KR20050102011A - 구조화된 표면을 포함하는 구조물 제조용 마스터 - Google Patents

Abstract

본 발명은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 관한 것으로, 마스터와 자외선 경화형 수지의 접촉이 필연적으로 발생하면서 자외선 경화형 수지로부터 마스터 몰딩 표면으로의 전사물(Residue)이 마스터 몰딩 표면에 누적되어 정확하게 제품을 복제하기 어렵게 하며 제품의 결함을 발생시키고 궁극적으로는 연속적인 제품의 생산이 어려웠던 종래에 제공된 기술이 갖는 문제점을 극복하고 효과적으로 연속생산이 가능한 마스터를 제공하는 것을 목적으로 한다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구조물 제조용 마스터는 자외선 경화성 수지 조성물로부터 복제하고자 하는 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 있어서, 마스터의 수지는 실리콘 또는 불소성분을 포함하는 고분자 수지로 이루어진 마스터 몰드재를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

구조화된 표면을 포함하는 구조물 제조용 마스터{MASTER FOR MAKING STRUCTURE BEARING ARTICLES}

본 발명은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 관한 것으로 특히, 자외선 경화형 수지가 마스터 몰딩 표면에 전사되어 잔류하지 않게 하여 효과적으로 연속생산이 가능할 뿐만 아니라 복제된 제품도 결점이 없는 우수한 제품을 제공하기 위한 마스터에 관한 것이다.

이와 같은 구조물 및 그 제조방법은 표면이 구조화된 광선 조절 구조물, 프레넬 렌즈(Fresnel lens), 역반사 입방체 코너 시트재(retroreflective cube-corner sheeting), 휘도향상을 위한 광학 필름 등에 이용될 수 있으며, 특히 액정 디스플레이 장치에 휘도 증가를 목적으로 사용되는 광학 필름을 제시한 대표적인 종래 기술은 미국 특허 제4,542,449호와 대한민국 특허출원 제1986-0009868호가 있다.

상기와 같은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조 방법에 대해서는 미국 특허 제3,689,346호, 미국 특허 제 4,576,850호, 미국특허 제 4,374,077호, 및 대한민국 공개특허공보 제1990-012750호에 상세히 제시되어 있다.

여기서 미국 특허 제3,689,346호는 마스터 음각 몰딩 표면에 가교성이 있고 부분 중합된 수지를 도포하여 침착시키고, 이 수지를 경화시켜 음각 몰딩 표면을 복제함으로써, 역반사 입방체 코너 시트재(retroreflective cube-corner sheeting)를 연속적으로 복제하는 방법을 개시하였으며, 미국 특허 제 4,576,850호는 미세구조의 표면을 갖는 가교된 중합체로 구성되는 제품을 제시하고 있고, 미국 특허 제4,374,077호는 표면에 프레넬 렌즈(fresnel lens)와 같은 미세 구조를 복제하는 방법을 제시하고 있다.

또한 대한민국 공개특허공보 제1990-012750호는 역반사 입방체 코너 시트 재(retroreflective cube-corner sheeting), 프레넬 렌즈(fresnel lens), 완전한 내부 반사필름, 교합성 부재, 및 정보 전달 디스크 등과 같은 미세 구조의 플라스틱 제품 제조 방법을 개시하고 있다

그러나 이러한 종래 기술에서는 일반적으로 사용되는 수지는 고화 또는 경화 시에 비교적 높은 수축성을 나타내므로 이와 같은 방법으로 제공되는 미세구조는 광학적인 결점이 발생된다.

이와 같이 대부분의 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조방법은 마스터와 자외선 경화형 수지의 접촉이 필연적으로 발생한다. 이 때 발생하는 전사물은 마스터 몰딩 표면에 누적되어 정확하게 제품을 복제하기 어렵게 하며 제품의 결함을 발생시켜 궁극적으로는 연속적인 제품의 생산이 어렵게 하는 문제점이 있다.

따라서 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 관한 것으로서, 마스터와 자외선 경화형 수지의 접촉이 필연적으로 발생하면서 자외선 경화형 수지로부터 마스터 몰딩 표면으로의 전사물(Residue)이 마스터 몰딩 표면에 누적되어 정확하게 제품을 복제하기 어렵게 하며 제품의 결함을 발생시키고 궁극적으로는 연속적인 제품의 생산이 어려웠던 종래에 제공된 기술이 갖는 문제점을 극복하고 효과적으로 연속생산이 가능한 마스터를 제공하는 것을 목적으로 한다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 자외선 경화성 수지 조성물로부터 복제하고자 하는 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 있어서, 상기 마스터의 수지는 실리콘 또는 불소성분을 포함하는 고분자 수지로 이루어진 마스터 몰드재를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터를 제공한다.

