KR20050055040A - Inspection device and ultrasonograph - Google Patents

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마사유키 나카모토
마코토 오치아이
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다이지 히라사와
다카히로 이케다
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Abstract

An ultrasonograph for carrying out examination simply and quickly while achieving high resolution and high- speed processing, an ultrasonic transducer, an examining instrument, and ultrasonographing device the subject matter are disclosed. Piezoelectric layers constituting an ultrasonic transducer are made of barium titanate (BaTiO3) or lead titanate zirconate (PZT) is used and the thickness of each piezoelectric layer is 0.1 to 100 mum. The ultrasonograph comprises a drive unit for driving one of the piezoelectric layers, a sensing unit for sensing electric signals generated by piezoelectric layers receiving echos from the object subjected to ultrasonic wave transmitted by the driven piezoelectric layer, and a processing unit for visualizing the state of the subjected object by processing the sensed electric signal.

Description

검사 장치 및 초음파 검사 장치{INSPECTION DEVICE AND ULTRASONOGRAPH}Inspection Device and Ultrasonic Examination Device {INSPECTION DEVICE AND ULTRASONOGRAPH}

본 발명은 초음파를 이용하여 반도체 칩이나 금속, 세라믹 부품, 수지 등의 내부 결함이나 박리 등의 이상(異常)을 검사하는 초음파 검사 장치, 및 그를 위한 초음파 트랜스듀서, 검사 장치, 초음파 화상화 장치에 관한 것이며, 특히 손쉽고 신속하게, 보다 정밀하게 또는 보다 고속으로 이상을 검사하는데 적합한 초음파 검사 장치, 초음파 트랜스듀서, 검사 장치, 초음파 화상화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrasonic inspection apparatus for inspecting abnormalities such as internal defects and peeling of semiconductor chips, metals, ceramic components, resins, and the like using ultrasonic waves, and ultrasonic transducers, inspection apparatuses, and ultrasonic imaging apparatuses therefor. The present invention relates to an ultrasonic inspection apparatus, an ultrasonic transducer, an inspection apparatus, and an ultrasonic imaging apparatus, which are particularly suitable for inspecting abnormalities easily and quickly, more precisely or at higher speed.

초음파에 의한 반도체 칩(집적회로: IC) 등의 미세 내부 구조물의 검사는, 반도체 칩의 기능면과 배선 기판을 접합하는 땜납이나 그들의 틈에 충전된 충전재의 접합 상태를 검사하는 등의 목적에서 실행된다.The inspection of fine internal structures such as semiconductor chips (integrated circuits) by ultrasonic waves is performed for the purpose of inspecting the bonding state of the solder that joins the functional surface of the semiconductor chip to the wiring board or the filler filled in the gaps thereof. do.

이러한 검사 방식의 하나로서, 단안(單眼)의 초음파 트랜스듀서를 수중(水中)에서 기계 주사하면서 트랜스듀서로부터 물을 통하여 초음파를 검사 대상에 조사하고, 검사 대상을 전파하여 에코로 되어 귀환하는 초음파를 상기 트랜스듀서에서 포착하며, 이것에 의해 얻어지는 신호를 처리하여 검사 대상의 상태를 판별하는 것이 있다.As one of such inspection methods, while ultrasonically scanning a monocular ultrasonic transducer in water, ultrasonic waves are irradiated from the transducer through the water to the inspection object, and the ultrasonic wave propagates and returns to the echo. The transducer may capture a signal and process the signal obtained thereby to determine the state of the inspection object.

이러한 검사 방법에서 현재 문제가 되고 있는 것은, 수침(水浸)에서의 기계 주사에 수고와 시간이 소요되고, 반도체 칩 등의 경우는 검사 후에 칩을 사용할 수 없으며, 검사 대상으로 되는 반도체 칩의 접속 단자의 면적 및 피치가 점점 좁아져, 현상(現狀)의 검사 정밀도에서는 이상 판별 능력이 부족할 가능성이 있는 것이다.The problem currently in this inspection method is that it takes a lot of time and effort to scan the machine in water immersion, and in the case of a semiconductor chip, the chip cannot be used after the inspection, and the connection of the semiconductor chip to be inspected. The area and pitch of the terminals become narrower, and there is a possibility that the abnormality discrimination ability may be insufficient in the inspection accuracy of the phenomenon.

상기와 같은 초음파 트랜스듀서는 그 주요부를 산화아연 및 산화주석 등의 압전 재료를 막화(膜化)하여 제조할 수 있으나, 검출 감도 확보의 의미에서 어느 정도의 막 두께가 필요하다. 그러나, 실용상 막 두께를 두껍게 확보하면 발생시키는 초음파의 주파수 상한이 한정된다. 주파수는 대부분 해상도와 연동하고 있으며, 따라서, 이상 판별 능력의 부족으로 이어진다.The ultrasonic transducer as described above can be manufactured by film-forming piezoelectric materials such as zinc oxide and tin oxide, but a certain film thickness is required in order to secure detection sensitivity. However, practically, if the film thickness is secured, the upper limit of the frequency of the generated ultrasonic waves is limited. The frequency is mostly linked to the resolution, thus leading to a lack of anomaly discrimination capability.

압전 재료로서 감도가 높은 것을 선택하면 막 두께를 보다 얇게 할 수도 있고, 따라서, 구동 주파수를 높게 하여 해상도를 높일 수 있는 것은 이해되나, 균일하게 형성하는 것에는 일반적으로 어려움이 있다.If the piezoelectric material is selected as having a high sensitivity, it is possible to make the film thickness thinner. Therefore, it is understood that the resolution can be increased by increasing the driving frequency, but it is generally difficult to form uniformly.

또한, 초음파 화상화 장치로서 단안 초음파 센서를 갖는 것에서는, 예를 들어, 수침법을 이용하여 초음파를 수직 방향으로 송신하고, 정면에 반사체가 있는 것을 전제로 하여 특정한 초점 심도(深度)의 화상화를 행한다. 이 경우, 표면이 곡면 형상인 검사 대상의 내부를 화상화할 경우에는 대응할 수 없고, 예를 들어, 초점이 흐트러지게 되어 고정밀한 화상화가 불가능하다는 결점이 있다.In addition, in an ultrasonic imaging apparatus having a monocular ultrasonic sensor, for example, the ultrasonic wave is transmitted in the vertical direction by using the immersion method, and the imaging has a specific depth of focus on the premise that there is a reflector on the front side. Is done. In this case, when imaging the inside of the inspection object whose surface is a curved shape, it cannot respond, for example, it has a defect that a focal point is disturbed and high-definition imaging is impossible.

또한, 매트릭스 형상 또는 일렬로 배치한 다수의 압전 소자로 구성되는 초음파 트랜스듀서를 갖는 초음파 화상화 장치에서는, 고정밀도화에는 일단 대응할 수 있지만, 검사 대상이 복수의 서로 다른 음향 특성을 가진 층 구조나 표면이 곡면 형상인 경우의 내부 결함, 보이드, 박리 등을 검사하여 가시화할 때의 처리의 방대함이 문제로 된다. 이러한 처리에는 매트릭스 형상으로 배치된 압전 소자 사이에서 송수신되는 다수의 초음파 전파의 굴절 계산을 2차원적 또는 3차원적으로 행하는 것이 필요하게 되어, 방대한 처리 시간이 발생한다.In addition, in the ultrasonic imaging apparatus having an ultrasonic transducer composed of a plurality of piezoelectric elements arranged in a matrix or in a line, it is possible to cope with high precision, but the inspection object has a layer structure or a surface having a plurality of different acoustic characteristics. The problem is the enormousness of the process at the time of visualizing the defects, voids, peelings and the like in the case of the curved surface. This processing requires performing two-dimensional or three-dimensional refraction calculation of a large number of ultrasonic waves transmitted and received between piezoelectric elements arranged in a matrix shape, resulting in a large processing time.

그래서, 처리 시간을 감축하기 위해서는, 예를 들어, 검사 대상의 층 구조나 표면 형상을 특정할 수 있을 경우에는, 매트릭스 형상 또는 일렬로 배치한 다수의 압전 소자 사이에서 송수신되는 초음파 신호의 전파 시간을 굴절 등의 전파 경로를 따라 사전에 계산하여 테이블화하여 저장하여 두는 것을 이용할 수 있다. 이것에 의해 굴절 계산을 일일이 할 필요는 없어진다. 그러나, 이 경우에도, 또한, 압전 소자가 다수 있음으로써, 충분한 연산 속도는 달성되지 않는다.Therefore, in order to reduce the processing time, for example, when the layer structure or the surface shape of the inspection target can be specified, the propagation time of the ultrasonic signals transmitted and received between a plurality of piezoelectric elements arranged in a matrix or in a line is measured. It is possible to use a table that is calculated in advance along with a propagation path such as refraction and stored in a table. This eliminates the need for refraction calculations one by one. However, also in this case, since there are many piezoelectric elements, sufficient calculation speed is not achieved.

또한, 수침법에서의 초음파 검사에서는, 압전 소자(초음파의 송신기 및 수신기) 및 피검체를 물 등의 액체 중에 침지(浸漬)하고, 압전 소자를 기계적으로 주사하면서 초음파를 송수신함으로써, 피검체 내부의 가시화가 실행된다(오구라(小倉), 「반도체 패키지의 비파괴 검사의 현상」, 비파괴 검사, 사단법인 일본비파괴검사협회, 평성13년 5월, 제50권, 제5호, P.291-292 참조).In the ultrasonic inspection in the immersion method, the piezoelectric elements (transmitter and receiver of an ultrasonic wave) and the subject are immersed in a liquid such as water, and the ultrasonic wave is transmitted and received while mechanically scanning the piezoelectric element, thereby allowing the inside of the subject to be examined. Visualization is performed (see Ogura, "Non-destructive Testing of Semiconductor Packages", Non-Destructive Testing, Japan Non-Destructive Testing Association, May 13, 2017, Vol. 50, No. 5, pp. 291-292). ).

그러나, 수침법에서는 압전 소자가 액체 중에 침지되기 때문에, 압전 소자 내에 액체가 침입하여 그 내구성이 저하되기 쉬워진다. 또한, 밀폐 용기의 내부에 배치된 피검체의 내부 검사를 외부로부터 행하는 것이 곤란했다.However, in the water immersion method, since the piezoelectric element is immersed in the liquid, the liquid penetrates into the piezoelectric element and its durability tends to decrease. In addition, it was difficult to perform the internal inspection of the subject placed in the sealed container from the outside.

본 발명은 상기한 상황을 고려하여 안출된 것으로서, 초음파를 이용하여 반도체 칩이나 복합재 등의 내부 접속 부분 등의 박리나 금속의 내부 결함 등의 이상을 검사하는 초음파 검사 장치, 및 그를 위한 초음파 트랜스듀서, 검사 장치, 초음파 화상화 장치에 있어서, 손쉽고 신속하게 검사할 수 있으며, 보다 고해상도화 또는 보다 고속 처리화가 가능한 초음파 검사 장치, 초음파 트랜스듀서, 검사 장치, 초음파 화상화 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an ultrasonic inspection apparatus for inspecting abnormalities such as peeling of internal connection parts such as semiconductor chips or composite materials, internal defects of metals, etc. using ultrasonic waves, and ultrasonic transducers therefor It is an object of the present invention to provide an ultrasonic inspection apparatus, an ultrasonic transducer, an inspection apparatus, and an ultrasonic imaging apparatus that can be inspected easily and quickly, and which can be inspected easily and quickly. .

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 초음파 검사 장치는 기판과, 상기 기판 위에 형성된 공통 전극과, 상기 공통 전극 위에 매트릭스 형상으로 독립하여 복수 형성된 압전체층과, 상기 압전체층 위에 각각 형성된 복수의 상부 전극을 갖는 초음파 트랜스듀서와, 상기 상부 전극에 접속되고 상기 상부 전극으로부터 상기 압전체층 중 임의의 것을 구동할 수 있는 구동부와, 상기 상부 전극에 접속되고 상기 구동된 압전체층이 발하는 초음파에 의한 검사 대상으로부터의 반사 에코에 의해 상기 복수의 압전체층이 발생하는 전기 신호를 상기 복수의 상부 전극으로부터 검출하는 검출부와, 상기 검출된 전기 신호로부터 상기 검사 대상의 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하며, 상기 초음파 트랜스듀서의 상기 압전체층은 티탄산바륨(BaTiO3) 또는 지르콘산티탄산아연(PZT)을 갖고, 또한, 두께가 0.1㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the ultrasonic inspection apparatus according to the present invention includes a substrate, a common electrode formed on the substrate, a plurality of piezoelectric layers formed independently of the common electrode in a matrix shape on the common electrode, and a plurality of upper portions formed on the piezoelectric layer, respectively. An ultrasonic transducer having an electrode, a driving unit connected to the upper electrode and capable of driving any of the piezoelectric layers from the upper electrode, and an ultrasonic wave connected to the upper electrode and emitted by the driven piezoelectric layer A detection unit that detects an electrical signal generated by the plurality of piezoelectric layers from the plurality of upper electrodes due to the reflected echo from the processor, and a processing unit that performs a process of visualizing the state of the inspection target from the detected electrical signal; The piezoelectric layer of the ultrasonic transducer is barium titanate (B aTiO 3 ) or zinc zirconate titanate (PZT), and has a thickness of 0.1 μm to 100 μm.

즉, 압전체층 막의 재료로서 티탄산바륨 또는 지르콘산티탄산아연을 사용한다. 이들 재료는 산화아연과 비교하여 전기 기계 결합 계수가 크고, 전기적인 에너지와 기계적인 진동 에너지 사이의 변환 효율이 높기 때문에, 초음파의 발생 및 검출에 적합하다. 또한, 산화아연과 비교하여 유전율이 크기 때문에, 이것을, 예를 들어, 펄스 구동할 때에, 전기 펄스 전원과의 전기적 정합성에도 우수하다.That is, barium titanate or zinc zirconate titanate is used as the material of the piezoelectric layer film. These materials are suitable for the generation and detection of ultrasonic waves because they have a larger electromechanical coupling coefficient and a higher conversion efficiency between electrical energy and mechanical vibration energy than zinc oxide. In addition, since the dielectric constant is larger than that of zinc oxide, it is also excellent in electrical compatibility with an electric pulse power supply when, for example, pulse driving.

막 두께로서는 상기 변환 효율의 높이를 활용하여 0.1㎛ 내지 1OO㎛로 형성한다. 이것에 의해, 압전체층이 발생하는 초음파의 주파수는, 예를 들어, 20㎒ 정도까지 높일 수 있게 되어, 충분한 고해상도화를 달성할 수 있다. 막 두께는 보다 실용적으로는 0.5㎛ 내지 30㎛ 정도로 형성하는 것이 바람직하다.As a film thickness, it forms in 0.1 micrometer-100 micrometers utilizing the height of the said conversion efficiency. Thereby, the frequency of the ultrasonic wave which a piezoelectric layer generate | occur | produces can be raised to about 20 MHz, for example, and sufficient high resolution can be achieved. It is preferable to form a film thickness about 0.5 micrometer-30 micrometers more practically.

또한, 압전 재료로서 티탄산바륨을 사용할 경우에는, 퀴리 온도가 지르콘산티탄산아연과 비교하여 약간 낮기(약 130℃) 때문에, 격자 정수의 부정합 왜곡을 이용하여 인위적으로 퀴리 온도를 상승시켜 사용하는 것이 보다 바람직하다.When barium titanate is used as a piezoelectric material, the Curie temperature is slightly lower than that of zinc zirconate titanate (about 130 ° C). Therefore, the Curie temperature is artificially increased by using mismatch distortion of lattice constant. desirable.

또한, 티탄산바륨 및 지르콘산티탄산아연의 압전체층을 형성하기 위한 퇴적 방법으로서는 스퍼터링법 등의 물리 증착법, 졸겔법 등의 용액 도포법, MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) 등의 화학 증착법 등을 이용할 수 있다. 이들 압전체의 막은 다결정막일 수도 있고, 에피택셜 성장에 의한 막일 수도 있으나, 에피택셜 성장 등을 이용하여 결정의 방위를 정렬시킨 것이 보다 높은 압전 변환 특성이 얻어져 더 바람직하다. 또한, 다른 방법으로서, 압전체막을 상기 소정의 두께로 박막화하여 미리 형성할 수도 있고, 그것에는 연마나 절삭 가공의 방법을 이용할 수 있다. 이 경우에는, 연마 등에 의해 박막화한 압전체를 소정의 방법(후술)으로 공통 전극 위에 접착할 수 있다.As the deposition method for forming the piezoelectric layer of barium titanate and zinc zirconate titanate, physical vapor deposition such as sputtering, solution coating such as sol-gel, chemical vapor deposition such as metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), and the like can be used. have. These piezoelectric films may be polycrystalline films or epitaxial growth films, but it is more preferable that the orientation of the crystals is aligned by using epitaxial growth or the like to obtain higher piezoelectric conversion characteristics. As another method, the piezoelectric film may be thinned to the predetermined thickness and formed in advance, and a method of polishing or cutting may be used therein. In this case, the piezoelectric thinned by polishing or the like can be adhered onto the common electrode by a predetermined method (described later).

또한, 공통 전극 및 상부 전극의 재료로서는 Pt, Ir 등의 귀금속, 또는 SrRuO3 등의 도전성 산화물의 막 등을 들 수 있다. SrRuO3 등의 도전성 산화물은 귀금속류와 비교하여 전기 저항이 약간 높다는 결점이 있는 반면, 상기와 같은 압전체 막과의 계면(界面)의 정합성이 양호하고, 기계적으로도 박리되기 어렵다는 특징이 있다. 전극의 형성에는, 예를 들어, 스퍼터링을 이용할 수 있다.Also, as the material of the common electrode and the upper electrode, and the like of a conductive oxide, such as Pt, noble metals such as Ir, or SrRuO 3 film. Conductive oxides such as SrRuO 3 have the drawback that the electrical resistance is slightly higher than that of noble metals, but the interface with the piezoelectric film as described above is good and mechanically difficult to peel off. For formation of the electrode, for example, sputtering can be used.

