KR20050085743A - 화상 처리 장치, 화상 표시 장치, 화상 처리 방법, 및 화상표시 방법 - Google Patents

Abstract

화상 데이터(DI)의 윤곽부를 검출하고, 검출된 윤곽부의 윤곽폭(W)을 출력하는 윤곽폭 검출 회로(1)와, 윤곽폭(W)에 근거하여 배율 제어량(ZC)을 생성하는 배율 제어량 생성 회로(2)와, 배율 제어량(ZC)에 근거하여 변환 배율(Z)을 생성하는 배율 생성 회로(3)와, 변환 배율(Z)을 이용하여 화상 데이터(DI)의 화소수를 변환하는 화소수 변환 회로(4)를 갖고, 윤곽부의 선예도를 과부족 없게 강조한다.

Description

화상 처리 장치, 화상 표시 장치, 화상 처리 방법, 및 화상 표시 방법{IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE, IMAGE PROCESSING METHOD, AND IMAGE DISPLAY METHOD}

본 발명은 디지털 화상을 임의의 배율로 화소수 변환하는 화상 처리 장치 및 이 화상 처리 장치를 포함하는 화상 표시 장치, 및, 디지털 화상을 임의의 배율로 화소수 변환하는 화상 처리 방법 및 이 화상 처리 방법이 적용된 화상 표시 방법에 관한 것으로, 특히 디지털 화상의 윤곽부에서의 화소수 변환에 관한 것이다.

화상의 윤곽부에서의 화상 처리 방법으로서, 예를 들면, 일본 특허 공개 제2002-16820호 공보에 개시된 것이 있다. 이 화상 처리 방법은 입력 화상 신호의 미분값의 절대값을 계산하여 이 절대값의 평균값을 계산하고, 계산된 절대값으로부터 평균값을 뺀 차분값을 계산하며, 이 차분값에 따라서 입력 화상 신호의 확대 축소율을 제어하는 것이다.

또한, 화상의 윤곽부에서의 다른 화상 처리 방법으로서, 예를 들면 일본 특허 공개 제2000-101870호 공보에 개시된 것이 있다. 이 화상 처리 방법은 입력 화상 신호의 고역 성분으로부터 제어 신호를 생성하고, 이 제어 신호에 의해 보간 화소의 위상을 제어하는 것이다.

그러나, 상기한 종래의 화상 처리 방법에서는, 입력 화상 신호의 고역 성분의 양에 근거하여 윤곽부의 선예도(sharpness)를 개선하고 있기 때문에, 화상 신호의 레벨의 변화가 큰 윤곽부에 비해서, 화상 신호의 레벨의 변화가 작은 윤곽부에서는 선예도가 개선되기 어렵다고 하는 문제가 있었다. 이 때문에, 화상 전체에 대해서 과부족 없게 선예도를 향상하는 것이 곤란하였다.

그래서, 본 발명은 화상의 윤곽부의 선예도를 적절히 향상시킬 수 있는 화상 처리 장치, 화상 표시 장치, 화상 처리 방법, 및 화상 표시 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

발명의 개시

본 발명의 화상 처리 장치는, 화상 데이터의 윤곽부를 검출하고, 상기 검출된 윤곽부의 윤곽폭을 출력하는 윤곽폭 검출 회로와, 상기 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하는 배율 제어량 생성 회로와, 상기 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하는 배율 생성 회로와, 상기 변환 배율을 이용하여 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 화소수 변환 회로를 갖는 것이다.

도 1(a), (b)는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 방법(확대 변환의 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 2(a), (b)는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 방법(축소 변환의 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 또는 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도,

도 4(a)~(d)는 도 3의 화상 처리 장치에서의 윤곽폭 검출 회로, 배율 제어량 생성 회로, 및 배율 생성 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 5(a1)~(d1) 및 도 5(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(윤곽폭 및 윤곽부의 차분량과, 배율 제어량과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 6(a1)~(d1) 및 도 6(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 진폭과, 출력 화상에서의 윤곽부의 변화의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 7(a1)~(d1) 및 도 7(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 진폭을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 8(a1)~(d1) 및 도 8(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 생성 기간과, 출력 화상에서의 윤곽부의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 9(a)~(d)는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 방법을 설명하기 위한 도면,

도 10(a1)~(d1) 및 도 10(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 11(a1)~(d1) 및 도 11(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간과 진폭의 양쪽을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 12(a1)~(d1), 도 12(a2)~(d2), 및 도 12(a3)~(d3)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(미리 정해진 기준 변환 배율과, 배율 제어량 데이터수와의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 13은 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 장치의 변형예의 구성을 나타내는 블록도,

도 14는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 및 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도,

도 15는 본 발명의 실시예 2에 따른 화상 표시 장치의 구성을 나타내는 블록도,

도 16은 본 발명의 실시예 3에 따른 화상 표시 방법을 나타내는 흐름도,

도 17은 본 발명의 실시예 4에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 또는 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도,

도 18(a)~(e)는 도 17의 화상 처리 장치에서의 윤곽폭 검출 회로, 윤곽 기준 위치 검출 회로, 배율 제어량 생성 회로, 및 배율 생성 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 19는 본 발명의 실시예 4에서의 변환 배율의 제어 방법(윤곽 기준 위치와, 배율 제어량의 적분값과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 20은 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 21은 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 22는 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 23(a), (b)는 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 24는 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 25(a), (b)는 본 발명의 실시예 4에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 26(a1)~(e1) 및 도 26(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 4에서의 변환 배율의 제어 방법(윤곽폭 및 윤곽부의 차분량과, 배율 제어량과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 27(a1)~(e1) 및 도 27(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 5에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 진폭과, 출력 화상에서의 윤곽부 변화의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 28(a1)~(e1) 및 도 28(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 6에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 진폭을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 29(a1)~(e1) 및 도 29(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 7에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 생성 기간과, 출력 화상에서의 윤곽부의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 30(a1)~(e1) 및 도 30(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 8에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 31(a1)~(e1) 및 도 31(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 9에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간과 진폭의 양쪽을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면,

도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2), 및 도 32(a3)~(e3)는 본 발명의 실시예 10에서의 변환 배율의 제어 방법(미리 정해진 기준 변환 배율과, 배율 제어량 데이터수와의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 33은 본 발명의 실시예 11에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 34는 본 발명의 실시예 11에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 35는 본 발명의 실시예 12에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 36은 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 37은 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 38(a), (b)는 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 39(a)~(c)는 본 발명의 실시예 14에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 40(a1)~(c1) 및 도 40(a2)~(c2)는 본 발명의 실시예 14에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 41은 본 발명의 실시예 15에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 또는 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도,

도 42는 도 41의 윤곽폭 검출 회로의 동작을 설명하기 위한 도면,

도 43(a)~(c)는 본 발명의 실시예 15에서의 윤곽폭 검출 회로의 동작(윤곽 외부의 평탄도와 화상 데이터의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 44는 본 발명의 실시예 15에서의 변환 배율의 제어 방법(윤곽 외부의 평탄도와 제어 계수의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 45(a)~(d)는 본 발명의 실시예 15에서의 변환 배율의 제어 방법(제어 계수와 배율 제어량의 관계)을 설명하기 위한 도면,

도 46은 본 발명의 실시예 16에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 및 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도,

도 47은 본 발명의 실시예 17에 따른 화상 표시 장치의 구성을 나타내는 블록도,

도 48은 본 발명의 실시예 18에 따른 화상 표시 방법을 나타내는 흐름도이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

(실시예 1)

도 1(a), (b)는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 방법(확대 변환의 경우)을 설명하기 위한 도면으로서, 도 1(a)는 입력 화상 데이터를 나타내고, 도 1(b)는 입력 화상 데이터를 확대 변환하는 것에 의해서 얻어지는 출력 화상 데이터를 나타낸다. 도 1(a), (b)에서, 가로축은 화상의 수평 위치 또는 수직 위치를 나타내고, 세로축은 화상 데이터의 레벨(밝기)을 나타낸다.

또한, 도 2(a), (b)는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 방법(축소 변환의 경우)을 설명하기 위한 도면으로서, 도 2(a)는 입력 화상 데이터를 나타내고, 도 2(b)는 입력 화상 데이터를 축소 변환하는 것에 의해서 얻어지는 출력 화상 데이터를 나타낸다. 도 2(a), (b)에서, 가로축은 화상의 수평 위치 또는 수직 위치를 나타내고, 세로축은 화상 데이터의 레벨(밝기)을 나타낸다.

이하에, 도 1(a), (b) 및 도 2(a), (b)를 참조하면서, 수평 화소수의 확대 변환 또는 축소 변환을 위한 화소수 변환에 대해서 설명한다. 또한, 수직 화소수의 확대 변환 또는 축소 변환은, 수평 화소수의 확대 변환 또는 축소 변환과 마찬가지의 순서에 의해서 실현할 수 있다.

수평 화소수의 변환에서는, 먼저 입력 화상 데이터의 레벨의 변화를 검출하여, 입력 화상 데이터에서의 윤곽부(윤곽 기간) te를 검출한다.

다음에, 윤곽부 te에 근거하여, 윤곽부 te의 적어도 일부를 포함하는 기간(도 1(a), (b) 또는 도 2(a), (b)에 있어서는 (tb+tc+td)의 기간이며, 「배율 제어량의 생성 기간」이라고 함)을 정한다. 배율 제어량의 생성 기간은, 예를 들면, 윤곽부 te의 윤곽폭에 조절 가능한 일정값을 곱하는 것에 의해서 얻어진다. 이 일정값은 표시하는 화상의 종류(예를 들면, 영화, 스포츠, 미술, 자연 등), 표시 장치의 설치 환경, 및 사용자의 기호 등의 각종 요인에 근거하여, 사용자의 조작에 의해 또는 자동적으로 설정된다. 배율 제어량의 생성 기간은 화상 데이터의 레벨이 변화하는 3개의 영역, 즉 생성 기간 앞부분 tb, 생성 기간 중앙부 tc, 및 생성 기간 뒷부분 td로 구성된다. 한편, 배율 제어량의 생성 기간 (tb+tc+td) 이외의 영역을 평탄부(평탄 기간) ta라고 한다.

화상의 평탄부 ta에서는, 일정한 변환 배율 Z0로 화소수가 변환된다. 이 일정한 변환 배율 Z0는 화상의 포맷 변환 또는 화상을 임의의 배율로 확대 또는 축소하기 위해서 필요한 임의의 배율이다. 도 1(a), (b)에 도시되는 확대 변환의 경우에는 Z0>1이며, 도 2(a), (b)에 도시되는 축소 변환의 경우에는 Z0<1이다. 예를 들면, 퍼스널 컴퓨터(PC)의 출력 포맷의 하나인 640화소×480라인의 화상을 1024화소×768라인의 화상으로 변환하는 경우에는, 변환 배율 Z0는 1.6이다. 또한, 화상의 평탄부 ta의 확대ㆍ축소를 실행하지 않고서(Z0=1), 화상 데이터의 윤곽부 te의 선예도를 향상시킬 수도 있다.

한편, 배율 제어량의 생성 기간에서는, 윤곽부 te에 근거하여 정해지는 변환 배율의 제어 패턴에 따라서 변환 배율이 변동 제어된다. 구체적으로 말하면, 배율 제어량의 생성 기간을 구성하는 각각의 영역 tb, tc, td에서는, 화상 데이터를 생성할 때의 변환 배율이 상이하다. 또한, 이후의 설명에서는, 일정한 변환 배율 Z0와, 일정한 변환 배율 Z0에 상기 제어 패턴이 중첩된 변환 배율(배율이 변동하는 기간을 포함하는 것)을 구별하기 위해서, 일정한 변환 배율 Z0를 「기준 변환 배율」이라고 한다. 보다 구체적으로는, 도 1(a), (b)에 도시되는 확대 변환의 경우, 및, 도 2(a), (b)에 도시되는 축소 변환의 경우 중 어느 하나에 있어서도, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 평탄부 ta보다 높은 변환 배율로 화소수가 변환되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는 평탄부 ta보다 낮은 변환 배율로 화소수가 변환된다.

이상의 설명에서는, 수평 방향의 화소수 변환의 경우를 설명했지만, 수직 방향의 화소수 변환의 경우에도 상기와 마찬가지의 순서를 실시하는 것에 의해서 화소수 변환을 실현할 수 있다. 상기한 바와 같은 순서를 입력 화상 데이터의 수평 방향과 수직 방향으로 각각 실시함으로써, 입력 화상 데이터의 화소수를 변환할 수 있다. 또한, 수평 방향의 화소수 변환과 수직 방향의 화소수 변환은 순차적으로 실시하는 것도, 동시에 실시하는 것도 가능하다. 또한, 수평 방향의 변환 배율과 수직 방향의 변환 배율을 상이한 배율로 할 수도 있다.

또한, 화소수의 변환에 있어서 수직 화소수의 변환과 수평 화소수의 변환은 마찬가지의 동작에 의해서 실현할 수 있기 때문에, 수평 화소수의 변환을 예 로 하여 이후의 설명을 한다.

도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 장치(즉, 실시예 1에 따른 화상 처리 방법을 실시하는 장치)의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 3에는, 수평 방향(또는 수직 방향)으로 화소수를 변환하는 경우의 구성이 도시되어 있다. 도 3에 도시되는 바와 같이, 실시예 1의 화상 처리 장치(5)는 윤곽폭 검출 회로(1)와, 배율 제어량 생성 회로(2)와, 배율 생성 회로(3)와, 화소수 변환 회로(4)를 구비하고 있다.

입력 화상 데이터 DI는 윤곽폭 검출 회로(1) 및 화소수 변환 회로(4)에 입력된다. 윤곽폭 검출 회로(1)는, 예를 들면, 입력 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화(증가 또는 감소)하고 있는 기간을 윤곽폭 W로서 검출하고, 이 윤곽폭 W를 출력한다. 여기서, 윤곽폭 검출 회로(1)는 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 소정 범위내에 있는 것을 윤곽폭 W로서 검출한다. 예를 들면, 윤곽부로 간주하는 부분에 대해서 그 폭의 최소값 Wmin 및 최대값 Wmax를 미리 설정하여, 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 최대값 Wmax를 초과하는 경우, 또는, 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 최소값 Wmin에 미치지 않는 경우에는, 윤곽부로 판별하지 않고, 윤곽폭 W의 검출을 실행하지 않는다. 윤곽폭 검출 회로(1)로부터 출력된 윤곽폭 W는 배율 제어량 생성 회로(2)에 입력된다.

또한, 이상의 설명에서는, 입력 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화(증가 또는 감소)하고 있는 기간을 윤곽폭 W로서 검출하는 경우를 설명했지만, 윤곽폭 W의 검출 방법은 상기 방법에는 한정되지 않는다. 윤곽폭 W의 검출 방법으로서, 후술하는 도 20~도 23(a), (b), 도 33~도 38(a), (b), 및 그들의 설명에 기재된 방법 등과 같은 다른 방법을 채용해도 된다.

배율 제어량 생성 회로(2)는 윤곽폭 W에 근거하여 변환 배율을 제어하기 위한 배율 제어량 ZC를 생성하고, 이 배율 제어량 ZC를 출력한다. 배율 제어량 생성 회로(2)로부터 출력된 배율 제어량 ZC는 배율 생성 회로(3)에 입력된다.

배율 생성 회로(3)는 배율 제어량 ZC 및 미리 인가된 임의의 기준 변환 배율 Z0에 근거하여 변환 배율 Z를 생성하고, 이 변환 배율 Z를 출력한다. 배율 생성 회로(3)로부터 출력된 변환 배율 Z는 화소수 변환 회로(4)에 입력된다.

화소수 변환 회로(4)는 변환 배율 Z를 이용하여 입력 화상 데이터 DI의 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터를 출력 화상 데이터 DO로서 출력한다.

도 4(a)~(d)는 실시예 1에 따른 화상 처리 장치에서의 윤곽폭 검출 회로(1), 배율 제어량 생성 회로(2), 및 배율 생성 회로(3)의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 4(a)~(d)에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고 있다. 또한, 도 4(a)의 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 레벨, 도 4(b)의 세로축은 배율 제어량 ZC, 도 4(c)의 세로축은 변환 배율 Z, 도 4(d)의 세로축은 출력 화상 데이터 DO의 레벨을 나타내고 있다.

윤곽폭 검출 회로(1)는 입력 화상 데이터 DI의 레벨이 변화하고 있는 기간의 폭(윤곽폭) W를 검출한다(도 4(a) 참조). 여기서, 입력 화상 데이터 DI의 레벨이 변화하고 있는 기간이란, 예를 들면, 레벨이 증가 또는 감소하고 있는 기간이다.

배율 제어량 생성 회로(2)는 검출된 윤곽폭 W에 근거하여 생성 기간 앞부분 tb에서 정, 생성 기간 중앙부 tc에서 부, 생성 기간 뒷부분 td에서 정, 그 이외의 부분에서 제로로 되는 배율 제어량 ZC를 생성한다(도 4(b) 참조).

배율 생성 회로(3)는 미리 인가된 임의의 기준 변환 배율 Z0에 배율 제어량 ZC를 중첩하여 변환 배율 Z를 생성한다. 이 변환 배율 Z는, 예를 들면, 다음 수학식 1에 의해 산출할 수 있다.

Z=Z0×(1+ZC)

그 결과, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 기준 변환 배율 Z0보다도 높은 변환 배율로, 생성 기간 중앙부 tc에서는 기준 변환 배율 Z0보다도 낮은 변환 배율로, 화소수가 변환되게 된다(도 4(c) 참조).

생성 기간 중앙부 tc에서의 변환 배율 Z가 기준 변환 배율 Z0보다도 낮기 때문에, 출력 화상 데이터의 윤곽폭을 입력 화상 데이터의 윤곽폭 W보다도 작게 할 수 있다(도 4(d) 참조). 이와 같이, 기준 변환 배율(일정한 변환 배율) Z0에 배율 제어량 ZC를 중첩하여 변환 배율 Z를 생성하는 것에 의해, 윤곽부의 화상 데이터를 보다 급준(steepness)하게 변화시킬 수 있기 때문에, 화상의 선예도를 향상시킬 수 있다.