본 발명은 특히, 실리콘을 포함한 표면에너지가 낮은 고분자 재질로 구성된 마스터를 이용하여 자외선 경화형 수지가 구조화된 마스터 몰딩 표면에 기포가 발생하지 않게 하여 쉽게 침착되고 하고, 자외선에 노출시켜 경화시킨 후 탈착할 때 자외선 경화형 수지가 마스터 몰딩 표면에 전사되어 잔류하지 않게 하여 효과적으로 연속생산이 가능할 뿐만 아니라 복제된 제품도 결점이 없는 우수한 제품을 제공하기 위한 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 관한 것이다.

구체적으로 본 발명에 따른 마스터의 제조방법은 구조물의 구조화된 표면의 깊이가 10㎛ 내지 10,000㎛로서, 미세구조로부터 비교적 큰 플라스틱 제품 또는 고분자 구조물을 연속적으로 생산하기 위한 마스터 몰드재에 있어서, 제품의 구조에 대해서 음각으로 구조화된 마스터 몰드 또는 마스터 몰드의 표면 재질의 표면에너지가 낮고, 내열성, 내화학성이 우수한 실리콘 고무인 것을 특징으로 한다. 고무 몰드재는 성분에 따라 구분하지만 경화 가능한 화학성분이라면 모두 사용가능하다.

더욱 상세하게는 상기 실리콘 성분을 포함하는 수지는 실리콘(Si)과 산소(O)의 결합을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이 바람직하다. 특히 실리콘 성분을 포함하는 수지는 Si 원자와 O 원자가 교호적으로 배열된 폴리실록산인 것이 바람직한데, 그 이유는 실록산 결합의 무기적 성질로 인하여 불연성이고 고온에 인내하며, 내약품성, 내산화성, 전기 절연성 및 발수성이 우수하고 비 점착성인 특성을 갖고 있어서 마스터 몰드재의 표면에 전사물을 거의 누적시키지 않기 때문이다.

상기와 같은 이유로 본 발명에서 실리콘 성분을 포함하는 수지는 실리콘(Si)과 탄소(C)의 결합에 비닐기를 포함한 것을 사용하는 것도 바람직하다. 이는 실리콘 고무가 갖는 기계적 강도를 보강하여 마스터에 가해지는 압력에 대하여 내구성을 지니게 하는 역할을 한다. 단, 비닐기는 30 몰% 이하의 값을 지니는 것이 바람직하다. 30 몰% 이상의 값을 갖게 되면 마이크로미터 크기의 미세구조를 갖는 마스터를 복제하는데 많은 시간이 소요되고 표면에너지가 증가하는 단점이 있다.

또한 상기 불소 성분을 포함하는 수지는 폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF), 폴리플루오르화비닐(PVF), 헥사플루오로프로필렌계 화합물, 테프론(Teflon) 중에 한 종 이상 혼합된 수지인 것을 특징으로 하는 것이 바람직하다. 불소성분을 포함하는 상기의 수지들은 내약품성, 내산화성, 전기 절연성 및 발수성이 우수하고 비 점착성인 특성이 매우 우수하여 마스터 몰드재의 표면에 전사물을 거의 누적시키지 않기 때문이다.

통상적으로 고무 몰드재에 있어 가장 중요한 성질은 점도인데 점도는 재료, 온도, 타 성분과 혼합 후의 시간, 혼합속도 등에 따라 영향을 받는다. 고무 몰드재의 점도가 낮으면 흐름 특성이 좋아 구조물에서 미세한 부분을 복제한 후에 재현성이 우수하게 된다. 본 발명에서 사용되는 마스터 몰드재와 자외선 경화형 수지의 점도는 상온에서 300cps 내지 30,000cps인 것이 바람직하다. 그 이유는 점도가 300cps보다 낮으면 경화되기 전에 흘러버려서 구조물의 복제에 어려움이 있으며, 30,000cps보다 높으면 미세구조의 복제가 매우 힘들기 때문이다. 이러한 이유로 상기 수지의 점도는 5,000내지 20,000cps인 것이 바람직하다.

