 자국(pits)의 메트릭스이다. 이들 표시는 당해 기술분야에서 "소프트 마크"로 알려져 있다. 이들 마크를 이미징하는 것은 제조 프로세스에 따른 여러 단계에서 코드들을 판독하는데 필요하다.
이들 장치를 개별화한 후(통상적으로, 톱에 의해 개별적인 직사각형 디바이스들로 절단한 후)에는, 디바이스의 조기 결함을 발생시키며 시간에 따라 그 결함을 파급시킬 수 있는 균열들과 미세한 칩에 대한 에지부를 검사하는 것이 필요할 수 있다. 이들 검사 프로세스는 자동화되어 있으며 필요한 검사, 측정 및 식별을 수행하도록 프로그래밍되어진 디지털 전자 컴퓨터와 함께 전자 이미징 카메라를 이용한다.
통상적으로, 암시야 조명은 당해 기술 분야에서는 잘 알려진 기술로서, 반사성의 대상물 상의 결함부를 관찰하는데 특히 유용하다. 암시야 조명의 해상도는 조명원의 특성, 대상물과 관찰자 또는 카메라 간의 상대적인 위치 및 조명받고 있는 대상물의 특성에 의존한다. 암 시야 조명의 해상도를 충족시키기 위해서는, 대상물 상에 입사하는 대부분의 조명을 관찰자 또는 카메라의 광학 개구(optical aperture)에 진입하지 않는 방향 또는 방향들로 반사시키는 것이 필요하다. 암 시야 조명은 대부분의 광이 카메라로 직접 반사되는 명 시야 조명과 대조 비교될 수 있다.
도 1을 참조하여 보면, 암 시야 조명은 광원이 카메라와 대상물 간의 선에 대하여 어떤 각도에서 대상물을 향하도록 광원을 배치시킴으로써 구현될 수 있다. 이러한 각도는 대상물이 광을 확산시키는 각도보다 커야 한다. 대상물이 통상적인 확산 반사 특성을 갖는 경우, 그 각도는 오브젝트가 확산 반사에 의해 입사 조명을 분산시키는 반각(half-angle)보다 더 커야 한다. 대상물이 반사성인 경우, 즉, 대상물이 미소 각도 및 매우 낮은 효율 중 어느 하나를 갖거나 미소 각도와 매우 낮은 효율 모두를 갖고 입사 조명을 확산시키는 경우, 그 각도는 매우 작을 수 있다.
조명원은 대칭적으로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다. 이 경우, 조명원은 원형상으로 제조되어 광학 축에 대하여 동축으로 배치될 수도 있으며, 또는 복수의 조명원이 원형상으로 배열될 수 있다. 이러한 원형상의 직경과 대상물에 대한 그 근접성은 조명이 대상물 상에 입사하는 각도의 범위를 결정한다. 당해 기술 분야에서, 이러한 조명은 환형 조명(ring lights)으로 알려져 있으며, "하이 앵글(high angle)"이나 "로우 앵글(low angle)"로 다양하게 구성된다.
어떤 대상물을 이미징할 때에는, 실질적으로 평탄하고 반사성을 가진 것 외의 작은 피처를 부각시키는 것이 바람직하다. 이 작은 피처는 개별화된 디바이스의 에지부와 소프트 마스크를 포함한다. 이를 구현하기 위해서는, 조명원이 이미징 시스템으로 직접 반사되어짐이 없이 조명원이 가능한 이미징 시스템과 거의 광학 축(on axis : 렌즈의 중심을 지나는 수직축) 상에, 즉, 협각으로 놓이게 되는 것이 필요하다. 현재 알려진, 이를 달성하는 가장 효과적인 방법은 배플(baffle)을 이용하여, 조명원, 대상물, 배플 및 이미징 시스템 간에 특정한 정렬을 제공하는 것이다.
발명의 명칭이 "기판 상에 OCR 표시를 하기 위한 조명 시스템"인 미국 특허 제5,737,122호(이하, 이 특허 공보를 간단히 '122 특허라 함)에는, 이러한 구체적인 예가 개시되어 있다. '122 특허의 일 실시형태의 조명을 도 2에 도시한다. '122 특허에는, 카메라의 축과 조명 모듈의 축이 반사성 오브젝트에 대한 법선에 대하여 예각으로 된 여각의 대칭성을 갖는다는 점이다. 협각 암시야 조명은 광학 축에 대하여 근접하게 위치되어, 이미징 경로에 위치된 배플에 의해 카메라에 의한 직접 촬영이 방지된다. 배플의 위치는 이미저의 시야를 제한하지만, 이는 어느 정도 상충가능한 것으로 간주한다. 이들 설계에서, 협각 암시야 조명은 2 개의 대향하는 뱅크로 구성되며 1-폴드 대칭성(one-fold symmetry)만을 갖는다. 일반적으로 로트 코드(lot code) 또는 시리얼 코드의 기호로 구성되는, 웨이퍼 상의 원형상 자국(pits) 을 이미징하는 경우, 이러한 1-폴드 대칭성은 원하지 않는 이미지를 발생시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면과 함께 본 발명을 자세히 설명하며, 수 개의 도면 전반에 걸쳐 동일한 도면 부호는 동일한 구성요소로 나타내었다.