검출된 윤곽폭 W에 근거하여 생성되는 배율 제어량 ZC는, 배율 제어량의 생성 기간(tb, tc, td의 합계 기간)에서 배율 제어량 ZC의 총합이 제로로 되도록 생성된다. 도 4(b)에서 기간 tb, tc, td에 사선부로 나타낸 부분의 면적을 각각 Sb, Sc, Sd라고 하면, Sb+Sd=Sc로 되도록 배율 제어량 ZC의 신호가 생성된다. 그 때문에, 화상의 변환 배율 Z는 국부적으로 상승 및 하강하지만, 화상 전체에서의 변환 배율 Z의 평균값은 기준 변환 배율 Z0와 동일하다. 이와 같이, 배율 제어량 ZC의 총합을 제로로 하는 것에 의해, 라인 단위로 화상의 윤곽부에 어긋남이 발생하지 않도록 할 수 있다.

도 5(a1)~(d1) 및 도 5(a2)~(d2)는 본 발명의 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(윤곽폭 및 윤곽부의 차분량과, 배율 제어량과의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 5(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 5(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 5(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 5(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

또한, 도 5(a1)~(d1)은 입력 화상 데이터 DI의 윤곽부의 윤곽폭이 W이고 윤곽부의 차분량이 D1인 경우를 나타내고 있으며, 도 5(a2)~(d2)는 입력 화상 데이터 DI의 윤곽부의 윤곽폭이 W이고 윤곽부의 차분량이 D2인 경우를 나타내고 있다. 여기서는, 도 5(a1)~(d1)에서의 윤곽부의 차분량 D1은 도 5(a2)~(d2)에서의 윤곽부의 차분량 D2보다 크다(도 5(a1), (a2) 참조).

도 5(a1)~(d1)과 도 5(a2)~(d2)에서는 윤곽부의 차분량이 상이하지만, 어느 경우도 동일한 윤곽폭 W에 근거하여 배율 제어량 ZC가 생성된다. 이 때문에, 도 5(b1), (b2)로부터 알 수 있는 바와 같이, 윤곽부의 차분량이 상이하더라도 마찬가지의 배율 제어량 ZC가 생성된다. 그 때문에, 윤곽부의 차분량이 상이하더라도 변환 배율 Z가 마찬가지로 변화하고(도 5(c1), (c2) 참조), 출력 화상 데이터 DO의 윤곽폭도 동일한 정도로 작게 할 수 있다(도 5(d1), (d2) 참조). 이와 같이, 도 5(a1)~(d1) 및 도 5(a2)~(d2)에 나타내는 예에서는, 배율 제어량 ZC는 입력 화상 데이터 DI의 윤곽폭 W에 근거하여 정해지고, 윤곽부의 차분량에는 의존하지 않는다.

윤곽부의 차분량이 클수록 윤곽부의 변화를 보다 급준하게 하도록 변환 배율을 제어하는 경우에는, 차분량이 작은 윤곽부에서는 배율 제어량이 작기 때문에, 충분한 선예도의 향상을 얻기 어렵다. 또한, 차분량이 작은 윤곽부에서 충분한 선예도 향상의 효과를 얻을 수 있는 정도까지 배율 제어량을 크게 하면, 차분량이 큰 윤곽부에서 과도한 선예도를 가지는 번쩍이는 화상으로 되어 버린다.

이에 반하여, 실시예 1에서는 검출한 윤곽폭에 근거하여 변환 배율을 제어하기 때문에, 윤곽부의 차분량의 대소에 영향받는 일 없이, 윤곽부의 선예도의 향상을 과부족 없게 실시할 수 있다.

도 6(a1)~(d1) 및 도 6(a2)~(d2)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 진폭과, 출력 화상에서의 윤곽부의 변화의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 6(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 6(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 6(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 6(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 6(a1)~(d1) 및 도 6(a2)~(d2)에서, 공통의 화상 데이터가 입력되어 윤곽폭 W가 검출된다(도 6(a1), (a2) 참조). 윤곽폭 W에 근거하여 배율 제어량 ZC가 생성되지만, 도 6(a1)~(d1)에서는 배율 제어량의 진폭(최대값과 최소값의 차)이 G1이고, 도 6(a2)~(d2)에서는 배율 제어량의 진폭이 G2인, 각각 상이한 진폭의 배율 제어량이 생성되는 것으로 한다. 배율 제어량의 진폭 G1과 G2는 G1<G2이라고 한다(도 6(b1), (b2) 참조). 그리고, 도 6(a1)~(d1) 및 도 6(a2)~(d2)에서, 미리 인가된 기준 변환 배율 Z0에 배율 제어량 ZC가 중첩되어 각각의 변환 배율 Z가 생성되고(도 6(c1), (c2) 참조), 이들의 변환 배율 Z에 근거하여 각각 화소수의 변환이 행해진다(도 6(d1), (d2) 참조).

도 6(c1), (c2)에 도시되는 바와 같이, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는, 도 6(a1)~(d1)의 경우보다도 도 6(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 보다 큰 변환 배율로 화소수 변환이 실시되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는, 도 6(a1)~(d1)의 경우보다도 도 6(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 보다 작은 변환 배율로 화소수 변환이 실시된다. 이에 의해, 도 6(a1)~(d1)의 경우보다도 도 6(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽폭이 작게 변환되기 때문에, 도 6(a1)~(d1)의 경우보다도 도 6(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽부가 급준하게 되도록 변환되어, 선예도가 높은 화상을 얻을 수 있다.

이와 같이, 배율 제어량 ZC의 진폭(최대값 및 최소값)을 임의로 제어(가변 제어)하는 것에 의해, 출력 화상의 윤곽부의 급준함 및 선예도를 자유롭게 제어할 수 있다. 예를 들면, 배율 제어량에 임의의 계수를 곱하는 것에 의해서, 배율 제어량의 진폭을 가변 제어할 수 있다.

도 7(a1)~(d1) 및 도 7(a2)~(d2)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 진폭을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 7(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 7(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 7(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 7(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 7(a1)~(d1)는 윤곽폭 W1인 화상 데이터가 입력된 경우, 도 7(a2)~(d2)는 윤곽폭 W2인 화상 데이터가 입력된 경우를 나타내고 있다. 윤곽폭 W1과 W2는 W1<W2이다(도 7(a1), (a2) 참조). 도 7(a1)~(d1)에 표시되는 윤곽폭 W1의 경우와 도 7(a2)~(d2)에 표시되는 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 상이한 진폭 G1 및 G2를 갖는 배율 제어량 ZC가 생성된다(도 7(b1), (b2) 참조).

이미 설명한 도 6(a1)~(d1) 및 도 6(a2)~(d2)의 경우와 마찬가지로, 배율 제어량의 진폭이 큰 경우인 쪽이 윤곽부를 보다 급준하게 변환시킬 수 있다. 예를 들면, 도 7(a1)~(d1) 및 도 7(a2)~(d2)에서, 배율 제어량의 진폭 G1 및 G2를 적당히 조정하면, 도 7(a1)~(d1) 및 도 7(a2)~(d2)에서의 각각의 출력 화상 데이터의 윤곽폭을 동일한 윤곽폭으로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로는, G1<G2로하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는, 보다 작은 진폭 G1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는, 보다 큰 진폭 G2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 배율 제어량의 진폭 G1과 G2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 7(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭보다 도 7(a2)~(d2)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 7(a2)~(d2)의 경우보다 도 7(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 진폭을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 각각 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

도 8(a1)~(d1) 및 도 8(a2)~(d2)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량이 생성되는 기간과, 출력 화상에서의 윤곽부의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 8(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 8(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 8(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 8(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 8(a1)~(d1) 및 도 8(a2)~(d2)에서, 입력 화상 데이터의 윤곽폭은 모두 동일한 W라고 한다(도 8(a1), (a2) 참조). 이 때, 도 8(a1)~(d1)의 경우에서는, 기간 ZCW1에서 배율 제어량 ZC가 생성되는 것으로 한다. 이후의 설명에서는, 도 8(a1)~(d1)에서 ZCW1로서 표시되어 있는 배율 제어량이 생성되는 기간(즉, 배율 제어량이 변동하고 있는 기간)을 「배율 제어량의 생성 기간」이라고 한다. 한편, 도 8(a2)~(d2)에서는, 배율 제어량의 생성 기간은 ZCW2이다. 이 때, ZCW1<ZCW2라고 한다(도 8(b1), (b2) 참조).

미리 정해진 임의의 기준 변환 배율 Z0에 생성된 배율 제어량 ZC를 중첩하는 것에 의해, 도 8(a1)~(d1) 및 도 8(a2)~(d2)의 각각의 변환 배율이 생성된다(도 8(c1), (c2) 참조). 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는, 기준 변환 배율 Z0보다 큰 변환 배율로 화소수 변환되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는, 기준 변환 배율 Z0보다 작은 변환 배율로 화소수 변환된다(도 8(d1), (d2) 참조). 즉, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 평탄부보다도 높은 보간 밀도로 보간 연산이 실행되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는 평탄부보다도 낮은 보간 밀도로 보간 연산이 실행된다.

도 9(a)~(d)는 화상 데이터 DI, 변환 배율 Z, 보간 화소 위치, 및 출력 화상 데이터 DO의 관계를 나타낸다. 여기서, 도 9(a)~(d)는 기준 변환 배율 Z0를 1로 한 경우를 나타내고 있다. 도 9(c)에서, 각 보간 화소 위치는 X표에 의해 표시되고 있으며, 변환 배율 Z가 높은 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 보간 밀도가 높아지고, 변환 배율 Z가 낮은 생성 기간 중앙부 tc에서는 보간 밀도가 낮아지는 것을 알 수 있다. 또한, 도 9(c)에 나타내는 각 보간 화소 위치는 도 9(b)에 나타내는 화상 데이터 DI의 각 화소 위치에서의 변환 배율 Z에 근거하여 구할 수 있다. 구체적으로는, 변환 배율 Z의 역수를 누적 가산하는 것에 의해 산출할 수 있다. 화소수 변환 회로(4)는 각 보간 화소 위치에 인접하는 화상 데이터 DI의 화소 데이터를 이용하여 보간 연산을 실행하여, 출력 화상 데이터 DO를 산출한다.

도 8(a1)~(d1)과 도 8(a2)~(d2)를 비교하면, 도 8(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 생성 기간 중앙부 tc에서의 기준 변환 배율 Z0보다 작은 변환 배율로 변환되는 기간이 길기 때문에, 도 8(a1)~(d1)의 경우보다도 도 8(a2)~(d2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽부가 보다 급준하게 되도록 변환되어, 선예도가 높은 화상을 얻을 수 있다. 이와 같이, 배율 제어량의 생성 기간을 임의로 제어(가변 제어)하는 것에 의해, 출력 화상의 윤곽부의 급준 및 선예도를 자유롭게 제어할 수 있다.

도 10(a1)~(d1) 및 도 10(a2)~(d2)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 10(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 10(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 10(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 10(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타낸다.

도 10(a1)~(d1)은 윤곽폭 W1인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고, 도 10(a2)~(d2)는 윤곽폭 W2인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타낸다. 윤곽폭 W1 및 W2는 W1<W2이다(도 10(a1), (a2) 참조). 도 10(a1)~(d1)의 윤곽폭 W1과 도 10(a2)~(d2)의 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 상이한 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 갖는 배율 제어량이 생성된다(도 10(b1), (b2) 참조).

도 10(a1)~(d1) 및 도 10(a2)~(d2)의 경우에서도, 도 8(a1)~(d1) 및 도 8(a2)~(d2)의 경우와 마찬가지로, 배율 제어량의 생성 기간이 큰 쪽이 보다 윤곽부를 급준하게 변환한다. 예를 들면, 도 1O(a1)~(d1) 및 도 10(a2)~(d2)에서, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 적당히 조정하면, 도 10(a1)~(d1)의 경우 및 도 10(a2)~(d2)의 경우에서의 각각의 출력 화상 데이터의 윤곽폭을, 마찬가지의 윤곽폭으로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로는, ZCW1<ZCW2로 하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는 보다 작은 생성 기간 ZCW1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는 보다 큰 생성 기간 ZCW2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1과 ZCW2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 10(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭보다도 도 10(a2)~(d2)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 10(a2)~(d2)의 경우보다도 도 10(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 생성 기간을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 각각 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

도 11(a1)~(d1) 및 도 11(a2)~(d2)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간과 진폭의 양쪽을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 11(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 11(b1), (b2)는 배율 제어량 ZC, 도 11(c1), (c2)는 변환 배율 Z, 도 11(d1), (d2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 11(a1)~(d1)은 윤곽폭 W1인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있으며, 도 11(a2)~(d2)는 윤곽폭 W2인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있다. 윤곽폭 W1 및 W2는 W1<W2이다(도 11(a1), (a2) 참조). 도 11(a1)~(d1)의 윤곽폭 W1과 도 11(a2)~(d2)의 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 생성 기간도 진폭도 상이한 배율 제어량을 생성한다(도 11(b1), (b2) 참조).

이미 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 진폭이 큰 쪽이, 그리고 배율 제어량의 생성 기간이 큰 쪽이 보다 윤곽부를 급준하게 변환한다. 예를 들면, 도 11(a1)~(d1) 및 도 11(a2)~(d2)에서, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2, 및, 배율 제어량의 진폭 G1 및 G2를 적당히 조정하면, 도 11(a1)~(d1) 및 도 11(a2)~(d2)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 마찬가지로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로는, G1<G2, ZCW1<ZCW2로 하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는 보다 작은 생성 기간 ZCW1 및 보다 작은 진폭 G1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는 보다 큰 생성 기간 ZCW2 및 보다 큰 진폭 G2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 배율 제어량의 진폭 G1 및 G2, 및, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 11(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭보다 도 11(a2)~(d2)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 11(a2)~(d2)의 경우보다 도 11(a1)~(d1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 진폭 및 생성 기간을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상에서의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

도 12(a1)~(d1), 도 12(a2)~(d2), 및 도 12(a3)~(d3)는 실시예 1에서의 변환 배율의 제어 방법(미리 정해진 기준 변환 배율과 배율 제어량의 데이터수와의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 12(a1)~(a3)는 입력 화상 데이터 DI, 도 12(b1)~(b3)는 배율 제어량 ZC, 도 12(c1)~(c3)은 변환 배율 Z, 도 12(d1)~(d3)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 12(a1)~(d1)은 입력 화상과 출력 화상의 화소수가 동일한 경우(기준 변환 배율 Z0=1의 경우)를 나타내고 있고, 도 12(a2)~(d2)는 화상의 확대 변환의 경우(기준 변환 배율 Z0>1의 경우)를 나타내고 있으며, 도 12(a3)~(d3)는 화상의 축소 변환의 경우(기준 변환 배율 Z0<1)를 나타내고 있다.

또한, 도 12(a1)~(a3)에서의 검은 원은 입력 화상의 화소 데이터를 나타내고 있고, 도 12(d1)~(d3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터를 나타내고 있다. 도 12(b1)~(b3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터에 대한 배율 제어량 ZC의 데이터를 나타내고 있고, 도 12(c1)~(c3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터에 대한 변환 배율 Z의 데이터를 나타내고 있다.

도 12(a1)~(d1)에서는, 기준 변환 배율 Z0=1로서, 입력 화상과 출력 화상 사이에서 화소수가 동일(즉, 화소 밀도가 동일)하기 때문에, 검은 원의 간격과 흰 원의 간격은 동등하게 표시되어 있다. 도 12(a2)~(d2)에서는, 확대 변환(기준 변환 배율 Z0>1)으로서, 입력 화상보다 출력 화상의 화소 밀도가 높아지도록 변환되기 때문에, 검은 원의 간격보다도 흰 원의 간격이 조밀하게 표시되어 있다. 도 12(a3)~(d3)에서는, 축소 변환(기준 변환 배율 Z0<1)으로서, 입력 화상보다 출력 화상의 화소 밀도가 낮아지도록 변환되기 때문에, 검은 원의 간격보다도 흰 원의 간격이 성기게 표시된다.

도 12(a1)~(d1), 도 12(a2)~(d2), 및 도 12(a3)~(d3)의 각각에서, 공통의 화상 데이터가 입력되어 각각 윤곽폭 W가 검출된다(도 12(a1)~(a3) 참조). 그리고, 윤곽폭 W에 근거하여 생성 기간 ZCW의 배율 제어량 ZC가 각각 생성된다(도 12(b1)~(b3) 참조). 이미 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 생성 기간을 도 12(a1)~(d1)의 경우, 도 12(a2)~(d2)의 경우, 및 도 12(a3)~(d3)의 경우의 각각에서 동등하게 하면, 출력 화상의 윤곽부의 급준함을 마찬가지로 제어할 수 있다. 그러나, 도 12(a1)~(d1)의 경우, 도 12(a2)~(d2)의 경우, 및 도 12(a3)~(d3)의 경우에서는 화소 밀도가 상이하기 때문에, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW에서의 배율 제어량 데이터의 수는 서로 상이하다. 이후의 설명에서는, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량의 데이터의 수를 「배율 제어량 데이터수」라고 한다.

도 12(a2)~(d2)의 경우는 확대 변환으로서 화소 밀도가 도 12(a1)~(d1)의 경우보다 높기 때문에, 도 12(a2)~(d2)의 경우에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN2는, 도 12(a1)~(d1)의 경우에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN1보다도 많아, ZCN1<ZCN2이다. 마찬가지로, 도 12(a3)~(d3)의 경우는 축소 변환으로서 화소 밀도가 도 12(a1)~(d1)의 경우보다 낮기 때문에, 도 12(a3)~(d3)의 경우에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN3는, 도 12(a1)~(d1)의 경우에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어 데이터수 ZCN1보다도 적어, ZCN3<ZCN1이다.

이와 같이, 화상 전체의 변환 배율(기준 변환 배율 Z0)에 근거하여 배율 제어량의 데이터수를 변화시키는 것에 의해, 화상 전체의 변환 배율이 변경되더라도, 출력 화상의 윤곽부의 급준함을 마찬가지로 유지할 수 있다. 즉, 검출된 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하고, 또한, 화상 전체의 변환 배율에 근거하여 배율 제어량의 데이터수를 변화시키는 것에 의해, 화상 전체의 변환 배율을 변경한 경우에서도, 소망하는 선예도의 출력 화상을 얻을 수 있다.