그러나 마스터 몰드를 형성하기 위한 고무 몰드재에 있어서 점도는 마스터를 제조하기 위한 주요 특성일 뿐이며 자외선 경화형 수지를 통해 구조물을 복제하는 단계에서는 자외선 경화형 수지와 마스터 몰드재와의 이형력이 매우 중요하다.

따라서 본 발명에서는 마스터 몰드재 또는 마스터 몰드의 표면처리재로 실리콘 또는 불소 성분을 포함한 고무를 사용하였으며, 마스터 몰드를 형성하기 위한 단계에서도 상기 성분이 포함된 수지는 그 흐름성이 우수하고 구조물을 복제하는 단계에서도 다른 성분에 비해 월등히 이형력이 우수하여 복제물의 재현성과 연속적인 생산성에 매우 효과적이다. 뿐만 아니라 실리콘 또는 불소 성분을 포함한 고무를 통해 마스터를 제공할 경우 원본을 음각으로 형성시킨 마스터의 수명이 길어져서 본 발명의 구조물 생산 시에 매우 경제적이다.

한편 고무 몰드재의 성분이 일반적으로 사용되는 자외선 경화형 수지에 대해 접착력이 있는 경우 탈착되지 않아 마스터 몰드재를 통한 구조물의 복제는 불가능하다. 이에 따라 접착력 측면에서 표면에너지가 낮은 재질을 사용하면 마스터 몰드재와 자외선 경화형 수지의 이형력이 우수해지며 구조물의 복제도 수월해진다.

여기서 표면에너지란 액체와 기체의 상이 존재할 경우 분자간에 작용하는 힘으로부터 발생하는 것으로서, 액체 분자 사이에는 분자끼리 모든 방향에서 끌어당기는 힘이 작용하는데 이 힘을 응집력이라 하고, 다른 분자끼리 끌어당기는 힘을 부착력이라 한다. 이 때에 응집력과 부착력의 차이로 인해 발생하는 힘을 표면장력이라 한다. 이와 같이 정의된 응집력, 부착력, 표면장력을 액체가 아닌 고체의 경우에 그대로 적용할 수는 없으나 고체의 경우에 대해서도 당해 분야에서 업으로서 종사하는 자라면 개념적으로 적용할 수 있다.

따라서 액체 상태로 마스터에 도포되는 마스터 몰드재와 마스터 몰드재에 구조물을 복제하기 위해 도포되는 자외선 경화형 수지는 초기에는 액체상태이지만 탈착시에는 경화되어 고체 상태를 하고 있기 때문에 이 때에 적절한 표면에너지의 범위를 갖는 수지를 찾아 사용하는 것이 가능하다. 그 방법으로서 고체상태의 시편을 통해 증류수 접촉각을 측정하여 표면에너지를 가늠하는 것이 가능하며, 일반적으로 접촉각이 크면 표면장력이 크고 반면에 표면에너지는 낮아진다.

이러한 방법으로 측정한 결과 가장 바람직한 물성은 상기와 같이 실리콘 고무를 사용하는 것이다. 여기서 표면에너지의 값은 50dyne/cm이하가 바람직하다. 표면에너지 값이 50dyne/cm을 넘으면 경화성 수지와의 계면에서의 접착력이 강하여 쉽게 탈착되지 않아 마이크로미터 크기의 정밀한 구조물의 제조가 어렵기 때문이다. 이러한 이유로 표면에너지 값이 25dyne/cm 이하인 것을 마스터 몰드재로 사용하는 것이 바람직하다.

또한 실리콘 수지와 상용성이 좋은 경화성 수지와 혼합하여 사용하는 방법도 가능하다. 예를 들어 에폭시 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지와 같은 열경화성 수지에 실리콘 또는 불소기를 포함하는 성분을 혼합함으로써, 표면에너지를 낮추어 사용할 수 있다.

여기서 본 발명에서 사용될 수 있는 실리콘 수지는 부가중합형과 축합중합형이 있는데 부가중합형 실리콘 수지는 말단에 비닐기(-CH=CH2)를 가진 폴리머와 백금 염 촉매, 말단에 실란기(Si-H)를 가진 가교제를 혼합하여 경화되어 얻어지며 반응식은 하기 식 1과 같다.

[식 1]

또한 본 발명의 마스터 몰드재로 사용할 수 있는 축합중합 형 실리콘 수지는 말단에 수산기를 가지고 있는 폴리실록산(Polysiloxane, Ciba社 제공)과 가교제로써 에틸실리케이트(ethyl silicate)와 organo tin activator 즉 tin octane을 혼합하여 경화시켜 얻을 수 있으며, 일반적인 반응식은 하기 식 2와 같다. 축합중합 형 실리콘 수지는 1성분 형과 2성분 형으로 나눌 수 있으며, 1성분 형의 경화반응은 하기 식 3과 같고, 하기 식 2는 2성분형의 경화반응이다.