도 1은 암 시야 조명의 개념을 설명하는 일반적인 설명도이다.
도 2는 배플을 포함한 종래 기술의 조명 시스템을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 바람직한 제 1 실시형태를 나타내는 부분 단면도이다.
도 4는 소프트 마크를 포함하는 실리콘 웨이퍼를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따라 이용되는 광원의 평면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 바람직한 제 2 실시형태를 나타내는 부분 단면도이다.
본 발명은 평면형 반사성 대상물 상에 결함부를 이미징하기 위한 이미징 시스템을 제공하는 것이다. 이 시스템은 정의된 축과 초점을 가지는 텔레센트릭 렌즈(telecentric lens)를 포함한다. 이 텔레센트릭 렌즈는 오브젝트의 이미지를 카메라에 제공하도록 동작한다. 조명원은 텔레센트릭 렌즈의 축을 따라 오브젝트를 조명하도록 위치된다. 반사성 대상물에서, 내부에 개구를 포함하는 텔레센트릭 조리개에 의해 평면형 반사성 대상물로부터 반사되는 광은 차단되면서, 결함부로부터 반사되는 광은 개구를 통과하게 된다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 조명원이 텔레센트릭 렌즈의 축에 수직 방향으로 위치될 수 있도록 하는 빔 스플리터가 제공된다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 텔레센트릭 조리개의 개구는 텔레센트릭 렌즈의 초점에 근접하여 위치하게 된다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 결함부의 이미지를 카메라 상에 포커싱하는 후측 렌즈 그룹이 제공된다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 조명원은 LED들의 원형 그룹을 포함한다.
첨부한 도면을 참조한, 본 발명의 최상의 실시형태의 상세한 설명부를 통하여, 본 발명의 또 다른 적용도 가능함을 이해하게 될 것이다.
본 발명은 우수한 평면성 및 반사성을 가진 표면을 조명하여 이미지를 형성하여, 이미징 피사체의 평면성 및 반사성에서의 어떤 변형부분들이 향상된 콘트라스트로 재생하는데 필요한 요건에 대한 문제를 해결하기 위한 것이다. 후술할 바와 같이, 본 발명의 실시형태들은 텔레센트릭 렌즈를 이용하여 대칭성의 동축 협각 암시야 조명으로 대상물을 조명한다. 이러한 조명 기술은 평면형 반사성 대상물 상의 작은 결함부를 부각시키는데 특히 적합하다. 이러한 대상물의 구체적인 예로는, 실리콘 웨이퍼를 포함하며, 결함부의 구체적인 예로는, 실리콘 웨이퍼 상의 소프트 마크 심볼들 및/또는 칩 스케일 디바이스 상의 에지의 불규칙한 부분들을 포함할 수 있다.
구체적으로는, 광원은 텔레센트릭 렌즈를 향하여 원형의 원뿔 형상의 광선을 제공한다. 텔레센트릭 렌즈는 실질적으로 평면인 반사성 대상물을 향하여 광선을 다시 보내어, 광선들이 대상물과 평행하고 대상물과 직교한다. 평면형 반사성 대상물의 특성은, 광이 대상물의 표면에 대하여 직교하는 경우, 입사각에 대하여 여각으로 광을 반사시킨다. 반사시, 광선들은 이미지 광선을 형성한다. 이 이미지 광선은 실질적으로 평면인 반사성 대상물로부터 역 반사되어, 텔레센트릭 렌즈를 통하여, 이 광선들이 발사되는 위치로 역 변환된다. 이러한 시스템은 광원과 일치하는 중심 개구에 텔레센트릭 조리개를 제공하여, 광이 실질적으로 카메라를 통과하지 못하게 한다. 그러나, 반사성 표면에 결함부가 존재하는 경우, 광은 교란되고 그 광 중 일부가 텔레센트릭 조리개의 개구를 통과하여 카메라 상으로 진행할 가능성이 있다.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 바람직한 제 1 광학 이미징 시스템(100)의 부분 단면도가 도시되어 있다. 도 3은 평면형 대상물(102)을 나타낸다. 평면형 대상물(102)은 바람직하게는 도 4에 더욱 자세히 나타낸 실리콘 웨이퍼(104)이다. 실리콘 웨이퍼(104)는 그 특성이 반사성을 가진다. 통상적으로, 실리콘 웨이퍼(104)는 소프트 마크(105)와 같은 결함부를 포함한다. 소프트 마크(105)는 레이저 에칭 자국의 집합으로 구성되며, 실리콘 웨이퍼(104)에 대한 정보를 제공한다. 또한, 실리콘 웨이퍼(104)는 복수의 반도체 장치(106)를 포함한다. 본 발명은 검사중인 실리콘 웨이퍼(104), 구체적으로는, 이미징되는 소프트 마크(105)를 이용하여 설명하고 있지만, 그 외의 평면형 대상물에 대해서도 동일하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 반도체 장치(106)가 개별화되어 있는 경우, 이들에 대한 에지 결함부를 검사할 수도 있다.