또한, 압전체의 박막 형성 기술을 이용하여 매트릭스 형상으로 복수의 압전 소자를 제조하는 방법으로서는, 예를 들어, 스퍼터링 성막 시에 마스크를 이용하여 원하는 영역에만 압전체막을 퇴적시킬 수도 있고, 또는 전면(全面)에 막을 퇴적시킨 후에, 화학 에칭 등의 방법에 의해 불필요한 부분의 막을 제거할 수도 있다. 일반적으로, 화학 에칭을 이용하는 방법이 보다 미세하고 치수 정밀도가 높은 가공이 가능하기 때문에 더 바람직하다.As a method of manufacturing a plurality of piezoelectric elements in a matrix form using a thin film formation technique of a piezoelectric body, for example, a piezoelectric film may be deposited only in a desired region using a mask during sputtering film formation, or the entire surface thereof. After the film is deposited, the unnecessary portions of the film may be removed by a method such as chemical etching. In general, a method using chemical etching is more preferable because a finer process and higher dimensional accuracy can be processed.

또한, 본 발명에 따른 초음파 트랜스듀서는 기판과, 상기 기판 위에 형성된 반도체 집적회로와, 상기 기판의 뒷면 측에 형성된 공통 전극과, 상기 공통 전극 위에 매트릭스 형상으로 독립하여 복수 형성된 압전체층과, 상기 압전체층 위에 각각 형성된 복수의 상부 전극을 구비하며, 상기 압전체층은 티탄산바륨 또는 지르콘산티탄산아연을 갖고, 또한, 두께가 0.1㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다.In addition, the ultrasonic transducer according to the present invention includes a substrate, a semiconductor integrated circuit formed on the substrate, a common electrode formed on the back side of the substrate, a plurality of piezoelectric layers independently formed in a matrix shape on the common electrode, and the piezoelectric body. And a plurality of upper electrodes each formed on the layer, wherein the piezoelectric layer has barium titanate or zinc zirconate titanate, and has a thickness of 0.1 µm to 100 µm.

이 초음파 트랜스듀서는 상기 초음파 검사 장치에서의 초음파 트랜스듀서의 구성을 기능면에 집적회로가 형성된 반도체 칩의 뒷면에 형성하는 것이다. 초음파 트랜스듀서로서는 대략 상기의 설명이 적합하다. 또한, 압전체의 면적을, 예를 들어, 500㎛×500㎛ 정도 이하로 설정하면, 이상 탐지해야 할 단자의 협소화에 충분히 대응할 수 있다.This ultrasonic transducer forms the configuration of the ultrasonic transducer in the ultrasonic inspection apparatus on the back side of a semiconductor chip in which an integrated circuit is formed on a functional surface. The above description is suitable as an ultrasonic transducer. If the area of the piezoelectric body is set to, for example, about 500 μm × 500 μm or less, it is possible to sufficiently cope with narrowing of terminals to be abnormally detected.

또한, 본 발명에 따른 검사 장치는 바늘 형상 구조를 갖는 복수의 접촉 단자와, 상기 접촉 단자에 접속되고 상기 접촉 단자 중 임의의 것으로부터 구동 전압을 발생시키기 위한 구동부와, 상기 접촉 단자에 접속되고 상기 발생된 구동 전압을 원인으로 하여 검사 대상으로부터 상기 접촉 단자에 회신되는 전기 신호를 상기 복수의 접촉 단자로부터 검출하는 검출부와, 상기 검출된 전기 신호와 상기 임의의 접촉 단자의 위치로부터 상기 검사 대상의 내부 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the inspection apparatus according to the present invention includes a plurality of contact terminals having a needle-like structure, a drive unit connected to the contact terminal and generating a driving voltage from any of the contact terminals, and connected to the contact terminal, A detection unit for detecting, from the plurality of contact terminals, an electrical signal returned from the inspection object to the contact terminal due to the generated driving voltage; and the inside of the inspection object from the position of the detected electrical signal and the arbitrary contact terminal. It is characterized by including the processing part which performs the process which visualizes a state.

이 검사 장치는 상기 초음파 트랜스듀서와 조합시켜 초음파 검사를 행할 수 있는 것이다. 초음파 트랜스듀서의 상부 전극과 검사 장치의 신호 교환은 바늘 형상 구조를 갖는 접촉 단자에 의해 실행된다. 따라서, 이러한 조합에 의해, 초음파 검사는 상기 설명과 동일하게 충분히 고해상도화를 달성할 수 있다.This inspection apparatus can perform ultrasonic inspection in combination with the ultrasonic transducer. Signal exchange between the upper electrode of the ultrasonic transducer and the inspection device is performed by a contact terminal having a needle-like structure. Therefore, by such a combination, the ultrasonic examination can achieve sufficiently high resolution as in the above description.

또한, 접촉 단자에는, 예를 들어, 첨예한 전계 방출형 냉음극, 보다 바람직하게는 전사 몰드법 냉음극을 사용할 수 있다. 이들 전극에 의해, 좁은 면적의 상부 전극과의 충분한 전기적 접촉 상태를 실현할 수 있다. 상기 초음파 트랜스듀서와 조합시킬 경우에는, 접촉 단자들은 초음파 트랜스듀서의 상부 전극에 각각 대응하여 설치되도록 한다.As the contact terminal, for example, a sharp field emission cold cathode, more preferably a transfer mold method cold cathode can be used. By these electrodes, a sufficient electrical contact state with the upper electrode of a narrow area can be realized. When combined with the ultrasonic transducer, the contact terminals are installed to correspond to the upper electrodes of the ultrasonic transducer, respectively.

또한, 본 발명에 따른 초음파 검사 장치는 일면을 갖는 공통 전극과, 상기 공통 전극의 일면 위에 형성된 압전체층과, 상기 압전체층 위에 형성된 상부 전극을 갖는 초음파 트랜스듀서와, 상기 상부 전극에 접속되고 상기 상부 전극으로부터 상기 압전체층을 구동할 수 있는 구동부와, 상기 상부 전극에 접속되고 상기 구동된 압전체층이 발하는 초음파에 의한 검사 대상으로부터의 반사 에코에 의해 상기 압전체층이 발생하는 전기 신호를 상기 상부 전극으로부터 검출하는 검출부와, 상기 초음파 트랜스듀서를 상기 검사 대상과 상대적으로 주사 이동하는 주사 이동 기구와, 상기 검출된 전기 신호와 상기 주사 이동된 초음파 트랜스듀서의 위치로부터 상기 검사 대상의 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하며, 상기 초음파 트랜스듀서의 상기 압전체층은 티탄산바륨 또는 지르콘산티탄산아연을 갖고, 또한, 두께가 0.1㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다.In addition, the ultrasonic inspection apparatus according to the present invention is an ultrasonic transducer having a common electrode having one surface, a piezoelectric layer formed on one surface of the common electrode, an upper electrode formed on the piezoelectric layer, and connected to the upper electrode A drive unit capable of driving the piezoelectric layer from an electrode, and an electrical signal generated from the piezoelectric layer by the reflected echo from an inspection object by ultrasonic waves emitted from the driven piezoelectric layer connected to the upper electrode, from the upper electrode; A detection unit for detecting, a scanning movement mechanism for scanning and moving the ultrasonic transducer relative to the inspection object, and a process of visualizing the state of the inspection object from the position of the detected electrical signal and the scanning movement ultrasonic transducer. A processing unit configured to perform the ultrasonic transducer Group has a piezoelectric layer of barium titanate or zirconate Santi zinc carbonate, and further characterized in that a thickness of 0.1㎛ to 100㎛.

이 초음파 검사 장치는 초음파 트랜스듀서로서 매트릭스 형상의 압전체층을 형성한 것을 이용하지 않고, 초음파 트랜스듀서 자체의 기계적 주사를 행함으로써 검사 대상의 상태를 탐지한다. 초음파 트랜스듀서의 압전체층에 대한 특징 부분은 대략 이미 설명한 바와 같다.This ultrasonic inspection apparatus detects the state of an inspection object by performing mechanical scanning of the ultrasonic transducer itself, without using the piezoelectric layer of matrix form as an ultrasonic transducer. Features of the piezoelectric layer of the ultrasonic transducer are as described above.

또한, 본 발명에 따른 초음파 검사 장치는 레이저 광을 간헐적으로 또는 강도 변조하여 발생하는 레이저 광원과, 상기 발생된 레이저 광을 스폿 형상으로 하여 검사 대상에 조사하는 광학 송신기와, 상기 광학 송신기를 상기 검사 대상과 상대적으로 주사 이동하는 주사 이동 기구와, 상기 조사된 레이저 광에 의해 발생된 상기 검사 대상 중의 초음파의 에코에 의한 상기 검사 대상 표면에서의 진동 변위를 레이저 광을 이용하는 변위 측정 방법에 의해 비접촉으로 검출하여 전기 신호로 변환하는 진동 변위 검출부와, 상기 변환된 전기 신호와 상기 주사 이동된 광학 송신기의 위치로부터 상기 검사 대상의 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the ultrasonic inspection apparatus according to the present invention includes a laser light source generated by intermittently or intensity modulating a laser light, an optical transmitter for irradiating a test object with the generated laser light in a spot shape, and the optical transmitter Non-contacting by the displacement measuring method using a laser beam, the vibration displacement on the surface of the inspection object caused by the echo of the ultrasonic wave in the inspection object generated by the irradiated laser light and the scanning movement mechanism relatively scanningly moved with the object. And a processing unit for performing a process of visualizing the state of the inspection object from the positions of the converted electrical signal and the scanning-transmitted optical transmitter.

이 초음파 검사 장치는 간헐적으로 또는 강도 변조하여 발생된 레이저 광을 스폿 형상으로 하여 검사 대상에 조사함으로써 고해상도화를 도모한다. 스폿 형상으로 함으로써 검사 대상 위의 정확한 위치에 상당히 작은 면적의 초음파 발생원을 만들 수 있다. 따라서, 그 에코를 포착함으로써 고해상의 탐지가 가능해진다.This ultrasonic inspection apparatus achieves high resolution by irradiating an inspection target with a spot shape of laser light generated intermittently or by intensity modulation. By making the spot shape, it is possible to make an ultrasonic generator with a considerably small area at an exact position on the inspection object. Therefore, the high resolution can be detected by capturing the echo.

또한, 본 발명에 따른 초음파 화상화 장치는 매트릭스 형상 또는 일렬 형상으로 각각 배치된 복수의 압전 소자를 갖는 초음파 트랜스듀서와, 상기 복수의 압전 소자에 접속되고 상기 복수의 압전 소자 중 임의의 하나를 구동할 수 있는 구동 소자 선택부와, 상기 복수의 압전 소자에 접속되고 상기 구동된 압전 소자가 발하는 초음파에 의한 음향 전파 매체를 통한 검사 대상으로부터의 반사 에코를 수신함으로써 상기 복수의 압전 소자가 발생하는 전기 신호를 병렬적으로 검출하는 신호 검출 회로와, 상기 병렬적으로 검출된 전기 신호로부터 상기 검사 대상의 상태를 화상화하는 처리를 병렬 연산을 이용하여 행하는 신호 처리부와, 상기 처리되어 화상화된 결과를 표시하는 표시 장치를 구비하며, 상기 신호 처리부는 상기 검사 대상에서 화상화해야 할 영역을 메시(mesh)화하여 상기 메시화된 영역 각각에 대해서 상기 구동된 압전 소자로부터 상기 복수의 압전 소자 중 하나로의 초음파 전파 시간을 상기 구동된 압전 소자와 상기 복수의 압전 소자 중 상기 하나와의 조합마다 저장하는 저장부와, 상기 저장된 초음파 전파 시간을 이용하고, 상기 병렬적으로 검출된 전기 신호 중 하나의 시간 방향 데이터로부터 상기 메시화된 영역 각각에 대해서 반사 강도를 확정하는 처리를 상기 병렬적으로 검출된 전기 신호 각각에 대해서 서로 병렬적으로 행하는 복수의 처리부와, 상기 병렬로 처리되어 확정된 반사 강도를 상기 메시화된 영역마다 가산하는 가산부를 갖는 것을 특징으로 한다.In addition, the ultrasonic imaging apparatus according to the present invention includes an ultrasonic transducer having a plurality of piezoelectric elements each arranged in a matrix or in a line shape, and connected to the plurality of piezoelectric elements and drives any one of the plurality of piezoelectric elements. A plurality of piezoelectric elements generated by receiving a reflection echo from an object to be inspected through an acoustic propagation medium which is connected to the plurality of piezoelectric elements and connected to the plurality of piezoelectric elements and emitted by the driven piezoelectric element. A signal detection circuit that detects signals in parallel, a signal processing unit that performs a process of imaging the state of the inspection object from the parallel detected electrical signals by using a parallel operation, and the processed and imaged results And a display device for displaying, wherein the signal processing unit is to be imaged at the inspection target. By meshing a region, an ultrasonic propagation time from the driven piezoelectric element to one of the plurality of piezoelectric elements for each of the meshed regions is compared with the one of the driven piezoelectric element and the plurality of piezoelectric elements. The parallel processing is performed using the storage unit for storing each combination and the stored ultrasonic propagation time, and determining the reflection intensity for each of the meshed regions from the time direction data of one of the parallel detected electrical signals. And a plurality of processing units which perform in parallel with each of the detected electrical signals, and an adding unit which adds, for each of the meshed regions, the reflection intensity determined by being processed in parallel.

즉, 본 발명에 따른 초음파 화상화 장치는 매트릭스 형상 또는 일렬 형상으로 각각 배치된 복수의 압전 소자를 갖는 초음파 트랜스듀서를 초음파의 발생 및 검출에 이용하는 것을 전제로 하는 것이다. 복수의 압전 소자 중 임의의 것을 구동하고, 검사 대상으로부터의 반사 에코를 복수의 압전 소자에서 검지하여 전기 신호로 변환하며, 변환된 전기 신호를 신호 검출 회로에서 병렬적으로 검출하고, 다시 신호 처리부에서 병렬 연산하여 화상화 처리를 행한다.That is, the ultrasonic imaging apparatus according to the present invention is based on the premise that an ultrasonic transducer having a plurality of piezoelectric elements each arranged in a matrix or in a line shape is used for generation and detection of ultrasonic waves. Drives any of a plurality of piezoelectric elements, detects echoes from the inspection object in the plurality of piezoelectric elements, converts them into electrical signals, detects the converted electrical signals in parallel in a signal detection circuit, and then in the signal processor The image processing is performed in parallel.

병렬 연산에서는 상기 저장부, 복수의 처리부, 가산부가 이용된다. 저장부는 검사 대상에서 화상화해야 할 영역을 메시화하여 이 메시화된 영역 각각에 대해서 구동된 압전 소자로부터 복수의 압전 소자 중 하나로의 초음파 전파 시간을 구동된 압전 소자와 복수의 압전 소자 중 상기 하나와의 조합마다 저장하고 있다.In the parallel operation, the storage unit, the plurality of processing units, and the adding unit are used. The storage unit meshes an area to be imaged in the inspection object and transmits ultrasonic propagation time from the piezoelectric element driven to each of the meshed regions to one of the plurality of piezoelectric elements, wherein the one of the piezoelectric element and the plurality of piezoelectric elements is driven. It is stored for each combination.

복수의 처리부는 이 저장된 초음파 전파 시간을 이용하고, 병렬적으로 검출된 전기 신호 중 하나에 의거하여, 메시화된 영역 각각에 대해서 반사 강도를 확정하는 처리를 병렬적으로 검출된 전기 신호 각각에 대해서 서로 병렬적으로 행한다. 이러한 병렬적 처리에 의해 고속의 처리가 가능해진다. 처리된 결과는 가산 수단에 의해 메시화된 영역마다 가산된다. 이것에 의해 화상화 데이터를 얻을 수 있다.The plurality of processing units use the stored ultrasonic propagation time and, based on one of the electrical signals detected in parallel, determine a reflection intensity for each of the meshed regions for each of the detected electrical signals in parallel. In parallel with each other. Such parallel processing enables high speed processing. The processed result is added for each area meshed by the adding means. Thereby, imaging data can be obtained.

또한, 저장부, 복수의 처리부, 및 가산부는, 예를 들어, 전용(專用) 또는 범용(汎用)의 계산기를 하드웨어로서 사용하고, 이 하드웨어와, 이 하드웨어 상에서 동작하는 기본 소프트웨어 및 응용 소프트웨어에 의해 구성할 수 있다.In addition, the storage unit, the plurality of processing units, and the addition unit use, for example, a dedicated or general purpose calculator as hardware, and by the hardware and basic software and application software operating on the hardware, for example. Can be configured.

또한, 본 발명에 따른 초음파 검사 장치는 복수의 압전 소자를 갖는 압전부와, 상기 압전부와 음향적으로 접속된 평판(平板) 형상의 고체 음향 전파 매체와, 상기 압전부로부터 압전 소자를 선택하여 초음파를 발생시키는 구동부와, 상기 구동부에 의해 선택된 압전 소자로부터 송신된 초음파의 일부가 액체 음향 매체 중의 피검체로부터 반사되어 이루어진 반사 초음파에 의거하여, 상기 압전부의 압전 소자로부터 발생한 전기 신호를 검출하는 검출부와, 상기 검출부에서 검출된 전기 신호에 의거하여, 상기 피검체의 내부 상태를 나타내는 화상을 생성하는 화상 생성부와, 상기 화상 생성부에서 생성된 화상을 표시하는 표시부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the ultrasonic inspection apparatus according to the present invention selects a piezoelectric element having a plurality of piezoelectric elements, a flat plate-shaped solid acoustic propagation medium acoustically connected to the piezoelectric element, and a piezoelectric element from the piezoelectric element. A detection unit for detecting an electric signal generated from the piezoelectric element of the piezoelectric unit on the basis of a driving unit for generating ultrasonic waves and a reflection ultrasonic wave in which a part of the ultrasonic waves transmitted from the piezoelectric element selected by the driving unit is reflected from an object in a liquid acoustic medium And an image generation unit for generating an image representing the internal state of the subject under test based on the electrical signal detected by the detection unit, and a display unit for displaying the image generated by the image generation unit.