[식 2]

[식 3]

한편 본 발명의 마스터를 이용하여 제조된 구조물은 광선조절용 광학필름으로서, 한쪽 면에 구조화된 제 1표면을 가지고, 다른 면에 제 2표면을 가지며, 상기 구조화된 표면은 그 단면의 형상이 매끄러운 면에 대하여 적어도 1개 이상의 경사진 다각형 형태가 배열되어 포함할 수 있다.

또한 상기 구조물은 광학적 특성을 갖춘 휘도향상필름, 프리즘필름, 프레넬렌즈(Fresnel lens), 역반사 코너 시트재(retroreflective cube-corner sheeting) 등을 제공하는 광학필름일 것을 특징으로 할 수 있다.

이하 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명에서 제공되는 마스터를 이용하여 구조물을 제조하는 방법은 도 4, 도 5 및 도 6에 도시한 것과 같이 적용된다. 도 4 및 도 5는 평판 형 마스터를 사용하고 있는 예이다. 그러나 본 발명에 적용되는 마스터가 반드시 평판 형에 한정되지는 않는다. 도4는 마스터에 자외선 경화형 수지(41)가 도포되고, 기재 필름(43)이 제공되며 상기 자외선 경화형 수지와 마스터는 밀착 기구(46)를 통해 밀착되는 것을 도시하였다. 이때 자외선 경화형 수지는 상기 마스터와 기재필름 사이에 존재하고, 자외선 경화형 수지는 자외선램프(45)로부터 제공되는 자외선에 의해 경화되고, 마스터로부터 탈착되어 복제하고자 하는 형상(47)을 갖는 구조물을 제조하는 방법을 제시하였다.

또한 도 5는 기재필름(54, 55)에 코팅 기구(52, 53)를 통해 자외선 경화형 수지를 도포(56)하고 마스터(51)와 밀착기구(57)를 통해 밀착되는 것을 도시하였다. 이때 자외선 경화형 수지는 기재필름과 마스터 사이에 존재하고, 자외선 경화형 수지는 자외선램프(45)로부터 제공되는 자외선에 의해 경화되고, 마스터로부터 탈착되어 복제하고자 하는 형상(47)을 갖는 구조물을 제조하는 방법을 제시하였다.

한편 도 6은 마스터가 롤(roll)과 같이 제공되는 예를 도시하였다. 자외선 경화형 수지(73)가 도포되어 한 방향으로 회전한 후, 마스터 롤(80)에 도포되어 회전하던 자외선 경화형 수지는 기재 필름(71)과 밀착(72)하고, 마스터 롤 및 자외선 경화형 수지 및 기재 필름이 일체화 하였을 때 자외선에 노출(75)된다. 즉 자외선 경화형 수지가 자외선에 노출되어 경화된 후 마스터 롤로부터 경화된 자외선 경화형 수지를 기재 필름으로 전사시키는 방식을 통해 표면이 구조화된 필름(88)을 제조하는 제조 방법의 예이다. 도 6에 제시한 방법은 상기 도5에서 응용하였듯이 기재필름에 도포되어 마스터와 밀착하도록 응용할 수 있다.

이하 바람직한 실시 예를 들어 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 하기 실시 예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지, 이들만으로 한정하는 것은 아니다.

[실시예 1]

부가중합 형 실리콘 수지를 액정 디스플레이 장치의 후면 조명기구에 사용되는 표면구조가 30 X 15 마이크로미터(밑변X높이)인 직각이등변 삼각형 프리즘의 선형배열 구조에 도포하여 경화시킨 후 탈착하여 마스터를 제조하였다.

여기서 사용된 부가중합 형 실리콘 수지는 미국 3M社의 상표명 Express(code EP), 일본 GC社의 상표명 Examix(code EM), 미국 Kerr社의 상표명 Extrude(code ET)를 사용하였다. 평가에 사용된 부가중합 형 실리콘 수지는 폴리머와 가교제 및 촉매를 혼합한 후 탈착이 가능한 만큼 경화하는데 6분 내지 30분의 시간이 소요되었으며, 기포의 발생은 발견되지 않았다. 경화되어 상기 직각이등변 삼각형의 표면구조로부터 탈착된 실리콘 수지는 탄성체였으나 약간 딱딱하였다. 각 소재별 증류수의 접촉각과 접촉각 그림(도 7) 및 표면에너지를 하기 표 1에 제시하였다.

