KR20050091044A - 산업 직물에의 고분자의 선택적 퇴적의 제어 방법 및 그산업 직물 - Google Patents

산업 직물에의 고분자의 선택적 퇴적의 제어 방법 및 그산업 직물 Download PDF

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Abstract

제지기 직물 또는 산업 직물의 제조 방법은 고분자 수지 재료를 평균 직경 10 마이크론 이상을 갖는 방울로 퇴적시키는 압력제트 어레이를 사용하여 베이스 기재상의 소정 위치에 고분자 수지 재료를 적용하는 것을 필요로 한다. 상기 소정의 위치는, 예를 들어 직물을 구성하는 사(yarns)를 깍지끼움에 의해 형성된 너클 또는 상기 사 사이의 간극(interstices)일 수 있다. 이러한 수지의 정확한 적용의 목적은 투과성 및 내마모성과 같은 직물을 기능적 특성을 조절하는 것이다. 상기 고분자 수지 재료는 그 조성물에 적당한 방법에 의해 고정되고, 선택적으로 연마되어 상기 베이스 기재의 표면 평면 상의 고분자 수지 재료에 균일한 두께를 제공할 수 있다.

Description

산업 직물에의 고분자의 선택적 퇴적의 제어 방법 및 그 산업 직물{Method for controlling a selected deposition of a polymer on an industrial fabric and industrial fabric}
본 발명은, 부분적으로, 제지기술에 관한 것으로서, 상세하게는 종이가 제지기에서 제조되는, 일반적으로 제지기 직물(paper machine clothing)로 불리는 직물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 하이드로인탱글링(hydroentangling)과 같은 방법에 의한 부직품 및 부직포의 제조에 관한 것으로서, 상세하게는 상기 부직품 및 부직포가 제조되는 소위 산업 직물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 상기 직물에 고분자 수지 재료의 퇴적을 제어함으로써 소망하는 기능적 특성(functional properties)을 제공하는 방법에 관한 것이다.
당업자에게 잘 알려진 바와 같이, 제지 공정은 제지기의 성형부에게 이동하는 성형 직물 상에 섬유상 슬러리(fibrous slurry), 즉 셀룰로으스 섬유의 수분산액(aquous dispersion)의 퇴적시키는 것으로 시작된다. 이 과정에서 많은 양의 물이 성형 직물을 통하여 상기 슬러리로부터 배출되어, 성형 직물의 표면상에 셀룰로오스 섬유 웹을 남긴다.
새로이 형성된 셀룰로오스 섬유 웹은 성형부로부터 일련의 프레스 닙(press nib)을 포함하는 프레스부로 진행한다. 셀룰로오스 섬유 웹은 하나의 프레스 직물에 의하여 지지되는 프레스 닙을 통과하거나, 또는, 종종 그러한 바와 같이, 2개의 프레스 직물의 사이를 통과한다. 프레스 닙에서, 셀룰로오스 섬유 웹은 압축력을 받는데, 이 힘은 웹으로부터 물을 짜내고, 웹내의 셀룰로오스 섬유를 서로 부착시켜서 셀룰로오스 섬유 웹을 종이 시트(paper sheet)로 전환시킨다. 이 물은 프레스 직물 또는 직물에 의해 수용되어, 이상적으로는 종이로 돌아가지 않는다.
시트인 웹은 최종적으로 건조부(dryer section)로 진행하는데, 이 건조부는 스팀에 의하여 내부적으로 가열되는, 적어도 하나의 일련의 회전 가능한 건조 드럼 또는 실린더를 포함한다. 상기 종이 시트 자체는, 상기 드럼의 표면에 대하여 종이 시트를 밀착시키는 건조 직물에 의하여, 일련의 각 드럼의 주위로 꾸불꾸불한 행로를 따라서 진행한다. 가열된 드럼은 증발을 통하여 종이 시트의 물 함량을 소망하는 수준까지 감소시킨다.
성형 직물(forming fabrics), 프레스 직물(press fabrics) 및 건조 직물(dryer fabrics)은 모두 제지기에서 순환 루프(endless loop)의 형태를 취하며, 컨베이어와 같이 기능한다는 것이 인식되어야 한다. 또한, 제지 공정은 상당한 속도로 진행되는 연속 공정이라는 것이 인식되어야 한다. 즉, 새로이 제조된 종이 시트가 제지기의 아래 말단의 건조 공정에서 제지기의 빠져나온 후 연속적으로 롤 상으로 권취되는 동안에도 섬유 슬러리는 성형부의 성형 직물위로 연속적으로 공급된다.
부직포의 제조 역시 당업계에서 잘 알려져 있다. 이러한 부직포는 종래의 방사(spinning), 제직(weaving), 또는 편성(knitting) 공정없이 직접 섬유로부터 제조된다. 대신에, 부직포는 새로이 압출된 섬유가 압출 이후 여전히 뜨겁고 끈적끈적한 상태에서 퇴적되어 웹을 형성하는 스펀-본딩(spun-bonding) 또는 멜트-블로우윙(melt-blowing) 공정에 의해 제조될 수 있으며, 상기 공정에서 섬유는 서로 부착되어 전체 부직 웹(nonwoven web)을 만든다.
부직포는 또한 에어-레잉(air-laying) 또는 카딩(carding) 공정에 의해 제조될 수 있으며, 상기 공정에서 섬유 웹은 퇴적 이후 합해져서(consolidated), 니들링(needling) 또는 하이드로인탱글링에 의해 부직포로 제조된다. 하이드로인탱글링에서, 고압 물제트(water jet)가 상기 웹 상에 수직으로 유도되어 섬유를 서로 얽히게 한다. 니들링에서, 얽힘(entanglement)은 니들의 투입 스트로크(entry stroke) 동안 웹의 표면에 있는 섬유를 더욱 웹 내부로 밀어넣는 미들달린 니들(barbed needles)의 왕복 베드(reciprocating bed)를 사용함으로써 기계적으로 달성된다.