복수 배치된 압전 소자를 전자적으로 선택하여 송수신함으로써, 기계 주사하지 않고 가시화를 행할 수 있다. 또한, 내부에 피검체를 수용하고, 또한, 액체 음향 매체를 축적하는 용기에 대하여 고체 음향 전파 매체를 관통시키거나, 또는 그 외면에 음향적으로 접속함으로써, 압전 소자를 용기 밖에 배치한 상태에서 용기 내의 피검체의 외형 및 내부 구조의 가시화를 행할 수 있다.By electronically selecting and transmitting and receiving a plurality of piezoelectric elements arranged in a plurality, visualization can be performed without mechanical scanning. In addition, the container is placed in a state where the piezoelectric element is placed outside the container by allowing a test object to be accommodated inside and penetrating the solid acoustic propagation medium or acoustically connecting to the outer surface of the container that accumulates the liquid acoustic medium. The external appearance and internal structure of the subject inside can be visualized.

여기서, 「음향적으로 접속」은 서로 다른 음향 매체끼리에서의 음향 전달이 가능한 상태를 의미한다. 또한, 음향 매체 사이에 커플랜트(couplant)를 끼움으로써, 서로 다른 음향 매체 사이에서의 음향 전달 특성을 보다 향상시킬 수 있다.Here, "acoustically connected" means a state in which sound transmission between different acoustic media is possible. In addition, by inserting a coupler (couplant) between the acoustic media, it is possible to further improve the sound transmission characteristics between different acoustic media.

(실시예)(Example)

본 발명의 실시예에 의하면, 초음파 트랜스듀서의 구조적 및 재료적 특징 때문에 손쉽고 신속하게, 해상도가 높은 초음파 비파괴 검사를 실현할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 검사 대상의 표면에 상당히 작은 면적의 초음파 발생원을 만들 수 있으므로 초음파 검사의 고해상도화를 실현할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the ultrasonic non-destructive inspection with high resolution can be realized easily and quickly due to the structural and material characteristics of the ultrasonic transducer. In addition, according to the embodiment of the present invention, since the ultrasonic generator with a considerably small area can be made on the surface of the inspection object, it is possible to realize the high resolution of the ultrasonic inspection.

본 발명의 실시예로서, 초음파 검사 장치는 액체를 수용할 수 있는 용기로서, 상기 수용된 액체 중에 상기 초음파 트랜스듀서와 상기 검사 대상을 침지할 수 있는 상기 용기를 더 구비한다. 초음파의 전파 특성이 기체보다 우수한, 예를 들어, 물을 음향 매질로서 사용하는 것이다.As an embodiment of the present invention, the ultrasonic inspection apparatus further includes a container capable of accommodating liquid, and the container capable of immersing the ultrasonic transducer and the inspection object in the accommodated liquid. Ultrasonic propagation properties are superior to gas, for example, water is used as the acoustic medium.

또한, 본 발명의 실시예로서, 초음파 검사 장치의 상기 처리부는 음향 매질과 상기 검사 대상의 계면에서 발생하는 초음파의 굴절을 계산함으로써 상기 검사 대상 내에서의 초음파 경로를 특정한다. 음향 매질이 검사 대상(조사(照射) 대상)과 상이한 물질인 경우에 대응하는 것이다.In addition, as an embodiment of the present invention, the processing unit of the ultrasonic inspection apparatus specifies the ultrasonic path in the inspection object by calculating the refraction of the ultrasonic wave generated at the interface between the acoustic medium and the inspection object. It corresponds to the case where the acoustic medium is a material different from the object to be inspected (the object to be irradiated).

또한, 본 발명의 실시예로서, 초음파 검사 장치는 상기 초음파 트랜스듀서의 상기 기판의 뒷면에 설치되고, 상기 검사 대상과의 사이에 끼워 유지될 수 있는 커플랜트를 더 구비한다. 이것에 의해, 기판과 검사 대상을 침지할 필요가 없어져 효율적으로 간편하게 초음파를 조사할 수 있다. 이 때, 커플랜트에 의해 검사 대상이나 기판을 오염시키거나 손상시키지 않고, 또한, 검사 대상으로부터 커플랜트를 용이하게 제거할 수 있다. 또한, 기판을 검사 대상과 동질의 재료(예를 들어, 실리콘, 에폭시, 세라믹, 금속 등)로 하면, 트랜스듀서와 검사 대상 사이에서의 굴절의 영향이 작고 신호 처리도 간단해진다.In addition, as an embodiment of the present invention, the ultrasonic inspection apparatus is provided on the back of the substrate of the ultrasonic transducer, and further includes a coupler that can be held between the inspection object. Thereby, it is not necessary to immerse a board | substrate and an inspection object, and ultrasonic wave can be irradiated simply and efficiently. At this time, the coupler can be easily removed from the inspection object without contaminating or damaging the inspection object or the substrate by the coupler. In addition, when the substrate is made of the same material as that of the inspection object (for example, silicon, epoxy, ceramic, metal, etc.), the influence of refraction between the transducer and the inspection object is small and signal processing is simplified.

커플랜트로서는 물이나 알코올 등의 액체, 물이나 알코올을 적신 섬유 형상의 메시 재료, 유연성이 있는 유기 재료, 세라믹, 금속 재료 등을 사용할 수 있다. 커플랜트의 두께는 검사에 이용하는 초음파의 파장보다 충분히 얇은 것을 사용하면, 검사에 주는 영향이 작아 바람직하다.As the coupler, a liquid such as water or alcohol, a fibrous mesh material moistened with water or alcohol, a flexible organic material, a ceramic, a metal material, or the like can be used. When the thickness of the coupler is sufficiently thinner than the wavelength of the ultrasonic wave used for the inspection, the influence on the inspection is small, which is preferable.

또한, 본 발명의 실시예로서, 초음파 트랜스듀서의 상기 공통 전극은 상기 형성된 압전체층과의 계면에 계면 화합물층을 갖는다. 이 계면 화합물층은 공통 전극과 압전체층의 접착층으로서 기능한다. 압전체를 연마나 절삭 가공에 의해 박막화하여 미리 형성한 경우에는, 나중의 공정에서 공통 전극과의 안정된 접착을 필요로 한다. 이 때문에, 계면 화합물층을 이용하는 것이다.In addition, as an embodiment of the present invention, the common electrode of the ultrasonic transducer has an interface compound layer at an interface with the formed piezoelectric layer. This interface compound layer functions as an adhesive layer between the common electrode and the piezoelectric layer. In the case where the piezoelectric material is thinned by polishing or cutting and formed in advance, stable bonding with the common electrode is required in a later step. For this reason, an interface compound layer is used.

계면 화합물층을 형성하기 위해서는, 정전 접착법을 이용하고, 정전 접착층으로서는, 예를 들어, 유리(바람직하게는 가동성 이온을 갖는 유리), 물유리, SiO2, A1, Ta, Ti, Ni, Si, Mo, Cr, Ge, Ga, As, 코바르(kovar), Fe, Mg, 베릴륨 등을 사용할 수 있다. 그 층의 두께는 1 내지 100 원자층의 두께로 하는 것이 바람직하다. 이것은 100 원자층을 초과하면 접착성이 포화되기 때문이다.In order to form the interfacial compound layer, an electrostatic bonding method is used, and as the electrostatic bonding layer, for example, glass (preferably glass having movable ions), water glass, SiO 2 , A1, Ta, Ti, Ni, Si, Mo , Cr, Ge, Ga, As, kovar (kovar), Fe, Mg, beryllium and the like can be used. The thickness of the layer is preferably set to a thickness of 1 to 100 atomic layers. This is because the adhesiveness is saturated when it exceeds 100 atomic layers.

또한, 접착 시에 압전체의 표면 조도(粗度)는 그 두께(0.1㎛ 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 내지 30㎛)의 1% 이하로 설정하고, 더 나아가서는 계면 화합물층으로 되는 접착층의 표면 조도도 동일하게 설정하면 밀착성이 향상되어 안정된 접착으로 되므로 바람직하다.In addition, the surface roughness of the piezoelectric body at the time of adhesion is set to 1% or less of its thickness (0.1 μm to 100 μm, more preferably 0.5 μm to 30 μm), and furthermore, to provide an interface compound layer. It is preferable to set the surface roughness in the same way, since adhesiveness improves and it becomes stable adhesion.

또한, 정전 접착법을 이용하지 않고, 기판(공통 전극)과 분극 처리한 압전체층을 분극에 기인하는 정전 인력으로 접착시킬 수도 있으며, 이것에 의해 공통 전극과의 평탄한 접착 상태를 용이하게 얻을 수 있다. 이 경우, 압전체층 위에 스퍼터링법으로 형성한 금속층을 형성하면, 밀착성이 더 높아진다. 또한, 압전체를 공통 전극과 접착시킨 후에도, 압전체를 분극 상태로 후처리함으로써, 압전체 위에 상부 전극을 안정되게 형성할 수 있는 이점이 있다. 또한, 이것에 의해 압전체층의 기복(起伏)이나 계면 화합물층의 두께 불균일에 기인하는 감도나 해상도의 저하도 방지할 수 있다.In addition, without using an electrostatic bonding method, the substrate (common electrode) and the piezoelectric layer subjected to polarization may be bonded by electrostatic attraction due to polarization, whereby a flat adhesion state with the common electrode can be easily obtained. . In this case, when a metal layer formed by sputtering is formed on the piezoelectric layer, the adhesiveness becomes higher. Further, even after the piezoelectric body is adhered to the common electrode, there is an advantage that the upper electrode can be stably formed on the piezoelectric body by post-treatment of the piezoelectric body in a polarized state. In addition, the degradation of the sensitivity and the resolution caused by the undulation of the piezoelectric layer and the thickness unevenness of the interfacial compound layer can be prevented.

또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 병렬적 처리에 의해 고속의 처리가 가능해진다.In addition, according to the embodiment of the present invention, high-speed processing is possible by parallel processing.

본 발명의 실시예로서, 초음파 화상화 장치의 상기 신호 처리부는, 상기 저장부 대신에, 상기 검사 대상에서 화상화해야 할 영역을 메시화하여 상기 메시화된 영역 각각에 대해서 일정 압전 소자로부터의 송신측 초음파 전파 시간과 일정 압전 소자로의 수신측 초음파 전파 시간을 일반화하여 공통으로 저장하는 제 2 저장부를 갖고, 상기 복수의 처리부는 상기 저장된 초음파 전파 시간 대신에, 상기 저장된 송신측 초음파 전파 시간과 상기 저장된 수신측 초음파 전파 시간을 이용한다.In an embodiment of the present invention, the signal processing unit of the ultrasonic imaging apparatus, in place of the storage unit, meshes an area to be imaged in the inspection object and transmits a predetermined piezoelectric element to each of the meshed areas. And a second storage unit for generalizing and storing the side ultrasonic wave propagation time and the receiving side ultrasonic wave propagation time to a predetermined piezoelectric element, wherein the plurality of processing units replaces the stored ultrasonic wave propagation time and the stored ultrasonic wave propagation time instead of the stored ultrasonic wave propagation time. Use the stored reception ultrasonic wave propagation time.

이러한 제 2 저장부를 가짐으로써, 필요한 기억 영역을 대폭으로 감축할 수 있게 된다. 예를 들면, 검사 대상이 평면적인 표면을 갖는 경우 등에 적용할 수 있다.By having such a 2nd storage part, a required storage area can be reduced significantly. For example, it can apply to the case where a test subject has a planar surface.

또한, 본 발명의 실시예는, 상기 신호 처리부의 상기 저장부에서, 상기 화상화해야 할 영역이 상기 복수의 압전 소자에서의 초음파 발생 지향 특성을 고려하여 제한된 것이다. 이러한 제한을 마련함으로써, 처리에 불필요한 기억 영역을 삭감할 수 있다.Further, in the embodiment of the present invention, the area to be imaged in the storage section of the signal processing section is limited in consideration of the ultrasonic wave generation directivity characteristic of the plurality of piezoelectric elements. By providing such a restriction, the storage area unnecessary for the process can be reduced.

또한, 본 발명의 실시예는, 상기 신호 처리부의 상기 제 2 저장부에 있어서, 상기 화상화해야 할 영역이 상기 복수의 압전 소자에서의 초음파 발생 지향 특성을 고려하여 제한된 것이다. 이 경우도, 처리에 불필요한 기억 영역을 삭감할 수 있다.Further, the embodiment of the present invention, in the second storage portion of the signal processing portion, the area to be imaged is limited in consideration of the ultrasonic wave generation directivity characteristic of the plurality of piezoelectric elements. Also in this case, the storage area unnecessary for processing can be reduced.

또한, 본 발명의 실시예에서, 상기 신호 처리부는 상기 검사 대상에서 화상화해야 할 영역을 메시화하여 상기 메시화된 영역 각각에 대해서 상기 구동된 압전 소자로부터 상기 복수의 압전 소자 중 하나로의 초음파 전파 강도 특성을 상기 구동된 압전 소자와 상기 복수의 압전 소자 중 상기 하나의 조합마다 저장하는 전파 강도 특성 저장부를 더 갖고, 상기 신호 처리부의 상기 복수의 처리부는 상기 반사 강도를 확정하는 처리에 상기 저장된 초음파 전파 강도 특성을 보정을 위해 이용한다.Further, in an embodiment of the present invention, the signal processing unit meshes an area to be imaged in the inspection object and ultrasonic propagation from the driven piezoelectric element to one of the plurality of piezoelectric elements for each of the meshed regions. And a propagation intensity characteristic storage unit for storing the intensity characteristic for each combination of the driven piezoelectric element and the plurality of piezoelectric elements, and the plurality of processing units of the signal processing unit have the stored ultrasonic waves in a process of determining the reflection intensity. Propagation intensity characteristics are used for correction.

구동된 압전 소자로부터 복수의 압전 소자 중 하나로의 초음파 전파 강도 특성은 압전 소자의 지향 특성에 따라 변화한다. 예를 들면, 사각(射角)을 이루어 발생되어 수신되는 초음파는 감도 저하가 발생한다. 그래서, 이러한 감도 저하분을 전파 강도 특성 저장부에 저장된 전파 강도 특성으로 보정함으로써, 화상화 결과를 고정밀도화한다. 또한, 전파 강도 특성 저장부는, 초음파 전파 시간의 저장부와 어드레스를 공통으로 이것에 부수적으로 설치해도 좋다.Ultrasonic propagation intensity characteristics from the driven piezoelectric element to one of the plurality of piezoelectric elements vary depending on the directivity characteristics of the piezoelectric element. For example, the ultrasonic waves generated and received in a blind spot generate a decrease in sensitivity. Thus, by correcting such a decrease in sensitivity with the propagation intensity characteristic stored in the propagation intensity characteristic storage unit, the imaging result is highly accurate. The propagation intensity characteristic storage unit may additionally provide an address and a storage unit for the ultrasonic propagation time in common thereto.

또한, 본 발명의 실시예에서, 상기 신호 처리부는 상기 검사 대상에서 화상화해야 할 영역을 메시화하여 상기 메시화된 영역 각각에 대해서 일정 압전 소자부터의 송신측 초음파 전파 강도 특성과 일정 압전 소자로의 수신측 초음파 전파 강도 특성을 일반화하여 공통으로 저장하는 전파 강도 특성 저장부를 더 갖고, 상기 신호 처리부의 상기 복수의 처리부는 상기 반사 강도를 확정하는 처리에 상기 저장된 송신측 초음파 전파 강도 특성 및 수신측 초음파 전파 강도 특성을 보정을 위해 이용한다.Further, in the embodiment of the present invention, the signal processing unit meshes the area to be imaged in the inspection object, and transmits the ultrasonic wave propagation intensity characteristic from the constant piezoelectric element and the constant piezoelectric element for each of the meshed regions. The apparatus further includes a propagation intensity characteristic storage unit for generalizing and commonly storing the receiving side ultrasonic wave intensity characteristics of the receiving side, wherein the plurality of processing units of the signal processing unit stores the transmitted side ultrasonic wave propagation intensity characteristics and the receiving side in a process of determining the reflection intensity. Ultrasonic propagation intensity characteristics are used for correction.

이 경우도 감도 저하분을 전파 강도 특성 저장부에 저장된 전파 강도 특성으로 보정함으로써, 화상화 결과를 고정밀도화한다. 여기서, 전파 강도 특성 저장부는 필요한 기억 영역을 대폭으로 감축시킨 것으로 된다. 예를 들면, 검사 대상이 평면적인 표면을 갖는 경우 등에 적용할 수 있다.In this case as well, the sensitivity reduction is corrected by the propagation intensity characteristic stored in the propagation intensity characteristic storage unit, whereby the imaging results are highly accurate. In this case, the propagation intensity characteristic storage unit significantly reduces the required storage area. For example, it can apply to the case where a test subject has a planar surface.