이상의 설명에서는, 수평 방향의 화소수 변환을 예로 설명했지만, 수직 방향의 화소수 변환에 대해서도 마찬가지의 동작에 의해서 실현할 수 있어, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다. 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환을 순차적으로 또는 동시에 실시하는 것에 의해, 수직 방향 및 수평 방향의 양쪽에 대해서 상기한 바와 같은 효과를 얻을 수 있다.

도 13은 본 발명의 실시예 1에서의 화상 처리 장치의 변형예의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 13에서, 도 3의 구성과 동일 또는 대응하는 구성에는 동일한 부호를 부여한다. 도 13에 나타내는 화상 처리 장치는 도 3에 나타내는 화소수 변환 회로(4)를 화소수 변환부(제 1 화소수 변환부)(40) 및 윤곽 강조부(제 2 화소수 변환부)(41)로 분할하여 구성한 점이, 도 3에 나타내는 화상 처리 장치와 상위하다. 화소수 변환부(40)는 화상 데이터 DI의 화소수를 기준 변환 배율 Z0를 이용하여 변환하고, 변환후 화상 데이터 Dn을 윤곽폭 검출 회로(1) 및 윤곽 강조부(41)에 보낸다. 윤곽폭 검출 회로(1)는 변환후 화상 데이터 Dn으로부터 윤곽폭 W를 검출하고, 배율 제어량 생성 회로(2)는 윤곽폭 W에 근거하여 도 4에 나타내는 배율 제어량 ZC를 생성한다. 배율 생성 회로(3)는 배율 제어량 ZC에 근거하여 변환 배율 Z1을 출력한다. 이 변형예에서는, 화소수 변환부(40)에서 기준 변환 배율 Z0로의 화소수 변환이 이미 실행되고 있기 때문에, 변환 배율 Z1은 수학식 1에서의 Z0를 1로 하는 것에 의해서 얻어지는 다음 수학식 2에 의해 산출된다.

Z1=1+ZC

변환 배율 Z1은 평탄부에서 1로 되고, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 1보다도 크며, 생성 기간 중앙부 tc에서는 1보다도 작은 값으로 된다. 윤곽 강조부(41)는 변환 배율 Z1에 근거하여 보간 연산을 실행하는 것에 의해, 변환후 화상 데이터 Dn의 윤곽부를 강조한다. 즉, 변환 배율 Z1이 1이외의 값을 취하는 생성 기간 앞부분 tb, 생성 기간 뒷부분 td, 및 생성 기간 중앙부 tc에서, 변환 배율 Z1에 근거하여 산출되는 보간 화소 위치에서의 보간 연산이 실행된다(도 9(a)~(d) 참조). 이에 의해, 윤곽부가 강조된 출력 화소 데이터 DO가 산출된다.

도 14는 본 발명의 실시예 1에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 및 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도이다. 도 14에 도시되는 바와 같이, 화상 처리 장치(14)는 수직 윤곽폭 검출 회로(6)와, 수직 배율 제어량 생성 회로(7)와, 수직 배율 생성 회로(8)와, 수직 화소수 변환 회로(9)와, 수평 윤곽폭 검출 회로(10)와, 수평 배율 제어량 생성 회로(11)와, 수평 배율 생성 회로(12)와, 수평 화소수 변환 회로(13)를 구비하고 있다.

도 14에서, 수직 윤곽폭 검출 회로(6), 수직 배율 제어량 생성 회로(7), 수직 배율 생성 회로(8), 및 수직 화소수 변환 회로(9)는 수직 방향의 화소수 변환을 하는 화상 처리부를 구성하고 있으며, 수평 윤곽폭 검출 회로(10), 수평 배율 제어량 생성 회로(11), 수평 배율 생성 회로(12), 및 수평 화소수 변환 회로(13)는 수평 방향의 화소수 변환을 하는 화상 처리부를 구성하고 있다. 또한, 수직 윤곽폭 검출 회로(6) 및 수평 윤곽폭 검출 회로(10)는 각각 도 3의 윤곽폭 검출 회로(1)에 상당하고, 수직 배율 제어량 생성 회로(7) 및 수평 배율 제어량 생성 회로(11)는 각각 도 3의 배율 제어량 생성 회로(2)에 상당하고, 수직 배율 생성 회로(8) 및 수평 배율 생성 회로(12)는 각각 도 3의 배율 생성 회로(3)에 상당하고, 수직 화소수 변환 회로(9) 및 수평 화소수 변환 회로(13)는 각각 도 3의 화소수 변환 회로(4)에 상당하다.

입력 화상 데이터 DI는 수직 윤곽폭 검출 회로(6) 및 수직 화소수 변환 회로(9)에 입력된다. 수직 윤곽폭 검출 회로(6)는 입력된 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수직 방향으로 변화하고 있는 기간을 수직 윤곽폭 WV로서 검출하고, 이 수직 윤곽폭 WV를 출력한다. 수직 윤곽폭 검출 회로(6)로부터 출력된 수직 윤곽폭 WV는 수직 배율 제어량 생성 회로(7)에 입력된다.

수직 배율 제어량 생성 회로(7)는 수직 윤곽폭 WV에 근거하여, 수직 방향의 변환 배율을 제어하기 위한 수직 배율 제어량 ZCV를 생성하고, 이 수직 배율 제어량 ZCV를 출력한다. 수직 배율 제어량 생성 회로(7)로부터 출력된 수직 배율 제어량 ZCV는 수직 배율 생성 회로(8)에 입력된다.

수직 배율 생성 회로(8)는 수직 배율 제어량 ZCV 및 미리 인가된 수직 방향의 임의의 기준 변환 배율 ZV0에 근거하여, 수직 방향의 변환 배율(수직 변환 배율) ZV를 생성하고, 이 수직 변환 배율 ZV를 출력한다. 수직 배율 생성 회로(8)로부터 출력된 수직 변환 배율 ZV는 수직 화소수 변환 회로(9)에 입력된다.

수직 화소수 변환 회로(9)는 수직 변환 배율 ZV에 근거하여, 입력 화상 데이터 DI의 수직 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터 DV를 출력한다. 수직 화소수 변환 회로(9)로부터 출력된 화상 데이터 DV는 수평 윤곽폭 검출 회로(10) 및 수평 화소수 변환 회로(13)에 입력된다.

수평 윤곽폭 검출 회로(10)는 입력된 화상 데이터 DV의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화하고 있는 기간을 수평 윤곽폭 WH로서 검출하고, 이 수평 윤곽폭 WH를 출력한다. 수평 윤곽폭 검출 회로(10)로부터 출력된 수평 윤곽폭 WH는 수평 배율 제어량 생성 회로(11)에 입력된다.

수평 배율 제어량 생성 회로(11)는 수평 윤곽폭 WH에 근거하여, 수평 방향의 변환 배율을 제어하기 위한 수평 배율 제어량 ZCH를 생성하고, 이 수평 배율 제어량 ZCH를 출력한다. 수평 배율 제어량 생성 회로(11)로부터 출력된 수평 배율 제어량 ZCH는 수평 배율 생성 회로(12)에 입력된다.

수평 배율 생성 회로(12)는 수평 배율 제어량 ZCH 및 미리 인가된 수평 방향의 임의의 기준 변환 배율 ZH0에 근거하여, 수평 방향의 변환 배율(수평 변환 배율) ZH를 생성하고, 이 수평 변환 배율 ZH는 수평 배율 생성 회로(12)로부터 출력된 수평 변환 배율 ZH는 수평 화소수 변환 회로(13)에 입력된다.

수평 화소수 변환 회로(13)는 수평 변환 배율 ZH에 근거하여, 화상 데이터 DV의 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터를 출력 화상 데이터 DO로서 출력한다.

또한, 화상 처리 장치(14)내의 각각 회로의 자세한 동작은 도 4~도 14를 이용하여 이미 설명한 내용과 마찬가지이다. 또한, 수직 화소수 변환 회로(9) 및 수평 화소수 변환 회로(13)는 일반적으로는 메모리와 같은, 화상 데이터를 일시 기억할 수 있는 회로를 구비하는 것에 의해서 실현된다. 또한, 수평의 기준 변환 배율 ZH0=1, 또한, 수직의 기준 변환 배율 ZV0=1의 때는, 화상 전체의 확대 변환 및 축소 변환은 행해지지 않고, 윤곽부의 선예도만이 제어된다.

이와 같이, 수평 방향의 기준 변환 배율 ZH0, 수직 방향의 기준 변환 배율 ZV0, 수평 배율 제어량 ZCH, 수직 배율 제어량 ZCV를 각각 독립적으로 또한 임의로 설정하는 것에 의해, 수평 방향의 변환 배율과 수평 방향의 윤곽부의 선예도를 독립적으로 제어할 수 있고, 또한, 수직 방향의 변환 배율과 수직 방향의 윤곽부의 선예도를 독립적으로 제어할 수 있다. 이에 의해, 수평 방향으로는 입력 화상의 수평 방향의 윤곽폭마다 각각 소망하는 선예도로 제어할 수 있고, 또한, 수직 방향으로는 수직 방향의 윤곽폭마다 각각 소망하는 선예도로 제어할 수 있다.

예를 들면, 수직 방향의 기준 변환 배율 ZV0=2로 설정하고, 수평 방향의 기준 변환 배율 ZH0=1로 설정함으로써, 인터레이스 화상으로부터 논인터레이스 화상으로 변환(주사선 변환)할 수 있어, 수평 방향과 수직 방향의 윤곽부를 독립적으로 소망하는 선예도로 제어할 수 있다.

또한, 상기의 화상 처리 장치(14)의 동작의 설명에서는, 화소수 변환의 동작으로서 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환의 동작을 순차적으로 실시하는 경우에 대해서 설명했지만, 수평 방향의 화소수를 변환한 후에 수직 방향의 화소수를 변환하더라도, 또는, 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환을 동시에 실시하더라도, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

이상에 설명한 바와 같이, 실시예 1에 의하면, 입력 화상 데이터의 윤곽폭을 검출하고, 이 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하고, 이 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하고, 이 변환 배율에 근거하여 입력 화상 데이터의 화소를 보간 연산하여 화소수 변환을 하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 출력 화상의 선예도를 향상할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 소망하는 선예도의 윤곽부를 얻을 수 있다. 또한, 상기의 배율 제어량이 윤곽부의 진폭에 의존하지 않기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상할 수 있다.

(실시예 2)

도 15는 본 발명의 실시예 2에 따른 화상 표시 장치의 구성을 나타내는 블록도이다. 실시예 2의 화상 표시 장치에서는, 화상 데이터 입력 회로(15)의 후단에 상기 실시예 1에서 설명된 화상 처리 장치(14)(구성에 대해서는 도 14 참조)가 배치되고, 또한 그 후단에 표시 장치(16)가 배치되어 있다.

화상 신호는 화상 데이터 입력 회로(15)에 입력된다. 여기서, 화상 신호는 화상 데이터 신호와 동기 신호의 양쪽을 포함하는 것으로 한다. 화상 데이터 입력 회로(15)는 화상 신호의 포맷에 근거하여 화상 데이터 DI를 출력한다. 예를 들면, 화상 신호가 아날로그 신호인 경우, 화상 데이터 입력 회로(15)는 A/D 변환기에 의해 구성되고, 동기 신호에 의해서 정해지는 주기로 샘플링된 화상 데이터를 출력한다. 또한, 화상 신호가 인코드된 디지털 신호인 경우, 화상 데이터 입력 회로(15)는 디코더 회로에 의해 구성되고, 디코드된 화상 데이터를 출력한다.

화상 데이터 입력 회로(15)로부터 출력된 화상 데이터 DI는 화상 처리 장치(14)에 입력된다. 화상 처리 장치(14)(구성에 대해서는 도 14 참조)는 상기 실시예 1에서 자세히 설명한 바와 같이, 화상의 윤곽부에서 윤곽폭에 근거하여 변환 배율을 제어하면서 수직 방향 및 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터 DO를 출력한다. 화상 처리 장치(14)에서 화소수 변환된 화상 데이터 DO는 표시 장치(16)에 입력되고, 화상 데이터 DO에 근거하는 화상이 표시 장치(16)에 표시된다.

이상에 설명한 바와 같이, 실시예 2에 의하면, 상기 실시예 1의 화상 처리 장치를 포함하는 화상 표시 장치를 구성하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 소망하는 선예도의 화상을 표시할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 윤곽부의 선예도를 유지한 화상을 표시할 수 있다. 또한, 윤곽부의 차분량에 의존하는 일이 없기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상한 화상을 표시할 수 있다.

(실시예 3)

상기 실시예 1 및 2에서는, 하드웨어에 의해서 화소수를 변환하는 구성에 대해서 설명했지만, 소프트웨어에 의해서 화소수를 변환할 수도 있다. 실시예 3에서는, 소프트웨어에 의해서 화소수를 변환하는 예에 대해서 설명한다.

도 16은 본 발명의 실시예 3에 따른 화상 표시 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 16은 소프트웨어 처리(소프트웨어와 하드웨어가 혼재하고 있고 있는 경우를 포함)에 의해서 화소수를 변환하여 표시하는 동작(화상 처리 방법 및 화상 표시 방법)을 설명한다. 도 16에서, 처리(101)는 수직 방향의 데이터 생성 순서(화소수 변환 순서), 처리(102)는 수평 방향의 데이터 생성 순서(화소수 변환 순서)이다. 또한, 도 16에서는 수직 방향 및 수평 방향의 양방향에 대하여 화소수 변환을 하는 경우에 대해서 설명하지만, 수평 방향 또는 수직 방향의 각각 대해서 독립적으로 화소수 변환하는 것도 가능하고, 또한, 어느 한 방향으로만 화소수 변환하는 것도 가능하다.

먼저, 도 16의 처리(101)의 수직 방향의 데이터 생성 동작을 개시한다. 단계 S1에서는, 화소수를 변환할 화상 데이터(도 14의 DI에 상당)로부터 타겟 화소에 대한 수직 방향의 윤곽폭의 검출 및 필터 연산에 필요한 복수의 화소 데이터를 추출한다. 다음의 단계 S2에서는, 상기 단계 S1에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터 수직 방향의 윤곽폭(도 14의 WV에 상당)을 검출한다. 다음의 단계 S3에서는, 상기 단계 S2에서 검출된 수직 방향의 윤곽폭에 근거하여, 수직 방향의 배율 제어량(도 14의 ZCV에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S4에서는, 상기 단계 S3에서 생성된 배율 제어량과 미리 인가된 수직 방향의 기준 변환 배율(도 14의 ZV0에 상당)을 중첩하여, 수직 방향의 변환 배율(도 14의 ZV에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S5에서는, 상기 단계 S4에서 생성된 수직 방향의 변환 배율과 상기 단계 S1에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터 수직 방향의 필터 연산을 실시하고, 연산 결과를 보존한다. 상기 단계 S1부터 S5까지의 순서를 타겟 화소가 화상의 끝에 도달할 때까지 반복한다(단계 S6). 여기서, 화상의 끝이란, 예를 들면, 화상의 좌단부터 연산하는 경우는 화상의 우단을 나타낸다.

상기 단계 S6에서 타겟 화소가 화상의 끝에 도달한 경우는, 타겟 화소를 다음 라인으로 이동하여, 상기 단계 S1부터 S6까지의 순서를 최종 라인에 도달할 때까지 반복한다(단계 S7). 이러한 순서를 전체 화소에 실시함으로써, 수직 방향의 화소수의 변환이 완료한다.

상기 수직 방향의 데이터 생성을 완료하면, 다음에 도 16의 처리(102)의 수평 방향의 데이터 생성 동작을 개시한다. 단계 S8에서는, 수직 방향의 화소수가 변환된 화상 데이터(도 14의 DV에 상당)로부터 타겟 화소에 대한 수평 방향의 윤곽폭의 검출 및 수평 방향의 필터 연산에 필요한 복수의 화소 데이터를 추출한다. 다음의 단계 S9에서는, 상기 단계 S8에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터 수평 방향의 윤곽폭(도 14의 WH에 상당)을 검출한다. 다음의 단계 S10에서는, 상기 단계 S9에서 검출된 수평 방향의 윤곽폭에 근거하여, 수평 방향의 배율 제어량(도 14의 ZCH에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S11에서는, 상기 단계 S10에서 생성된 배율 제어량과 미리 인가된 수평 방향의 기준 변환 배율(도 14의 ZH0에 상당)을 중첩하여, 수평 방향의 변환 배율(도 14의 ZH에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S12에서는, 상기 단계 S11에서 생성된 변환 배율과 상기 단계 S8에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터 수평 방향의 필터 연산을 실시하고, 연산 결과를 보존한다. 상기 단계 S8부터 S12까지의 순서를 타겟 화소가 화상의 끝에 도달할 때까지 반복한다(단계 S13).

상기 단계 S13에서 타겟 화소가 화상의 끝에 도달한 경우는, 타겟 화소를 다음 라인으로 이동하여, 상기 단계 S8부터 S13까지의 순서를 최종 라인에 도달할 때까지 반복한다(단계 S14). 이러한 순서를 전체 화소에 실시함으로써, 수평 방향의 화소수의 변환이 완료한다.

상기 수직 방향의 데이터 생성 및 상기 수평 방향의 데이터 생성을 완료하면, 마지막으로 단계 S15에서, 화소수 변환된 화상을 표시한다.

또한, 도 16의 각각의 단계의 처리 내용에 대해서는 상기 실시예 1에서 이미 자세히 설명하고 있다.

또한, 도 16에서는 수직 방향의 화소수를 변환한 후에 수평 방향의 화소수를 변환하고 있지만, 수평 방향의 화소수를 변환한 후에 수직 방향의 화소수를 변환하는 것도 가능하다. 즉, 도 16의 처리(102)의 흐름을 실시한 후에 도 16의 처리(101)의 흐름을 실시하는 것도 가능하다. 또한, 도 16의 처리(101)의 흐름과 도 16의 처리(102)의 흐름 중 어느 한쪽만을 실시하는 것도 가능하다.

또한, 도 16에서는 수직 방향 및 수평 방향의 화소수 변환에 있어서 타겟 화소를 화상의 왼쪽부터 오른쪽, 위부터 아래의 순서로 연산하고 있지만, 이 순번은 이에 한정되지 않고, 임의의 방향부터 연산하더라도 마찬가지의 결과를 얻을 수 있다.