순환상 산업 직물(endless industrial fabrics)은 이러한 공정에서 핵심 역할을 한다. 부직포 제조 공정 동안의 온도 조건이 플라스틱 모노필라멘트의 사용을 비실용적이거나 불가능하게 하는 경우에는 금속 와이어가 사용될 수도 있으나, 일반적으로, 상기 직물은 플라스틱 모노필라멘트로부터 제직된다. 제지기 직물의 경우와 같이, 상기 산업 직물은 또한 상기 설명된 방법에 따른 연속 방식으로 그 위에 웹이 놓이고 합해지는 컨베이어의 방식으로 기능한다.
이러한 각 경우에, 즉, 제지기 또는 산업 직물이 연속 제조 공정에서 순환상 컨베이어로서 사용되는 경우, 순환 직물의 내부 표면은 사용되고 있는 기계의 고정 부분(stationary components)과 접촉하게 되어 그러한 접촉으로부터 생기는 마모를 받게 된다. 직물의 수명을 연장하기 위해서는 고분자 수지 재료의 내마모층이 상기 직물의 내부 표면에 적용될 것이다. 종래에는, 스프레이법(spraying) 및 키스-롤 코팅법(kiss-roll coating)이 그러한 코팅을 적용하는 기술들 중 하나로서 사용되었다. 이들의 단점은, 그러한 기술이 부정확하고, 불균일하고 비제어 방식으로 직물의 투과성(permeability)에 악영향를 줄 수 있다는 것이다. 투과성에서 국부적인 차이는 산업 직물에서 제조되는 종이 및 부직포의 품질에 가시적으로 영향을 줄 수 있기 때문에, 그 투과성에 악영향를 주지 않으면서 순환상 직물의 내부 표면에 고분자 수지 재료의 내마모층을 도입하는 방법에 대한 요구가 있어 왔다.
유사하게, 투과성에 악영향을 주지 않으면서 순환 직물의 외부 표면에 그러한 층 또는 코팅을 도입하여, 예를 들어 제조되는 종이 또는 부직포의 취급(handling)과 운반(conveyance)을 향상시키는 것에 대한 요구가 또한 있어 왔다. 예를 들어, 미국특허 제 5,829,488호는 제지기의 싱글-런(single-run) 건조부에서 사용되기 위한 건조기 직물을 개시한다. 상기 건조기 직물은 건조부에서 종이 시트를 면하고 있는 소위 종이 측면(paper side)을 구비한 제직 구조이다. 상기 종이 측면에서 건조기 직물의 적어도 일부 사(yarn)는 친수성으로서 건조기 직물과 종이 시트간의 접착을 강화한다. 상기 사는 종이 측면을 친수성 고분자 수지 재료로 코팅함으로써 친수성으로 될 수 있다. 종래의 방법, 즉 스프레이법 또는 키스-롤 코팅법으로는 직물의 투과성에 악영향을 주지 않고 그와 같이 하는 것이 어렵다.
결국, 직물의 선택영역에 또는 전체 표면에 걸쳐 소망하는 수준으로 투과성을 조절하는 제어 방식으로 제지기 직물 또는 산업 직물에 고분자 수지 재료를 적용하는 방법에 대한 요구가 또한 있어 왔다. 그러한 방법은, 직물에 요구되는 균일한 투과성으로부터의 국소적 이탈물(locallized departure)을 제거하고, 직물의 투과성을 소망하는 균일 정도로 조절하기 위해 사용될 수 있었다. 예를 들어, 종래에는 엣지의 MD 사의 번수(count)(낮은 투과성을 위해 단단하게)를 직물의 중앙부의 낮은 번수(높은 투과성을 위해)에 대비하여 변경하는 것이 교차기계 방향으로 더 균일한 수분 프로파일을 달성하기 위한 노력이었다. 그러나 이와 같은 접근은 문제점이 있었다.
본 발명은 고분자 수지 재료가 제지기 또는 산업 직물의 표면에 높은 제어 및 정확성의 수준으로 적용되어, 투과성에 영향을 주지 않고 소망하는 효과를 얻거나, 또는 투과성에 대한 영향을 최소화하면서 표면 접촉 면적 및 내마모성을 변화시키거나, 또는 반대로, 공극 부피(void volume) 또는 투과성의 국소적 이탈을 변화시키는 것과 같은 소망하는 방식으로 영향을 주는 방법을 제공하여 상기 요구에 대한 해결방법을 제공한다.
도 1은 본 발명의 방법에 따라 제지기 직물 및 산업 직물을 제조하는데 사용되는 장치의 개략도이다;
도 2는 도 1의 장치로부터 나왔을 때 보이는 완성된 직물의 평면도이다;
도 3은 퇴적되는 재료의 다양한 대표 형태의 사시도이다; 또한
도 4a 내지 4c는 사(yarns) 사이에 수지를 적용한 것의 측면 및 상부 대표도이다.
따라서, 본 발명은 직물 상에 또는 그 내부에 고분자 수지 재료를 정확히 적용함으로써 조절되는, 투과성 또는 내마모성과 같은 기능성을 구비한 제지기 직물 또는 산업 직물의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 직물용 베이스 기재를 공급하는 제1 단계를 포함한다.
고분자 수지 재료는 10마이크론 이상의 평균 직경을 갖는 방울로 적어도 하나의 압력제트(piezojet)에 의해 상기 베이스 기재 상의 소정의 위치(location)에 퇴적된다. 상기 고분자 수지 재료는 이후 적당한 방법으로 고정된다.
상기 소정의 위치는, 예를 들어 제어되어야 하는 것이 내마모성 또는 시트 취급성(sheet handling)이라면, 상기 사(yarn)의 교직(interweaving)에 의해 직물의 표면 위에 형성된 너클(knuckle)일 수 있다. 투과성이 제어되어야 하는 기능적 특성이라면, 상기 소정의 위치는 사(yarn) 사이의 간극(interstices)일 수 있다.