또한, 본 발명의 실시예에서, 상기 신호 처리부는 상기 저장부에 초기값으로서의 초음파 전파 시간의 데이터를 부여하는 데이터 부여부와, 상기 검사 대상에 대하여 상기 부여된 초음파 전파 시간의 데이터를 이용하여 상기 복수의 처리부에 의해 처리하며, 상기 가산부에 의해 가산하여 얻어진 상기 메시화된 영역마다의 반사 강도로부터 상기 검사 대상의 불연속면 또는 불연속선을 검출하는 검출부와, 상기 검출된 불연속면 또는 불연속선에 의거하여 상기 저장 수단의 내용을 재설정하는 재설정부를 더 갖는다.Further, in the embodiment of the present invention, the signal processor may be configured to provide the data to the storage unit with the data of the ultrasonic propagation time as an initial value and the data of the ultrasonic propagation time given to the inspection object. A detector which detects the discontinuous plane or discontinuous line of the inspection object from the reflection intensity for each of the meshed regions obtained by the addition unit and added by the adder, and the storage on the basis of the detected discontinuous plane or discontinuous line; It further has a reset unit for resetting the contents of the means.

이러한 구성에 의하면, 예를 들어, 초기값로서의 초음파 전파 시간에 단일 층의 검사 대상을 가정하여 수치를 부여하면, 얻어진 반사 강도로부터 검사 대상의 불연속면 또는 불연속선을 검출할 수 있다. 즉, 참의 검사 대상(음향 전파 매체를 포함하지 않는 검사 대상)의 위치 변화를 알 수 있다. 이 위치 변화에 따라 초음파 전파 시간을 다시 저장하면, 정밀도가 높은 화상화를 행할 수 있다.According to such a structure, if a numerical value is provided assuming the inspection object of a single layer at the ultrasonic propagation time as an initial value, for example, the discontinuous surface or discontinuous line of an inspection object can be detected from the obtained reflection intensity. In other words, it is possible to know a change in the position of a true inspection object (an inspection object not including an acoustic propagation medium). If the ultrasonic propagation time is stored again in accordance with this position change, high-accuracy imaging can be performed.

후술하는 본 발명의 실시예(제 6 실시예)의 사고를 설명하면 다음과 같다.The following describes an accident of an embodiment (sixth embodiment) of the present invention described below.

예를 들면, 개구 합성 처리에 의해 3D 화상 합성을 행하기 위해서는, 어느 2개의 압전 소자 사이에서 송수신된 초음파 에코 파형(시간 방향 데이터)을 거리 방향에 대응시키는 것이 필요하다. 구체적으로는, 초음파 에코 파형의 각 샘플링 데이터를 음속(音速)에 따라 거리 데이터로 고쳐 반사된 화상화 메시를 특정하고, 특정된 화상화 메시에 그 샘플링 데이터를 대응시킨다. 그리고, 3D 화상화 영역 내의 전체 메시 또는 지향각으로 제한된 영역의 전체 메시에 대해서 2개의 압전 소자의 전체 조합에 걸쳐 상기 샘플링 데이터(진폭값으로 표시된 강도)를 가산 처리함으로써 3D 화상을 묘화(描畵)할 수 있다.For example, in order to perform 3D image synthesis by the aperture synthesis process, it is necessary to correspond the ultrasonic echo waveform (time direction data) transmitted and received between any two piezoelectric elements to the distance direction. Specifically, each sampling data of the ultrasonic echo waveform is corrected by distance data according to the sound velocity to specify the reflected imaging mesh, and the sampling data is associated with the specified imaging mesh. Then, the 3D image is drawn by adding the sampling data (intensity indicated by an amplitude value) over the entire combination of two piezoelectric elements to all the meshes in the 3D imaging region or the whole mesh of the region limited to the direction angle. )can do.

여기서, 검사를 행할 때에는, 물에 침지하거나 수지의 슈재(shoe member)로 이루어진 음향 전파 매체를 통하여 검사 대상에 초음파를 송수신하는 것이 일반적이다. 그 때문에, 초음파가 전파하는 경로 내에는 적어도 음향 전파 매체와 검사 대상이라는 서로 다른 음속의 영역이 존재하게 된다. 검사 대상이 서로 다른 음속으로 이루어진 복수 층으로 구성될 경우는, 전체적으로 3층 이상의 층 구성으로 된다.Here, when performing the inspection, it is common to transmit and receive ultrasonic waves to and from the inspection object through an acoustic propagation medium which is immersed in water or made of a shoe member of resin. Therefore, in the path | route propagated by an ultrasonic wave, the area | region of the sound velocity different from an acoustic propagation medium and a test object exists at least. In the case where the inspection object is composed of a plurality of layers having different sound speeds, a total of three or more layers are configured.

복수의 층 구성의 경우, 각 층의 계면에서의 굴절을 고려하여 구한 왕복 거리에 따라 샘플링 데이터(진폭값)를 가산함으로써 3D 묘화를 행하는 것이 필요하게 된다. 그 때문에, 일반적으로는 각 메시마다 굴절 계산을 행하고, 그 결과에 의해 샘플링 데이터의 대응과 가산 처리를 행하기 때문에 처리량이 방대해져 표시할 때까지의 시간이 지나치게 소요되어 실용적인 성능을 달성하는 것이 곤란해진다.In the case of a plurality of layer configurations, it is necessary to perform 3D drawing by adding sampling data (amplitude values) in accordance with the round trip distance determined in consideration of the refraction at the interface of each layer. Therefore, in general, the refraction calculation is performed for each mesh, and as a result, correspondence and addition processing of the sampling data is performed, resulting in a large amount of processing time and excessive time until display, which makes it difficult to achieve practical performance. Become.

그러나, 일정 형상의 슈재나 고정 조건에서의 수침 검사에서는, 각 메시마다 굴절 계산을 일일이 하지 않더라도 전파 시간 데이터를 테이블화하여 두면 이것을 이용할 수 있다. 테이블화에 의해, 굴절 계산에 상당하는 처리는 메모리 액세스 시간까지 감축할 수 있다. 또한, 수신측의 복수의 압전 소자에 대응하여 연산 회로를 병렬로 설치함으로써, 화상 합성 처리가 한층 더 고속화되는 것이다.However, in the immersion test under a certain shape of the shoe material or the fixed condition, even if the refraction calculation is not performed for each mesh, the propagation time data can be used as a table. By tabulation, the processing corresponding to the refraction calculation can be reduced up to the memory access time. Further, by arranging arithmetic circuits in parallel in correspondence with the plurality of piezoelectric elements on the receiving side, the image synthesizing process is further accelerated.

여기서, 상기 방법에 의하면, 예를 들어, 10×10개의 압전 소자를 평면적으로 매트릭스 배치한 경우이면, 100개 중 2개의 압전 소자(송신측, 수신측)의 전체 조합에 대응한 테이블 데이터를 준비하는 것이 필요하게 된다. 이 때문에, 상기 복수 층의 계면이 복잡한 형상일 경우에는, 미리 테이블 데이터를 작성할 경우의 계산 시간이나 데이터 용량이 방대해진다.According to the above method, for example, in the case where 10 x 10 piezoelectric elements are arranged in a matrix in plan, table data corresponding to the entire combination of two piezoelectric elements (transmitting side and receiving side) out of 100 is prepared. It is necessary to do. For this reason, when the interface of the said multiple layers is a complicated shape, the calculation time and data capacity at the time of creating table data beforehand become large.

검사 대상의 계면에 대칭성이나 균일성이 있을 경우는, 테이블 데이터를 상기 조합에 의하지 않고 공통화하는 것이 계산 시간이나 데이터 용량의 경감에 매우 효과적이다. 예를 들면, 평면 형상이며 일정한 두께를 갖는 슈재로 평평한 검사 대상을 검사할 경우에는, 편도(片道)의 초음파 경로에 대응한 단일의 테이블 데이터만 있으면, 좌표 변환에서 임의의 압전 소자에 의한 송신과 수신의 전파 거리 계산이 가능하다. 이것에 의해, 병렬 연산 회로 내의 메모리 용량은 저감되고, 고속 액세스에 의해 처리가 한층 더 고속화된다.When there is symmetry or uniformity at the interface of the inspection object, it is very effective to reduce the calculation time and the data capacity by commonizing the table data without using the above combination. For example, when inspecting a flat inspection object with a shoe material having a planar shape and a constant thickness, as long as there is a single table data corresponding to a one-way ultrasonic path, transmission by any piezoelectric element in coordinate transformation and The propagation distance of the reception can be calculated. As a result, the memory capacity in the parallel arithmetic circuit is reduced, and the processing is further accelerated by the fast access.

또한, 초음파 전파 시간 테이블 데이터나 공통 테이블 데이터를 작성할 때에, 압전 소자의 지향 특성을 고려하여 테이블 데이터의 영역을 제한하면, 불필요한 화상화 데이터를 묘화하지 않고, 또한, 화상 합성 처리의 효율화를 도모할 수 있다.Further, when creating the ultrasonic propagation time table data or common table data, if the area of the table data is limited in consideration of the directivity characteristic of the piezoelectric element, unnecessary image data cannot be drawn, and the image combining process can be made more efficient. Can be.

또한, 초음파 전파 시간 테이블 데이터나 공통 테이블 데이터를 작성할 때에, 압전 소자의 지향 특성을 고려하여 테이블 데이터에 전파 시간과 더불어 지향성에 의한 감도 분포 데이터를 저장하면, 감도가 낮아지는 초음파의 사각 성분의 게인(gain)을 조정하고, 정밀도 향상에 효과적인 사각 성분의 에코 데이터를 효과적으로 사용할 수 있게 된다.In addition, when generating the propagation time table data or the common table data, if the sensitivity distribution data along with the propagation time are stored in the table data in consideration of the directivity characteristic of the piezoelectric element, the gain of the square component of the ultrasonic wave which becomes low sensitivity becomes low. It is possible to effectively use the echo data of the square component which is effective for adjusting the gain and improving the accuracy.

또한, 초음파 전파 시간 테이블 데이터나 공통 테이블 데이터를 작성할 때에, 검사 대상으로서 고체 또는 액체로 이루어진 음향 전파 매체의 단일 층을 가정하여 이것에 테이블 데이터를 초기 설정하면, 그 결과의 화상화에 의해, 음향 전파 매체와 참의 검사 대상의 경계면 추출이 가능하다. 그리고, 이 처리 결과를 이용하여 재계산된 테이블 데이터에 의하면, 위치가 변화할 경우의 화상화에 대응할 수 있다. 또한, 참의 검사 대상의 형상이 복잡한 경우에 대비하여 미리 형상 데이터를 기억하고, 이 기억된 형상 데이터를 가미하여 초음파 전파 시간 테이블 데이터나 공통 테이블 데이터를 재설정할 수도 있다.In addition, when creating ultrasonic propagation time table data or common table data, assuming a single layer of an acoustic propagation medium composed of a solid or a liquid as an inspection object, and initially setting the table data therein, the resultant image is used for It is possible to extract the interface between the propagation medium and the inspection target. The table data recalculated using this processing result can correspond to the imaging when the position changes. In addition, the shape data can be stored in advance in case the shape of the true inspection object is complicated, and the ultrasonic propagation time table data and the common table data can be reset by adding the stored shape data.

또한, 본 발명의 실시예에 의해, 압전 소자(초음파 트랜스듀서)를 액체에 침지하지 않으며, 밀폐 용기의 내부에 배치된 피검체의 상태를 외부로부터 검사할 수 있는 초음파 검사 장치를 제공할 수 있게 된다. 그 결과, 압전 소자가 액체 중에 침지되지 않기 때문에, 그 내구성이 향상된다.In addition, according to an embodiment of the present invention, it is possible to provide an ultrasonic inspection apparatus capable of inspecting the state of a subject disposed inside the sealed container from the outside without immersing the piezoelectric element (ultrasound transducer) in the liquid. do. As a result, since the piezoelectric element is not immersed in the liquid, its durability is improved.

본 발명의 실시예로서의 초음파 검사 장치는, 압전 소자가 매트릭스 형상 또는 일렬로 배치된 어레이 트랜스듀서가 슈재에 커플랜트를 통하여 밀착 고정되어 있다. 이 슈재는 액체 음향 매체를 내포한 검사 용기의 외측 표면에 접속되거나, 또는 개구부를 통하여 검사 용기를 관통하고 있다. 그 결과, 검사 용기 내에 마련한 피검체로부터의 반사 초음파 또는 투과 초음파의 전기 신호 수집을 행하고, 그 수집 데이터로부터 가시화 화상을 합성함으로써, 내부 검사를 행하는 것이 가능해진다.In the ultrasonic inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, an array transducer in which piezoelectric elements are arranged in a matrix or in a line is tightly fixed to a shoe member through a coupler. The shoe material is connected to the outer surface of the test container containing the liquid acoustic medium or penetrates the test container through the opening. As a result, the internal inspection can be performed by performing electrical signal collection of reflected ultrasonic waves or transmitted ultrasonic waves from the inspected object provided in the inspection container, and synthesizing a visualized image from the collected data.

여기서, 검사 용기 내에서의 피검체의 표면 위치, 즉, 압전 소자와 검사체의 표면(계면)이 알려져 있는 경우에, 압전 소자로부터 송신되어 이 계면으로부터 반사되어 압전 소자에 도달할 때까지의 반사 초음파의 전파 시간으로부터 검사 용기 내의 액체 음향 매체의 음속을 구하고, 화상 생성 처리 시의 보정용으로 사용하여, 화상 데이터의 정밀도 향상을 도모할 수 있다.Here, when the surface position of the object under test, i.e., the surface (interface) of the piezoelectric element and the test object, is known, reflection from the piezoelectric element until it is reflected from this interface and reaches the piezoelectric element The sound velocity of the liquid acoustic medium in the inspection container can be obtained from the propagation time of the ultrasonic waves, and used for the correction during the image generating process, thereby improving the accuracy of the image data.

또한, 검사 용기 내에 초음파 송신 각도를 변경하기 위한 반사체를 설치함으로써, 피검체에 대하여 수평 방향으로부터의 계측 및 가시화를 행할 수 있다.In addition, by providing a reflector for changing the ultrasonic transmission angle in the inspection container, measurement and visualization from the horizontal direction can be performed with respect to the inspected object.

이하에서는, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

우선, 본 발명의 실시예를 반도체 칩의 검사를 예로 들어 설명 한다.First, the embodiment of the present invention will be described taking the inspection of the semiconductor chip as an example.

(제 1 실시예)(First embodiment)

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 검사 장치는 초음파 트랜스듀서(9), 신호 발생부(1), 구동 소자 선택부(2), 신호 검출 회로(4), 증폭기(5a, 5b, …, 5i), A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i), 신호 처리부(7), 표시 장치(10), 검사 용기(110)를 갖는다. 검사 용기(110) 내에는 물(15)이 수용되고, 이 물(15)에 침지되어 초음파 트랜스듀서(9)와 검사 대상(초음파의 검사 대상)으로서의 반도체 칩(11), 배선 기판(13), 접속 땜납(12)(이하에서는, 반도체 칩(11), 배선 기판(13), 접속 땜납(12)을 통합하여 「반도체 칩(11) 등」이라고 함)이 배치된다.1 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, the ultrasonic inspection apparatus includes an ultrasonic transducer 9, a signal generator 1, a drive element selector 2, a signal detection circuit 4, amplifiers 5a, 5b, ..., 5i. ), A / D converters 6a, 6b,..., 6i, a signal processing unit 7, a display device 10, and an inspection container 110. In the inspection container 110, water 15 is accommodated, and the water 15 is immersed in the ultrasonic transducer 9, the semiconductor chip 11 as the inspection object (the ultrasonic inspection object) and the wiring board 13. The connection solder 12 (hereinafter, referred to as the "semiconductor chip 11") in which the semiconductor chip 11, the wiring board 13, and the connection solder 12 are integrated is disposed.

초음파 트랜스듀서(9)는 압전체를 포함하는 복수의 압전 소자(41a, 42a, 43a, …, 49a, 50a, 50b, …, 50h)를 매트릭스 형상으로 배치한 것이며, 그 각각의 압전 소자(41a) 등은 구동 소자 선택부(2)의 선택에 의해 구동되는 것이 결정되어 신호 발생부(1)로부터의 구동 신호가 도선(導線)에 의해 유도된다. 또한, 각각의 압전 소자(41a) 등이 발생하는 전기 신호는 도선에 의해 신호 검출 회로(4)에 유도된다. 압전 소자(41a) 등이 전기 구동되면 압전체로서의 성질 때문에 초음파가 발생하고, 발생된 초음파는 물(15)을 통하여 반도체 칩(11)에 도달한다. 반도체 칩(11) 등에 의한 초음파의 반사 에코는 다시 물(15)을 통하여 압전 소자(41a) 등에 입력되고, 이것에 의해 각각의 압전 소자(41a) 등은 전기 신호를 발생한다.The ultrasonic transducer 9 has a plurality of piezoelectric elements 41a, 42a, 43a, ..., 49a, 50a, 50b, ..., 50h including piezoelectric elements arranged in a matrix, and each piezoelectric element 41a. The back is determined to be driven by the selection of the drive element selector 2 so that the drive signal from the signal generator 1 is guided by the conducting wire. In addition, electrical signals generated by the respective piezoelectric elements 41a and the like are guided to the signal detection circuit 4 by conducting wires. When the piezoelectric element 41a or the like is electrically driven, ultrasonic waves are generated due to its properties as a piezoelectric body, and the generated ultrasonic waves reach the semiconductor chip 11 through the water 15. The reflected echo of the ultrasonic waves by the semiconductor chip 11 or the like is again inputted into the piezoelectric element 41a or the like through the water 15, whereby each piezoelectric element 41a or the like generates an electric signal.

