KR970705767A - 표면 릴리이프 프로필러를 제조하는 방법(method for making surface relief profilers) - Google Patents

표면 릴리이프 프로필러를 제조하는 방법(method for making surface relief profilers)

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Abstract

본 발명의 방법은 회절 광학 글래스 표면 릴리이프 프로필을 다른 글래스-형태의 기판으로 다수 복제하는 것이다. 예컨대, 글래스 기판 상에 형성된 성형 가능하지만 경화가능한 층은 광학 글래스 표면 릴리이프 프로필의 역 이미지를 갖는 스탬퍼를 이용하여 양각되어, 원래의 회절 글래스 표면 릴리이프 프로필의 고품질의 복사가 된다. 양각된 층은 경화되며, 스탬프로부터 분리된다. 양각된 표면 릴리이프 프로필을 갖는 경화된 층은 예컨대, 에칭되어, 표면 릴리이프 프로필은 글래스 기판의 표면으로 에칭된다. 이 방법의 경과는 용이하게 생산가능하며, 매우 내구력 있는 글래스이며 또는 고충실도를 가지며 다른 회절 광학 소자의 고품질의 이미지를 생성할 수 있는 유사한 재료의 정확한 복제이다.

Description

표면 릴리이프 프로필러를 제조하는 방법(METHOD FOR MAKING SURFACE RELIEF PROFILERS)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 표면 릴리이프 프로필을 재생성하는 본 발명의 방법을 나타낸다.

Claims (11)