이어서, 고분자 수지 재료의 코팅은 선택적으로 연마되어 베이스 기재의 표면 평면에 균일한 두께를 제공함으로써 표면 매끄러움(smoothness)을 향상시키거나 접촉 면적을 증가시킨다.
이제 본 발명은 이하의 첨부 도면들을 빈번히 참조하면서 더욱 상세하게 설명될 것이다.
본 발명에 따른 제지기 직물 또는 산업 직물의 제조 방법은 베이스 기재의 공급으로부터 시작된다. 보통, 베이스 기재는 모노필라멘트사로부터 제직된 직물이다. 그러나, 더 넓게는 상기 베이스 기재는 모노필라멘트, 합연(plied) 모노필라멘트, 멀티필라멘트 및 합연 멀티필라멘트사와 같이, 제지기 직물 또는 부직품 또는 부직포의 제조에 사용되는 벨트의 제조에 사용되는 임의의 사(yarn)를 포함하는 제직, 부직 또는 편성물일 수 있다. 이러한 사(yarn)는 당업자에 의해 본 목적으로 사용될 수 있는 임의의 고분자 수지 재료로부터 압출을 통해 얻어질 수 있다. 따라서, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아라미드, 폴리올레핀 및 다른 수지의 군으로부터의 수지들이 사용될 수 있다.
다르게, 상기 베이스 기재는 Johnson에게 허여된 공동 양도 미국특허 제 4,427,734호에서 개시된 것과 같은 메쉬 직물들로 이루어질 수 있으며, 상기 특허의 내용은 인용에 의하여 본 명세서에 통합된다. 상기 베이스 기재는 또한 Gauthier에게 허여된 미국특허 제 4,567,077호와 같은 많은 미국특허에서 개시된 다양한 나선 링크 벨트(spiral link belts)일 수 있으며, 상기 특허의 내용은 인용에 의해 본 명세서에 통합된다.
더욱이, 상기 베이스 기재는 Rexfelt 등에게 허여된 공동 양도 미국특허 제 5,360,656호에 개시된 방법에 따라 제직, 부직, 편직 또는 메쉬 직물의 스트립을 나선형으로 감음으로써 제조될 수 있으며, 상기 특허의 내용은 인용에 의해 본 명세서에 통합된다. 따라서 상기 베이스 기재는 나선형으로 감긴 스트립을 포함할 수 있으며, 여기에서 각 나선 회전(spiral turn)은 경사 방향으로 상기 베이스 기재를 순환상이 되도록 하는 연속적인 시임(seam)에 의해 다음 회전에 연결된다.
상기한 것이 베이스 기재의 유일하게 가능한 형태라고 인식되어서는 안된다. 제지기 직물 및 관련 기술 분야의 당업자에 의해 사용될 수 있는 임의의 베이스 기재가 또한 사용될 수 있다.
베이스 기재가 공급되었으면, 하나 이상의 스테이플 섬유 배트(staple fiber batt) 층이 당업자에게 잘 알려진 방법에 의해 상기 베이스 기재의 양면 중 한면 또는 양면 모두에 선택적으로 부착될 수 있다. 아마 가장 잘 알려지고 가장 일반적으로 사용되는 방법은 니들링 방법일 것이며, 여기에서 배트의 각 스테이플 섬유는 복수의 왕복 미늘달린 니들(reciprocating barbed needles)에 의해 상기 베이스 구조 내로 유도된다. 다르게, 각 스테이플 섬유는 하이드로인탱글링에 의해 상기 베이스 기재에 부착될 수 있으며, 여기에서 가는(fine) 고압의 물제트(water jet)가 상기 언급된 왕복 미늘달린 니들과 동일한 기능을 수행한다. 스테이플 섬유 배트가 이러한 방법들 또는 당업자에게 알려진 다른 방법들 중 하나에 의해 상기 베이스 기재에 부착되면, 스테이플 섬유 배트는 제지기의 프레스부에서 젖은 종이 웹을 탈수시키는데 일반적으로 사용되는 다양한 프레스 직물의 스테이플 섬유의 형태와 동일한 형태를 가질 것이라는 것이 인식될 것이다.
어떤 경우에는, 상기 수지를 적용한 후 구조에 초기층 또는 부가적인 배트(batt)를 적용할 필요가 있을 것이다. 그러한 경우 패턴된 수지는 배트 섬유층의 아래에 놓일 것이다. 또한, 수지층은 두개의 베이스 구조 사이의 라미네이트 내에 존재하여, 예를 들어 "네스팅(nesting)"을 방지하거나, 다른 소망하는 결과를 얻을 것이다.
베이스 기재의 양면 중 한면 또는 양면에 스테이플 섬유 배트 재료가 부가된 또는 부가되는 않은 베이스 기재가 공급되면, 그것은 도 1에서 개략적으로 도시된 장치(10) 상에 놓인다. 베이스 기재는 순환상이거나 제지기에 장착되는 과정에서 순환 형태로 접합될 수 있다는 것을 이해해야 한다. 그와 같이, 도 2에 도시된 베이스 기재(12)는 베이스 기재(12) 전체 길이의 상대적으로 짧은 부분이라는 것을 이해해야 한다. 베이스 기재(12)가 순환상인 경우, 그것은 가장 실용적으로 한쌍의 롤 주변에 놓일 것이며, 이는 도면에 도시되지는 않았으나 제지기 직물 분야의 당업자에게는 매우 익숙할 것이다. 그러한 경우에, 장치(10)는 상기 두개의 롤 사이의 베이스 기재(12)의 두개의 런(run) 중 하나 위에 놓일 것이며, 가장 유기하게는 상부 런(top run)에 놓일 것이다. 그러나, 순환상이든 아니든 베이스 기재(12)는 공정 중에 적당한 정도의 장력하에 놓이는 것이 바람직하다. 더욱이, 처짐(sagging)을 방지하기 위해서는 베이스 기재(12)는 그것이 장치(10)를 통해 이동할 때 수평 지지 부재에 의해 아래로부터 지지될 수 있다.