신호 발생부(1)는 압전 소자(41a) 등이 초음파를 발생하기 위해 펄스 형상 또는 연속의 구동 신호를 발생하는 것이다. 발생된 구동 신호는 구동 소자 선택부(2)에 유도된다. 구동 소자 선택부(2)는 구동해야 할 1개 또는 복수의 압전 소자(41a) 등을 선택한 후, 신호 발생부(1)로부터 유도된 구동 신호를 선택된 압전 소자(41a) 등에 유도하는 것이다.The signal generator 1 generates a pulse shape or a continuous drive signal for the piezoelectric element 41a or the like to generate ultrasonic waves. The generated drive signal is guided to the drive element selector 2. The drive element selector 2 selects one or a plurality of piezoelectric elements 41a to be driven, and then guides the drive signal derived from the signal generator 1 to the selected piezoelectric element 41a or the like.

신호 검출 회로(4)는 압전 소자(41a) 등에서 발생하는 전기 신호를 검출하는 것이다. 검출된 전기 신호 중 검사에 필요한 복수의 것은 각각 증폭기(5a, 5b, …, 5i)에 유도된다.The signal detection circuit 4 detects an electrical signal generated by the piezoelectric element 41a or the like. Of the detected electrical signals, a plurality of pieces required for inspection are led to the amplifiers 5a, 5b, ..., 5i, respectively.

증폭기(5a, 5b, …, 5i)는 유도된 전기 신호를 증폭하고, 이것을 A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i)에 공급하는 것이다. A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i)는 유도된 전기 신호를 A/D 변환하고, 이것을 신호 처리부(7)에 유도하는 것이다.The amplifiers 5a, 5b, ..., 5i amplify the induced electric signals and supply them to the A / D converters 6a, 6b, ..., 6i. The A / D converters 6a, 6b, ..., 6i convert the induced electrical signals to A / D and induce them to the signal processing section 7.

신호 처리부(7)는 A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i)로부터 유도된 디지털 신호를 처리하여 검사 대상의 상태를 가시화하는 정보를 생성하는 것이다. 생성된 정보는 표시 장치(10)에 유도된다. 표시 장치(10)는 유도된 정보를 표시하는 것이다.The signal processor 7 processes digital signals derived from the A / D converters 6a, 6b, ..., 6i to generate information for visualizing the state of the inspection object. The generated information is guided to the display device 10. The display device 10 displays the derived information.

검사 용기(110)는 검사 대상의 반도체 칩(11) 등과 초음파 트랜스듀서(9)를 물(15)에 침지하기 위한 용기이다.The inspection container 110 is a container for immersing the semiconductor chip 11 and the ultrasonic transducer 9 to be inspected in the water 15.

도 2는 압전 소자(41a) 등의 단면 구조를 나타내는 도면이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 압전 소자(41a) 등은 기판(121) 위에 아래로부터 접지 전극(122), 계면 화합물층(123), 압전체층(124), 상부 전극층(125)을 갖는다. 이 중에서 적어도 기판(121)과 접지 전극(122)은 모든 압전 소자(41a) 등에 공통으로 설치된다. 기판(121)에는, 예를 들어, 단결정이나 다결정의 실리콘, 에폭시, 세라믹, SUS 등의 금속을 사용할 수 있다. 도 2에 나타낸 바와 같은 압전 소자(41a) 등의 형성은 상술한 방법을 적절히 선택하여 행할 수 있다.2 is a diagram showing a cross-sectional structure of the piezoelectric element 41a or the like. As shown in FIG. 2, the piezoelectric element 41a or the like has a ground electrode 122, an interface compound layer 123, a piezoelectric layer 124, and an upper electrode layer 125 on the substrate 121 from below. At least the substrate 121 and the ground electrode 122 are common to all the piezoelectric elements 41a and the like. As the substrate 121, for example, a metal such as silicon, epoxy, ceramic, SUS, or single crystal or polycrystal can be used. Formation of the piezoelectric element 41a etc. as shown in FIG. 2 can be performed by selecting the above-mentioned method suitably.

도 1에 나타낸 초음파 검사 장치의 검사 동작에 대해서 설명한다. 압전 소자(41a) 등을 구동하기 위한 신호가 신호 발생부(1)에서 발생되고, 이것이 구동 소자 선택부(2)에서 선택된 압전 소자(도면에서는 압전 소자(46a))에 유도된다. 이것에 의해, 압전 소자(46a)는 초음파(U)를 발생하고, 발생된 초음파는 물(15)을 전파 매질로 하여 반도체 칩(11) 등에 조사된다.The inspection operation of the ultrasonic inspection apparatus shown in FIG. 1 will be described. A signal for driving the piezoelectric element 41a or the like is generated in the signal generator 1, which is guided to the piezoelectric element (piezoelectric element 46a in the drawing) selected in the drive element selector 2. Thereby, the piezoelectric element 46a generates the ultrasonic wave U, and the generated ultrasonic wave is irradiated to the semiconductor chip 11 etc. with water 15 as a propagation medium.

반도체 칩(11) 등에 송신된 초음파(U)는 반도체 칩(11)의 표면에서 굴절되어 더 진행되고, 예를 들어, 결함(14)이 발생하고 있는 접속 땜납(12)에서 반사하여 에코로 되어 다시 반도체 칩(11) 및 물(15)을 통하여 압전 소자(46a) 등에 도달한다.The ultrasonic wave U transmitted to the semiconductor chip 11 or the like is further refracted at the surface of the semiconductor chip 11, for example, reflected by the connection solder 12 in which the defect 14 is generated, and is echoed. The semiconductor chip 11 and the water 15 reach the piezoelectric element 46a and the like again.

이것에 의해 압전 소자(41a) 등에서는 전기 신호를 발생한다. 발생된 전기 신호는 신호 검출 회로(4)에 유도되어 검출된다. 신호 검출 회로(4)에서는 검출된 것으로부터 검사에 필요한 전기 신호(도면에서는 압전 소자(41a, …, 50a)가 발생한 것)를 각각 증폭기(5a, …, 5i)에 유도한다. 증폭기(5a, …, 5i)는 각각 유도된 신호를 증폭하고, 이것을 A/D 변환기(6a, …, 6i)에 공급한다. 또한, A/D 변환기(6a, …, 6i)에서 A/D 변환된 신호가 신호 처리부(7)에 수용된다.As a result, the piezoelectric element 41a or the like generates an electric signal. The generated electrical signal is guided to the signal detection circuit 4 and detected. In the signal detection circuit 4, the electrical signals required for the inspection (the piezoelectric elements 41a, ..., 50a are generated in the drawing) are guided to the amplifiers 5a, ..., 5i from the detected ones, respectively. The amplifiers 5a, ..., 5i respectively amplify the induced signals and supply them to the A / D converters 6a, ..., 6i. In addition, the signal A / D converted by the A / D converters 6a, ..., 6i is accommodated in the signal processing unit 7.

신호 처리부(7)에서는, 구동 소자 선택부(2)와 신호 검출 회로(4)에 의한 전환이 실행될 때마다 A/D 변환기(6a, …, 6i)로부터 신호를 수용하고, 반도체 칩(11)과 접속 땜납(12)의 접합 계면으로부터의 반사 에코 강도의 분포 상태를 화상화하는 처리를 행한다. 그 결과는 표시 장치(10) 위에 표시된다. 또한, 접속 땜납(12)에 결함(땜납 박리 등)(14)이 있으면 초음파(U)의 반사 강도가 커지고, 이것에 의해 신호 처리부(7)의 처리 결과에서 그 위치와 정도를 알 수 있다.The signal processor 7 receives a signal from the A / D converters 6a, ..., 6i every time switching by the drive element selector 2 and the signal detection circuit 4 is executed, and the semiconductor chip 11 Processing to image the distribution state of the reflected echo intensity from the joining interface of the connection solder 12 with each other. The result is displayed on the display device 10. In addition, when the connection solder 12 has a defect (solder peeling or the like) 14, the reflection intensity of the ultrasonic wave U is increased, whereby the position and the degree can be known from the processing result of the signal processing unit 7.

이 실시예에서는 압전 소자(41a) 등의 구조적 및 재료적 특징 때문에 고주파 구동이 가능하고, 따라서, 고해상의 검사를 행할 수 있는 동시에, 압전 소자(41a) 등이 매트릭스화되어 있으므로, 압전 소자의 기계 주사와 비교하여 효율적으로 검사를 행할 수 있다.In this embodiment, high frequency driving is possible because of structural and material characteristics of the piezoelectric element 41a and the like. Therefore, high resolution inspection can be performed, and the piezoelectric element 41a and the like are matrixed. The inspection can be performed efficiently as compared with the injection.

또한, 이 실시예에서는 음향 매질이 물(15)이며 검사 대상인 반도체 칩(11) 등과 물질이 상이하다. 이것에 의해, 반도체 칩(11)의 표면에서는 초음파의 굴절이 발생한다. 그래서, 신호 처리부(7)에서는, 이 굴절을 감안하여 반도체 칩(11) 내에서의 초음파 경로를 특정한다.Also, in this embodiment, the acoustic medium is water 15, and the material differs from the semiconductor chip 11 and the like. As a result, ultrasonic wave refraction occurs on the surface of the semiconductor chip 11. Therefore, the signal processor 7 specifies the ultrasonic path in the semiconductor chip 11 in consideration of this refraction.

(제 2 실시예)(Second embodiment)

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도이다. 도 3에 있어서, 상술한 구성요소에는 동일 번호를 첨부하여 그 구성 및 동작의 설명을 생략한다. 이 실시예는 상기 제 1 실시예와 달리, 검사 대상으로의 초음파 조사를 물을 통하여 행하는 것이 아니라, 슈재를 사용하여 행하는 것이다.3 is a configuration diagram illustrating the configuration of an ultrasonic inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 3, the above-mentioned component is attached | subjected with the same number, and the description of the structure and operation is abbreviate | omitted. Unlike the first embodiment, this embodiment does not perform ultrasonic irradiation to the inspection target through water, but rather by using a shoe material.

도 3에 나타낸 바와 같이, 초음파 트랜스듀서(9)는 슈재(16)를 기판으로 하여 구성되어 있다. 그리고, 슈재(16)는 그 뒷면에 커플랜트(17)가 설치되고, 커플랜트(17)를 통하여 검사 대상으로서의 반도체 칩(11) 등에 눌린다. 슈재(16)는 반도체 칩(11)과 동일한 재질(예를 들어, 실리콘, 에폭시, 세라믹 등)로 되어 있다. 커플랜트(17)는 상술한 바와 같은 재질 및 두께로 할 수 있으나, 여기서는 일례로서 도시한 바와 같이 시트 형상의 것을 사용하고 있다.As shown in FIG. 3, the ultrasonic transducer 9 is comprised using the shoe material 16 as a board | substrate. The shoe material 16 is provided with a coupler 17 on its rear surface, and is pressed by the semiconductor chip 11 or the like as an inspection target through the coupler 17. The shoe material 16 is made of the same material (for example, silicon, epoxy, ceramic, etc.) as the semiconductor chip 11. The coupler 17 can have the same material and thickness as described above, but a sheet-like one is used here as an example.

커플랜트(17)에 의해 슈재(16)와 반도체 칩(11) 등은 평탄하게 접하는 상태로 되고, 이것에 의해, 음파 트랜스듀서(9)의 압전 소자(41a) 등이 발하는 초음파는 도시하는 바와 같이 반도체 칩(11)의 표면에서 대부분 굴절하지 않고 진행된다. 따라서, 굴절을 고려하여 신호 처리부(7)에서 처리할 필요가 없어져 보다 간단하게 처리할 수 있다.The coupler 17 causes the shoe material 16 and the semiconductor chip 11 to be in flat contact with each other, whereby the ultrasonic waves emitted by the piezoelectric elements 41a of the acoustic wave transducer 9 are shown. Similarly, most of the surface of the semiconductor chip 11 proceeds without refracting. Therefore, it is not necessary to process the signal processing unit 7 in consideration of refraction, so that the processing can be performed more simply.

또한, 물을 수용하는 검사 용기를 준비할 필요가 없고 검사 대상을 물에 침지하지 않기 때문에, 검사 후도 대상을 통상대로 사용할 수 있다. 따라서, 표본 검사뿐만 아니라, 손쉽게 공기 중에서의 이 초음파 검사를 이용할 수 있다.Moreover, since it is not necessary to prepare the test container which accommodates water, and a test object is not immersed in water, an object can be used as usual after an test. Therefore, in addition to the specimen inspection, this ultrasonic inspection in the air can be easily used.

또한, 이 실시예에서도 압전 소자(41a) 등의 구조적 및 재료적 특징 때문에 고주파 구동이 가능하고, 따라서, 고해상의 검사를 행할 수 있는 동시에, 압전 소자(41a) 등이 매트릭스화되어 있으므로, 압전 소자의 기계 주사와 비교하여 효율적으로 검사를 행할 수 있다.Also in this embodiment, high frequency driving is possible due to the structural and material characteristics of the piezoelectric element 41a and the like, so that high resolution inspection can be performed, and the piezoelectric element 41a and the like are matrixed. The inspection can be performed more efficiently than the mechanical scanning of.

(제 3 실시예)(Third embodiment)

도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도이다. 도 4에 있어서, 상술한 구성요소에는 동일 번호를 첨부하여 그 구성 및 동작의 설명을 생략한다. 이 실시예에서는 검사 대상으로서의 반도체 칩(11a) 등의 뒷면(기능면의 반대측)에 직접 압전 소자를 형성하고, 그 상부 전극에 접촉 단자에 의해 접촉하여 구동 전압의 공급 및 발생 전압의 추출을 행하도록 한 것이다.4 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a third exemplary embodiment of the present invention. In Fig. 4, the above-described components are denoted by the same reference numerals, and description of the configuration and operation is omitted. In this embodiment, a piezoelectric element is formed directly on the back surface (opposite side of the functional surface) of the semiconductor chip 11a or the like as an inspection object, and the upper electrode is contacted by a contact terminal to supply the driving voltage and extract the generated voltage. I did it.

도 4에 나타낸 바와 같이, 반도체 칩(11a)의 뒷면에는, 예를 들어, 스퍼터링에 의해 공통 전극(58)이 형성되고, 공통 전극(58) 위에 압전체층(60a, 60b, 60c, 60d, …)이 매트릭스 형상으로 형성되어 있다. 압전체층(60a) 등 위에는 상부 전극(59a, 59b, 59c, 59d, …)이 각각 형성되어 있다. 압전체층(60a) 등은, 예를 들어, 마스크 패턴을 이용하여 스퍼터링에 의해 형성할 수 있다. 또한, 각각의 압전 소자의 배치 및 형성은 신호 처리를 보다 단순화하기 위해 접속 땜납(12)의 배치와 대응하도록 할 수도 있다.As shown in Fig. 4, the common electrode 58 is formed on the back surface of the semiconductor chip 11a by, for example, sputtering, and the piezoelectric layers 60a, 60b, 60c, 60d,... Are formed on the common electrode 58. ) Is formed in a matrix shape. Upper electrodes 59a, 59b, 59c, 59d, ... are formed on the piezoelectric layer 60a and the like, respectively. The piezoelectric layer 60a or the like can be formed, for example, by sputtering using a mask pattern. Further, the arrangement and formation of each piezoelectric element may correspond to the arrangement of the connection solder 12 to further simplify the signal processing.

상부 전극(59a)을 통한 구동 전압의 공급 및 발생 전압의 추출은 접촉 단자(61a, 61b, 61c)에 의해 행한다. 접촉 단자(61a) 등은 주사 이동 기구(8)에 의해 주사 이동할 수 있도록 되어 있다. 또한, 이 도면에서는 접촉 단자를 3개로 하고 있으나, 그 수는 적절히 설정할 수 있다. 또한, 접촉 단자(61a) 등은 구체적으로는 상술한 바와 같은 것을 사용할 수 있다.The supply of the driving voltage through the upper electrode 59a and the extraction of the generated voltage are performed by the contact terminals 61a, 61b, 61c. The contact terminal 61a or the like is capable of scanning movement by the scanning movement mechanism 8. In addition, in this figure, although three contact terminals are provided, the number can be set suitably. In addition, the thing as mentioned above can be used for the contact terminal 61a etc. specifically ,.

신호 처리부(7a)에서는, 주사 이동 기구(8)가 접촉 단자(61a) 등에 부여하는 위치를 정보로서 얻고, 이것과 초음파(Ua, Ub, Uc) 등에 의한 검출 신호로부터의 정보에 의해 반도체 칩(11a)과 접속 땜납(12)의 접합 계면으로부터의 반사 에코 강도의 분포 상태를 화상화하는 처리를 행한다.In the signal processing unit 7a, the position to which the scanning movement mechanism 8 gives the contact terminal 61a or the like as the information is obtained, and the semiconductor chip (the information from the detection signal by the ultrasonic waves Ua, Ub, Uc, etc.) is obtained. A process of imaging the distribution state of the reflected echo intensity from the junction interface of 11a) and the connection solder 12 is performed.

이 실시예에서도 물을 수용하는 검사 용기를 준비할 필요가 없고 검사 대상을 물에 침지하지 않기 때문에, 검사 후도 대상을 통상대로 사용할 수 있다. 따라서, 표본 검사뿐만 아니라, 손쉽게 공기 중에서의 이 초음파 검사를 이용할 수 있다.In this embodiment as well, it is not necessary to prepare an inspection container for accommodating water, and since the inspection object is not immersed in water, the object can be used as usual after the inspection. Therefore, in addition to the specimen inspection, this ultrasonic inspection in the air can be easily used.