계속해서, 도 3을 참조하면, 광학 이미징 시스템(100)은 후측 렌즈 그룹(108)을 형성하는 한 쌍의 렌즈 그룹 및 텔레센트릭 필드 렌즈(110)를 각각 포함한다. 후측 렌즈 그룹(108) 및 텔레센트릭 필드 렌즈(110) 양쪽에 대하여 적절한 렌즈들의 한 소스로는, Edmund Scientific이 있다. 아래 보다 자세히 설명할 바와 같이, 후측 렌즈 그룹(108) 및 텔레센트릭 필드 렌즈(110)는 공동으로 동작하여 소프트 마크(105)의 이미지(113)를 카메라(200)로 보낸다. 카메라(200)는 CC13 또는 CMOS 타입 센서를 포함하는 디지털 카메라인 것이 바람직하다.
후측 렌즈 그룹(108)은 보정된 대물렌즈의 집합에 의해 형성되며 입사 동공(109)을 포함한다. 후측 렌즈 그룹(108)은 낮은 왜곡을 갖고 충분한 분해력으로 카메라(200)를 보완하는 것이 바람직하다. 후측 렌즈 그룹(108)은 어떤 종류의 카메라(200)를 이용하는지에 따라서 달라질 수 있다.
텔레센트릭 필드 렌즈(110)는 대상물(102)의 평면에 따라 텔레센트릭한 대상물의 이미징을 나타내는 텔레센트릭 필드 렌즈로서 기능한다. 다른 방법을 살펴보면, 광선들이 텔레센트릭 필드 렌즈(110)를 출사할 때 광선들 서로가 평행하게 되며, 대상물(102)의 평면에 바람직하게 직교하게 된다. 광원(118)에 의해 조명받는 경우, 텔레센트릭 필드 렌즈(110) 및 후측 렌즈 그룹(108)은 카메라(200)에서 이미지(113)를 형성하도록 동작한다. 텔레센트릭 필드 렌즈(110)는 축(111)과 텔레센트릭 개구 또는 초점(112)을 포함한 복수의 특정된 특성을 가진다. 도 3에 도시된 바와 같이, 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 초점(112)은 후측 렌즈 그룹(108)의 입사 동공(109)과 일치한다. 축(111)은 후측 렌즈 그룹(108)와 카메라를 축(111)을 따라 동일하게 위치시키도록 시스템(100)에 대한 광학 축을 정의한다.
또한, 조명원(118)도 제공된다. 조명원(118)은 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 축(111)과 동축에 있는 협각 조명을 제공하도록 위치된다. 도 3은 축(111)을 따른 광원(118)의 바람직한 물리적인 제 1 위치결정을 나타낸다. 아래 설명된 바와 같이, 광원(118)은 광학적으로 동일한 방식으로 축(111)으로부터 물리적으로 이격되어 위치될 수 있다.
텔레센트릭 조리개(116)는 후측 렌즈 그룹(108)과 텔레센트릭 필드 렌즈(110) 간에 위치되어, 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 축(111)에 센터링된다. 텔레센트릭 조리개(116)는 후측 렌즈 그룹(108)의 입사 동공(109)에 근접하여 위치하는 것이 바람직하다. 텔레센트릭 조리개(116)는 중앙 개구(117)를 포함하는 물리적 광학 조리개인 것이 바람직하다. 또한, 중앙 개구(117)는 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 초점(112)에 근접하여 위치된다.