이제 도 1에 관해 더욱 상세히 설명하면, 본 발명의 방법이 수행됨에 따라 베이스 기재(12)는 장치(10)의 윗방향으로 움직이는 것으로 나타나 있으며, 장치(10)는 상기 기재(12)가 그로부터 벨트가 제조됨에 따라 점진적으로 통과하는 일련의 스테이션을 포함한다.
상기 스테이션은 하기와 같이 명명된다.
1. 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(optional polymer deposition station)(14);
2. 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(imaging/precise polymer deposition station)(24);
3. 선택적인 고정 스테이션(optional setting station)(36); 및
4. 선택적인 연마 스테이션(optional grinding station)(44).
제 1 스테이션, 즉, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14)에서, 횡단레일(18, 20) 상에 놓여지고 상기 횡단 레일 사이에서 베이스 기재(12)의 이동 방향에 평행한 방향으로뿐만 아니라 그 횡단 레일 위에서 베이스 기재(12)의 이동 방향의 가로 방향으로 이동할 수 있는 압력제트 어레이(piezojet array)(16)는 베이스 기재가 정지해 있는 동안, 베이스 기재(12) 상에 또는 그 내부에 소망하는 양의 고분자 수지 재료를 반복된 단계로 퇴적하여 축적하는데 사용될 수 있다. 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14)은 필요한 경우 스프레이법과 같은 종래 기술을 사용하여 달성될 수 있는 것보다 더욱 균일하게 상기 베이스 기재 상에 고분자 수지 재료를 퇴적하는데 사용될 수 있다. 그러나, 고분자 퇴적 스테이션(14)은 고분자 수지 재료를 베이스 기재(12)의 사 및 그 사 사이의 공간(space) 또는 간극(interstices)에 무작위로 적용한다는 것을 이해해야 한다. 이는 모든 용도에서 요구되는 것은 아니며, 따라서 고분자 퇴적 스테이션(14)의 사용은 본 발명에서 선택적이다.
또한 상기 고분자 수지 재료의 퇴적은 베이스 기재의 움직임과 거꾸로 움직이는 것(traversing)을 필요로 할 뿐만 아니라, 그러한 움직임에 평행하거나, 그러한 움직임에 나선방향이거나, 본 목적에 적합한 임의의 다른 방법일 수 있다.
압력제트 어레이(16)는 적어도 하나 그러나 바람직하게는 복수의 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트를 포함하며, 각 압력제트는 작동 성분(active component)이 압전 요소(piezoelectric element)인 펌프처럼 기능한다. 실용적인 문제로서 256개 이하 또는 그 이상의 고압 제트의 어레이가 기술이 허락하는 한 이용될 수 있다. 상기 작동 성분은 사용된 전기적 신호에 의해 물리적으로 변형되는 수정(crystal) 또는 세라믹이다. 이러한 변형은 상기 수정 또는 세라믹이 펌프로서 기능하는 것을 가능하게 하며, 이는 적당한 전기적 신호가 수용될 때마다 액체 재료의 방울을 물리적으로 분출한다. 그와 같이, 컴퓨터 제어되는 전기 신호에 따라 소망하는 재료의 방울을 반복해서 공급하여 소망하는 양의 재료를 소망하는 형태로 축적하는데 압력제트를 사용하는 이러한 방법은 보통 "드롭-온-디맨드(drop-on-demand)" 방법으로 지칭된다.
다시 도 1과 관련하여, 베이스 기재(12)가 정지해 있는 동안, 압력제트 어레이(16)는 베이스 기재(12)의 엣지로부터, 또는 바람직하게는 그 안에서 길이방향으로 연장하는 기준실(reference thread)로부터 출발하여, 길이 방향 및 베이스 기재(12)를 가로질러 폭방향으로 이동하고, 고분자 수지 재료를 아주작은 직경 10 마이크론 또는 좀더 큰 50 마이크론 또는 100 마이크론의 극히 작은 방울의 형태로 퇴적한다. 압력제트 어레이(16)의 베이스 기재(12)에 대한 길이방향 및 폭방향으로의 이동, 및 어레이(16)에서 각 압력제트로부터 상기 고분자 수지 재료 방울의 퇴적은 베이스 기재(12) 상에, 반복적으로 적용하기 위해 컴퓨터에 의해 형성된 패턴의 세 평면 즉, 길이, 폭 및 깊이 또는 높이(x, y, z치수 또는 방향)의 기하(geometry)를 제어하기 위한 제어 방식으로 제어되어, 베이스 기재(12)의 단위 면적당 소망하는 양의 고분자 수지 재료를 축적(build-up)한다.
고분자 수지 재료를 베이스 기재(12) 상에 또는 그 내부에 퇴적하기 위해 압력제트 어레이가 사용되는 본 발명에서, 고분자 수지 재료의 선택은 각 압력제트가 일정한 적하 운반 속도(drop delivery rate)로 상기 고분자 수지 재료를 공급하도록 운반시, 즉 고분자 수지 재료가 퇴적을 위한 압력제트의 노즐에 있을 때 그 고분자 수지 재료의 점도가 100 cps(centipoise) 이하여야 한다는 조건에 의해 제한된다. 고분자 수지 재료의 선택을 제한하는 두번째 조건은 그것이 방울로서 압력제트로부터 베이스 기재(12)로 떨어지는 과정에서, 또는 베이스 기재(12) 상에 떨어지고 난 후 부분적으로 고정되어, 고분자 수지 재료가 흐르는 것을 방지하고 고분자 수지 재료에 대한 제어를 유지하여 고분자 수지 재료가 베이스 기재(12) 상의 떨어진 위치에 방울의 형태로 유지되는 것을 보장해야 한다는 것이다. 이러한 조건을 만족하는 적당한 고분자 수지 재료는 다음과 같다:
1. 핫멜트(hot melts) 또는 수분 경화(moisture-cured) 핫멜트;
2. 우레탄 및 에폭시에 기초한 2성분 반응계(two-part reactive systems);
3. 우레탄, 폴리에스테르, 폴리에테르 및 실리콘으로부터 유도된 반응성 아크릴화 단량체 및 아크릴화 올리고머로 이루어진 감광성 고분자 조성물; 및
4. 아크릴 및 폴리우레탄을 포함하는 수성 라텍스 및 분산액, 및 입자 충진 배합물(particel-filled formulation).