또한, 도 16의 단계 S4, S11의 변환 배율(도 14의 ZV, ZH에 상당)의 1라인에서의 평균값은, 상기 실시예 1의 도 4에서 설명한 바와 같이, 화상 전체의 변환 배율(도 14의 ZV0, ZH0에 상당)과 동일하게 되도록 한다. 즉, 도 16의 단계 S3, S10의 배율 제어량(도 14의 ZCV, ZCH에 상당)의 1라인에서의 총합이 제로로 되도록 한다.

이상에 설명한 바와 같이 실시예 3에 의하면, 상기 실시예 1 및 2의 화상 처리 방법 및 화상 표시 방법을 소프트웨어 처리에 의해서 실시하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 소망하는 선예도의 화상을 표시할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 윤곽부의 선예도를 유지한 화상을 표시할 수 있다. 또한, 윤곽부의 차분량에 의존하는 일이 없기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상한 화상을 표시할 수 있다.

(실시예 4)

도 17은 본 발명의 실시예 4에 따른 화상 처리 장치(즉, 실시예 4에 따른 화상 처리 방법을 실시하는 장치)의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 17에는 수평 방향(또는 수직 방향)으로 화소수를 변환하는 경우의 구성이 도시되어 있다. 도 17에 도시되는 바와 같이, 실시예 4의 화상 처리 장치(56)는 윤곽폭 검출 회로(51)와, 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)와, 배율 제어량 생성 회로(53)와, 배율 생성 회로(54)와, 화소수 변환 회로(55)를 구비하고 있다.

입력 화상 데이터 DI는 윤곽폭 검출 회로(51), 윤곽 기준 위치 검출 회로(52) 및 화소수 변환 회로(55)에 입력된다. 윤곽폭 검출 회로(51)는 입력된 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화(증가 또는 감소)하고 있는 기간을 윤곽폭 W로서 검출하고, 이 윤곽폭 W를 출력한다. 여기서, 윤곽폭 검출 회로(51)는 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 소정 기간내에 있는 것을 윤곽폭 W로서 검출한다. 예를 들면, 윤곽부로 간주하는 부분에 대해서 그 윤곽폭의 최소값 Wmin 및 최대값 Wmax를 미리 설정하여, 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 최대값 Wmax를 초과하는 경우, 또는, 화상 레벨이 변화하고 있는 기간이 최소값 Wmin에 미치지 않는 경우에는, 윤곽부로 판별하지 않고, 윤곽폭 W의 검출을 실행하지 않는다. 윤곽폭 검출 회로(51)로부터 출력된 윤곽폭 W는 윤곽 기준 위치 검출 회로(52) 및 배율 제어량 생성 회로(53)에 입력된다.

또한, 이상의 설명에서는 입력 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화(증가 또는 감소)하고 있는 기간을 윤곽폭 W로서 검출하는 경우를 설명했지만, 윤곽폭 W의 검출 방법은 상기 방법에는 한정되지 않는다. 윤곽폭 W의 검출 방법으로서, 후술하는 도 20~도 23(a), (b), 도 33~도 38(a), (b), 및 그들의 설명에 기재된 방법 등과 같은 다른 방법을 채용해도 된다.

윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 화상 데이터 DI와 윤곽폭 W에 근거하여 윤곽부의 기준 위치 PM을 검출하고, 이 윤곽 기준 위치 PM을 출력한다. 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)로부터 출력된 윤곽 기준 위치 PM은 배율 제어량 생성 회로(53)에 입력된다.

배율 제어량 생성 회로(53)는 윤곽폭 W와 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여, 변환 배율을 제어하기 위한 배율 제어량 RZC를 생성하고, 이 배율 제어량 RZC를 출력한다. 배율 제어량 생성 회로(53)로부터 출력된 배율 제어량 RZC는 배율 생성 회로(54)에 입력된다.

배율 생성 회로(54)는 배율 제어량 RZC 및 미리 인가된 임의의 기준 변환 배율 정보 RZ0에 근거하여, 변환 배율 정보 RZ를 생성하고, 이 변환 배율 정보 RZ를 출력한다. 배율 생성 회로(54)로부터 출력된 변환 배율 정보 RZ는 화소수 변환 회로(55)에 입력된다.

화소수 변환 회로(55)는 변환 배율 정보 RZ를 이용하여, 입력 화상 데이터 DI의 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터를 출력 화상 데이터 DO로서 출력한다.

도 18(a)~(e)는 실시예 4의 화상 처리 장치에서의 윤곽폭 검출 회로(51), 윤곽 기준 위치 검출 회로(52), 배율 제어량 생성 회로(53), 및 배율 생성 회로(54)의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 18(a)~(e)에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고 있다. 또한, 도 18(a)의 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 레벨, 도 18(b)의 세로축은 배율 제어량 RZC, 도 18(c)의 세로축은 변환 배율 정보 RZ, 도 18(d)의 세로축은 변환 배율 Z, 도 18(e)의 세로축은 출력 화상 데이터 DO의 레벨을 나타내고 있다. 여기서, 도 18(c)의 변환 배율 정보 RZ는 도 18(d)의 변환 배율 Z의 역수를 나타낸다(즉, RZ=1/Z). 예를 들면, 변환 배율 Z가 1.25인 경우에는, 변환 배율 정보 RZ는 Z의 역수인 0.8로 된다.

윤곽폭 검출 회로(51)는 입력 화상 데이터 DI의 레벨이 변화하고 있는 기간의 폭(윤곽폭) W를 검출한다(도 18(a) 참조). 여기서, 입력 화상 데이터 DI의 레벨이 변화하고 있는 기간이란, 예를 들면, 레벨이 증가 또는 감소하고 있는 기간이다.

윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 윤곽폭 W와 입력 화상 데이터 DI의 변화의 상태에 따라서 정해지는 윤곽 기준 위치 PM을 검출한다. 여기서, 윤곽 기준 위치 PM에서의 화상 데이터의 레벨은 DM이라고 한다(도 18(a) 참조).

배율 제어량 생성 회로(53)는 검출된 윤곽폭 W와 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여, 생성 기간 앞부분 tb에서 부, 생성 기간 중앙부 tc에서 정, 생성 기간 뒷부분 td에서 부, 그 이외의 부분에서 제로로 되는 배율 제어량 RZC를 생성한다(도 18(b) 참조).

배율 생성 회로(54)는 미리 인가된 임의의 기준 변환 배율 정보 RZ0에 배율 제어량 RZC를 중첩하여, 변환 배율 정보 RZ를 생성한다(도 18(c) 참조).

도 18(d)에서, Z0는 미리 정해진 기준 변환 배율로서, 기준 변환 배율 정보 RZ0의 역수(즉, Z0=1/RZ0)이다.

RZ와 Z는 역수의 관계에 있기 때문에, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td와 같이, 변환 배율 정보 RZ가 기준 변환 배율 정보 RZ0보다도 작은 경우(RZ<RZ0, 도 18(c) 참조)에는, 변환 배율 Z는 기준 변환 배율 Z0보다도 커진다(Z>Z0, 도 18(d) 참조). 한편, 생성 기간 중앙부 tc와 같이, 변환 배율 정보 RZ가 기준 변환 배율 정보 RZ0보다 큰(RZ>RZ0, 도 18(c) 참조)경우에는, 변환 배율 Z는 기준 변환 배율 Z0보다 작아진다(Z<Z0, 도 18(d) 참조). 즉, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 기준 변환 배율 Z0보다도 높은 변환 배율로, 생성 기간 중앙부 tc에서는 기준 변환 배율 Z0보다도 낮은 변환 배율로 화소수가 변환되게 된다(도 18(d) 참조).

생성 기간 중앙부 tc에서의 변환 배율 Z가 기준 변환 배율 Z0보다도 낮기 때문에, 출력 화상 데이터의 윤곽폭을 입력 화상 데이터의 윤곽폭 W보다도 작게 할 수 있다(도 18(e) 참조). 이와 같이, 일정의 기준 변환 배율 RZ0에 배율 제어량 RZC를 중첩해서 변환 배율 정보 RZ를 생성하는 것에 의해, 윤곽부의 화상 데이터를 보다 급준하게 변화시킬 수 있기 때문에, 화상의 선예도를 향상시킬 수 있다.

검출된 윤곽폭 W에 근거하여 생성되는 배율 제어량 RZC는 배율 제어량의 생성 기간(tb, tc, td의 합계 기간)에서 배율 제어량 RZC의 총합이 제로로 되도록 생성된다. 도 18(b)의 기간 tb, tc, td에 사선부로 나타낸 부분의 면적을 각각 Sb, Sc, Sd라고 하면, Sb+Sd=Sc로 되도록 배율 제어량 RZC의 신호가 생성된다. 그 때문에, 화상의 변환 배율 정보 RZ는 국부적으로 변동하지만, 화상 전체에서의 변환 배율 정보 RZ의 평균값은 기준 변환 배율 정보 RZ0와 동일하다. 이와 같이, 배율 제어량 RZC의 총합을 제로로 하는 것에 의해, 라인 단위에서 화상의 윤곽부에 어긋남이 발생하지 않도록 할 수 있다.

도 18(a), (e)에 도시되는 바와 같이, 윤곽 기준 위치 PM에서 입력 화상 데이터와 출력 화상 데이터의 값이 변화하고 있지 않다(DM대로 임). 여기서는, 윤곽 기준 위치에서 입력 화상 데이터와 출력 화상 데이터의 값이 변화하지 않도록, 배율 제어량을 생성하는 방법에 대해서 설명한다.

도 19는 윤곽 기준 위치 PM과 배율 제어량 RZC의 관계를 보충적으로 설명하기 위한 도면이다. 도 19에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고, 세로축은 도 18(b)에 나타낸 배율 제어량 RZC를 적분한 값을 나타낸다. 이 배율 제어량 RZC의 적분값은 입력 화상에 대하여 출력 화상의 화소 데이터가 수평 방향으로 얼만큼 어긋나 있는지를 나타내고 있다. 반대로 말하면, 적분값 제로의 경우에는, 입력 화상과 출력 화상의 화소 데이터가 일치하고 있는 것을 나타내고 있다.

다음에, 도 19를 참조하면서, 배율 제어량의 적분값, 즉, 입력 화상과 출력 화상의 어긋남이 수평 위치에 관해서 어떻게 변화하고 있는지를 설명한다. 먼저, 생성 기간 앞부분 tb보다도 전방의 기간에서는, 입력 화상과 출력 화상의 어긋남은 없다. 또한, 생성 기간 앞부분 tb의 기간에서는, 출력 화상의 마이너스 방향의 어긋남이 커져 간다. 또한, 생성 기간 중앙부 tc의 기간에서는, 출력 화상의 마이너스 방향의 어긋남이 작아져 가서, 일단 제로가 되고, 또한 그 후 플러스 방향의 어긋남이 커져 간다. 또한, 생성 기간 뒷부분 td의 기간에서는 출력 화상의 플러스 방향의 어긋남이 작아져 가서, 다시 제로로 되돌아간다. 생성 기간 뒷부분 td보다 후방의 기간에서는, 입력 화상과 출력 화상에 어긋남은 없다.

상기한 바와 같이, 생성 기간 중앙부 tc에서 일단 배율 제어량의 적분값이 제로로 되는 점이 있다. 이 점에서는, 입력 화상 데이터의 레벨과 출력 화상 데이터의 레벨이 일치한다. 즉, 이 점이 윤곽 기준 위치 PM과 일치하도록 배율 제어량을 생성하는 것에 의해, 윤곽 기준 위치 PM에서 출력 화상 데이터를 입력 화상 데이터와 일치시킬 수 있다.

이렇게 하여, 배율 제어량 RZC는 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여 제어하는 것에 의해, 윤곽부의 선예도를 향상시킬 수 있고, 게다가, 화소수 변환의 전후에서 윤곽부의 위치를 이동시키지 않을 수 있다.

다음에, 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명한다. 도 20은 실시예 4에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터(세로축)와 윤곽폭(가로축)의 관계를 나타내는 도면이다. 도 20에서, D1, D2, D3 및 D4는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 여기서, D1과 D2의 차분량을 a, D2와 D3의 차분량을 b, D3와 D4의 차분량을 c라고 한다. 즉, a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3로 한다. 또한, 도 20에서, a는 윤곽 앞부분의 데이터 변화, b는 윤곽 중앙부의 데이터 변화, c는 윤곽 뒷부분의 데이터 변화를 나타내고 있다. 윤곽 앞부분, 윤곽 중앙부, 및 윤곽 뒷부분의 합계의 기간의 합은 윤곽폭 W이다.

윤곽폭 검출 회로(51)는 화상 데이터가 단조 증가 또는 단조 감소하고 있으며, 또한, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분이 윤곽 중앙부에 비해서 평탄한 부분을 윤곽부로서 검출한다. 이 때, 윤곽부를 검출하는 조건은, a, b, c의 각각의 정부의 부호가 동일하던지 제로이며, 또한, a의 절대값과 c의 절대값의 양쪽이 b의 절대값보다 작은 것이다. 이 조건을 이하에, 수학식 3a 및 수학식 3b로서 나타낸다.

(a≥O 또한 b≥O 또한 c≥O) 또는 (a≤O 또한 b≤O 또한 c≤O)

|b|>|a| 또한 |b|>|c|

수학식 3a와 수학식 3b를 동시에 만족하는 경우에, 도 20에서의 D1부터 D4까지의 기간을 윤곽부로 간주하고, 그 간격을 윤곽폭 W로서 출력한다. 이 때, 윤곽폭 W=3×Ws이다.

도 20을 이용한 설명에서는, 1샘플링 주기로 추출된 화소 데이터로부터 윤곽폭을 검출하는 방법을 설명했지만, 다른 주기로 얻어진 화상 데이터를 이용하여 윤곽폭을 검출해도 된다.

도 21은 2샘플링 주기마다 추출된 화상 데이터를 이용하여 윤곽폭의 검출을 실행하는 예를 나타내는 도면이다. 도 21에서, D1~D7은 소정의 샘플링 주기 Ws에서 샘플링된 화상 데이터이다. 이들 중, 2샘플링 주기마다 추출된 화상 데이터 D1, D3, D5 및 D7(도 21에서, 흰 원으로 나타냄)을 이용하여 윤곽폭의 검출을 실행해도 된다. 도 21에서, a, b 및 c는 2샘플링 주기로 서로 이웃하는 화상 데이터의 차분량으로서, a=D3-D1, b=D5-D3, c=D7-D5이다. 이미 설명한 것과 마찬가지로, a, b, c가 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족하는 경우에, D1부터 D7까지의 기간을 윤곽폭으로 간주하고, 그 간격을 윤곽폭 W로서 출력한다. 이 경우, 윤곽폭 W=3×2×Ws로 되기 때문에, 1샘플링 주기로 추출된 화소 데이터를 이용하는 경우보다도, 2배 넓은 윤곽폭을 검출할 수 있다. 그 때문에, 샘플링 클록에 비해서 화상 데이터의 대역이 낮은 경우에도, 화상의 윤곽폭을 검출할 수 있다.

도 22는 N샘플링 주기(N은 정수)마다 추출된 화상 데이터를 이용하여 윤곽폭의 검출을 실행하는 예를 나타내는 도면이다. 도 22에서, 흰 원 및 X표로 나타낸 화소 데이터는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 이들 중, 흰 원으로 나타낸 화소 데이터는 N샘플링 주기마다 추출한 화상 데이터이며, 이들을 이용하여 윤곽폭의 검출을 실행해도 된다. 도 22에서, a, b, 및 c는 N샘플링 주기로 서로 이웃하는 화소 데이터(흰 원)의 차분량을 나타내고, 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족할 때 윤곽폭 W를 출력한다. 이 경우, 윤곽폭 W=3×N×Ws로 되기 때문에, 1샘플링 주기로 추출된 화소 데이터를 이용하는 경우보다도, N배 넓은 윤곽폭을 검출할 수 있다.

상기에서는 샘플링 주기의 정수배로 추출한 화소 데이터를 이용하여 윤곽폭을 검출하는 방법에 대해서 설명했지만, 샘플링 주기의 비정수배의 주기로 재샘플링한 화소 데이터를 이용해도 된다.

도 23(a), (b)는 샘플링 주기의 K배의 주기마다 재샘플링한 화상 데이터를 이용하는 예를 나타내는 도면이다. 여기서, K는 정의 실수이다. 도 23(a)에서, D1~D5는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다(흰 원으로 나타냄). 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터 D1~D5를 새로운 샘플링 주기 K×Ws로 재샘플링하는 것에 의해, 도 23(b)에 나타내는 재샘플링된 화상 데이터 DR1, DR2, DR3, 및 DR4를 얻을 수 있다. 예를 들면, 화상 데이터 DR2는 화상 데이터 D2 및 D3를 적당한 비율로 보간하는 것에 의해 구해진다.

도 23(b)에서, a, b, c는 인접하는 재샘플링된 화상 데이터의 차분량으로서, a=DR2-DR1, b=DR3-DR2, c=DR4-DR3이다. a, b, c가 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족하는 경우에, 점 DR1부터 점 DR4까지의 기간을 윤곽폭 W로서 출력한다. 이렇게 하여, 재샘플링에 의해 구해진 화상 데이터를 이용하여, 윤곽폭의 검출을 실행해도 된다. 이 경우, 1샘플링 주기로 추출된 화소 데이터를 이용하는 경우보다도, K배 넓은 윤곽폭을 검출할 수 있다.

다음에, 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)의 동작을 설명한다. 도 24는 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 윤곽 기준 위치와 화상 데이터 및 윤곽폭의 관계를 나타내는 도면이다. 도 24에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고, 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 레벨을 나타내고 있다. 또한, 도 24에는 윤곽폭 검출 회로(51)에서 검출된 윤곽폭이 W인 화상의 윤곽부가 도시되어 있으며, 이 때 윤곽부의 차분량을 DW로 하고 있다. 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 차분량 DW를 2등분하는 화상 레벨 DM에 대응해서 정해지는 수평 위치 PM을 윤곽부의 기준 위치 PM으로서 검출한다.