또한, 마찬가지로 압전 소자의 구조적 및 재료적 특징 때문에 고주파 구동이 가능하고, 따라서, 고해상의 검사를 행할 수 있다. 또한, 여기서 설명한 접촉 단자(61a) 등에 의한 압전 소자와의 접촉을 이용하여 구동 전압의 공급 및 발생 전압의 추출을 행하는 방법은, 제 1 및 제 2 실시예에 있어서, 그 설명에서는 도선을 이용하고 있던 압전 소자(41a) 등과의 접속 대신에 이용할 수도 있다.In addition, high frequency driving is possible because of the structural and material characteristics of the piezoelectric element, and therefore, high resolution inspection can be performed. In the first and second embodiments, the method of performing the supply of the driving voltage and the extraction of the generated voltage by using the contact with the piezoelectric element by the contact terminal 61a or the like described in the first and second embodiments, It can also be used in place of the connection with the piezoelectric element 41a or the like.

(제 4 실시예)(Example 4)

도 5는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도이다. 도 5에 있어서, 상술한 구성요소에는 동일 번호를 첨부하여 그 구성 및 동작의 설명을 생략한다. 이 실시예는 초음파 트랜스듀서를 기계적으로 주사하여 검사를 행하는 것이다.5 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a fourth exemplary embodiment of the present invention. In Fig. 5, the above-described components are denoted by the same reference numerals, and description of the configuration and operation is omitted. In this embodiment, the ultrasonic transducer is mechanically scanned for inspection.

도 5에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 검사 장치는 초음파 트랜스듀서(9a), 신호 발생 회로(1a), 신호 검출 회로(4a), 증폭기(5a), A/D 변환기(6a), 신호 처리부(7b), 표시 장치(10), 검사 용기(110a)를 갖는다. 검사 용기(110a) 내에는 물(15)이 수용되고, 이 물(15)에 침지되어 초음파 트랜스듀서(9a)와 검사 대상(초음파의 조사 대상)으로서의 반도체 칩(11) 등이 배치된다.As shown in Fig. 5, the ultrasonic inspection apparatus includes an ultrasonic transducer 9a, a signal generating circuit 1a, a signal detecting circuit 4a, an amplifier 5a, an A / D converter 6a, and a signal processor 7b. ), Display device 10, and inspection container 110a. The water 15 is accommodated in the inspection container 110a, and is immersed in this water 15, and the ultrasonic transducer 9a, the semiconductor chip 11 as an inspection object (ultrasound irradiation object), etc. are arrange | positioned.

초음파 트랜스듀서(9a)는 오목형 형상의 기판 표면 위에 전극층(29), 압전체층(30), 상부 전극층(31)이 차례로 적층된 구조를 갖고, 이 적층 구조가 압전 소자로서 기능한다. 압전 소자에는 신호 발생 회로(1a)로부터의 구동 신호가 도선에 의해 유도된다. 또한, 압전 소자가 발생하는 전기 신호는 도선에 의해 신호 검출 회로(4a)에 유도된다. 압전 소자가 전기 구동되면 압전체로서의 성질 때문에 초음파(U)가 발생하고, 발생된 초음파는 물(15)을 통하여 반도체 칩(11)에 도달한다. 반도체 칩(11) 등에 의한 초음파의 에코는 다시 물(15)을 통하여 압전 소자에 입력되고, 이것에 의해 압전 소자는 전기 신호를 발생한다.The ultrasonic transducer 9a has a structure in which an electrode layer 29, a piezoelectric layer 30, and an upper electrode layer 31 are sequentially stacked on a concave-shaped substrate surface, and this laminated structure functions as a piezoelectric element. In the piezoelectric element, a drive signal from the signal generating circuit 1a is guided by the conducting wire. Moreover, the electrical signal which a piezoelectric element generate | occur | produces is guide | induced to the signal detection circuit 4a by a conducting wire. When the piezoelectric element is electrically driven, ultrasonic waves U are generated due to its properties as a piezoelectric body, and the generated ultrasonic waves reach the semiconductor chip 11 through the water 15. The echo of the ultrasonic waves by the semiconductor chip 11 or the like is inputted to the piezoelectric element through water 15 again, whereby the piezoelectric element generates an electric signal.

신호 발생 회로(1a)는 압전 소자가 초음파를 발생하도록 펄스 형상 또는 연속의 구동 신호를 발생하는 것이다. 신호 검출 회로(4a)는 압전 소자에서 발생하는 전기 신호를 검출하는 것이다. 검출된 전기 신호는 증폭기(5a)에 유도된다. 이후의 A/D 변환기(6a) 및 표시 장치(10)는 상술한 것과 동일하다.The signal generating circuit 1a generates a pulse shape or a continuous drive signal so that the piezoelectric element generates ultrasonic waves. The signal detection circuit 4a detects an electrical signal generated by the piezoelectric element. The detected electrical signal is guided to the amplifier 5a. The A / D converter 6a and the display device 10 thereafter are the same as described above.

신호 처리부(7b)는 A/D 변환기(6a)로부터 유도된 디지털 신호와 주사 이동 기구(8a)가 초음파 트랜스듀서(9a)에 부여하는 위치를 정보로서 얻어 처리하여 검사 대상의 상태를 가시화하는 정보를 생성하는 것이다. 생성된 정보는 표시 장치(10)에 유도된다.The signal processing unit 7b obtains and processes, as information, the digital signal derived from the A / D converter 6a and the position that the scanning movement mechanism 8a gives to the ultrasonic transducer 9a to visualize the state of the inspection object. To generate. The generated information is guided to the display device 10.

주사 이동 기구(8a)는 초음파 트랜스듀서(9a)의 위치를 설정하는 기구로서 설치되고, 설정하는 위치의 정보는 신호 처리부(7b)로 유도된다. 검사 용기(11Oa)는 검사 대상의 반도체 칩(11) 등과 초음파트랜스듀서(9a)를 물(15)에 침지하기 위한 용기이다.The scanning movement mechanism 8a is provided as a mechanism for setting the position of the ultrasonic transducer 9a, and the information on the setting position is guided to the signal processing section 7b. The inspection container 110a is a container for immersing the semiconductor chip 11 and the ultrasonic transducer 9a to be inspected in the water 15.

초음파 트랜스듀서(9a)의 적층 구조에 대해서 더 설명하면, 전극층(29)은 정전 인력을 이용하는 접착층으로서도 기능시키도록 형성할 수 있다. 재질로서는 Cr, Ta, Si 등에서 선택할 수 있다. 압전체층(30)은 상술한 바와 같은 재질의 것을 연마에 의해, 예를 들어, 1O㎛ 정도로 박막화하여 접착하여 형성할 수 있다. 또한, 도면에서 전극층(29) 아래의 기판에 도전성의 것(예를 들어, 도핑된 Si 단결정, 그 표층만 도핑된 것일 수도 있음)을 사용할 경우에는, 전극층(29)을 형성하지 않을 수도 있다.The laminated structure of the ultrasonic transducer 9a will be described further. The electrode layer 29 can be formed to function as an adhesive layer using electrostatic attraction. As a material, it can select from Cr, Ta, Si, etc. The piezoelectric layer 30 can be formed by polishing, for example, thinning the film having a material as described above to about 10 µm. In addition, in the drawing, when using a conductive material (for example, a doped Si single crystal or only its surface layer may be doped) for the substrate under the electrode layer 29, the electrode layer 29 may not be formed.

도 5에 나타낸 초음파 검사 장치의 검사 동작에 대해서 설명한다. 주사 이동 기구(8a)에 의해 초음파 트랜스듀서(9a)의 위치가 결정되고, 또한, 초음파 트랜스듀서(9a)를 구동하기 위한 신호가 신호 발생 회로(1a)에서 발생된다. 이것에 의해, 초음파트랜스듀서(9a)는 초음파(U)를 발생하고, 발생된 초음파는 물(15)을 전파 매질로 하여 반도체 칩(11) 등에 조사된다.The inspection operation of the ultrasonic inspection apparatus shown in FIG. 5 will be described. The position of the ultrasonic transducer 9a is determined by the scanning movement mechanism 8a, and a signal for driving the ultrasonic transducer 9a is generated in the signal generating circuit 1a. As a result, the ultrasonic transducer 9a generates the ultrasonic wave U, and the generated ultrasonic wave is irradiated onto the semiconductor chip 11 or the like with the water 15 as a propagation medium.

반도체 칩(11) 등에 조사된 초음파(U)는 반도체 칩(11)의 표면에서 굴절되어 더 진행되고, 예를 들어, 결함(14)이 발생하고 있는 접속 땜납(12)에서 반사하여 에코로 되어 다시 반도체 칩(11) 및 물(15)을 통하여 초음파 트랜스듀서(9a)에 도달한다.Ultrasonic waves U irradiated on the semiconductor chip 11 are further refracted on the surface of the semiconductor chip 11, for example, reflected by the connection solder 12 where the defect 14 is generated, and are echoed. The ultrasonic transducer 9a is again reached through the semiconductor chip 11 and the water 15.

이것에 의해 초음파 트랜스듀서(9a)에서는 전기 신호를 발생한다. 발생된 전기 신호는 신호 검출 회로(4a)에 유도되어 검출된다. 신호 검출 회로(4a)는 검출된 전기 신호를 증폭기(5a)에 유도한다. 증폭기(5a)는 유도된 신호를 증폭하고, 이것을 A/D 변환기(6a)에 공급한다. 또한, A/D 변환기(6a)에서 A/D 변환된 신호가 신호 처리부(7b)에 수용된다.As a result, the ultrasonic transducer 9a generates an electric signal. The generated electrical signal is guided to the signal detection circuit 4a and detected. The signal detection circuit 4a induces the detected electrical signal to the amplifier 5a. The amplifier 5a amplifies the induced signal and supplies it to the A / D converter 6a. In addition, the signal A / D converted by the A / D converter 6a is accommodated in the signal processor 7b.

신호 처리부(7b)에서는, A/D 변환기(6a)로부터 유도된 디지털 신호와 주사 이동 기구(8a)가 초음파 트랜스듀서(9a)에 부여하는 위치를 정보로서 얻어 처리하고, 반도체 칩(11)과 접속 땜납(12)의 접합 계면으로부터의 반사 에코 강도의 분포 상태를 화상화하는 처리를 행한다. 그 결과는 표시 장치(10) 위에 표시된다. 이러한 처리는 주사 이동 기구(8a)에 의해 초음파 트랜스듀서(9a)의 위치가 결정될 때마다 행할 수 있다.In the signal processing unit 7b, the digital signal derived from the A / D converter 6a and the position which the scanning movement mechanism 8a gives to the ultrasonic transducer 9a are obtained and processed as information, and the semiconductor chip 11 and The process of imaging the distribution state of the reflected echo intensity from the joining interface of the connection solder 12 is performed. The result is displayed on the display device 10. This process can be performed whenever the position of the ultrasonic transducer 9a is determined by the scanning movement mechanism 8a.

이 실시예에서는 초음파트랜스듀서(9a)의 구조적 및 재료적 특징 때문에 고주파 구동이 가능하고, 따라서, 고해상의 검사를 행할 수 있다. 또한, 예를 들어, 정전력을 이용하는 접착에 의해 압전체층(30)을 보다 균일하게 기판 위에 형성할 수 있으므로, 균일성이 뒤떨어지는 것에 의한 감도나 해상도의 열화(劣化)를 방지할 수도 있다.In this embodiment, high frequency driving is possible because of the structural and material characteristics of the ultrasonic transducer 9a, and therefore, high resolution inspection can be performed. For example, since the piezoelectric layer 30 can be formed more uniformly on the substrate by adhesion using electrostatic force, deterioration in sensitivity and resolution due to inferior uniformity can also be prevented.

또한, 이 실시예에서도 음향 매질이 물(15)이며 검사 대상인 반도체 칩(11) 등과 물질이 상이하므로, 반도체 칩(11)의 표면에서는 초음파(U)의 굴절이 발생한다. 그래서, 신호 처리부(7b)에서는, 이 굴절을 감안하여 반도체 칩(11) 내에서의 초음파 경로를 특정한다.Also in this embodiment, since the acoustic medium is water 15 and the material of the semiconductor chip 11 and the like to be inspected are different from each other, the refraction of the ultrasonic wave U occurs on the surface of the semiconductor chip 11. Therefore, in the signal processing unit 7b, the ultrasonic path in the semiconductor chip 11 is specified in consideration of this refraction.

(제 5 실시예)(Example 5)

도 6은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도이다. 도 6에 있어서, 상술한 구성요소에는 동일 번호를 첨부하여 그 구성 및 동작의 설명을 생략한다. 이 실시예는 레이저 광을 이용하여 검사 대상에 초음파를 발생시키고, 그 에코를 검출 및 처리함으로써 검사 대상을 검사하는 것이다.6 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a fifth exemplary embodiment of the present invention. In Fig. 6, the above-described components are denoted by the same reference numerals, and description of the configuration and operation is omitted. In this embodiment, the inspection object is inspected by generating ultrasonic waves to the inspection object using laser light, and detecting and processing the echoes.

도 6에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 검사 장치는 강도 변조 레이저 광원(101), 광학 송신기(102), 진동 변위 검출기(71), 증폭기(5a, 5b, …, 5i), A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i), 신호 처리부(7), 표시 장치(10), 주사 이동 기구(8b)를 갖는다. 주사 이동 기구(8b)에 의해 위치 결정된 광학 송신기(102)로부터의 레이저 광이 검사 대상으로서의 반도체 칩(11) 등에 조사된다.As shown in Fig. 6, the ultrasonic inspection apparatus includes an intensity modulated laser light source 101, an optical transmitter 102, a vibration displacement detector 71, amplifiers 5a, 5b, ..., 5i, and an A / D converter 6a. 6b, ..., 6i, the signal processing part 7, the display apparatus 10, and the scanning movement mechanism 8b. The laser light from the optical transmitter 102 positioned by the scanning movement mechanism 8b is irradiated to the semiconductor chip 11 or the like as the inspection target.

강도 변조 레이저 광원(101)은 강도 변조된 레이저 광(강도 변조의 특수한 경우로서의 간헐적인 레이저 광일 수도 있음)을 발생하고, 발생된 레이저 광은 광학 송신기(102)에 유도된다. 광학 송신기(102)는 유도된 레이저 광을 스폿 형상으로 하여 검사 대상으로서의 반도체 칩(11)의 소정 위치에 조사한다. 소정 위치에 조사하기 위해, 광학 송신기(102)는 주사 이동 기구(8b)에 의해 주사 이동된다. 또한, 레이저 광의 조사에 의해 반도체 칩(11)에는 에너지의 변환이 발생하여 초음파가 발생한다.The intensity modulated laser light source 101 generates intensity modulated laser light (which may be intermittent laser light as a special case of intensity modulation), and the generated laser light is directed to the optical transmitter 102. The optical transmitter 102 makes the guided laser light into the spot shape, and irradiates it to the predetermined position of the semiconductor chip 11 as a test object. In order to irradiate a predetermined position, the optical transmitter 102 is scanned and moved by the scanning movement mechanism 8b. In addition, the conversion of energy occurs in the semiconductor chip 11 by laser light irradiation, and ultrasonic waves are generated.

진동 변위 검출기(71)는 반도체 칩(11)의 표면에 에코로서 귀환하는 각 부분의 초음파를 비접촉으로 검출하여 전기 신호로 변환하는 것이다. 검출의 원리는 반도체 칩(11)의 표면에 귀환하는 초음파에 의한 그 표면의 진동 변위를 진동 변위 검출기(71)로부터 조사하여 반사되는 레이저 광의 위상 변화에 의해 측정 및 검출하는 것이다. 검출된 전기 신호 중 검사에 필요한 복수의 것은 각각 증폭기(5a, 5b, …, 5i)에 유도된다. 그 이후의 구성인 A/D 변환기(6a, 6b, …, 6i), 신호 처리부(7), 표시 장치(10)에 대해서는 상술한 바와 같다.The vibration displacement detector 71 detects non-contact ultrasonic waves of each part returning as echoes on the surface of the semiconductor chip 11 and converts them into electrical signals. The principle of detection is to measure and detect the vibration displacement of the surface by the ultrasonic wave returning to the surface of the semiconductor chip 11 by the phase change of the laser beam reflected by irradiating from the vibration displacement detector 71. Of the detected electrical signals, a plurality of pieces required for inspection are led to the amplifiers 5a, 5b, ..., 5i, respectively. The A / D converters 6a, 6b, ..., 6i, the signal processing unit 7 and the display device 10 which are the structures after that are as described above.

주사 이동 기구(8b)는 광학 송신기(102)와 진동 변위 검출기(71)를 동기적으로 이동시키는 것이며, 동시에 광학 송신기(102)와 진동 변위 검출기(71)의 위치 정보를 신호 처리부(7a)에 공급한다.The scanning movement mechanism 8b moves the optical transmitter 102 and the vibration displacement detector 71 synchronously, and simultaneously transmits the positional information of the optical transmitter 102 and the vibration displacement detector 71 to the signal processor 7a. Supply.

도 6에 나타낸 초음파 검사 장치의 검사 동작에 대해서 설명한다. 강도 변조 레이저 광원(101)에서 발생된 레이저 광은 광학 송신기(102)에 유도되고, 광학 송신기(102)는 유도된 레이저 광을 스폿 형상으로 하여 검사 대상으로서의 반도체 칩(11)의 소정 위치에 조사한다. 또한, 그 위치는 주사 이동 기구(8b)에 의해 설정된다. 이것에 의해, 반도체 칩(11)의 상기 위치의 표면으로부터 초음파가 발생된다.The inspection operation of the ultrasonic inspection apparatus shown in FIG. 6 will be described. The laser light generated by the intensity modulating laser light source 101 is guided to the optical transmitter 102, and the optical transmitter 102 irradiates a predetermined position of the semiconductor chip 11 as an inspection object with the guided laser light as a spot shape. do. In addition, the position is set by the scanning movement mechanism 8b. As a result, ultrasonic waves are generated from the surface of the position of the semiconductor chip 11.