바람직한 조명원을 도 5에 도시한다. 도 5를 참조하여 보면, 인쇄 회로 기판(121)에 탑재된 복수의 LED(120)를 이용하는 원형 광원이 도시되어 있다. 인쇄 회로 기판(121)은 텔레센트릭 조리개(116)로서 기능할 수 있다. 인쇄 회로 기판(121)은 적어도 텔레센트릭 조리개(116)의 중앙 개구(117) 만큼 큰 개구(121A)를 포함한다. 홍채 조리개(iris diaphragm) 개구가 텔레센트릭 조리개(116)와 함께 이용되는 경우, 개구(121A)는 이용가능하게 설정한 최대의 개구 만큼 커야 한다. 도시한 바와 같이, LED(120)들은 내부 원형 그룹(119A)과 외부 원형 그룹(119B)으로 구성된다. 내부 원형 그룹(119A)과 외부 원형 그룹(119B)은 대상물(102)의 약간 다른 협각 조명을 제공한다. 내부 원형 그룹(119A)과 외부 원형 그룹(119B)은 대상물(102)의 품질에 의존하여 공동으로 조명될 수도 있고 또는 교대로 조명될 수도 있다. 추가 LED 원형 그룹도 제공될 수 있다.
결함부의 유형에 대한 시스템의 감도는 텔레센트릭 필드 렌즈(110)들 간의 f수(렌즈의 밝기를 표시; focal ratio)와 광원의 직경에 의해 주로 결정된다. 본 발명은 이러한 감도를 조정하는 방법을 제공한다. 구체적으로는, 원형 광원(119A)과 원형 광원(119B)의 상이한 직경을 이용할 수도 있고, 다른 방법으로, 텔레센트릭 조리개(116)의 중앙 개구(117) 직경을 조정할 수도 있다. 중앙 개구(117)는 홍채 조리개를 이용하여 조정될 수도 있고 그에 따라 시스템에 대한 조정가능한 f 수를 제공할 수 있다.
도 6은 도 3에 도시된 실시형태와 광학적으로 동일한, 바람직한 제 2 실시형태를 나타낸다. 도 6에 도시된 바와 같이, 바람직한 제 2 실시형태에는 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 축(111)을 따라 위치되는 부분 반사 미러 또는 빔 스플리터(132)가 제공된다. 빔 스플리터(132)는 광원(118)으로 하여금 텔레센트릭 필드 렌즈(110)의 축(111)에 대하여 직교하게 위치되게끔 한다. 바람직한 제 2 실시형태에서, 광원(118)은 텔레센트릭 조리개(116)의 것과 광학적으로 동일한 위치에 위치된다.
도 3을 다시 참조하여 보면, 광원(118)은 광선(128 및 130)을 텔레센트릭 필드 렌즈(110)를 향하여 투사하게 하여 광선(128 및 130)이 대상물(102)에 근접하게 포커싱되고 실질적으로 서로 평행하게 된다. 광선(128 및 130)은 그 광선들이 텔레센트릭 필드 렌즈(110)를 통과할 때 평행하게 되도록 원형의 원뿔 형상으로 투사된다. 이 광선들은 대상물(102)로부터 반사되어, 이미지 형성 광선(122, 124 및 126)으로 된다. 광선(128 및 130)이 대상물(102)의 반사성 부분으로부터 반사되는 경우, 이미지 형성 광선(122 및 126)은 텔레센트릭 조리개(116)에 부딪쳐, 후측 렌즈 그룹(108)에 진입하지 못한다. 구체적으로는, 이미지 광선(122 및 126)은 실질적으로 평면인 반사성 표면으로부터 역반사되어 허상으로서 원점으로 복귀할 원형 원뿔 형상을 형성한다. 그러나, 광선(128 및/또는 130)이 결함부로부터 반사되는 경우, 이미지 형성 광선(124)은 텔레센트릭 조리개(116)의 중앙 개구(117)를 통과하여, 후측 렌즈 그룹(108)에 의해 포커싱되어, 카메라(200)에 상(113)을 형성하게 한다.
도 6의 바람직한 제 2 실시형태를 참조하면, 시스템은 빔 스플리터(132)를 제외하고는 상술한 방식과 동일한 방식으로 동작한다. 구체적으로는, 빔 스플리터(132)는 텔레센트릭 조리개(116)의 중앙 개구(117)를 최종적으로 통과할 수 있는 광 세기를 감소시키는 기능을 한다.