도 25(a), (b)는 윤곽부의 형상과 윤곽 기준 위치의 관계를 나타내는 도면이다. 도 25(a)는 윤곽폭 W에 대하여 앞쪽으로 되는 형상의 윤곽부를 나타내고 있다. 이 경우, 차분량 DW를 2등분하는 화상 레벨 DM에 대응하는 수평 위치 PM, 즉, 윤곽 기준 위치 PM은 윤곽폭 W에 대하여 앞쪽의 위치로서 검출된다. 한편, 도 25(b)는 윤곽폭 W에 대하여 뒤쪽의 형상의 윤곽부를 나타내고 있으며, 이 경우도 마찬가지로, 윤곽 기준 위치는 윤곽폭 W에 대하여 뒤쪽의 위치로서 검출된다. 이러한 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)의 동작에 의해, 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 윤곽부의 형상에 따라서 적절한 윤곽 기준 위치를 검출할 수 있다.

또한, 상기 설명에서는, 윤곽부의 차분량을 0.5:0.5의 비로 나누는 화상 레벨에 대응하는 수평 위치를 윤곽 기준 위치로 한 경우를 설명했지만, 윤곽부의 차분량을 α:(1-α)의 비로 나누는 화상 레벨에 대응하는 수평 위치이어도 무방하다. 여기서, 0≤α<1이라고 한다. 이 경우, α를 조절함으로써, 시감도나 사용자의 기호에 따라서 적당히 윤곽 기준 위치를 조절할 수 있다.

도 26(a1)~(e1) 및 도 26(a2)~(e2)는 실시예 4에서의 변환 배율 정보의 제어 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 26(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 26(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 26(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 26(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 26(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다. 또한, 변환 배율 정보 RZ는 변환 배율 Z의 역수(즉, RZ=1/Z)이다. 또한, 도 26(a1)~(e1)은 입력 화상 데이터 DI의 윤곽부가 윤곽폭 W, 윤곽 기준 위치 PM, 윤곽부의 차분량 D1인 경우를 나타내고 있고, 도 26(a2)~(e2)는 입력 화상 데이터 DI의 윤곽부가 윤곽폭 W, 윤곽 기준 위치 PM, 윤곽부의 차분량 D2인 경우를 나타내고 있다. 또한, 도 26(a1)~(e1)에서의 윤곽부의 차분량 D1은 도 26(a2)~(e2)에서의 윤곽부의 차분량 D2보다 큰 경우를 나타내고 있다. 또한, 도 26(a1)~(e1)에서의 윤곽 기준 위치 PM에서의 화상 데이터 DM1은 도 26(a2)~(e2)에서의 화상 데이터 DM2보다 큰 경우를 나타내고 있다(도 26(a1), (a2) 참조).

도 26(a1)~(e1)와 도 26(a2)~(e2)에서는 윤곽부의 차분량이 상이하지만, 어느 경우도 동일한 윤곽폭 W에 근거하여 배율 제어 신호 RZC가 생성된다. 이 때문에, 도 26(b1), (b2)로부터 알 수 있는 바와 같이, 윤곽부의 차분량이 상이하더라도, 마찬가지의 배율 제어 신호 RZC가 생성된다. 그 때문에, 윤곽부의 차분량이 상이하더라도, 변환 배율 정보 RZ 및 변환 배율 Z가 마찬가지로 변화하고, 출력 화상 데이터 DO의 윤곽폭도 동일한 정도로 작게 할 수 있다(도 26(c1)~(e1) 및 도 26(c2)~(e2) 참조).

또한, 이미 설명한 바와 같이, 윤곽 기준 위치에서 입력 화상 데이터와 출력 화상 데이터가 변화하지 않도록, 배율 제어 신호가 생성된다(도 26(a1), (e1) 및 도 26(a2), (e2) 참조). 이와 같이, 배율 제어량은 윤곽폭 W 및 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여 정해지고, 윤곽부의 차분량에는 의존하지 않는다.

윤곽부의 차분량에 근거하여 배율 제어량이 생성된 경우, 예를 들면, 윤곽부의 차분량이 클수록 윤곽부의 변화를 보다 급준하게 하도록 변환 배율이 제어되는 경우에는, 차분량이 작은 윤곽부에서는 배율 제어량이 작기 때문에, 충분한 선예도의 향상을 얻기 어렵다. 또한, 차분량이 작은 윤곽부에서 충분한 선예도 향상의 효과를 얻을 수 있을 정도까지 배율 제어량을 크게 하면, 이번은 차분량의 큰 윤곽부에서 과도한 선예도의 번쩍이는 화상으로 되어 버린다. 이에 반하여, 실시예 4에서는 검출한 윤곽폭에 근거하여 변환 배율을 제어하기 때문에, 윤곽부의 차분량의 대소에 영향받는 일 없이, 윤곽부의 선예도의 향상을 과부족 없게 실시할 수 있다.

(실시예 5)

실시예 5는 실시예 4의 변형예이다. 도 27(a1)~(e1) 및 도 27(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 5에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 진폭과 출력 화상에서의 윤곽부의 변화의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 27(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 27(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 27(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 27(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 27(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타낸다. 여기서, RZ는 Z의 역수(즉, RZ=1/Z)이다.

도 27(a1)~(e1)과 도 27(a2)~(e2)에서, 공통의 화상 데이터가 입력되어 윤곽폭 W가 검출된다(도 27(a1), (a2) 참조). 윤곽폭 W에 근거하여 배율 제어량 ZC가 생성되지만, 도 27(a1)~(e1)에서는 배율 제어량의 진폭(최대값과 최소값의 차)이 G1이며, 도 27(a2)~(e2)에서는 배율 제어량의 진폭이 G2인, 각각 상이한 진폭의 배율 제어량이 생성되는 것으로 한다. 배율 제어량의 진폭 G1과 G2는 G1<G2이라고 한다(도 27(b1), (b2) 참조). 그리고, 도 27(a1)~(e1)의 경우 및 도 27(a2)~(e2)의 경우의 각각에서, 미리 인가된 기준 변환 배율 RZ0에 배율 제어량 RZC가 중첩되어, 각각의 변환 배율 정보 RZ가 생성된다(도 27(c1), (c2) 참조). 이 때, 변환 배율 Z=1/RZ는 도 27(d1), (d2)와 같이 된다. 이러한 변환 배율 RZ에 근거하여, 각각 화소수의 변환이 행해진다(도 27(e1), (e2) 참조).

도 27(d1), (d2)에 도시되는 바와 같이, 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는, 도 27(a1)~(e1)의 경우보다도 도 27(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 보다 큰 변환 배율로 화소수 변환이 실시되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는, 도 27(a1)~(e1)의 경우보다도 도 27(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 보다 작은 변환 배율로 화소수 변환이 실시된다. 이에 의해, 도 27(a1)~(e1)의 경우보다 도 27(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽폭이 작게 변환되기 때문에, 도 27(a1)~(e1)의 경우보다도 도 27(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽부가 급준하게 되도록 변환되어, 선예도가 높은 화상을 얻을 수 있다.

이와 같이, 배율 제어량의 진폭(최대값 및 최소값)을 임의로 제어(가변 제어)하는 것에 의해, 출력 화상의 윤곽부의 급준 및 선예도를 자유롭게 제어할 수 있다. 예를 들면, 배율 제어량에 임의의 계수를 곱하는 것에 의해서, 배율 제어량의 진폭을 가변 제어할 수 있다.

(실시예 6)

실시예 6은 실시예 4의 변형예이다. 도 28(a1)~(e1) 및 도 28(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 6에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 진폭을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 28(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 28(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 28(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 28(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 28(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다. 여기서, RZ는 Z의 역수(즉, RZ=1/Z)이다.

도 28(a1)~(e1)는 윤곽폭 W1인 화상 데이터가 입력된 경우, 도 28(a2)~(e2)는 윤곽폭 W2인 화상 데이터가 입력된 경우를 나타내고 있다. 윤곽폭 W1과 W2는 W1<W2이다(도 28(a1), (a2) 참조). 도 28(a1)~(e1)에 표시되는 윤곽폭 W1의 경우와 도 28(a2)~(e2)에 표시되는 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 상이한 진폭 G1 및 G2를 갖는 배율 제어량이 생성된다(도 28(b1), (b2) 참조). 상기 실시예 5에서 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 진폭이 큰 쪽이 보다 윤곽부를 급준하게 변환한다.

예를 들면, 도 28(a1)~(e1) 및 도 28(a2)~(e2)에 표시되는 배율 제어량의 진폭 G1 및 G2를 적당히 조정하면, 도 28(a1)~(e1) 및 도 28(a2)~(e2)에서의 각각의 출력 화상 데이터의 윤곽폭을 동일한 윤곽폭으로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로는, G1<G2로 하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는 보다 작은 진폭 G1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는 보다 큰 진폭 G2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 배율 제어량의 진폭 G1과 G2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 28(a1)~(e1)의 출력 화상의 윤곽폭보다 도 28(a2)~(e2)의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 28(a2)~(e2)의 경우보다 도 28(a1)~(e1)의 경우의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 진폭을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상에서의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 각각 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

(실시예 7)

실시예 7은 실시예 4의 변형예이다. 도 29(a1)~(e1) 및 도 29(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 7에서의 변환 배율의 제어 방법(배율 제어량의 생성되는 기간과, 출력 화상에서의 윤곽부의 급준함과의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 29(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 29(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 29(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 29(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 29(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다. 여기서, RZ=1/Z이다.

도 29(a1)~(e1) 및 도 29(a2)~(e2)에서, 입력 화상 데이터의 윤곽폭은 모두 동일한 W이라고 한다(도 29(a1), (a2) 참조). 이 때, 도 29(a1)~(e1)에서는 기간 ZCW1에서 배율 제어량 ZC가 생성된다고 한다. 도 29(a1)~(e1)에 ZCW1으로서 표시되어 있는 배율 제어량이 생성되는 기간을 「배율 제어량의 생성 기간」이라고 한다. 한편, 도 29(a2)~(e2)에서는 배율 제어량의 생성 기간은 ZCW2이다. 이 때, ZCW1<ZCW2라고 한다(도 29(b1), (b2) 참조).

미리 정해진 임의의 기준 변환 배율 정보 RZ0에 생성된 배율 제어량 RZC를 중첩하는 것에 의해, 도 29(a1)~(e1) 및 도 29(a2)~(e2)의 각각의 변환 배율이 생성된다(도 29(c1), (c2) 참조). 이 때, 변환 배율 Z(=1/RZ)는 도 29(d)와 같이 된다. 생성 기간 앞부분 tb 및 생성 기간 뒷부분 td에서는 기준 변환 배율 Z0보다 큰 변환 배율로 화소수 변환되고, 생성 기간 중앙부 tc에서는 기준 변환 배율 Z0보다 작은 변환 배율로 화소수 변환된다(도 29(e1), (e2) 참조).

도 29(a1)~(e1)과 도 29(a2)~(e2)를 비교하면, 도 29(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 생성 기간 중앙부 tc에서의 기준 변환 배율 Z0보다 작은 변환 배율로 변환되는 기간이 길기 때문에, 도 29(a1)~(e1)의 경우보다도 도 29(a2)~(e2)의 경우인 쪽이 출력 화상의 윤곽부가 보다 급준하게 되도록 변환되어, 선예도가 높은 화상을 얻을 수 있다. 이와 같이, 배율 제어량의 생성 기간을 임의로 제어(가변 제어)하는 것에 의해, 출력 화상의 윤곽부의 급준함 및 선예도를 자유롭게 제어할 수 있다.

(실시예 8)

실시예 8은 실시예 4의 변형예이다. 도 30(a1)~(e1) 및 도 30(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 8에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 30(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 30(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 30(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 30(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 30(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다. 여기서, RZ=1/Z이다.

도 30(a1)~(e1)은 윤곽폭 W1인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있으며, 도 30(a2)~(e2)는 윤곽폭 W2인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있다. 윤곽폭 W1 및 W2는 W1<W2의 관계를 가진다(도 30(a1), (a2) 참조). 도 30(a1)~(e1)에 표시되는 윤곽폭 W1의 경우와, 도 30(a2)~(e2)에 표시되는 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 상이한 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 갖는 배율 제어량이 생성된다(도 30(b1), (b2) 참조).

실시예 7에서 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 생성 기간이 큰 경우인 쪽이 보다 윤곽부를 급준하게 변환할 수 있다. 예를 들면, 도 30(a1)~(e1) 및 도 30(a2)~(e2)에서, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 적당히 조정하면, 도 30(a1)~(e1) 및 도 30(a2)~(e2)에서의 각각의 출력 화상 데이터의 윤곽폭을 마찬가지의 윤곽폭으로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로 말하면, ZCW1<ZCW2로 하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는 보다 작은 생성 기간 ZCW1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는 보다 큰 생성 기간 ZCW2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1과 ZCW2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 30(a1)~(e1)의 경우의 출력 화상의 윤곽폭보다 도 30(a2)~(e2)의 경우의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 30(a2)~(e2)의 경우보다 도 30(a1)~(e1)의 경우의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 생성 기간을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상에서의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 각각 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

(실시예 9)

실시예 9는 실시예 4의 변형예이다. 도 31(a1)~(e1) 및 도 31(a2)~(e2)는 본 발명의 실시예 9에서의 변환 배율의 제어 방법(입력 화상의 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량의 생성 기간과 진폭의 양쪽을 변화시키는 경우)을 설명하기 위한 도면이다. 도 31(a1), (a2)는 입력 화상 데이터 DI, 도 31(b1), (b2)는 배율 제어량 RZC, 도 31(c1), (c2)는 변환 배율 정보 RZ, 도 31(d1), (d2)는 변환 배율 Z, 도 31(e1), (e2)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다. 여기서, RZ=1/Z이다.

도 31(a1)~(e1)는 윤곽폭 W1인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있으며, 도 31(a2)~(e2)는 윤곽폭 W2인 화상의 윤곽부가 입력된 경우를 나타내고 있다. 윤곽폭 W1 및 W2는 W1<W2이다(도 31(a1), (a2) 참조). 도 31(a1)~(e1)의 윤곽폭 W1과 도 31(a2)~(e2)의 윤곽폭 W2의 경우에서, 각각 생성 기간도 진폭도 상이한 배율 제어량을 생성한다(도 31(b1), (b2) 참조).

이미 실시예 5와 실시예 7에서 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 진폭이 큰 경우인 쪽이, 그리고 배율 제어량의 생성 기간이 큰 경우인 쪽이 보다 윤곽부를 급준하게 변환한다.

예를 들면, 도 31(a1)~(e1) 및 도 31(a2)~(e2)에서, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2, 및, 배율 제어량의 진폭 G1 및 G2를 적당히 조정하면, 도 31(a1)~(e1) 및 도 31(a2)~(e2)의 출력 화상의 윤곽폭을 마찬가지로 되도록 변환할 수도 있다. 보다 구체적으로 말하면, G1<G2, ZCW1<ZCW2로 하여, 보다 작은 윤곽폭 W1의 경우에는 보다 작은 생성 기간 ZCW1 및 보다 작은 진폭 G1의 배율 제어량이 생성되고, 보다 큰 윤곽폭 W2의 경우에는 보다 큰 생성 기간 ZCW2 및 보다 큰 진폭 G2의 배율 제어량이 생성되는 제어를 하면 된다.

또한, 진폭 G1 및 G2, 및, 생성 기간 ZCW1 및 ZCW2를 적당히 조정하는 것에 의해, 도 31(a1)~(e1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭보다 도 31(a2)~(e2)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다. 또한, 도 31(a2)~(e2)의 경우보다 도 31(a1)~(e1)의 경우에서의 출력 화상의 윤곽폭을 크게 하도록 제어하는 것도 가능하다.

이와 같이, 검출되는 윤곽폭마다 각각 대응하는 배율 제어량의 진폭 및 생성 기간을 임의로 설정하는 것에 의해, 입력 화상에서의 임의의 윤곽폭의 윤곽부를 소망하는 윤곽폭의 윤곽부로 자유롭게 변환할 수 있다.

(실시예 10)

실시예 10은 실시예 4의 변형예이다. 도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2) 및 도 32(a3)~(e3)는 본 발명의 실시예 10에서의 변환 배율의 제어 방법(미리 정해진 기준 변환 배율과 배율 제어량의 데이터수와의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 32(a1)~(a3)는 입력 화상 데이터 DI, 도 32(b1)~(b3)는 배율 제어량 RZC, 도 32(c1)~(c3)는 변환 배율 정보 RZ, 도 32(d1)~(d3)는 변환 배율 Z, 도 32(e1)~(e3)는 출력 화상 데이터 DO를 나타내고 있다.

도 32(a1)~(e1)은 입력 화상과 출력 화상의 화소수가 동일한 경우(기준 변환 배율 Z0=1의 경우)를 나타내고 있고, 도 32(a2)~(e2)는 화상의 확대 변환의 경우(기준 변환 배율 Z0>1의 경우)를 나타내고 있으며, 도 32(a3)~(e3)는 화상의 축소 변환의 경우(기준 변환 배율 Z0<1)를 나타내고 있다.

또한, 도 32(a1)~(a3)에서의 검은 원은 입력 화상의 화소 데이터를 나타내고 있고, 도 32(d1)~(d3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터를 나타내고 있다. 도 32(b1)~(b3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터에 대한 배율 제어량 RZC의 데이터를 나타내고 있다. 또한, 도 32(c1)~(c3)에서의 흰 원은 출력 화상 데이터에 대한 변환 배율 정보 RZ의 데이터를 나타내고 있다. 또한, 도 32(d1)~(d3)에서의 흰 원은 출력 화상의 화소 데이터에 대한 변환 배율 Z의 데이터를 나타내고 있다.

도 32(a1)~(e1)에서는 기준 변환 배율 Z0=1이며, 입력 화상과 출력 화상간에서 화소수가 동일(즉, 화소 밀도가 동일)하기 때문에, 검은 원의 간격과 흰 원의 간격은 동등하게 표시되어 있다. 도 32(a2)~(e2)에서는 확대 변환(기준 변환 배율 Z0>1)이며, 입력 화상보다 출력 화상의 화소 밀도가 높아지도록 변환되기 때문에, 검은 원의 간격보다도 흰 원의 간격이 조밀하게 표시되어 있다. 도 32(a3)~(e3)에서는 축소 변환(기준 변환 배율 Z0<1)이며, 입력 화상보다 출력 화상의 화소 밀도가 낮아지도록 변환되기 때문에, 검은 원의 간격보다도 흰 원의 간격이 성기게 표시되어 있다.