반도체 칩(11)의 표면에서 발생된 초음파는 반도체 칩(11) 중을 진행하고, 예를 들어, 결함(14)이 발생하고 있는 접속 땜납(12)에서 반사하여 에코(Ua, Ub, Uc)로 되어 다시 반도체 칩(11)의 표면에 도달한다.Ultrasonic waves generated on the surface of the semiconductor chip 11 propagate in the semiconductor chip 11, for example, are reflected from the connection solder 12 in which the defect 14 is generated and echoes Ua, Ub, and Uc. To the surface of the semiconductor chip 11 again.

이것에 의해, 진동 변위 검출기(71)는 상기 원리에 의해 반도체 칩(11)의 표면에 귀환한 각 부분의 초음파에 대응한 복수의 전기 신호를 발생한다. 발생된 전기 신호 중 검사에 필요한 전기 신호를 각각 증폭기(5a, …, 5i)에 유도한다. 증폭기(5a, …, 5i)는 각각 유도된 신호를 증폭하고, 이것을 A/D 변환기(6a, …, 6i)에 공급한다. 또한, A/D 변환기(6a, …, 6i)에서 A/D 변환된 신호가 신호 처리부(7a)에 수용된다.As a result, the vibration displacement detector 71 generates a plurality of electrical signals corresponding to the ultrasonic waves of the respective portions returned to the surface of the semiconductor chip 11 by the above principle. Of the generated electrical signals, electrical signals required for inspection are induced to the amplifiers 5a, ..., 5i, respectively. The amplifiers 5a, ..., 5i respectively amplify the induced signals and supply them to the A / D converters 6a, ..., 6i. In addition, the signals A / D converted by the A / D converters 6a, ..., 6i are accommodated in the signal processing unit 7a.

신호 처리부(7a)에서는, 주사 이동 기구(8b)가 광학 송신기(102) 등에 부여하는 위치를 정보로서 얻고, 이것과 상기의 수용한 신호에 의해 반도체 칩(11)과 접속 땜납(12)의 접합 계면으로부터의 반사 에코 강도의 분포 상태를 화상화하는 처리를 행한다.In the signal processing unit 7a, the position to which the scanning movement mechanism 8b gives the optical transmitter 102 or the like is obtained as information, and the semiconductor chip 11 and the connection solder 12 are joined by this and the received signal. The process of imaging the distribution state of the reflection echo intensity | strength from an interface is performed.

이 실시예에서는, 간헐적으로 또는 강도 변조하여 발생된 레이저 광을 스폿 형상으로 함으로써 검사 대상 위의 정확한 위치에 상당히 작은 면적의 초음파 발생원을 만들 수 있다. 이것에 의해, 그 에코를 포착함으로써 고해상의 탐지가 가능해진다.In this embodiment, by generating a spot shape of the laser light generated intermittently or by intensity modulation, it is possible to make an ultrasonic generator with a relatively small area at an exact position on the inspection object. This makes it possible to detect high resolution by capturing the echo.

또한, 물을 수용하는 검사 용기를 준비할 필요가 없고 검사 대상을 물에 침지하지 않기 때문에, 검사 후도 대상을 통상대로 사용할 수 있다. 따라서, 표본 검사뿐만 아니라, 손쉽게 공기 중에서의 이 초음파 검사를 이용할 수 있다.Moreover, since it is not necessary to prepare the test container which accommodates water, and a test object is not immersed in water, an object can be used as usual after an test. Therefore, in addition to the specimen inspection, this ultrasonic inspection in the air can be easily used.

(제 6 실시예)(Example 6)

다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 초음파 화상화 장치를 도면을 참조하여 설명한다.Next, an ultrasonic imaging apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 초음파 화상화 장치에 의해 초음파 검사를 행하는 구성 예를 설명하는 도면이다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 화상화 장치는 어레이 트랜스듀서(초음파 트랜스듀서)(209), 신호 발생부(201), 구동 소자 선택부(202), 신호 검출 회로(204), 증폭기(205a, 205b, …, 205i), 신호 처리부(270), 표시 장치(210)를 갖는다. 상기 신호 처리부(270)는 내부 구성으로서 A/D 변환기(206a, 206b, …, 206i), 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i), 통합 프로세서(208)를 갖는다. 어레이 트랜스듀서(209)의 앞면에는 음향 전파 매체(216)가 밀착되고, 음향 전파 매체(216)는 커플랜트(218)를 통하여 검사 대상(217)에 접촉된다. 검사 대상(217) 중에는 결함(214)이 존재할 수 있다.7 is a view for explaining an example of the configuration of performing an ultrasonic inspection by the ultrasonic imaging apparatus according to the embodiment of the present invention. As shown in Fig. 7, the ultrasonic imaging apparatus includes an array transducer (ultrasound transducer) 209, a signal generator 201, a drive element selector 202, a signal detection circuit 204, and an amplifier 205a. , 205b,..., 205i, a signal processor 270, and a display device 210. The signal processor 270 has A / D converters 206a, 206b, ..., 206i, parallel processors 207a, 207b, ..., 207i, and an integrated processor 208 as an internal configuration. The acoustic propagation medium 216 is in close contact with the front surface of the array transducer 209, and the acoustic propagation medium 216 contacts the test object 217 through the coupler 218. The defect 214 may exist among the inspection objects 217.

어레이 트랜스듀서(209)는 압전 소자로 이루어진 복수의 압전 소자(221a, 222a, 223a, …, 229a, 230a, 230b, …, 230h)를 매트릭스 형상으로 배치한 것이며, 그 각각의 압전 소자(221a) 등은 구동 소자 선택부(202)의 선택에 의해 구동되는 것이 결정되어 신호 발생부(201)로부터의 구동 신호가 도선에 의해 유도된다. 또한, 각각의 압전 소자(221a) 등이 발생하는 전기 신호는 도선에 의해 신호 검출 회로(204)에 유도된다. 압전 소자(221a) 등이 전기 구동되면 압전체로서의 성질 때문에 초음파가 발생하고, 발생된 초음파는 음향 전파 매체(216)를 통하여 검사 대상(217) 내의 결함(214)에 도달한다. 결함(214)에 의한 초음파 에코는 다시 음향 전파 매체(216)를 통하여 압전 소자(221a) 등에 입력되고, 이것에 의해 각각의 압전 소자(221a) 등은 전기 신호를 발생한다.The array transducer 209 is formed by arranging a plurality of piezoelectric elements 221a, 222a, 223a, ..., 229a, 230a, 230b, ..., 230h made of piezoelectric elements in matrix form, and each of the piezoelectric elements 221a. The back is determined to be driven by the selection of the drive element selector 202 so that the drive signal from the signal generator 201 is guided by the conducting wire. In addition, electrical signals generated by the respective piezoelectric elements 221a and the like are guided to the signal detection circuit 204 by the conducting wires. When the piezoelectric element 221a or the like is electrically driven, ultrasonic waves are generated due to its properties as a piezoelectric body, and the generated ultrasonic waves reach the defect 214 in the inspection object 217 through the acoustic propagation medium 216. The ultrasonic echo caused by the defect 214 is again input to the piezoelectric element 221a or the like through the acoustic propagation medium 216, whereby each piezoelectric element 221a or the like generates an electrical signal.

신호 발생부(201)는 압전 소자(221a) 등이 초음파를 발생하도록 펄스 형상 또는 연속의 구동 신호를 발생하는 것이다. 발생된 구동 신호는 구동 소자 선택부(202)에 유도된다. 구동 소자 선택부(202)는 구동해야 할 1개 또는 복수의 압전 소자(221a) 등을 선택한 후, 신호 발생부(201)로부터 유도된 구동 신호를 선택된 압전 소자(221a) 등에 유도하는 것이다.The signal generator 201 generates a pulse or continuous drive signal so that the piezoelectric element 221a or the like generates ultrasonic waves. The generated drive signal is guided to the drive element selector 202. The drive element selector 202 selects one or more piezoelectric elements 221a or the like to be driven, and then induces a drive signal derived from the signal generator 201 to the selected piezoelectric element 221a or the like.

신호 검출 회로(204)는 압전 소자(221a) 등에서 발생하는 전기 신호를 검출하는 것이다. 검출된 전기 신호 중 검사에 필요한 복수의 것은 각각 증폭기(205a, 205b, …, 205i)에 유도된다.The signal detection circuit 204 detects an electrical signal generated by the piezoelectric element 221a or the like. Among the detected electrical signals, a plurality of pieces required for inspection are guided to the amplifiers 205a, 205b, ..., 205i, respectively.

증폭기(205a, 205b, …, 205i)는 유도된 전기 신호를 각각 증폭하고, 이것을 신호 처리부(270) 내의 A/D 변환기(206a, 206b, …, 206i)에 각각 공급하는 것이다. A/D 변환기(206a, 206b, …, 206i)는 유도된 전기 신호를 A/D 변환하고, 이것을 신호 처리부(270) 내의 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)에 각각 유도하는 것이다.The amplifiers 205a, 205b, ..., 205i amplify the induced electric signals, respectively, and supply them to the A / D converters 206a, 206b, ..., 206i in the signal processing unit 270, respectively. The A / D converters 206a, 206b, ..., 206i perform A / D conversion on the induced electrical signals and induce them to the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i in the signal processing unit 270, respectively.

신호 처리부(270) 내의 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)는 A/D 변환기(206a, 206b, …, 206i)로부터 유도된 디지털 신호를 병렬적으로 처리하고, 각각 화상화 영역의 각 메시로부터의 반사 강도를 특정하는 것이다. 특정된 반사 강도는 통합 프로세서(208)에 의해 통합되어 화상화 정보로 되고, 다시 표시 장치(210)에 유도된다. 표시 장치(210)는 유도된 정보를 표시하는 것이다.The parallel processors 207a, 207b, ..., 207i in the signal processing unit 270 process digital signals derived from the A / D converters 206a, 206b, ..., 206i in parallel, and each mesh in the imaging area, respectively. It is to specify the reflection intensity from the. The specified reflection intensity is integrated by the integrating processor 208 to become the imaging information, and guided back to the display device 210. The display device 210 displays the derived information.

도 8은 신호 처리부(270) 내의 구성을 더 상세하게 나타내는 도면이다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)는 각각 내부 메모리(305a, 305b, …, 305i) 및 연산 회로(306a, 306b, …, 306i)를 갖는다. 또한, 통합 프로세서(208)는 화상 통합 처리부(208a), 경계 추출 처리부(208b), 형상 데이터 기억부(208c), 테이블 데이터 저장부(307)를 갖는다.8 is a diagram showing the configuration of the signal processing unit 270 in more detail. As shown in Fig. 8, the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i each have internal memories 305a, 305b, ..., 305i and arithmetic circuits 306a, 306b, ..., 306i. In addition, the integrated processor 208 includes an image integration processing unit 208a, a boundary extraction processing unit 208b, a shape data storage unit 208c, and a table data storage unit 307.

내부 메모리(305a, 305b, …, 305i)는 각각 A/D 변환기(206a, 206b, …, 206i)로부터 공급된 A/D 변환 신호와 테이블 데이터 저장부(307)로부터 얻은 전파 시간 데이터를 일시적으로 저장하는 것이다. 연산 회로(306a, 306b, …, 306i)는 각각 내부 메모리(305a, 305b, …, 305i)에 저장된 A/D 변환 신호와 전파 시간 데이터로부터 화상화 영역의 각 메시로부터의 반사 강도를 특정하고, 각 메시와 반사 강도를 대응시키는 것이다. 대응된 반사 강도는 화상 통합 처리부(208a)에 공급된다.The internal memories 305a, 305b, ..., 305i temporarily store the A / D conversion signals supplied from the A / D converters 206a, 206b, ..., 206i and the propagation time data obtained from the table data storage unit 307, respectively. To save. The calculation circuits 306a, 306b, ..., 306i specify the reflection intensities from each mesh of the imaging area from the A / D converted signals and the propagation time data stored in the internal memories 305a, 305b, ..., 305i, respectively, Match each mesh with its reflection intensity. The corresponding reflection intensity is supplied to the image integration processor 208a.

화상 통합 처리부(208a)는 공급된 반사 강도를 각 메시마다 가산하여 화상화 정보를 생성하는 것이다. 생성된 화상화 정보는 표시 장치(210)에 유도된다.The image integration processing unit 208a adds the supplied reflection intensities for each mesh to generate the imaging information. The generated imaging information is guided to the display device 210.

경계 추출 처리부(208b)는, 화상 통합 처리부(208a)가 출력하는 결과로부터 검사 대상의 내부에 존재하는 경계를 추출하는 것이다. 추출된 경계에 관한 정보는 테이블 데이터 저장부(307)에 보내진다.The boundary extraction processing unit 208b extracts a boundary existing inside the inspection object from the result output by the image integration processing unit 208a. Information about the extracted boundary is sent to the table data storage unit 307.

형상 데이터 기억부(208c)는 검사 대상(217)에 관한 표면 형상이나 층 구조에 관한 정보를 미리 기억하는 것이다. 기억된 정보는 필요에 따라 테이블 데이터 저장부(307)에 보내진다.The shape data storage unit 208c stores in advance information on the surface shape and the layer structure of the inspection object 217. The stored information is sent to the table data storage unit 307 as necessary.

테이블 데이터 저장부(307)는 압전 소자(221a) 등 사이의 초음파 전파 시간(또는 등가적인 거리일 수도 있음. 이하 동일)을 테이블화하여 미리 저장하여 두는 것이다. 저장된 초음파 전파 시간은, 그 일부 또는 전부가 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)의 내부 메모리(305a, 305b, …, 305i)에 필요에 따라 전송된다. 또한, 테이블 데이터 저장부(307)에 저장된 초음파 전파 시간은, 경계 추출 처리부(208b)가 공급하는 검사 대상에서의 추출된 경계에 관한 정보나 형상 데이터 기억부(208c)가 공급하는 검사 대상(217)에 관한 표면 형상이나 층 구조에 관한 정보에 의해 재설정될 수 있다.The table data storage unit 307 stores a table of the ultrasonic propagation time (or equivalent distance, which is the same below) between the piezoelectric elements 221a and the like, and stores them in advance. Some or all of the stored ultrasonic wave propagation times are transmitted to the internal memories 305a, 305b, ..., 305i of each parallel processor 207a, 207b, ..., 207i as necessary. In addition, the ultrasonic wave propagation time stored in the table data storage unit 307 is the inspection object 217 supplied by the shape data storage unit 208c or information about the extracted boundary from the inspection object supplied by the boundary extraction processing unit 208b. Can be reset by information about the surface shape or layer structure.

다음으로, 도 7 및 도 8에 나타낸 구성에 의한 실제의 동작 및 처리 예를 도 9를 참조하여 설명한다. 도 9는 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i) 내에서 실행되는 처리를 설명하는 설명도이다.Next, an example of the actual operation and the process by the structure shown in FIG. 7 and FIG. 8 is demonstrated with reference to FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining processing executed in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i.

압전 소자(221a) 등을 구동하기 위한 신호가 신호 발생부(201)에서 발생되고, 이것이 구동 소자 선택부(202)에서 선택된 압전 소자(도면에서는 압전 소자(225a))에 유도된다. 이것에 의해, 압전 소자(225a)는 초음파(U)를 발생하고, 발생된 초음파는 음향 전파 매체(216) 및 커플랜트(218)를 통하여 검사 대상(217)에 조사된다.A signal for driving the piezoelectric element 221a or the like is generated in the signal generator 201, which is guided to the piezoelectric element (piezoelectric element 225a in the drawing) selected by the drive element selector 202. As a result, the piezoelectric element 225a generates the ultrasonic waves U, and the generated ultrasonic waves are irradiated to the inspection target 217 through the acoustic propagation medium 216 and the coupler 218.

검사 대상(217)에 조사된 초음파(U)는 그 표면에서 굴절되어 더 진행되고, 예를 들어, 결함(214) 등에서 반사하여 에코로 되어 다시 검사 대상(217)을 통하여 압전 소자(221a) 등에 도달한다.The ultrasonic wave U irradiated to the inspection object 217 is further refracted by the surface thereof, and further progresses, for example, is reflected by the defect 214 or the like to be echoed, and is then returned to the piezoelectric element 221a or the like through the inspection object 217. To reach.

이것에 의해, 압전 소자(221a) 등에서는 전기 신호를 발생한다. 발생된 전기 신호는 신호 검출 회로(204)에 유도되어 검출된다. 신호 검출 회로(204)에서는 검출된 것으로부터 검사에 필요한 전기 신호(도면에서는 압전 소자(221a, …, 229a)가 발생한 것)를 각각 증폭기(205a, …, 205i)에 유도한다. 증폭기(205a, …, 205i)는 각각 유도된 신호를 증폭하고, 이것을 신호 처리부(270) 내의 A/D 변환기(206a, …, 206i)에 공급한다. 또한, A/D 변환기(206a, …, 206i)에서 A/D 변환된 신호 각각이 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)에 공급된다.As a result, the piezoelectric element 221a or the like generates an electric signal. The generated electrical signal is guided to the signal detection circuit 204 and detected. The signal detection circuit 204 induces the electrical signals (piezoelectric elements 221a,..., 229a generated in the figure) from the detected ones to the amplifiers 205a,..., 205i, respectively. The amplifiers 205a, ..., 205i respectively amplify the induced signals and supply them to the A / D converters 206a, ..., 206i in the signal processing unit 270. In addition, each of the signals A / D converted by the A / D converters 206a, ..., 206i is supplied to the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i.

병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)의 각각에서의 처리는 다음과 같이 실행된다. 도 9를 참조하면, 어레이 트랜스듀서(209) 위의 압전 소자(j)(231)가 도 7에서는 초음파를 발하고 있는(=송신측의) 압전 소자(225a)에 상당한다. 또한, 어레이 트랜스듀서(209) 위의 압전 소자(k)(232)가 도 7에서의 각 압전 소자(221a, …, 229a)의 하나(수신측의 압전 소자)에 상당한다.Processing in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i is executed as follows. Referring to FIG. 9, the piezoelectric elements (j) 231 on the array transducer 209 correspond to the piezoelectric elements 225a emitting ultrasonic waves (= on the transmitting side) in FIG. The piezoelectric elements (k) 232 on the array transducer 209 correspond to one of the piezoelectric elements 221a, ..., 229a in FIG. 7 (piezoelectric element on the receiving side).