고분자 수지 재료는 그것이 상기 베이스 기재 상에 퇴적된 후 베이스 기재(12) 상에 또는 그 내부에 고정될 필요가 있다는 것이 이해되어야 한다. 기능성 고분자 수지 재료가 고정되는 방법은 그것의 물리적 및/또는 화학적 조건에 따른다. 핫멜트(hot-melt) 재료가 냉각에 의해 고정되는 반면 감광성 고분자는 빛에 의해 경화된다. 수성 라텍스(aquous-based latex) 및 분산물(dispersions)은 열로써 건조 및 이후에 경화되며, 반응성 계(reactive system)는 열로써 경화된다. 따라서, 기능성 고분자 수지 재료는 경화, 냉각, 건조 또는 이들의 조합에 의해 고정될 수 있다.
상기 재료를 퇴적함에 있어 상기 제트(jet)의 정확도는 형성되는 구조의 치수 및 형태에 의할 것이다. 또한 사용되는 제트의 종류 및 적용되는 재료의 점도가 선택되는 제트의 정확도에 영향을 줄 것이다.
고분자 수지 재료의 적당한 고정은 그것의 베이스 기재(12) 내로의 침투 및 상기 베이스 기재 내에서의 분포를 조절하는데, 즉 그 재료를 소망하는 양의 베이스 기재(12) 내에서 조절하고 한정하는데 필요하다. 그러한 조절은 베이스 기재(12)의 표면 평면 아래에 위킹(wicking) 및 퍼짐(spreading)을 방지하기 위해 중요하다. 그러한 조절은 예를 들어, 베이스 기재(12)를 상기 기능성 고분자 재료가 접촉시 즉시 고정되도록 하는 온도에서 유지함에 의해 수행될 수 있다. 조절은 또한 잘 알려진 또는 잘 정해진 경화 또는 반응시간을 가진 재료를 기능성 고분자 수지 재료가 그것이 소망하는 부피의 베이스 기재(12)를 넘어 퍼질 시간을 갖기 전에 고정되는 개방도(degree of openness)를 가진 베이스 기재에 사용함으로써 수행될 수 있다.
단위 면적당 소망하는 양의 고분자 수지 재료가 상기 패턴이 베이스 기재(12)에 걸쳐진 횡단레일(18, 20) 사이에 있는 밴드에서 적용되었으면, 베이스 기재(12)는 상기 밴드 폭과 동일한 양만큼 길이 방향으로 전진하고, 상기에서 기술된 과정은 반복되어 이전에 완성된 밴드에 인접한 새로운 밴드에 고분자 수지 재료를 적용한다. 이러한 반복적 방법으로, 전체 베이스 기재(12)에 단위면적당 소망하는 양의 고분자 수지 재료를 제공할 수 있다.
다르게, 베이스 기재(12)가 압력제트 어레이 아래에서 이동하는 동안, 압력제트 어레이(16)는 베이스 기재(12)의 한 엣지 또는 바람직하게는 그 안에서 길이방향으로 연장하는 기준실로부터 출발하여, 횡단레일(18, 20)에 대해 고정된 위치에서 유지되어, 베이스 기재(12) 주변에 길이방향의 스트립에 단위면적당 소망하는 양의 고분자 수지 재료를 퇴적한다. 길이방향 스트립이 완성되면, 압력제트 어레이(16)는 횡단레일(18, 20) 상에서 폭방향으로 길이 방향 스트립의 폭에 동일한 양만큼 이동하며, 상기 기술된 과정은 반복되어 이전에 완성된 스트립에 인접한 새로운 길이방향 스트립 내에 고분자 수지 재료를 적용한다. 이러한 반복적인 방식으로, 필요한 경우, 전체 베이스 기재(12)에 단위면적당 소망하는 양의 고분자 수지 재료가 제공될 수 있다.
압력제트(16)는 베이스 기재(12) 위에 한번 이상 통과함으로써 소망하는 양의 재료를 퇴적시킬 수 있고 소망하는 형태를 만들 수 있다. 이와 관련하여, 상기 퇴적은 도 9에 일반적으로 도시된 임의 갯수의 형태를 취할 수 있다. 상기 형태는 두꺼운 베이스가 윗방향으로 테이퍼링된(tapering upward) 정사각형, 둥근 원추형, 직사각형, 타원형, 사다리꼴 등의 형태일 수 있다. 선택된 디자인에 따라, 퇴적되는 재료의 양은 상기 제트가 반복적으로 상기 퇴적 영역 위로 지나감에 따라 감소하는 방식으로 적층될 수 있다.
횡단레일(18, 20)의 한쪽 말단에는 각 제트로부터의 고분자 수지 재료의 흐름을 검사하기 위한 제트-체크(jet-check) 스테이션(22)이 제공된다. 여기서, 상기 제트는 정화되고 세척되어 기능에 문제있는 제트 장치는 자동적으로 작동이 회복된다.