도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2), 및 도 32(a3)~(e3)의 각각에서, 공통의 화상 데이터가 입력되어 각각 윤곽폭 W 및 윤곽 기준 위치 PM이 검출된다(도 32(a1)~(a3) 참조). 그리고, 윤곽폭 W 및 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여 생성 기간 ZCW의 배율 제어량 RZC가 각각 생성된다(도 32(b1)~(b3) 참조). 이미 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW를 도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2), 및 도 32(a3)~(e3)에서 동등하게 하면, 출력 화상의 윤곽부의 급준함을 마찬가지로 제어할 수 있다. 그러나, 도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2), 도 32(a3)~(e3)에서는 화소 밀도가 상이하기 때문에, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW에서의 배율 제어량 데이터의 수는 도 32(a1)~(e1), 도 32(a2)~(e2), 도 32(a3)~(e3)에서 서로 상이하다. 이후의 설명에서는, 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량의 데이터의 수를 「배율 제어량 데이터수」라고 한다.

도 32(a2)~(e2)는 확대 변환으로서 화소 밀도가 도 32(a1)~(e1)의 경우보다 높기 때문에, 도 32(a2)~(e2)에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN2는, 도 32(a1)~(e1)에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN1보다도 많아, ZCN1<ZCN2이다. 마찬가지로, 도 32(a3)~(e3)는 축소 변환으로서 화소 밀도가 도 25(a1)~(e1)의 경우보다 낮기 때문에, 도 32(a3)~(e3)에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어량 데이터수 ZCN3는, 도 32(a1)~(e1)에서 배율 제어량의 생성 기간 ZCW 동안에 생성되는 배율 제어 데이터수 ZCN1보다도 적어, ZCN3<ZCN1이다.

이와 같이, 화상 전체의 변환 배율(기준 변환 배율 Z0)에 근거하여 배율 제어량의 데이터수를 변화시키는 것에 의해, 화상 전체의 변환 배율이 변경되더라도 출력 화상의 윤곽부의 급준함을 마찬가지로 유지할 수 있다. 즉, 검출된 윤곽폭과 윤곽 기준 위치에 근거하여 배율 제어량을 생성하고, 또한, 화상 전체의 변환 배율에 근거하여 배율 제어량의 데이터수를 변화시키는 것에 의해, 화상 전체의 변환 배율을 변경한 경우에서도 소망하는 선예도의 출력 화상을 얻을 수 있다.

(실시예 11)

실시예 11은 실시예 1 또는 실시예 4의 변형예이다. 도 33은 본 발명의 실시예 11에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터 DI와 윤곽폭 W의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 33에서, D1, D2, D3, D4 및 D5는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 또한, 도 33에서, a, b, c 및 d는 인접하는 화상 데이터의 차분량으로서, a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3, d=D5-D4이다. 환언하면, 도 33에서, a는 윤곽 앞부분에서의 화상 데이터의 변화, b 및 c는 윤곽 중앙부에서의 화상 데이터의 변화, d는 윤곽 뒷부분에서의 화상 데이터의 변화를 나타내고 있다.

실시예 11의 윤곽폭 검출 회로(51)는 화상 데이터가 단조 증가 또는 단조 감소하고 있으며, 또한, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분이 윤곽 중앙부에 비해서 평탄한 부분을 윤곽부로서 검출한다. 이 때, 윤곽부를 검출하는 조건은 a, b, c, d의 각각의 정부의 부호가 동일하던지 또는 제로이며, 또한, |b|와 |c|의 양쪽이 |a| 및 |d|의 양쪽보다도 큰 것이다. 이 조건을 식으로 표현하면, 이하의 수학식 4a 및 수학식 4b와 같이 된다.

(a≥O 또한 b≥O 또한 c≥O 또한 d≥O) 또는 (a≤0 또한 b≤0 또한 c≤0 또한 d≤0)

|b|>|a| 또한 |b|>|d| 또한 |c|>|a| 또한 |c|>|d|

수학식 4a 및 수학식 4b를 동시에 만족하는 경우에, 도 33에서의 D1부터 D5까지의 기간을 윤곽부로 간주하고, D1부터 D5까지의 간격을 윤곽폭 W로서 출력한다. 또한, 이 때의 윤곽폭 W=4×Ws로 된다. 이렇게 하여, 윤곽폭 검출 회로(51)는 윤곽폭을 검출할 수 있다.

도 34는 실시예 11에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터 DI와 윤곽폭 W의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 34에서는, 하나의 윤곽부에 대해서 2종류의 상이한 윤곽폭이 검출된 경우의 동작을 설명한다.

도 34에서, D1~D5는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 또한, 도 34에서, a, b, c 및 d는 인접하는 화소간의 차분량을 나타내고 있으며, 각각 a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3, d=D5-D4이다.

도 34에 표시되는 바와 같이, a, b, c가 상기 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족하는 동시에, a, b, c, d가 상기 수학식 4a 및 수학식 4b를 만족하는 경우가 있다. 이 때, D1부터 D4까지의 기간이 윤곽폭 W1=3×Ws로서 검출되고, D1부터 D5까지의 기간이 윤곽폭 W2=4×Ws로서 검출된다. 이와 같이, W1<W2로 되는 2종류의 상이한 윤곽폭이 동시에 검출되는 경우, 윤곽폭 검출 회로(51)는 보다 넓은 윤곽폭 W를 검출 결과로서 우선적으로 출력한다.

2종류 이상의 상이한 윤곽폭이 동시에 검출될 때, 보다 작은 윤곽폭으로 검출되는 윤곽부는 보다 큰 윤곽폭으로 검출되는 윤곽부의 일부분이다. 이러한 보다 작은 윤곽폭을 검출 결과로 한 경우, 보다 큰 윤곽부의 도중이 부분적으로 급준하게 변환되기 때문에, 불필요한 거짓 윤곽이 발생하여 조잡한 화상으로 되어 버린다.

이에 반하여, 실시예 11에서의 윤곽폭 검출 회로(51)에서는 복수의 상이한 윤곽폭이 동시에 검출되는 경우에, 보다 넓은 윤곽폭을 검출 결과로 하기 때문에, 상기한 바와 같은 화상의 열화를 막을 수 있다.

(실시예 12)

실시예 12는 실시예 1 또는 실시예 4의 변형예이다. 도 35는 본 발명의 실시예 12에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터 DI와 윤곽폭 W의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 35에서, D1, D2, D3, D4, D5 및 D6는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 또한, 도 35에서, a, b, c, d 및 e는 인접하는 화소간의 차분량을 나타내고 있으며, 각각 a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3, d=D5-D4, e=D6-D5이다. 도 35에서, b는 윤곽 앞부분에서의 화상 데이터의 변화, c는 윤곽 중앙부에서의 화상 데이터의 변화, d는 윤곽 뒷부분에서의 화상 데이터의 변화를 나타내고 있으며, a는 윤곽부보다 더욱 전방의 화상 데이터의 변화, e는 윤곽부보다 더욱 후방의 화상 데이터의 변화를 나타내고 있다.

실시예 12의 윤곽폭 검출 회로(51)는 화상 데이터가 단조 증가 또는 단조 감소하고 있고, 또한, 윤곽 앞부분(D2~D3) 및 윤곽 뒷부분(D4~D5)이 윤곽 중앙부(D3~D4)에 비해서 평탄하고 동시에, 또한 윤곽부(D2~D5)의 앞뒤에 윤곽 앞의 평탄부(D1~D2)와 윤곽 뒤의 평탄부(D3~D4)가 존재하는 부분을 윤곽부(D2~D5)로서 검출한다.

화상 데이터가 단조 증가 또는 단조 감소하고 있기 때문에, 수학식 5a에 나타내 바와 같이, b, c, d의 각각의 정부의 부호가 동일하던지 제로인 것을 검출한다. 또한, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분이 윤곽 중앙부에 비해서 평탄하기 때문에, 수학식 5b에 나타내는 바와 같이, |c|가 |b| 및 |d|의 양쪽보다도 큰 것을 검출한다. 또한, 윤곽부의 앞뒤에 윤곽 앞의 평탄부와 윤곽 뒤의 평탄부가 존재하기 때문에, 수학식 5c에 나타내는 바와 같이, 윤곽부보다도 전방에 있는 부분의 변화 |a|가 윤곽 앞부분의 변화 |b|보다도 작고, 또한, 윤곽부보다도 후방에 있는 부분의 변화 |e|가 윤곽 뒷부분의 변화 |d|보다도 작은 것을 검출한다.

(b≥O 또한 c≥0 또한 d≥O) 또는 (b≤O 또한 c≤0 또한 d≤O)

|c|>|b| 또한 |c|>|d|

|a|<|b| 또한 |e|<|d|

수학식 5a, 5b, 5c를 전부 만족하는 경우에, 도 35에서의 D2부터 D5까지의 기간을 윤곽부로 간주하고, 그 간격을 윤곽폭 W로서 출력한다. 이 때의 윤곽폭은 W=3×Ws로 된다. 상기한 바와 같이 윤곽폭 검출 회로(51)는 동작하기 때문에, 윤곽부의 앞뒤가 보다 평탄한 윤곽부의 윤곽폭을 검출할 수 있다.

상기에서는, 윤곽부의 앞뒤에 윤곽 앞의 평탄부와 윤곽 뒤의 평탄부가 존재하는 조건으로서, 수학식 5c로 표현되는 예를 나타냈지만, 수학식 5c 대신에 다음 수학식 6으로 나타낸 조건을 이용해도 된다.

|a|<0.5×|b| 또한 |e|<0.5|d|

이 경우, 윤곽부보다도 전방에 있는 부분의 변화 |a|가 윤곽 앞부분의 변화 |b|의 1/2보다도 작고, 또한 윤곽부보다도 후방에 있는 부분의 변화 |e|가 윤곽 뒷부분의 변화 |d|의 1/2보다도 작은 것을 검출한다. 즉, |a| 및 |e|가 수학식 5c의 경우의 1/2로 될 때에 윤곽폭의 검출이 행해지기 때문에, 윤곽부의 앞뒤 부분이 보다 평탄한 윤곽부에 대해서 윤곽폭을 검출할 수 있다.

수학식 6에서는 |b| 및 |d|의 계수를 0.5로 했지만, 다음 수학식 7에 나타내는 바와 같이 실수 K로 해도 된다(0≤K<1).

|a|<K×|b| 또한 |e|<K×|d|

계수 K를 0에 가깝게 할수록, 윤곽부의 앞뒤에 있는 부분의 변화 |a| 및 |e|가 보다 작은 경우, 즉 윤곽부의 앞뒤에 있는 부분이 보다 평탄한 경우를 검출할 수 있다. 계수 K를 적당히 조정하는 것에 의해서, 검출 대상으로 하는 윤곽부의 전후의 평탄함을 임의로 변경할 수 있다.

(실시예 13)

실시예 13은 실시예 1 또는 실시예 4의 변형예이다. 도 36은 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터와 윤곽폭의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 20을 이용한 설명에서는, 소정의 샘플링 주기로 샘플링된 화소 데이터에 근거하여 윤곽폭의 검출을 실행했지만, 도 36에서는 불균등한 샘플링 주기로 샘플링된 화상 데이터에 근거하여 윤곽폭을 검출하는 예에 대해서 설명한다.

도 36에서, D1, D2, D3 및 D4는 상이한 샘플링 주기 Wa, Wb, Wc로 샘플링된 화상 데이터이다. 여기서, Wa>Wb, Wc>Wb라고 한다. 도 36에서, a, b 및 c는 인접하는 화소 데이터간의 차분량을 나타내고 있으며, 각각 a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3이다. a는 윤곽 앞부분에서의 화상 데이터의 변화, b는 윤곽 중앙부에서의 화상 데이터의 변화, c는 윤곽 뒷부분에서의 화상 데이터의 변화를 나타내고 있다.

화상 데이터의 변화가 단조 증가 또는 단조 감소하고 있고, 또한, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분이 윤곽 중앙부에 비해서 평탄한 부분을 윤곽부로서 검출한다. 윤곽부를 검출하는 조건은 도 20을 이용하여 설명한 수학식 3a 및 수학식 3b의 조건과 동일하다고 한다. 수학식 3a 및 수학식 3b를 전부 만족하는 경우에, 도 36에서의 D1부터 D4까지의 기간을 윤곽부로 간주하고, 그 간격을 윤곽폭 W로서 출력하는 것이다.

윤곽 중앙부의 간격 Wb가 간격 Wa 및 Wc보다도 작기 때문에, 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족하는 경우이더라도, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분의 변화에 대하여, 윤곽 중앙부의 변화가 보다 급준한 윤곽부에 대해서 윤곽폭을 검출할 수 있다. 반대로 말하면, 윤곽 중앙부의 변화에 대하여, 윤곽 앞부분 및 윤곽 뒷부분의 변화가 보다 완만한 윤곽부에 대해서 윤곽폭을 검출할 수 있다.

도 37은 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 다른 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 불균등한 샘플링 주기로 화상 데이터를 샘플링하는 방법의 예를 나타내는 도면이다. 도 37에서, 흰 원 및 X표로 나타낸 D1~D6는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다. 이들 중, X표로 나타낸 화상 데이터 D2 및 D5를 제거하고, 흰 원으로 나타낸 화상 데이터 D1, D3, D4, D6를 이용하여 윤곽폭 W의 검출을 실행한다. 이 때, D2와 D3의 간격은 본래의 샘플링 주기 Ws인 것에 반하여, D1과 D2의 간격 및 D3와 D4의 간격은 소정의 샘플링 주기 Ws의 2배(2×Ws)로 된다.

도 37에서, a, b, c는 흰 원으로 나타낸 화상 데이터에서의 인접하는 화소간의 차분량으로서, a=D3-D1, b=D4-D3, c=D6-D4이다. 이들, a, b, c가 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족할 때, D1부터 D6까지의 기간을 윤곽폭 W로서 검출한다. 수학식 3a 및 수학식 3b에 대해서는 이미 설명하였다.

이렇게 하여, 소정 샘플링 주기로 샘플링된 화상 데이터를 일부 제거하는 것에 의해서, 불균등한 간격으로 샘플링한 화상 데이터를 얻을 수 있다. 이렇게 얻어진 화상 데이터에 근거하여, 윤곽폭의 검출을 실행해도 된다.

도 38(a), (b)는 본 발명의 실시예 13에서의 윤곽폭 검출 회로(51)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 불균등한 샘플링 주기로 화상 데이터를 샘플링하는 방법의 다른 예를 나타내는 도면이다. 도 38(a)에서, D1~D4는 소정의 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터이다(흰 원으로 나타냄). 도 38(b)에서는, 샘플링 주기 Ws로 샘플링된 화상 데이터 D1~D4를 새로운 불균등한 샘플링 주기 Wa, Wb 및 Wc로 재샘플링하는 것에 의해, 재샘플링된 화상 데이터 DR1, DR2, DR3 및 DR4를 얻을 수 있다. 여기서, Wb<Wa, Wb<Wc라고 한다. 예를 들면, 재샘플링된 화상 데이터 DR2는 화상 데이터 D2 및 D3를 적당한 비율로 보간하는 것에 의해 구해진다.

도 38(b)에서, a, b, c는 재샘플링에 의해 얻어진 화상 데이터에서의 인접하는 화소간의 차분량으로서, a=DR2-D1, b=DR3-DR2, c=DR4-DR3이다. 이들, a, b, c가 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족할 때, DR1부터 DR4까지의 기간을 윤곽폭 W로서 검출한다. 수학식 3a 및 수학식 3b에 대해서는 이미 설명하였다.

이렇게 하여, 소정 샘플링 주기로 샘플링된 화상 데이터를 별도의 불균등한 샘플링 주기로 재샘플링하는 것에 의해서, 불균등한 간격으로 샘플링한 화상 데이터를 얻을 수 있다. 이렇게 얻어진 화상 데이터에 근거하여, 윤곽폭의 검출을 실행해도 된다.

(실시예 14)

실시예 14는 실시예 4의 변형예이다. 도 39(a)~(c)는 본 발명의 실시예 14에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 윤곽 기준 위치와 화상 데이터의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 39(a)~(c)는 윤곽폭 검출 회로(51)에서 검출된 윤곽폭이 W인 화상의 윤곽부를 나타내고 있다. 도 39(a)~(c)에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고, 도 39(a)의 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 레벨(밝기), 도 39(b)의 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 1차 미분의 값, 도 39(c)의 세로축은 입력 화상 데이터 DI의 2차 미분의 값을 나타낸다.

윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는, 도 39(c)에 나타내는 바와 같이, 2차 미분의 값이 제로이며, 그 앞뒤에서 2차 미분의 정부의 부호가 전환하는 위치(「2차 미분의 제로 크로스점」이라고 부름)를 윤곽 기준 위치 PM으로서 검출한다.

도 40(a1)~(c1) 및 도 40(a2)~(c2)는 본 발명의 실시예 14에서의 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 40(a1)~(c1) 및 도 40(a2)~(c2)에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고 있으며, 도 40(a1), (a2)의 세로축은 입력 화상 데이터의 레벨(밝기), 도 40(b1), (b2)의 세로축은 상기 입력 화상 데이터의 1차 미분의 값, 도 40(c1), (c2)의 세로축은 상기 입력 화상 데이터의 2차 미분의 값을 나타낸다.

도 40(a1)~(c1)은 입력 화상 데이터의 가파른 상승이 윤곽폭 W로 표시되는 범위내에서의 앞쪽에 있는 형상의 윤곽부를 나타내고 있다. 이 경우, 도 40(c1)에 나타내는 바와 같이 2차 미분이 변화하기 때문에, 2차 미분의 제로 크로스점은 윤곽폭에 대하여 앞쪽의 위치로 된다. 즉, 윤곽 기준 위치 PM은 윤곽폭 W로 표시되는 범위내에서의 뒤쪽의 위치로서 검출된다. 한편, 도 40(a2)~(c2)는 입력 화상 데이터의 가파른 상승이 윤곽폭 W로 표시되는 범위내에서의 뒤쪽에 있는 형상의 윤곽부를 나타내고 있다. 이 경우, 도 40(c2)에 나타내는 바와 같이, 윤곽 기준 위치 PM은 윤곽폭 W로 표시되는 범위내에서 뒤쪽의 위치로서 검출된다.