  1. 회절 광학 글래스를 복제하는 방법에 있어서, 크기에 있어서 안정적이며 광학적으로 투명한 글래스 기판의 표면에 1 미크론 이하의 특징부를 갖는 표면 릴리이프 프로필을 형성하도록 양각될 수 있는, 건성 광 경화가능한 필름을 적층하는 단계와; 복제될 마스터 회절 광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필의 반전을 포함하는 스템퍼를 광 경화가능한 필름 상에 제공함으로써 광 경화가능한 필름에 표면 릴리이프 프로필을 양각하는 단계와; 스탬퍼와 광 경화가능한 필름 사이에 삽입된 접촉부를 유지하면서, 광 경화가능한 필름이 경화되도록 하여, 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 광 경화가능한 필름을 생성하는 단계와; 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 광 경화된 필름으로부터 스탬퍼를 분리하는 단계와; 표면 릴리이프 프로필의 모든 부분이 필름을 통하여 글래스 기판까지 동일한 비율로 제거되도록 광 경화된 필름 상에 제거 용액(removal solution)을 제공함으로써 표면 릴리이프 프로필을 이전시키는데, 상기 표면 릴리이프 프로필의 모든 부분 상에서의 제거 비율은 글래스 기판으로 공지된 비율이며, 글래스 기판 상의 광 경화된 모든 필름이 제거된 후에 제거 중지되어, 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 글래스 기판이 생성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 글래스 기판은 SiO2, 석영, Si 및 GaAs로 구성된 그룹으로부터 선택된 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 스탬퍼는, 크기적으로 안정된 제2기판의 표면에 건성 광 경화가능한 제2필름을 제공하는 단계와; 복제될 마스터 회절 광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필을 이용하여 광 경화가능한 제2필름의 노출된 표면을 양각하는 단계와; 마스터 회절 광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필과 접촉하는 동안 광경화가능한 제2필름이 경화되도록 하는 단계와; 마스터 회절 광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필로부터 광경화가능한 제2필름을 분리하여, 크기적으로 안정된 제2기판 상에 형성된 역 표면 릴리이프 프로필을 갖는 광 경화된 제2필름을 포함하는 스탬퍼를 생성하는 단계를 포함하는 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 해제충(release layer)이 마스터 회절 광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필로부터 광경화가능한 제2필름을 분리한 후에 경화가능한 제2필름에 제공되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 해제충이 A1 및 Cr로 구성된 그룹중 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 해제충은 표면 에너지가 낮은 고형 유기 중합체인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 표면 에너지가 낮은 고형 유기 중합체는 플루 중합체인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 광 경화가능한 필름의 경화를 경화시키는 것은 스탬퍼와 광 경화가능한 필름 사이에 삽입된 접촉부를 유지하는 동안 광학적으로 투명한 기판 및 광 경화가능한 필름을 통하는 화학 방사의 통과에 의해 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1표면 프로필을 갖는 광학 글래스 마스터로부터 광학 글래스를 복제하는 방법에 있어서, 제1표면을 갖는 글래스 기판 상에 광 경화가능한 재료의 제1 및 제2표면을 갖는 층을 형성하는데, 상기 층의 제1표면은 글래스 기판의 제1표면과 접촉하여 부착되어 있는 단계와; 제1표면 상에 광학 글래스 마스터의 제1표면 프로필의 역 프로필인 제2표면 프로필을 갖는 스탬퍼를 형성하는 단계와; 스탬퍼의 제1표면을 경화가능한 재료로 된 층의 제2표면과 접촉하도록 함으로써, 경화가능한 재료로 된 층의 제2표면이 광학 글래스 마스터의 제1표면프로필과 동일한 제3표면 프로필을 이용하여 양각되는 단계와; 경화가능한 재료가 경화되고, 뒤틀리지 않도록경화가능한 재료로 된 층을 경화시키는 단계와; 제3표면 프로필을 갖는 경화된 재료로 된 층의 제2표면으로부터 스탬퍼의 제1표면을 제거시키는 단계와; 글래스의 제1표면이 광학 글래스 마스터의 제1표면 프로필과 동일한 제4표면 프로필을 갖도록 하기 위해 경화된 재료의 층의 제2표면에서 시작하여 글래스 기판의 제1표면 상으로 종결되는, 경화된 재료로 된 층으로부터 재료의 제1두께를 제거함으로써 경화된 재료로 된 층의 제2표면으로부터 글래스 기판의 제1표면에 제3표면 프로필을 이전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 광 경화가능한 재료로 된 층의 제1표면이 광 경화가능한 필름으로 된 층의 제1표면과 글래스 기판 사이에 위치된 매우 얇은 부착 필름을 이용하여 글래스 기판의 제1표면에 부착되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 회절 광학 글래스를 복제하는 방법에 있어서, 크기적으로 안정되고, 광학적으로 투명한 글래스 기판의 표면상에 얇은 부착 필름을 형성하는 단계와; 1 미크론 이하의 특징부를 갖는 표면 릴리이프 프로필을 형성하기 위해 양각될 수 있는 건성 광 경화가능한 필름을 얇은 부착 필름에 적층시키는 단계와; 복제될 마스터 회절광학 글래스의 표면 릴리이프 프로필의 역을 포함하는 스탬퍼를 광 경화가능한 필름에 제공함으로써 표면 릴리이프 프로필을 광 경화가능한 필름에 양각하는 단계와; 스탬퍼와 광 경화가능한 필름 사이의 삽입된 접촉부를 유지하는 동안, 광 경화가능한 필름이 경화되도록 하여, 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 광 경화된 필름을 생성하는 단계와; 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 광 경화된 필름으로부터 스탬퍼를 분리하는 단계와; 표면 릴리이프 프로필의 모든 부분이 필름을 통하여 글래스 기판까지 동일한 비율로 제거되도록 광 경화된 필름상에 제거 용액을 제공함으로써 표면 릴리이프 프로필을 이전시키는데, 상기 표면 릴리이프 프로필의 모든 부분 상에서의 제거 비율은 글래스 기판으로 공지된 배율이며, 글래스 기판 상의 광 경화된 모든 필름이 제거된 후에 제거 중지되어, 표면 릴리이프 프로필을 포함하는 글래스 기판이 생성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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