제2 스테이션, 즉 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)이며 본 발명에서 유일하게 선택적이지 않은 상기 스테이션에서, 횡단레일(26, 28)은, 베이스 기재(12)가 정지해 있는 동안, 베이스 기재(12)의 폭을 가로질러 이동할 수 있는 디지털 화상형성 카메라(30) 및 베이스 기재(12)의 폭을 가로질러 및 횡단레일(26, 28) 사이에서 상기 베이스 기재에 대해 길이 방향으로 이동할 수 있는 압력제트 어레이(repair-jet array)(32)를 지지한다.
디지털 화상형성 카메라(30)는 베이스 기재(12)의 표면을 검사하여 베이스 기재(12)의 사(yarn) 및 그러한 사 사이의 공간 및 간극의 위치를 파악한다. 실제 표면과 소망하는 외관(appearance)를 비교하는 것은 상기 디지털 화상형성 카메라(30)와 함께 작동하는 고속 패턴 인식기(FPR: fast pattern recognizer) 프로세서에 의해 수행될 수 있다. 상기 FPR 프로세서는 압력제트 어레이(32)에 신호를 보내어 고분자 수지 재료를 필요로 하는 위치에 고분자 수지 재료를 퇴적시키도록 하여 소망하는 형태에 일치시킨다. 예를 들어, 소망하는 방식으로 직물의 투과성을 조절하기 위한 일부 시퀀스에서 고분자 수지 물질에 의해 간극이 메워지는 것이 요구되는 경우, 그러한 결과는 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)에 의해 달성될 수 있다. 도 4A 내지 4C에 도시된 바와 같이 사(19) 상의 수지 재료(17)의 퇴적을 제어함으로써 사(13) 사이 및 사(15) 위의 공간(11)이 채워질 수 있으며, 이는 표면 균일성 및 평면성을 제공한다.
다르게, 고분자 수지 재료가 상기 사 사이의 간극이 아닌 상기 사에만 퇴적되어야 하는 경우, 이는 또한 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)에 의해 달성될 수 있다. 상기와 같이, 횡단레일(26, 28)의 한쪽 말단에 고압 체크 스테이션(piezojet check station)(34)이 상기 각 제트로부터의 상기 재료의 흐름을 검사하기 위해 제공된다. 여기에서, 압력제트 어레이(32)의 각 압력제트는 정화되고 세척되어 기능에 문제있는 제트 장치는 자동적으로 작동이 회복된다.
제3 스테이션, 즉 선택적인 고정 스테이션(36)에서, 횡단레일(38, 40)은 사용되는 고분자 수지 재료를 고정하는데 필요할 수 있는 고정 장치(42)를 지지한다. 상기 고정 장치(44)는 예를 들어, 적외선, 열풍, 마이크로웨이브 또는 레이저원(laser source)과 같은 열원(heat source), 냉각 공기, 자외선 또는 가시광선원(visible light source)일 수 있으며, 사용되는 고분자 수지 재료의 조건에 따라 그 선택이 결정된다.
마지막으로, 제4 및 마지막 스테이션은 선택적인 연마 스테이션(44)이며, 여기에서 적당한 연마재(abrasive)가 사용되어 베이스 기재(12)의 표면 평면 상에 있는 고분자 수지 재료에 균일한 두께를 제공한다. 상기 선택적인 연마 스테이션(44)은 연마 표면을 가진 롤 및 반대 표면 상에 또다른 롤 또는 지지 표면(backing surface)을 포함하여, 상기 연마가 균일한 두께 및 매끄럽고 거시적으로 단일 평면의 표면을 가져오도록 보장한다.
예로서, 이제 도 2를 참조하면, 상기 도면은 본 발명에 따라 베이스 기재 표면의 정확한 위치에 퇴적된 고분자 수지 재료를 구비한 베이스 기재(12)의 평면도이다. 베이스 기재(12)는 길이방향사(52) 및 가로방향사(54)로 단일 층 평직(plain weave)으로 제직되나 이는 본 발명자들이 본 발명을 상기 제직에만 제한되기를 의도하는 것은 아니라는 것이 이해되어야 한다. 길이방향사(52)는 이것이 가로방향사(54)를 교차하는 위치에 너클(56)을 형성한다. 유사하게, 가로방향사(54)는 이것이 길이방향사(52)를 교차하는 위치에 너클(58)을 형성한다. 복수의 간극(interstices)(60)은 길이방향사(52) 및 가로방향사(54) 사이에서 이들을 깍지끼움에 의해 형성된다.
도 2는 장치(10)의 선택적인 고정 스테이션(36) 및 선택적인 연마 스테이션(44)으로부터의 출구에서 보이는 완성된 직물의 평면도이다. 직물(62)는 소정의 방법으로 직물(62)의 투과성을 조절하기 위하여 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)에 의해 정확한 소정의 위치에 퇴적된 고분자 수지 재료(64)로 채워진 일부 소정의 간극(60)을 가지고 있다. 또한, 너클(56, 58)은 이에 적용된 코팅(64)을 가지고 있다. 코팅(64)은, 도 2에 주어진 도면이 직물(62)의 배면(back side)이라면 내마모성을 위하여, 도 2에 주어진 도면이 직물(62)의 종이면(paper side)이라면 시트 취급성 향상을 위한 것일 수 있다. 코팅(64)는 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)에 의해 너클(56, 58)에 정확히 적용될 수 있다.
상기 패턴은 베이스 기재 상의 불규칙하거나 반복적인 불규칙 패턴이거나 또는 품질 조절을 위해 벨트에서 벨트로 반복될 수 있는 패턴일 수 있다는 것을 유의해야 한다.