상기한 바와 같이 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 동작하기 때문에, 윤곽부의 형상에 따라서 적절한 윤곽 기준 위치를 검출할 수 있다.

(실시예 15)

실시예 15는 실시예 4의 변형예이다. 실시예 4에서, 도 20을 이용하여 실행한 설명에서는, 수학식 3a 및 수학식 3b에 나타낸 조건(a, b, c의 관계)을 만족하는 경우에, D1부터 D4까지의 기간을 윤곽부로 간주하고, 그 간격을 윤곽폭 W로서 출력하였다. 실시예 15에서는, 윤곽부의 앞뒤 부분에서의 평탄함을 검출하고, 검출된 평탄함에 근거하여 배율 제어량을 가변 제어하는 방법에 대해서 설명한다.

도 41은 본 발명의 실시예 15에서의 화상 처리 장치의 구성을 나타내는 블록도로서, 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성을 나타내는 도면이다. 도 41의 화상 처리 장치(59)는 윤곽폭 검출 회로(57)와, 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)와, 배율 제어량 생성 회로(58)와, 배율 생성 회로(54)와, 화소수 변환 회로(55)를 구비하고 있다.

입력 화상 데이터 DI는 윤곽폭 검출 회로(57), 윤곽 기준 위치 검출 회로(52) 및 화소수 변환 회로(55)에 입력된다. 윤곽폭 검출 회로(57)는 입력된 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화하고 있는 기간을 윤곽폭 W로서 검출하여 이 윤곽폭 W를 출력하고, 또한, 윤곽부의 앞뒤 부분의 평탄함을 검출하여 윤곽 외부의 평탄도 L로서 출력한다. 윤곽폭 검출 회로(57)로부터 출력된 윤곽폭 W는 윤곽 기준 위치 검출 회로(52) 및 배율 제어량 생성 회로(53)에 입력된다. 또한, 윤곽 외부의 평탄도 L은 배율 제어량 생성 회로(53)에 입력된다.

윤곽 기준 위치 검출 회로(52)는 화상 데이터 DI와 윤곽폭 W에 근거하여, 윤곽부의 기준 위치 PM을 검출하고, 이 윤곽 기준 위치 PM을 출력한다. 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)로부터 출력된 윤곽 기준 위치 PM은 배율 제어량 생성 회로(58)에 입력된다.

배율 제어량 생성 회로(58)는 윤곽폭 W, 윤곽 외부의 평탄도 L 및 윤곽 기준 위치 PM에 근거하여, 변환 배율을 제어하기 위한 배율 제어량 RZC를 생성하고, 이 배율 제어량 RZC을 출력한다. 배율 제어량 생성 회로(58)로부터 출력된 배율 제어량 RZC는 배율 생성 회로(54)에 입력된다.

배율 생성 회로(54)는 배율 제어량 RZC 및 미리 인가된 임의의 기준 변환 배율 정보 RZ0에 근거하여, 변환 배율 정보 RZ를 생성하고, 이 변환 배율 정보 RZ를 출력한다. 배율 생성 회로(54)로부터 출력된 변환 배율 정보 RZ는 화소수 변환 회로(55)에 입력된다.

화소수 변환 회로(55)는 변환 배율 정보 RZ를 이용하여 입력 화상 데이터 DI의 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터를 출력 화상 데이터 DO로서 출력한다.

윤곽 기준 위치 검출 회로(52), 배율 생성 회로(54) 및 화소수 변환 회로(55)에 대해서는 이미 설명한 내용과 동일하다. 여기서는, 윤곽폭 검출 회로(57)와 배율 제어량 생성 회로(58)에 대해서 자세히 설명한다.

먼저, 윤곽폭 검출 회로(57)의 동작의 설명을 한다. 도 42는 실시예 15에서의 윤곽폭 검출 회로(57)의 동작을 설명하기 위한 도면으로서, 화상 데이터와 윤곽폭의 관계를 설명하기 위한 도면이다. 도 42에서, D0~D5는 소정의 샘플링 주기로 샘플링된 화상 데이터이다. 또한, 도 42에서, a, b, c는 인접하는 화상 데이터간의 차분량을 나타내고 있으며, a=D2-D1, b=D3-D2, c=D4-D3이다. 환언하면, a는 윤곽 앞부분에서의 화상 데이터의 변화, b는 윤곽 중앙부에서의 화상 데이터의 변화, c는 윤곽 뒷부분에서의 화상 데이터의 변화를 나타내고 있다. 또한, 도 42에서, DWi는 윤곽부 W14의 차분량, DWe는 윤곽부의 앞뒤 부분간의 차분량을 나타내고 있으며, 각각 DWi=D4-D1, DWe=D5-D0이다. 이후에서는, DWe를 「윤곽 외부의 차분량」, DWi를 「윤곽 내부의 차분량」이라고 부른다.

윤곽폭 검출 회로(57)는 실시예 4에서 이미 설명한 윤곽폭 검출 회로(51)와 마찬가지로, 예를 들면 수학식 3a 및 수학식 3b를 만족할 때에 윤곽폭 W를 출력한다.

또한, 윤곽폭 검출 회로(57)는 윤곽 외부의 차분량 DWe와 윤곽 내부의 차분량 DWi로부터, 윤곽 외부의 평탄도 L=(DWe-DWi)/DWi를 산출해서 출력한다.

도 43(a)~(c)는 윤곽 외부의 평탄도와 화상 데이터의 관계를 나타낸 도면이다. 도 43(a)는 |DWi|>|DWe|의 경우, 즉 L<0의 경우를 나타낸다. 도 43(b)는 |DWi|=|DWe|의 경우, 즉 L=0의 경우를 나타낸다. 도 43(c)는 |DWi|<|DWe|의 경우, 즉 L>0의 경우를 나타낸다.

도 43(a)의 L<0의 경우에서는, 윤곽부보다 전방의 부분 D0~D1 및 후방의 부분 D4~D5에서, 윤곽부 D1~D4에 대하여 화상 데이터의 변화의 경사가 반대의 부호로 되고 있으며, D0부터 D5에 걸친 영역이, 화상 데이터가 짧은 주기로 변화하고 있는, 높은 주파수 성분으로 이루어지는 화상 영역인 것을 나타내고 있다. 한편, 도 43(b)의 L=0의 경우에서는, 윤곽부보다 전방의 부분 D0~D1 및 후방의 부분 D4~D5에서, 화상 데이터에 변화가 없는, 평탄한 화상 영역인 것을 나타내고 있다. 또한, 도 43(c)의 L>0의 경우에서는, 윤곽부보다 전방의 부분 D0~D1 및 후방의 부분 D4~D5에서, 윤곽부 D1~D4에 대하여 화상 데이터의 변화의 경사가 동일한 부호로 되어 있으며, D0부터 D5에 걸친 영역이, 화상 데이터가 완만하게 변화하고 있는, 낮은 주파수 성분으로 이루어지는 화상 영역인 것을 나타내고 있다.

윤곽 외부의 평탄도 L이 제로에 가까울수록, 윤곽부의 외측 부분이 평탄한 것을 나타내고, 평탄도 L이 제로로부터 크게 떨어질수록, 윤곽부의 외측 부분이 평탄이 아닌 것을 나타내고 있다. 이렇게 하여, 윤곽폭 검출 회로(57)는 윤곽폭 W와 윤곽 외부의 평탄도 L을 출력한다.

다음에, 배율 제어량 생성 회로(58)의 동작의 설명을 한다. 도 44는 배율 제어량의 제어 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 44에서, 가로축은 윤곽 외부의 평탄도 L을 나타내고, 세로축은 배율 제어량에 곱하는 제어 계수 KL을 나타내며, TH1, TH2, TH3 및 TH4는 각각 임계값을 나타낸다.

도 44에 나타내는 바와 같이, L<TH1 및 TH4<L의 범위에서는 제어 계수 KL=0이다. 또한, TH1≤L<TH2의 범위에서는 L에 비례해서 KL이 증가한다. 또한, TH2≤L<TH3의 범위에서는 KL=1이다. 또한, TH3≤L<TH4의 범위에서는 L에 비례해서 KL이 감소한다. 또한, TH4<L의 범위에서는 KL=0이다. 즉, L이 제로에 가까울수록, KL은 큰 값을 취하고, L이 제로로부터 크게 떨어질수록, KL은 작은 값을 취한다. 이와 같이, 윤곽 외부의 평탄도 L과 임계값 TH1~TH4에 근거하여, 제어 계수 KL이 발생된다.

도 45(a)~(d)는 본 발명의 실시예 15에서의 변환 배율의 제어 방법(제어 계수 KL과 배율 제어량의 관계)을 설명하기 위한 도면이다. 도 45(a)~(d)에서, 가로축은 화상의 수평 위치를 나타내고, 세로축은 배율 제어량을 나타낸다. 도 45(a)~(d)는 제어 계수 KL을 변화시킨 경우의 배율 제어량 RZC의 변화의 상태를 예시한 도면이다. 도 45(a)는 KL=1의 경우, 도 45(b)는 KL=0.5의 경우, 도 45(c)는 KL=0.25의 경우, 도 45(d)는 KL=0의 경우를 나타낸다. 도 45(a)~(d)에서, G는 배율 제어량의 진폭(최대값과 최소값의 차)이다. 도 45(a)에 표시되는 KL=1의 경우에 G=G1이라고 하면, 도 45(b)에 표시되는 KL=0.5의 경우에는 G=0.5×G1이고, 도 45(c)에 표시되는 KL=0.25의 경우에는 G=0.25×G1이며, 도 45(d)에 표시되는 KL=0의 경우에는 G=0으로 되어, KL의 값이 작을수록 배율 제어량의 진폭이 작아진다. 또한, 실시예 6에서 설명한 바와 같이, 배율 제어량의 진폭이 작을수록 윤곽부의 선예도 개선의 효과는 작아진다.

이미 설명한 바와 같이, 윤곽부의 외측 부분이 평탄할수록 제어 계수 KL은 큰 값을 취하고, 윤곽부의 외측 부분이 평탄하지 않을수록 제어 계수 KL은 작은 값을 취한다. 따라서, 윤곽 외부의 평탄도 L이 제로에 가까울수록 배율 제어량의 진폭은 커지고, 반대로, 윤곽 외부의 평탄도 L이 제로로부터 크게 떨어질수록 배율 제어량의 진폭이 작아진다. 즉, 윤곽부의 외측 부분이 평탄한 경우에는 윤곽부의 선예도를 개선하도록 작용하지만, 윤곽부의 외측 부분이 평탄하지 않은 경우에는 변환 배율을 국소적으로 변동시키지 않도록 작용한다.

윤곽부를 포함하는 근방 영역이 고주파 성분으로 이루어지는 경우에는 변환 배율을 국소적으로 변동시키는 것에 의해서, 고주파 성분을 열화시켜 버린다고 하는 문제가 있다. 또한, 윤곽부를 포함하는 근방 영역이 저주파 성분으로 이루어지는 경우에는 변환 배율을 국소적으로 변동시키는 것에 의해서, 불필요한 거짓 윤곽을 발생시켜 버린다. 그러나, 실시예 15에서의 화상 처리 장치는 윤곽부의 외측 부분이 평탄하지 않은 경우에는, 변환 배율을 국소적으로 변동시키지 않도록 작용하기 때문에, 상기한 바와 같은 화질 열화를 막을 수 있다.

(실시예 16)

상기 실시예 4~15까지에서는, 수평 방향의 화소수 변환을 예로 설명했지만, 수직 방향의 화소수 변환에 대해서도 마찬가지의 동작에 의해서 실현할 수 있어, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다. 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환을 순차적으로 또는 동시에 실시하는 것에 의해, 수직 방향 및 수평 방향의 양쪽에 대해서도 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

도 46은 본 발명의 실시예 16에 따른 화상 처리 장치의 구성(수직 방향 및 수평 방향으로 화소수를 변환하는 경우의 구성)을 나타내는 블록도이다. 도 46의 화상 처리 장치(70)는 수직 윤곽폭 검출 회로(60)와, 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61)와, 수직 배율 제어량 생성 회로(62)와, 수직 배율 생성 회로(63)와, 수직 화소수 변환 회로(64)와, 수평 윤곽폭 검출 회로(65)와, 수평 윤곽폭 검출 회로(66)와, 수평 배율 제어량 생성 회로(67)와, 수평 배율 생성 회로(68)와, 수평 화소수 변환 회로(69)를 구비하고 있다.

도 46에서, 수직 윤곽폭 검출 회로(60), 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61), 수직 배율 제어량 생성 회로(62), 수직 배율 생성 회로(63), 및 수직 화소수 변환 회로(64)는, 수직 방향의 화소수 변환을 하는 화상 처리부를 구성하고 있으며, 수평 윤곽폭 검출 회로(65), 수평 윤곽 기준 위치 검출 회로(66), 수평 배율 제어량 생성 회로(67), 수평 배율 생성 회로(68), 및 수평 화소수 변환 회로(69)는 수평 방향의 화소수 변환을 하는 화상 처리부를 구성하고 있다. 또한, 수직 윤곽폭 검출 회로(60) 및 수평 윤곽폭 검출 회로(65)는 각각 도 17의 윤곽폭 검출 회로(51)에 상당하고, 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61) 및 수평 윤곽 기준 위치 검출 회로(66)는 각각 도 17의 윤곽 기준 위치 검출 회로(52)에 상당하고, 수직 배율 제어량 생성 회로(62) 및 수평 배율 제어량 생성 회로(67)는 각각 도 17의 배율 제어량 생성 회로(53)에 상당하고, 수직 배율 생성 회로(63) 및 수평 배율 생성 회로(68)는 각각 도 17의 배율 생성 회로(54)에 상당하고, 수직 화소수 변환 회로(64) 및 수평 화소수 변환 회로(69)는 각각 도 17의 화소수 변환 회로(55)에 상당하다.

입력 화상 데이터 DI는 수직 윤곽폭 검출 회로(60), 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61) 및 수직 화소수 변환 회로(64)에 입력된다. 수직 윤곽폭 검출 회로(60)는 입력된 화상 데이터 DI의 화상 레벨이 수직 방향으로 변화하고 있는 기간을 수직 윤곽폭 WV로서 검출하고, 이 수직 윤곽폭 WV를 출력한다. 수직 윤곽폭 검출 회로(60)로부터 출력된 수직 윤곽폭 WV는, 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61) 및 수직 배율 제어량 생성 회로(62)에 입력된다.

수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61)는 화상 데이터 DI와 수직 윤곽폭 WV에 근거하여, 수직 방향의 윤곽부의 기준 위치 PMV를 검출하고, 이 수직 윤곽 기준 위치 PMV를 출력한다. 수직 윤곽 기준 위치 검출 회로(61)로부터 출력된 수직 윤곽 기준 위치 PMV는 수직 배율 제어량 생성 회로(62)에 입력된다.

수직 배율 제어량 생성 회로(62)는 수직 윤곽폭 WV와 수직 윤곽 기준 위치 PMV에 근거하여, 수직 방향의 변환 배율을 제어하기 위한 수직 배율 제어량 RZCV를 생성하고, 이 수직 배율 제어량 RZCV를 출력한다. 수직 배율 제어량 생성 회로(62)로부터 출력된 수직 배율 제어량 RZCV는 수직 배율 생성 회로(63)에 입력된다.

수직 배율 생성 회로(63)는 수직 배율 제어량 RZCV 및 미리 인가된 수직 방향의 임의의 기준 변환 배율 정보 RZV0에 근거하여, 수직 방향의 변환 배율 정보(수직 변환 배율 정보) RZV를 생성하고, 이 수직 변환 배율 정보 RZV를 출력한다. 수직 배율 생성 회로(63)로부터 출력된 수직 변환 배율 정보 RZV는 수직 화소수 변환 회로(64)에 입력된다.

수직 화소수 변환 회로(64)는 수직 변환 배율 정보 RZV에 근거하여, 입력 화상 데이터 DI의 수직 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터 DV를 출력한다. 수직 화소수 변환 회로(64)로부터 출력된 화상 데이터 DV는, 수평 윤곽폭 검출 회로(65), 수평 윤곽 기준 위치 검출 회로(66) 및 수평 화소수 변환 회로(69)에 입력된다.

수평 윤곽폭 검출 회로(65)는 입력된 화상 데이터 DV의 화상 레벨이 수평 방향으로 변화하고 있는 기간을 수평 윤곽폭 WH로서 검출하고, 이 수평 윤곽폭 WH를 출력한다. 수평 윤곽폭 검출 회로(65)로부터 출력된 수평 윤곽폭 WH는, 수평윤곽 기준 위치 검출 회로(66) 및 수평 배율 제어량 생성 회로(67)에 입력된다.

수평 윤곽 기준 위치 검출 회로(66)는 화상 데이터 DV와 수평 윤곽폭 WH에 근거하여, 수평 방향의 윤곽부의 기준 위치 PMH를 검출하고, 이 수평 윤곽 기준 위치 PMH를 출력한다. 수평 윤곽 기준 위치 검출 회로(66)로부터 출력된 수평 윤곽 기준 위치 PMH는 수평 배율 제어량 생성 회로(67)에 입력된다.

수평 배율 제어량 생성 회로(67)는 수평 윤곽폭 WH와 수평 윤곽 기준 위치 PMH에 근거하여, 수평 방향의 변환 배율을 제어하기 위한 수평 배율 제어량 RZCH를 생성하고, 이 수평 배율 제어량 RZCH를 출력한다. 수평 배율 제어량 생성 회로(67)로부터 출력된 수평 배율 제어량 RZCH는 수평 배율 생성 회로(68)에 입력된다.

수평 배율 생성 회로(68)는 수평 배율 제어량 RZCH 및 미리 인가된 수평 방향의 임의의 기준 변환 배율 정보 RZH0에 근거하여, 수평 방향의 변환 배율 정보(수평 변환 배율 정보) RZH를 생성하고, 수평 배율 생성 회로(68)로부터 출력된 수평 변환 배율 정보 RZH는 수평 화소수 변환 회로(69)에 입력된다.

수평 화소수 변환 회로(69)는 수평 변환 배율 정보 RZH에 근거하여, 화상 데이터 DV의 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터를 출력 화상 데이터 DO로서 출력한다.