또한 상기 수지를 마스터 몰드재로 하여 복제하고자 하는 구조물의 표면에 상기 마스터 몰드재를 도포하는 단계와, 상기 도포된 마스터 몰드재를 경화시킨 후 탈착하여 상기 탈착하는 단계를 통해 제조된 마스터 몰드재를 복제품을 제조하기 위한 마스터로 사용할 때, 자외선 경화형 수지가 마스터의 구조화된 표면에 침착하는 단계와, 자외선 경화형 수지가 자외선에 노출되어 경화되는 단계와, 마스터로부터 자외선 경화형 수지가 탈착되는 단계를 포함하는 구조물의 제조 방법을 도 4, 도 5, 도 6과 같은 방법으로 실시하였다.

도 4에 해당하는 과정은 마스터(42)에 도포된 자외선 경화형 수지(41) 위로 기재 필름(43)을 밀착(46)시키고 자외선 램프(45)를 통해 자외선에 노출시킨 후 마스터로부터 탈착(47)시킨 과정이다.

도 5는 콤마 코팅 헤드(52, 53)를 통해 기재 필름(54)에 도포된 자외선 경화형 수지(56)를 마스터(51)와 밀착(57)시키고 자외선 램프(56)를 통해 자외선에 노출시킨 후 마스터로부터 탈착(59)시키는 과정이다. 도 6은 마스터 몰드재로 제조된 마스터(81)를 롤(80)에 감아 일체화하여 도 4와 같은 제조 방법을 적용하였으며, 도 5와 같은 제조방법을 적용할 수도 있다.

이렇게 제조한 구조물의 SEM 사진은 도8의 (e)와 같다.

[실시예 2]

축합중합 형 실리콘 수지를 사용한 것을 제외하고 상기 실시예1과 동일한 마스터를 제조하였다. 축합중합형 실리콘 수지는 Ciba社의 폴리실록산(Polysiloxane)과 가교제로써 에틸실리케이트(ethyl silicate)와 organo tin activator 즉 tin octane을 혼합하여 경화시켜 제조하였다.

여기서 상기 실리콘 수지의 증류수 접촉각과 접촉각 그림(도 7) 및 표면에너지를 하기 표 1에 code명 PE로 제시하였다. 또한 이렇게 제조한 마스터를 이용하여 상기 실시예 1과 동일한 제조 방법으로 구조물을 제작하였으며 그 때의 구조물 SEM 사진은 도8의 (e)와 같다.

[표 1]

code	증류수 접촉각(도)	표면에너지(dyne/cm)	접촉각 그림(도7)
EP	101.01	23.42	a
EM	76.05	29.44	b
ET	58.95	45.79	d
PE	65.00	36.91	c

[실시예 3]

폴리설파이드 수지(KCC, PS9210PTA)에 금속 과산화물(KCC, PS9210PTB)과 비닐리덴 플루오라이드를 혼합하고 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽이 형성된 기판 위에 도포하고 경화한 후 탈착하여 마스터를 제조하였다.

여기서 폴리설파이드를 주성분으로 하는 마스터 몰드재는 1성분 형과 2성분 형이 있다. 1성분 형은 공기 중의 수분과 반응하여 표면으로부터 경화하는 습기 경화형이며, 2성분 형은 기재의 주성분인 폴리설파이드가 경화재와 반응하여 경화하는 반응 경화형이다. 본 실시 예에서는 제 2성분 형을 따랐다. 이때 상기 수지의 증류수에 대한 접촉각은 59도였다.

또한 이렇게 제조한 마스터를 이용하여 상기 실시 예 1과 동일한 제조 방법으로 구조물을 제작하였으며 그 때의 구조물 SEM 사진은 도8의 (e)와 같다.

[비교예 1]

마스터 몰드재로 폴리에틸렌 몰드재를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시 예 1과 같은 방법으로 구조물을 제조하였다. 여기서 폴리에틸렌 몰드재의 표면에너지는 60dyne/cm이었다.

이렇게 제조한 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 SEM 사진은 도 8의 (f)와 같다.

[비교예 2]

마스터 몰드재로 표면에너지가 72dyne/cm인 에폭시 몰드재를 사용한 것을 제외하고 상기 실시 예 1과 같은 방법으로 구조물을 제조하였다. 에폭시 몰드재는 복제하고자 하는 구조물로부터 탈착되지 않거나 손상되어 마스터로 사용할 수 없었다.