본 발명은 종래 기술보다 상당한 이점들을 갖고 있다. 즉, 필요에 따라, 광학 축과 협각 암시야 조명 간의 각도가 명시야 조명에 의한 각에 비하여 절대적으로 작을 수 있다. 또한, 시스템의 감도는 조명의 다른 직경을 선택하거나 텔레센트릭 조리개의 개구를 조정함으로써 상술한 바와 같이 조정될 수 있다. 또한, 시스템이 종래 기술에는 필요했던 배플을 사용하지 않기 때문에 카메라의 전체 시계를 이용할 수 있다. 또한, 시스템은 전체 시야에 걸쳐 전체적인 원형 대칭성을 제공할 수 있다.
본 발명은 가장 실질적이고 바람직한 실시형태인 것으로 고려된 것을 참조하여 설명되어 있지만, 이러한 개시된 실시형태로 한정되지 않으며 그와 반대로, 첨부된 청구범위의 사상 및 범위에 포함되는 여러 변형 및 그 등가의 구성을 포함할 수 있으며, 그 범위는 법이 허용되는 이러한 모든 변형 및 등가 구성을 수반하는 최광의 범위로 해석되어야 한다.

Claims (16)

  1. 평면형 반사성 대상물 상의 결함부를 이미징하는 이미징 시스템으로서,
    특정 축과 초점을 가지며, 대상물의 이미지를 카메라에 제공하도록 동작하는 텔레센트릭 렌즈와;
    상기 텔레센트릭 렌즈의 축을 따라서 대상물을 조명하도록 위치되는 조명원과;
    개구를 내부에 포함하여, 상기 평면형 반사성 대상물로부터 반사된 광은 차단시키고 결함부로부터 반사된 광은 상기 개구를 통과하게끔 위치되는 텔레센트릭 조리개(telecentric stop)를 포함하는 이미징 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 결함부는 소프트 마크인 것인 이미징 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 조리개와 상기 카메라 간에 위치되는 입사 동공을 가진 제 2 렌즈 그룹을 더 포함하는 이미징 시스템.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 렌즈의 초점은 상기 제 2 렌즈 그룹의 입사 동공과 일치하는 것인 이미징 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 조명원은 발광 소자들의 대체로 원형인 하나 이상의 그룹을 포함하는 것인 이미징 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 조리개는 상기 발광 소자들의 원형 그룹에 근접하여 위치되는 것인 이미징 시스템.
  7. 제 4 항에 있어서, 상기 조명원은 발광 소자들의 대체로 동심 원형인 복수의 그룹을 포함하는 것인 이미징 시스템.
  8. 제 1 항에 있어서, 텔레센트릭 조리개의 개구에 위치되어 텔레센트릭 렌즈의 초점을 조정할 수 있는 홍채 조리개(iris diaphragm) 개구를 더 포함하는 이미징 시스템.
  9. 평면형 반사성 대상물 상의 결함부를 이미징하는 이미징 시스템으로서,
    대상물에 근접하여 위치되며, 특정 축과 초점을 가지며, 대상물의 이미지를 카메라에 제공하도록 동작하는 텔레센트릭 렌즈와;
    상기 텔레센트릭 렌즈의 축을 따라 위치되는 빔 스플리터와;
    상기 텔레센트릭 렌즈의 축에 대하여 직교하게 위치되며 복수의 광선을 빔 스플리터를 향하여 보내도록 위치되어, 텔레센트릭 렌즈의 축을 따라 대상물을 조명하는 조명원과;
    개구를 내부에 포함하며 상기 텔레센트릭 렌즈의 축을 따라 위치되어, 상기 평면형 반사성 대상물로부터 반사된 광은 차단시키고 결함부로부터 반사된 광은 상기 개구를 통과하게끔 위치되는 텔레센트릭 조리개를 포함하는 이미징 시스템.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 결함부는 소프트 마크인 것인 이미징 시스템.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 조리개와 카메라 간에 위치되는 입사 동공을 가진 제 2 렌즈 그룹을 더 포함하는 이미징 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 렌즈의 초점은 상기 제 2 렌즈 그룹의 입사 동공과 일치하는 것인 이미징 시스템.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 조명원은 발광 소자들의 대체로 원형인 하나 이상의 그룹을 포함하는 것인 이미징 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 텔레센트릭 조리개는 상기 발광 소자들의 원형 그룹에 근접하여 위치되는 것인 이미징 시스템.
  15. 제 11 항에 있어서, 상기 조명원은 발광 소자들의 대체로 동심 원형인 복수의 그룹을 포함하는 것인 이미징 시스템.
  16. 제 9 항에 있어서, 텔레센트릭 조리개의 개구에 위치되어 텔레센트릭 렌즈의 f 수(focal ratio)를 조정할 수 있는 홍채 조리개 개구를 더 포함하는 이미징 시스템.
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