또한, 화상 처리 장치(70)내의 각각 회로가 자세한 동작은 지금까지 이미 설명한 내용과 마찬가지이다. 또한, 수직 화소수 변환 회로(64) 및 수평 화소수 변환 회로(69)는 일반적으로는 메모리와 같은, 화상 데이터를 일시 기억할 수 있는 회로를 구비하는 것에 의해서 실현된다. 또한, 수평의 기준 변환 배율 정보 RZH0=1, 또한, 수직의 기준 변환 배율 정보 RZV0=1의 때는, 화상 전체의 확대 변환 및 축소 변환은 행해지지 않고, 윤곽부의 선예도만이 제어된다.

이와 같이, 수평 방향의 기준 변환 배율 정보 RZH0, 수직 방향의 기준 변환 배율 정보 RZV0, 수평 배율 제어량 RZCH, 수직 배율 제어량 RZCV를 각각 독립적으로 또한 임의로 설정하는 것에 의해, 수평 방향의 변환 배율과 수평 방향의 윤곽부의 선예도를 독립적으로 제어할 수 있으며, 또한, 수직 방향의 변환 배율과 수직 방향의 윤곽부의 선예도를 독립적으로 제어할 수 있다. 이에 의해, 수평 방향으로는 입력 화상의 수평 방향의 윤곽폭마다 각각 소망하는 선예도로 제어할 수 있고, 또한, 수직 방향으로는 수직 방향의 윤곽폭마다 각각 소망하는 선예도로 제어할 수 있다.

예를 들면, 수직 방향의 기준 변환 배율 정보 RZV0=1/2(변환 배율은 2배)로 설정하고, 수평 방향의 기준 변환 배율 정보 RZH0=1(변환 배율은 1배)로 설정함으로써, 인터레이스 화상으로부터 논인터레이스 화상으로 변환(주사선 변환)할 수 있어, 수평 방향과 수직 방향의 윤곽부를 독립적으로 소망하는 선예도로 제어할 수 있다.

또한, 상기의 화상 처리 장치(70)의 동작의 설명에서는, 화소수 변환의 동작으로서 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환의 동작을 순차적으로 실시하는 경우에 대해서 설명했지만, 수평 방향의 화소수를 변환한 후에 수직 방향의 화소수를 변환하더라도, 또는 수직 방향의 화소수 변환과 수평 방향의 화소수 변환을 동시에 실시하더라도, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

이상에 설명한 바와 같이, 실시예 16에 의하면, 입력 화상 데이터의 윤곽폭과 윤곽 기준 위치를 검출하고, 이 윤곽폭과 윤곽 기준 위치에 근거하여 배율 제어량을 생성하고, 이 배율 제어량에 근거하여 변환 배율 정보를 생성하고, 이 변환 배율 정보에 근거하여 입력 화상 데이터의 화소를 보간 연산하여 화소수 변환을 하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 출력 화상의 선예도를 향상할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 소망하는 선예도의 윤곽부를 얻을 수 있다. 또한, 상기의 배율 제어량이 윤곽부의 진폭에 의존하지 않기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상할 수 있다.

(실시예 17)

도 47은 본 발명의 실시예 17에 따른 화상 표시 장치의 구성을 나타내는 블록도이다. 실시예 17의 화상 표시 장치에서는, 화상 데이터 입력 회로(21)의 후단에 상기 실시예 16의 화상 처리 장치(70)(구성에 대해서는 도 46 참조)가 배치되고, 또한 그 후단에 표시 장치(22)가 배치되어 있다.

화상 신호는 화상 데이터 입력 회로(21)에 입력된다. 여기서, 화상 신호는 화상 데이터 신호와 동기 신호의 양쪽을 포함하는 것으로 한다. 화상 데이터 입력 회로(21)는 화상 신호의 포맷에 근거하여 화상 데이터 DI를 출력한다.

예를 들면, 화상 신호가 아날로그 신호인 경우, 화상 데이터 입력 회로(21)는 A/D 변환기에 의해 구성되고, 동기 신호에 의해서 정해지는 주기로 샘플링된 화상 데이터를 출력한다. 또는, 화상 신호가 인코드된 디지털 신호인 경우, 화상 데이터 입력 회로(21)는 디코더 회로에 의해 구성되고, 디코드된 화상 데이터를 출력한다.

화상 데이터 입력 회로(21)로부터 출력된 화상 데이터 DI은 화상 처리 장치(70)에 입력된다. 화상 처리 장치(70)는 상기 실시예 16에서 자세히 설명한 바와 같이, 화상의 윤곽부에서 윤곽폭 및 윤곽 기준 위치에 근거하여 변환 배율을 제어하면서 수직 방향 및 수평 방향의 화소수를 변환하고, 변환 결과의 화상 데이터 DO를 출력한다.

화상 처리 장치(70)에서 화소수 변환된 화상 데이터 DO는 표시 장치(22)에 입력되고, 화상 데이터 DO에 근거하는 화상이 표시 장치(22)에 표시된다.

이상에 설명한 바와 같이, 실시예 17에 의하면, 상기 실시예 16의 화상 처리 장치를 마련하여 화상 표시 장치를 구성하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 소망하는 선예도의 화상을 표시할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 윤곽부의 선예도를 유지한 화상을 표시할 수 있다. 또한, 윤곽부의 차분량에 의존하는 일이 없기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상한 화상을 표시할 수 있다.

(실시예 18)

상기 실시예 4~17에서는, 하드웨어에 의해서 화소수를 변환하는 구성에 대해서 설명했지만, 소프트웨어에 의해서 화소수를 변환할 수도 있다. 실시예 18에서는 소프트웨어에 의해서 화소수를 변환하는 예에 대해서 설명한다.

도 48은 본 발명의 실시예 18에서의 화상 표시 동작의 흐름도로서, 소프트웨어 처리(소프트웨어와 하드웨어가 혼재하고 있고 있는 경우를 포함)에 의해서 화소수를 변환해서 표시하는 동작(화상 처리 방법 및 화상 표시 방법)을 설명하는 흐름도이다. 도 48에서, 처리(201)는 수직 방향의 데이터 생성 순서(화소수 변환 순서), 처리(202)는 수평 방향의 데이터 생성 순서(화소수 변환 순서)이다.

또한, 도 48에서는 수직 방향 및 수평 방향의 양쪽 방향에 대하여 화소수 변환을 하는 경우에 대해서 설명하지만, 수평 방향 또는 수직 방향의 각각 대해서 독립적으로 화소수 변환하는 것이나, 어느 한 방향으로만 화소수 변환하는 것도 가능하다.

먼저, 도 48의 처리(201)의 수직 방향의 데이터 생성 동작을 개시한다. 단계 S21에서는, 화소수를 변환하는 화상 데이터(도 46의 DI에 상당)로부터, 타겟 화소에 대한 수직 방향의 윤곽폭의 검출 및 필터 연산에 필요한 복수의 화소 데이터를 추출한다. 다음의 단계 S22에서는, 상기 단계 S21에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터, 수직 방향의 윤곽폭(도 46의 WV에 상당)을 검출한다. 다음의 단계 S23에서는, 상기 단계 S21에서 추출된 복수의 화소 데이터와 상기 단계 S22에서 검출된 수직 방향의 윤곽폭에 근거하여, 수직 방향의 윤곽 기준 위치(도 46의 PMV에 상당)를 검출한다. 다음의 단계 S24에서는, 상기 단계 S22에서 검출된 수직 방향의 윤곽폭과 단계 S23에서 검출된 수직 방향의 윤곽 기준 위치에 근거하여, 수직 방향의 배율 제어량(도 46의 RZCV에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S25에서는, 상기 단계 S24에서 생성된 수직 방향의 배율 제어량과 미리 인가된 수직 방향의 기준 변환 배율 정보(도 46의 RZV0에 상당)를 중첩하여, 수직 방향의 변환 배율 정보(도 46의 RZV에 상당)를 생성한다. 다음의 단계 S26에서는, 상기 단계 S25에서 생성된 수직 방향의 변환 배율 정보와 상기 단계 S21에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터, 수직 방향의 필터 연산을 실시하고, 연산 결과를 보존한다. 상기 단계 S21부터 S26까지의 순서를 타겟 화소가 화상의 끝에 도달할 때까지 반복한다(단계 S27). 여기서, 화상의 끝이란, 예를 들면 화상의 좌단부터 연산하는 경우는 화상의 우단을 나타낸다.

상기 단계 S27에서 타겟 화소가 화상의 끝에 도달한 경우는, 타겟 화소를 다음 라인으로 이동하여, 상기 단계 S21부터 S27까지의 순서를 최종 라인에 도달할 때까지 반복한다(단계 S28). 이러한 순서를 전체 화소에 실시함으로써, 수직 방향의 화소수의 변환이 완료한다.

상기 수직 방향의 데이터 생성을 완료하면, 다음에 도 48의 처리(202)의 수평 방향의 데이터 생성 동작을 개시한다. 단계 S29에서는, 수직 방향의 화소수가 변환된 화상 데이터(도 46의 DV에 상당)로부터, 타겟 화소에 대한 수평 방향의 윤곽폭의 검출 및 수평 방향의 필터 연산에 필요한 복수의 화소 데이터를 추출한다. 다음의 단계 S30에서는, 상기 단계 S29에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터, 수평 방향의 윤곽폭(도 46의 WH에 상당)을 검출한다. 다음의 단계 S31에서는, 상기 단계 S30에서 추출된 복수의 화소 데이터와 상기 단계 S32에서 검출된 수평 방향의 윤곽폭에 근거하여, 수평 방향의 윤곽 기준 위치(도 46의 PMH에 상당)를 검출한다. 다음의 단계 S32에서는, 상기 단계 S30에서 검출된 수평 방향의 윤곽폭과 단계 S31에서 검출된 수평 방향의 윤곽 기준 위치에 근거하여, 수평 방향의 배율 제어량(도 46의 RZCH에 상당)을 생성한다. 다음의 단계 S33에서는, 상기 단계 S32에서 생성된 배율 제어량과 미리 인가된 수평 방향의 기준 변환 배율 정보(도 46의 RZH0에 상당)를 중첩하여, 수평 방향의 변환 배율 정보(도 46의 RZH에 상당)를 생성한다. 다음의 단계 S34에서는, 상기 단계 S33에서 생성된 변환 배율과 상기 단계 S29에서 추출된 복수의 화소 데이터로부터, 수평 방향의 필터 연산을 실시하고, 연산 결과를 보존한다. 상기 단계 S29부터 S34까지의 순서를 타겟 화소가 화상의 끝에 도달할 때까지 반복한다(단계 S15).

상기 단계 S35에서 타겟 화소가 화상의 끝에 도달한 경우는, 타겟 화소를 다음 라인으로 이동하여, 상기 단계 S29부터 S35까지의 순서를 최종 라인에 도달할 때까지 반복한다(단계 S36). 이러한 순서를 전체 화소에 실시함으로써, 수평 방향의 화소수의 변환이 완료한다.

상기 수직 방향의 데이터 생성 및 상기 수평 방향의 데이터 생성을 완료하면, 마지막으로 단계 S37에서, 화소수 변환된 화상을 표시한다.

또한, 도 48에서의 각각의 단계의 처리 내용에 대해서는 상기 실시예 4~17에서 이미 자세히 설명하였다.

또한, 도 48에서는 수직 방향의 화소수를 변환한 후에 수평 방향의 화소수를 변환하고 있지만, 수평 방향의 화소수를 변환한 후에 수직 방향의 화소수를 변환하는 것도 가능하다. 즉, 도 48의 처리(202)의 흐름을 실시한 후에 도 48 처리(201)의 흐름을 실시하는 것도 가능하다. 또는, 도 48의 처리(201)의 흐름과 도 48의 처리(202)의 흐름 중 어느 한쪽만을 실시하는 것도 가능하다.

또한, 도 48에서는 수직 방향 및 수평 방향의 화소수 변환에서 타겟 화소를 화상의 왼쪽부터 오른쪽, 위부터 아래의 순서로 연산하고 있지만, 이 순번은 이에 한정되는 아니고, 임의의 방향부터 연산하더라도 마찬가지의 결과를 얻을 수 있다.

또한, 도 48의 단계 S25, S33의 변환 배율 정보(도 46의 RZV, RZH에 상당)의 1라인에서의 평균값은, 상기 실시예 4의 도 18에서 설명한 바와 같이, 화상 전체의 변환 배율(도 46의 RZV0, RZH0에 상당)과 동일하게 되도록 한다. 즉, 도 48의 단계 S24, S32의 배율 제어량(도 46의 RZCV, RZCH에 상당)의 1라인에서의 총합이 제로로 되도록 한다.

이상에 설명한 바와 같이, 실시예 18에 의하면, 상기 실시예 4~17의 화상 처리 방법 및 화상 표시 방법을 소프트웨어 처리에 의해서 실시하는 것에 의해, 임의의 폭(기간)의 윤곽부를 소망하는 폭(기간)의 윤곽부로 변환할 수 있기 때문에, 소망하는 선예도의 화상을 표시할 수 있고, 임의의 기준 변환 배율에 있어서 윤곽부의 선예도를 유지한 화상을 표시할 수 있다. 또한, 윤곽부의 차분량에 의존하는 일이 없기 때문에, 화상 전체에 과부족 없게 선예도를 향상한 화상을 표시할 수 있다. 또한, 윤곽 기준 위치의 데이터 레벨을 바꾸고 있지 않기 때문에, 윤곽부의 화소수 변환 처리에 의해서 윤곽부의 위치가 이동한다고 하는 사태를 막을 수 있다.

Claims (19)

1. 화상 데이터의 윤곽부를 검출하고, 상기 검출된 윤곽부의 윤곽폭을 출력하는 윤곽폭 검출 회로와,

   상기 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하는 배율 제어량 생성 회로와,

   상기 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하는 배율 생성 회로와,

   상기 변환 배율을 이용하여 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 화소수 변환 회로

   를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 윤곽폭 검출 회로는, 소정의 샘플링 주기로 샘플링된 상기 화상 데이터의 차분량을 계산하고, 상기 화상 데이터의 차분량에 근거하여 상기 윤곽부의 검출을 실행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 윤곽폭에 조절 가능한 일정값을 곱하는 것에 의해서 상기 배율 제어량의 생성 기간을 결정하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 배율 제어량의 생성 기간의 각각에서, 상기 배율 제어량의 총합이 제로인 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 배율 생성 회로에 일정한 기준 변환 배율이 입력되고,

   상기 배율 생성 회로에 의해 생성되는 상기 변환 배율은, 상기 기준 변환 배율과 상기 배율 제어량을 이용한 계산에 의해 얻어지는 것

   을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 화소수 변환 회로는, 제 1 화소수 변환부와, 제 2 화소수 변환부를 갖고,

   상기 제 1 화소수 변환부는, 일정한 기준 변환 배율과 입력 화상 데이터를 수취하고, 상기 기준 변환 배율을 이용하여 상기 입력 화상 데이터의 화소수를 변환하여 상기 윤곽폭 검출 회로와 상기 제 2 화소수 변환부에 입력되는 상기 화상 데이터를 출력하고,

   상기 제 2 화소수 변환부는, 상기 변환 배율과 상기 화상 데이터를 수취하고, 상기 변환 배율을 이용하여 상기 배율 제어량의 생성 기간에서의 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 것

   을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 화상 데이터 및 상기 윤곽폭을 수취하고, 상기 윤곽부의 윤곽 기준 위치를 검출하는 윤곽 기준 위치 검출 회로를 더 갖고,

   상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 윤곽폭에 부가하여 상기 윤곽 기준 위치를 수취하고, 상기 윤곽폭과 상기 윤곽 기준 위치에 근거하여 상기 배율 제어량을 생성하는 것

   을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
8. 제 7 항에 있어서,

   상기 윤곽 기준 위치 검출 회로는, 상기 윤곽부의 차분량을 2등분하는 레벨에 대응하는 위치를 상기 윤곽 기준 위치로 하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
9. 제 7 항에 있어서,

   상기 윤곽 기준 위치 검출 회로는, 상기 화상 데이터의 2차 미분값의 부호가 전환하는 위치를 상기 윤곽 기준 위치로 하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
10. 제 3 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 배율 제어량의 생성 기간을 가변 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
11. 제 1 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 배율 제어량의 최대값 및 최소값을 가변 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
12. 제 3 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 배율 제어량의 최대값, 최소값, 및 생성 기간을 가변 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
13. 제 3 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 윤곽폭에 따라서 상기 배율 제어량의 생성 기간을 임의로 설정할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
14. 제 1 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 윤곽폭에 따라서 상기 배율 제어량의 최대값 및 최소값을 임의로 설정할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
15. 제 1 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 윤곽폭에 따라서 상기 배율 제어량의 최대값, 최소값, 및 생성 기간을 임의로 설정할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
16. 제 5 항에 있어서,

    상기 배율 제어량 생성 회로는, 상기 기준 변환 배율에 근거하여 배율 제어량의 데이터수를 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
17. 화상 데이터의 윤곽부를 검출하고, 상기 검출된 윤곽부의 윤곽폭을 출력하는 윤곽폭 검출 회로와,

    상기 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하는 배율 제어량 생성 회로와,

    상기 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하는 배율 생성 회로와,

    상기 변환 배율을 이용하여 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 화소수 변환 회로와,

    상기 화소수 변환된 화상 데이터에 근거하는 화상을 표시하는 표시 장치

    를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
18. 화상 데이터의 윤곽부를 검출하고, 상기 검출된 윤곽부의 윤곽폭을 출력하는 단계와,

    상기 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하는 단계와,

    상기 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하는 단계와,

    상기 변환 배율을 이용하여 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 단계

    를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 처리 방법.
19. 화상 데이터의 윤곽부를 검출하고, 상기 검출된 윤곽부의 윤곽폭을 출력하는 단계와,

    상기 윤곽폭에 근거하여 배율 제어량을 생성하는 단계와,

    상기 배율 제어량에 근거하여 변환 배율을 생성하는 단계와,

    상기 변환 배율을 이용하여 상기 화상 데이터의 화소수를 변환하는 단계와,

    상기 화소수 변환된 화상 데이터에 근거하는 화상을 표시하는 단계

    를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 방법.