표면은 보통, 제조되는 종이, 티슈, 타월 또는 부직포와의 접촉 표면이다. 일부 제품/공정에서는 이러한 수지들이 주로 비제품 접촉면(nonproduct contact surface) 상에 있을 필요가 있다고 생각된다. 본 발명의 다른 구현예에서, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14), 화상형성/수선 스테이션(24) 및 선택적인 고정 스테이션(36)은, 상기와 같이 교차기계 방향으로 인덱싱(indexing)함에 의하는 것이 아니라 나선 기술(spiral technigue)로 베이스 기재(12)로부터 벨트를 제조하도록 변형될 수 있다. 나선 기술에서, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14), 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24) 및 선택적인 고정 스테이션은 베이스 기재(12)의 한쪽 엣지, 예를 들어 도 1의 왼쪽 엣지에서 출발하여, 베이스 기재(12)가 도 1에서 도시된 방향으로 이동함에 따라 베이스 기재(12)를 점차적으로 가로질러 이동한다. 스테이션(14, 24, 36) 및 베이스 기재(12)가 이동하는 속도는 최종 벨트에서 요구되는 고분자 수지 재료가 연속 방식으로 소망하는대로 베이스 기재(12) 상에 나선형으로 되도록 정해진다. 이러한 다른 구현예에서, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14) 및 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24)에 의해 퇴적된 고분자 수지 재료는 선택적인 고정장치(42) 아래에서의 각 나선 통과(spiral pass)마다 부분적으로 고정될 수 있으며, 전체 베이스 기재(12)가 장치(10)를 통해 진행되었을 때 완전히 고정될 수 있다.
다르게, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14), 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24) 및 선택적인 고정 스테이션(36)은, 베이스 기재(12)가 그것들의 아래를 지나갈 때 최종 벨트에서 소망 패턴이 베이스 기재(12) 주변에서 길이 방향 스트립에 적용될 수 있도록 압력제트 어레이(16)와 나란한 고정 지점에 위치할 수 있다. 길이방향 스트립의 완성시, 선택적인 고분자 퇴적 스테이션(14), 화상형성/정밀한 고분자 퇴적 스테이션(24) 및 선택적인 고정 스테이션(36)은 길이 방향 스트립의 폭과 동일한 만큼 폭방향으로 이동하고, 그 과정은 먼저 완성된 스트립에 인접한 새로운 길이방향 스트립에 반복된다. 이러한 반복적인 방식으로 전체 베이스 구조(12)는 소망하는대로 완전히 가공될 수 있다. 압력제트 어레이의 각 압력제트 중 일부는 하나의 고분자 수지 재료를 퇴적시키는데 사용되는 반면 다른 압력제트는 다른 고분자 수지 재료를 퇴적시키는데 사용되어, 예를 들면 한 종류 이상의 고분자 수지 재료의 미세영역(microregions)을 가진 표면을 제조할 수 있다는 것을 상기해야 한다.
더욱이, 전체 장치는 재료가 가공됨에 따라 고정된 위치에 남아 있을 수 있다. 상기 재료는 전폭 벨트(full width belt)일 필요는 없으나 Rexfelt에게 허여된 미국특허 제 5,360,656호에 개시된 것과 같은 재료의 스트립일 수 있으며(상기 특허의 내용은 인용에 의해 본 명세서에 통합된다), 이후 전폭 벨트로 형성될 수 있다는 것을 인식해야 한다. 상기 스트립은 완전히 가공된 후에 일련의 롤 상에서 풀리거나 감길 수 있다. 이러한 벨트 재료의 롤은 저장되고 이후, 예를 들어 직전에 언급된 특허의 기술을 사용하여 순환형 전폭 구조를 형성하는데 사용될 수 있다.
상기에 대한 변형은 당업자에게 자명할 것이나, 그렇게 변형된 발명이 첨부된 청구범위에 속하지 않게 하지는 않을 것이다. 적용된 수지는 사(yarn)의 위 뿐만 아니라 공극(voids)을 채우는 임의의 패턴 또는 조합일 수 있다. 수지는 사 길이를 따라 연속적이거나 비연속적일 수 있으며 내마모성을 제공할 수 있다. 압력제트가 상기에서 기능성 고분자 수지 재료를 베이스 기재 상의 또는 내부의 소정의 위치에 퇴적시키는데 사용되는 것으로 개시되었지만, 소망하는 크기 범위에서 이들의 방울을 퇴적하는 다른 수단들도 당업자에게 알려질 수 있거나 또는 장래 개발될 수 있으며, 그러한 다른 수단은 본 발명의 실행에 사용될 수 있다. 예를 들어, 둥근 반구(round hemisphere)와 같은 최종 요소와 같이 상대적으로 더 큰 규모의 패턴을 필요로 하는 공정에서, 상대적으로 큰, 심지어 단일 수지 퇴적 노즐이 전체 제트 어레이를 포함할 수 있다. 그러한 수단을 사용한다 하여도, 그것이 본 발명과 함께 수행되면, 첨부된 청구항의 범위를 벗어나지는 않을 것이다.