이처럼 상기 표 1에서 보는 바와 같이, 본 발명에서 이용하고자 하는 실리콘이나 불소를 포함한 수지들은 그 표면에너지 값이 50dyne/cm 이하의 값으로써, 그것을 이용하여 구조물을 제조한 경우에 도8의 (e)와같이 구조물이 쉽게 탈착되어 손상이 거의 발생하지 않는 것을 알 수 있다. 그러나 종래의 재료를 그대로 사용한 비교 예에서는 도 8의 (f)와 같이 손상이 발생하거나, 그 상태가 심하여 마스터로서 사용이 불가능하였다.

본 발명에 의한 구조물의 제조방법과 그 구조물은 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 형태로 변형, 응용이 가능하며 상기 바람직한 실시 예에 한정되지 않는다. 이상에서 설명한 본 발명은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 상기 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아님은 물론이며, 후술하는 청구 범위뿐만 아니라 청구 범위와 균등 범위를 포함하여 판단되어야 한다.

본 발명은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 관한 발명으로서, 실리콘과 불소화합물을 포함한 수지를 사용하여 마스터를 제조함으로써, 마스터와 자외선 경화형 수지의 접촉이 필연적으로 발생하는 자외선 경화형 수지로부터 마스터 몰딩 표면으로의 전사물(Residue)이 마스터 몰딩 표면에 누적되지 않게 하여 정확하게 제품을 복제할 수 있는 효과가 있다.

따라서 본 발명은 제품의 결함을 발생시키고 궁극적으로는 연속적인 제품의 생산이 어려웠던 종래에 제공된 기술이 갖는 문제점을 극복하고, 효과적으로 연속생산이 가능한 구조물의 제조용 마스터를 제공한다.

도 1은 종래의 기술에 의하여 제공되는 대표적인 광선 조절필름의 구조를 나타낸 것이다.

도 2는 종래의 기술에 의하여 제공되는 대표적인 광선 조절필름의 단면과 광선을 조절하는 경로를 나타낸 것이다.

도 3은 구조화된 표면의 패턴이 곡선화된 광선 조절 구조물을 도시한 것이다.

도 4는 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조방법을 도시한 것이다.

도 5는 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조방법에 대하여 평판형 마스터를 사용하고 있는 예를 도시한 것이다.

도 6은 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조방법에 대하여 마스터가 롤과 같이 제공되는 예를 나타낸 것이다.

도 7은 마스터 몰드재로 사용한 수지의 증류수에 대한 접촉각 시험 결과를 도시한 것이다.

도 8은 제조된 구조물의 SEM 사진을 나타낸 것이다.

[도면의 주요부분에 대한 설명]

41: 자외선 경화형 수지 42, 51: 마스터

43, 56: 기재필름 45: 자외선램프

46: 밀착기구 47: 구조물 형상

Claims (8)

1. 자외선 경화성 수지 조성물로부터 복제하고자 하는 구조화된 표면을 포함하는 구조물의 제조용 마스터에 있어서,

   상기 마스터의 수지는 실리콘 또는 불소성분을 포함하는 고분자 수지로 이루어진 마스터 몰드재를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 실리콘 성분을 포함하는 수지는 실리콘(Si)과 산소(O)의 결합을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
3. 제 2항에 있어서,

   상기 실리콘(Si)과 산소(O)의 결합을 포함하는 성분은 폴리실록산인 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
4. 제 1항에 있어서,

   상기 실리콘 성분을 포함하는 수지는 실리콘(Si)과 탄소(C)의 결합에 비닐기를 포함한 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 불소 성분을 포함하는 수지는

   폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF), 폴리플루오르화비닐(PVF), 헥사플루오로프로필렌계 화합물, 테프론(Teflon)으로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 물질 중에서 한 종 이상 혼합된 수지인 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
6. 제 1항에 있어서,

   상기 마스터 몰드재는 증류수 접촉각이 58도 이상인 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
7. 제 1항에 있어서,

   상기 마스터 몰드재는 그 점도가 상온에서 300cps 내지 30,000cps인 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.
8. 제 1항에 있어서,

   상기 복제하고자 하는 구조물은 광학적 특성을 갖춘 휘도향상 필름, 프리즘 필름, 프레넬 렌즈(Fresnel lens), 역반사 코너 시트재(retroreflective cube-corner sheeting)로 사용되는 것을 특징으로 하는 구조물의 제조용 마스터.