Claims (35)

  1. a) 직물용 베이스 기재를 공급하는 단계;
    b) 상기 베이스 기재 상에 고분자 수지 재료를, 퇴적된 고분자 수지 재료의 x, y, z 치수를 제어하기 위한 제어 방식으로 분리된 위치(discrete locations)에 방울로 퇴적시켜 소정 패턴을 형성함으로써, 상기 직물에 소망하는 기능적 특성을 제공하는 단계; 및
    c) 상기 고분자 수지 재료를 적어도 부분적으로 고정시키는 단계
    를 포함하는 제지기 직물 또는 산업 직물의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 방울은 10 마이크론 이상의 평균 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 베이스 기재 상에 퇴적된 상기 고분자 수지 재료를 연마하여 상기 베이스 기재의 표면 평면 상의 상기 고분자 수지 재료에 균일한 두께 및 매끄러움을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c)단계는 상기 베이스 기재를 가로질러 폭방향으로 연장하는 연속적 밴드 상에서 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c)단계는 상기 베이스 기재의 둘레에서 길이방향으로 연장하는 연속적인 스트립(strips) 상에서 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c) 단계는 상기 베이스 기재 둘레에서 나선형으로 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 소정의 위치는 가로방향사를 지나가는 상기 베이스 기재의 길이방향사에 의해 형성된 너클인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 소정의 위치는 길이방향사를 지나가는 상기 베이스 기재의 가로방향사에 의해 형성된 너클인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 소정의 위치는 상기 베이스 기재의 길이방향사 및 가로방향사 사이의 간극(interstices)인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 고분자 수지 재료는 복수의 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트를 포함하는 압력제트 어레이에 의해 퇴적되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 b)단계는:
    i) 상기 베이스 기재의 표면을 검사하여 상기 고분자 수지 재료가 상기 소정의 위치에 퇴적되었는지 확인하는 단계; 및
    ii) 고분자 수지 재료가 부족한 상기 소정의 위치에 상기 고분자 수지를 퇴적하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 검사 단계는 디지털 화상형성 카메라와 함께 작동하는 고속 패턴 인식기(FPR) 프로세서에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 퇴적 단계는 상기 FPR 프로세서에 연결된 압력제트 어레이에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 고분자 수지 재료는:
    1. 핫멜트 또는 수분 경화 핫멜트;
    2. 우레탄 및 에폭시에 기초한 2성분 반응계;
    3. 우레탄, 폴리에스테르, 폴리에테르 및 실리콘으로부터 유도된 반응성 아크릴화 단량체 및 아크릴화 올리고머로 이루어진 감광성 고분자 조성물; 및
    4. 아크릴 및 폴리우레탄을 포함하는 수성 라텍스 및 분산액, 및 입자 충진 배합물
    로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 열원(heat source)에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  16. 제 1 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 냉각 공기(cold air)에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  17. 제 1 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 화학선 조사(actinic radiation)에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  18. 제 10 항에 있어서, 상기 압력제트 어레이는 복수의 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트를 포함하며, 여기에서 상기 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트 중 일부는 하나의 고분자 수지 재료를 퇴적하는 반면, 다른 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트는 다른 고분자 수지 재료를 퇴적하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  19. 제 1 항에 있어서, 궁극적으로 감겨서 스트립의 폭보다 큰 폭을 갖는 기재를 형성하는 재료의 제직, 부직, 나선형, 나선-링크, 편직, 메쉬(mesh) 또는 스트립 이루어진 군에서 선택된 베이스 기재 또는 배트(batt)를 포함하는 베이스 기재를 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  20. a) 직물용 베이스 기재를 공급하는 단계;
    b) 상기 베이스 기재 상에 고분자 수지 재료를, 퇴적된 재료의 x, y, z 치수를 제어하기 위한 제어 방식으로 분리된 위치에 방울로 퇴적시켜 소정 패턴을 형성함으로써 상기 직물에 소망하는 기능성을 제공하는 단계; 및
    c) 상기 고분자 수지 재료를 적어도 부분적으로 고정시키는 단계
    를 포함하는 방법으로 제조된 제지기 직물 또는 산업 직물.
  21. 제 20 항에 있어서, 10 마이크론 이상의 평균 직경을 갖는 방울을 퇴적하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 직물.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 베이스 기재 상에 퇴적된 상기 고분자 수지 재료를 연마하여 상기 베이스 기재의 표면 평면 상의 상기 고분자 수지 재료에 균일한 두께 및 매끄러움을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 직물.
  23. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c)단계는 상기 베이스 기재를 가로질러 폭방향으로 연장하는 연속적 밴드(bands) 상에서 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 직물.
  24. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c)단계는 상기 베이스 기재의 둘레에서 길이방향으로 연장하는 연속적인 스트립(strips) 상에서 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 직물.
  25. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계 및 c) 단계는 상기 베이스 기재 둘레에서 나선형으로 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  26. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 분리된 위치는 가로방향사를 지나가는 상기 베이스 기재의 길이방향사에 의해 형성된 너클인 것을 특징으로 하는 직물.
  27. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 분리된 위치는 길이방향사를 지나가는 상기 베이스 기재의 가로방향사에 의해 형성된 너클인 것을 특징으로 하는 직물.
  28. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 베이스 기재 상의 상기 분리된 위치는 상기 베이스 기재의 길이방향사 및 가로방향사 사이의 간극(interstices)인 것을 특징으로 하는 직물.
  29. 제 20 항에 있어서, 상기 b)단계에서 상기 고분자 수지 재료는 복수의 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트를 포함하는 압력제트 어레이에 의해 퇴적되는 것을 특징으로 하는 직물.
  30. 제 20 항에 있어서, 상기 고분자 수지 재료는:
    1. 핫멜트 또는 수분 경화 핫멜트;
    2. 우레탄 및 에폭시에 기초한 2성분 반응계;
    3. 우레탄, 폴리에스테르, 폴리에테르 및 실리콘으로부터 유도된 반응성 아크릴화 단량체 및 아크릴화 올리고머로 이루어진 감광성 고분자 조성물; 및
    4. 아크릴 및 폴리우레탄을 포함하는 수성 라텍스 및 분산액, 및 입자 충진 배합물
    로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 직물.
  31. 제 20 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 열원에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 직물.
  32. 제 20 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 냉각 공기에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 직물.
  33. 제 20 항에 있어서, 상기 고정 단계는 상기 고분자 수지 재료를 화학선 조사에 노출시킴에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 직물.
  34. 제 20 항에 있어서, 상기 압력제트 어레이는 복수의 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트를 포함하며, 여기에서 상기 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트 중 일부는 하나의 고분자 수지 재료를 퇴적하는 반면, 다른 각각 컴퓨터 제어되는 압력제트는 다른 고분자 수지 재료를 퇴적하는 것을 특징으로 하는 직물.
  35. 제 20 항에 있어서, 궁극적으로 감겨서 스트립의 폭보다 큰 폭을 갖는 기재를 형성하는 재료의 제직, 부직, 나선형, 나선-링크, 편직, 메쉬(mesh) 또는 스트립으로 이루어진 군에서 선택된 베이스 기재 또는 배트(batt)를 포함하는 베이스 기재를 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 직물.
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