화상화 영역(240)은 도 7에서의 음향 전파 매체(216)와 검사 대상(217)에 상당하고, 그 중의 화상화 영역(240A)가 음향 전파 매체(216)에, 화상화 영역(240B)이 검사 대상(217)에 각각 상당한다. 화상화 영역(240A, 240B)은 도시하는 바와 같이 각각 3차원으로(또는 간단하게는 보이고 있는 단면의 2차원으로) 메시화되어 포착되고 있다.The imaging area 240 corresponds to the acoustic propagation medium 216 and the inspection object 217 in FIG. 7, and the imaging area 240A includes the imaging area 240B in the acoustic propagation medium 216. Each of these inspection objects 217 corresponds. The imaging areas 240A and 240B are captured and meshed in three dimensions (or simply in two dimensions of the cross section shown) as shown.

또한, 화상화 영역(240A)과 어레이 트랜스듀서(209)는 도 7에 나타낸 바와 같이 면접촉하여 도시되어야 하나, 편의상 분리시켜 도시하고 있다.In addition, the imaging area 240A and the array transducer 209 should be shown in surface contact as shown in FIG. 7, but are shown separated for convenience.

압전 소자(k)(232)가 검출하여 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)의 하나에 입력되는 송수신 에코 강도(P)는, 시간 방향 데이터로서, 예를 들어, 도 9의 중간에 나타낸 바와 같은 시간 이산(離散) 신호이다. 이 시간 이산 신호에서의 샘플링된 강도의 각각은 화상화 영역(240)의 각 메시의 어딘가로부터 반사된 것에 유래한다.Transmitted and received echo strengths P detected by the piezoelectric elements (k) 232 and input to one of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i are temporal data, for example, shown in the middle of FIG. It is a time discrete signal as shown. Each of the sampled intensities in this temporal discrete signal originates from reflection from somewhere in each mesh of imaging area 240.

이 대응을 위해, 전파 시간 테이블 데이터(407)를 이용한다. 이 전파 시간 테이블 데이터(407)는, 도 8에서의 테이블 데이터 저장부(307)에 저장되어 있던 것이다. 전파 시간 테이블 데이터(407)는 송신측의 압전 소자(j)(231)와 수신측의 압전 소자(k)의 조합(j, k)마다 만들어지고, 화상화 영역(240)의 각 메시에 대응하여 (j→i→k)의 전파 시간이 기록된 테이블이다. 도시하는 바와 같이, 여기서는 화상화 영역(240A)에 상당하는 테이블 데이터(271)와 화상화 영역(240B)에 상당하는 테이블 데이터(272)로 되어 있다. 전파 시간 테이블 데이터(407)도 화상화 영역(240)에 대응하여 도시하는 바와 같이 3차원으로(또는 간단하게는 보이고 있는 단면의 2차원으로) 구조화된 것이다.For this correspondence, propagation time table data 407 is used. This propagation time table data 407 is stored in the table data storage unit 307 shown in FIG. The propagation time table data 407 is generated for each combination (j, k) of the piezoelectric elements (j) 231 on the transmitting side and the piezoelectric elements (k) on the receiving side, and corresponds to each mesh of the imaging area 240. The propagation time of (j → i → k) is recorded. As shown in the drawing, the table data 271 corresponds to the imaging area 240A and the table data 272 corresponding to the imaging area 240B. The propagation time table data 407 is also structured in three dimensions (or simply in two dimensions of the cross section shown) as shown corresponding to the imaging area 240.

또한, 예를 들어, 화상화 메시(i)(251)로부터의 반사 강도를 송수신 에코 강도(P)의 데이터로부터 확정할 경우에는, 우선, 화상화 메시(i)(251)에 대응하는 전파 시간 테이블 데이터(407)의 저장 위치로부터 전파 시간(i)(261)을 추출한다. 그리고, 그 전파 시간(i)(261)에 상당하는 시간(t)의 송수신 에코 강도(P)의 샘플링 값을 특정한다. 그 샘플링 값이 화상화 메시(i)(251)로부터의 반사 강도로 된다.For example, when the reflection intensity from the imaging mesh (i) 251 is determined from the data of the transmission / reception echo intensity P, first, the propagation time corresponding to the imaging mesh (i) 251 is obtained. The propagation time (i) 261 is extracted from the storage position of the table data 407. Then, the sampling value of the transmit / receive echo strength P for a time t corresponding to the propagation time i 261 is specified. The sampling value is the reflection intensity from the imaging mesh (i) 251.

동일하게 하여, 화상화 메시(i+1)(252), 화상화 메시(i+2)(253), 화상화 메시(i+3)(254), 화상화 메시(i+4)(255), …에 대해서도 전파 시간(i+1)(262), 전파 시간(i+2)(263), 전파 시간(i+3)(264), …을 이용하여 각각 반사 강도를 확정할 수 있다.Similarly, imaging mesh (i + 1) 252, imaging mesh (i + 2) 253, imaging mesh (i + 3) 254, imaging mesh (i + 4) 255 ),… The propagation time (i + 1) 262, the propagation time (i + 2) 263, the propagation time (i + 3) 264,. The reflection intensity can be determined by using

이상과 같은 각 메시에 대한 반사 강도의 확정은 신호 처리부(270) 내에서 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)마다 수신측의 압전 소자(k)(232)의 k 값을 바꾸어 병렬로 실행된다. 그리고, 이들의 결과는 화상 통합 처리부(208a)로 보내져 메시마다 가산된다. 즉, 상술한 처리에서는, 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i)에서 병렬 처리가 실행되므로, 매우 고속의 처리가 실현된다.The determination of the reflection intensity for each mesh as described above is performed in parallel by changing the k value of the piezoelectric elements (k) 232 on the receiving side in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i in the signal processing unit 270. Is executed. These results are sent to the image integration processing unit 208a and added to each mesh. In other words, in the above-described processing, since parallel processing is executed in the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i, a very high speed processing is realized.

또한, 최종적인 화상은, 예를 들어, 송신측의 압전 소자(j)(231)와 수신측의 압전 소자(k)의 모든 조합에 대해서 상기 처리가 종료된 시점에서 얻어지게 된다. 간단화로서는, 예를 들어, 1열의 송신측의 압전 소자(j)(231)와 수신측의 압전 소자(k)의 모든 조합에 대해서 상기 처리를 종료한 시점으로 할 수도 있다. 이들의 결과는 표시 장치(210) 위에 표시된다. 즉, 결함(214)이 있으면 그 영역으로부터의 초음파(U)의 반사 강도가 커지므로, 화상화된 결과는 그 위치와 정도를 반영한다.Further, the final image is obtained, for example, for all combinations of the piezoelectric element (j) 231 on the transmitting side and the piezoelectric element k on the receiving side at the time when the processing ends. For the sake of simplicity, for example, all combinations of the piezoelectric elements (j) 231 on the transmitting side and the piezoelectric elements k on the receiving side can be regarded as the time point at which the processing is finished. These results are displayed on the display device 210. That is, the presence of the defect 214 increases the reflection intensity of the ultrasonic wave U from the area, and therefore the imaged result reflects its position and degree.

전파 시간 테이블 데이터(407)는, 미리 화상화 영역(240A, 240B)의 재질 차이를 고려하여 굴절 계산을 행하여 전파 경로를 특정함으로써 작성하여 둘 수 있다. 여기서는, 화상화 영역(240A)과 화상화 영역(240B)의 재질 차이에 의해 그 계면에서 도시하는 바와 같이 굴절이 발생하나, 이 굴절이 가미되어 (j→i→k)의 전파 시간을 구할 수 있다.The propagation time table data 407 can be created by specifying the propagation path by performing refractive calculation in consideration of the material difference of the imaging regions 240A and 240B in advance. Here, refraction occurs as shown at the interface due to the material difference between the imaging area 240A and the imaging area 240B, but this refraction is added to obtain a propagation time of (j → i → k). have.

또한, 전파 시간 테이블 데이터(407)는, 초기적으로는 도 8에서의 테이블 데이터 저장부(307)에 저장되어 있으나, 실제의 처리에서는 내부 메모리(305a, 305b, …, 305i)에 필요 부분이 전송되어 이용된다. 전송하는 구성으로 함으로써, 내부 메모리(305a, 305b, …, 305i)로서 고속의 메모리를 사용하여 전체적으로 보다 고속의 처리에 기여할 수 있다.The propagation time table data 407 is initially stored in the table data storage unit 307 shown in FIG. 8, but in the actual processing, necessary portions are stored in the internal memories 305a, 305b, ..., 305i. Transmitted and used. By setting it as a structure to transmit, it can contribute to a faster process as a whole by using a high speed memory as internal memory 305a, 305b, ..., 305i.

다음으로, 도 7 및 도 8에 나타낸 구성에 의한 실제의 동작 및 처리의 다른 예를 도 10을 참조하여 설명한다. 도 10은 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i) 내에서 실행되는 처리의 다른 예를 설명하는 설명도이며, 도 9에서 설명한 부분에는 동일 부호가 첨부되어 있다. 이하 중복을 회피하여 설명한다.Next, another example of the actual operation and processing by the configuration shown in Figs. 7 and 8 will be described with reference to Fig. 10. FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining another example of processing executed in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i, and the same reference numerals are attached to the parts described in FIG. This will be described below by avoiding duplication.

이 처리 예에서는, 전파 시간 테이블 데이터(407) 대신에, 송신측의 압전 소자(j)(231)와 수신측의 압전 소자(k)의 조합(j, k)에 의하지 않고 공통이며, 또한 편도의 전파 시간이 저장된 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)를 이용한다. 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)는 화상화 영역(240A)에 상당하는 테이블 데이터(296)와 화상화 영역(240B)에 상당하는 테이블 데이터(297)로 되어 있다.In this example of processing, instead of the propagation time table data 407, the common piezoelectric element j (231) and the piezoelectric element (k) of the receiving side (j, k) are common and one-way. One-way propagation time table data 295 in which the propagation time is stored is used. The one-way propagation time table data 295 includes table data 296 corresponding to the imaging area 240A and table data 297 corresponding to the imaging area 240B.

이러한 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)일지라도, 검사 대상(217)에 형상적 대칭성이나 평면적인 표면성이 있을 경우에는 이용할 수 있다. 이것은 송신측이면, 차((j-i) 값에 의해, 즉, 개별의 j 값에 의하지 않고 일률적인 전파 시간을 상정할 수 있기 때문이다. 마찬가지로, 수신측이면, 차(i-k) 값에 의해, 즉, 개별의 k 값에 의하지 않고 일률적인 전파 시간을 상정할 수 있기 때문이다.Even such one-way propagation time table data 295 can be used when the inspection object 217 has a geometric symmetry or a planar surface. This is because, on the transmitting side, a uniform propagation time can be assumed based on the difference (ji) value, that is, not on the individual j value. Similarly, on the receiving side, the difference (ik) value, i.e. This is because a uniform propagation time can be assumed regardless of the individual k values.

또한, 예를 들어, 화상화 메시(i)(251)로부터의 반사 강도를 송수신 에코 강도(P)의 데이터로부터 확정할 경우에는, 우선, 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)로부터 (j-i)을 인수(引數)로 송신측 전파 시간(j-i)(281)을 추출한다. 마찬가지로, 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)로부터 (i-k)를 인수로 수신측 전파 시간(i-k)(291)을 추출한다. 그리고, 송신측 전파 시간(j-i)(281)과 수신측 전파 시간(i-k)(291)을 가산하고, 가산값에 상당하는 시간(t)의 송수신 에코 강도(P)의 샘플링 값을 특정한다. 그 샘플링 값이 화상화 메시(i)(251)로부터의 반사 강도로 된다.For example, in the case where the reflection intensity from the imaging mesh (i) 251 is determined from the data of the transmission / reception echo intensity P, first, the ji is acquired from the one-way propagation time table data 295. The sender propagation time (ji) 281 is extracted by (zine). Similarly, the reception side propagation time (i-k) 291 is extracted from the one-way propagation time table data 295 using (i-k) as a factor. Then, the transmission propagation time j-i 281 and the reception propagation time i-k 291 are added, and the sampling value of the transmission / reception echo intensity P of the time t corresponding to the addition value is specified. The sampling value is the reflection intensity from the imaging mesh (i) 251.

동일하게 하여, 화상화 메시(i+1)(252), 화상화 메시(i+2)(253), 화상화 메시(i+3)(254), 화상화 메시(i+4)(255), …에 대해서도 전파 시간(j-i+1)(282), 전파 시간(j-i+2)(283), …과, 전파 시간(i+1-k)(292), 전파 시간(i+2-k)293, …을 이용하여 각각 반사 강도를 확정할 수 있다.Similarly, imaging mesh (i + 1) 252, imaging mesh (i + 2) 253, imaging mesh (i + 3) 254, imaging mesh (i + 4) 255 ),… The propagation time (j-i + 1) 282, the propagation time (j-i + 2) 283,. And propagation time (i + 1-k) 292, propagation time (i + 2-k) 293,... The reflection intensity can be determined by using

상술한 바와 같이, 이 예에서는, 전파 시간 테이블 데이터(407) 대신에, 송신측의 압전 소자(j)(231)와 수신측의 압전 소자(k)의 조합(j, k)에 의하지 않고 공통이며, 또한 편도의 전파 시간이 저장된 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)를 이용하므로, 필요한 저장 영역을 각별하게 삭감할 수 있다.As described above, in this example, instead of the propagation time table data 407, it is common regardless of the combination (j, k) of the piezoelectric element (j) 231 on the transmitting side and the piezoelectric element k on the receiving side. In addition, since the one-way propagation time table data 295 in which the one-way propagation time is stored is used, the required storage area can be significantly reduced.

또한, 이러한 저장 영역의 삭감은 다음의 방책을 강구함으로써 행할 수도 있다. 즉, 도 10에 도시된 기준 압전 소자(238)로부터 발생되는 초음파에는 지향성이 있기 때문에, 송수신 가능 범위(239)로부터 벗어난 범위에 상당하는 저장 영역을 준비하여 둘 필요는 없다. 이러한 범위에는 저장 영역을 부여하지 않도록 한다(또한, 도면에서 기준 압전 소자(238)를 왼쪽 상측에 있는 것으로 하여 상측 중앙으로 하지 않은 것은, 좌우의 대칭성을 이용하고 있기 때문이다).In addition, this storage area can be reduced by taking the following measures. That is, since the ultrasonic waves generated from the reference piezoelectric element 238 shown in FIG. 10 have directivity, it is not necessary to prepare a storage area corresponding to a range outside the transmit / receive range 239. In such a range, a storage area is not provided (in addition, since the reference piezoelectric element 238 is located on the upper left side in the figure and is not set on the upper center, the left and right symmetry is used).

다음으로, 도 7 및 도 8에 나타낸 구성에 의한 실제의 동작 및 처리 예에 대해서 몇 가지 보충한다.Next, some supplementary examples of the actual operation and processing by the configuration shown in FIGS. 7 and 8 will be given.

전파 시간 테이블 데이터(407)나 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)를 작성할 때에는, 압전 소자(221a) 등의 지향 특성을 고려하여 이들 테이블 데이터에 전파 시간과 더불어 지향성에 의한 감도 분포 데이터를 저장하도록 할 수도 있다. 이렇게 하면, 감도가 낮아지는 초음파의 사각 성분의 게인을 보정하고, 정밀도 향상에 기여하도록 사각 성분의 에코 데이터를 사용할 수 있게 된다.When creating the propagation time table data 407 or the one-way propagation time table data 295, in consideration of the directivity characteristics of the piezoelectric element 221a or the like, the propagation time and sensitivity distribution data due to directivity are to be stored in these table data. It may be. In this way, the gain of the square component of the ultrasonic wave whose sensitivity is lowered can be corrected, and the echo data of the square component can be used to contribute to the improvement in accuracy.

또한, 전파 시간 테이블 데이터(407)나 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)를 작성할 때에는, 검사 대상으로서 고체 또는 액체로 이루어진 음향 전파 매체의 단일 층을 가정하여 이것에 테이블 데이터를, 데이터 부여 수단으로서의 통합 프로세서(208)에서 초기 설정하도록 할 수도 있다(또한, 이를 위한 통합 프로세서(208) 내의 구성에 대해서는 도시 생략). 이 처리 설정에 의해 얻어진 결과를 화상화하면, 음향 전파 매체(216)와 참의 검사 대상(217)의 경계면(즉, 불연속면 또는 불연속선)의 추출 및 검출이 가능하다(처리는 경계 추출 처리부(208b)에서 행함). 이것은 가정과 실제의 결과가 경계면의 존재 위치에 따라 상이하기 때문에, 경계면의 존재 및 위치를 특정할 수 있기 때문이다.In addition, when creating the propagation time table data 407 or the one-way propagation time table data 295, it is assumed that a single layer of an acoustic propagation medium made of a solid or a liquid is used as the inspection object, and the table data is incorporated as data providing means. Initial setting may be made in the processor 208 (also not shown for the configuration within the integrated processor 208 for this). By imaging the result obtained by this process setting, it is possible to extract and detect the interface (i.e., discontinuous surface or discontinuous line) between the acoustic propagation medium 216 and the true inspection object 217 (process is boundary extraction processing unit 208b). )). This is because the assumptions and actual results differ depending on the existence position of the interface, so that the existence and position of the interface can be specified.

그리고, 이 경계면의 특정에 의거하여 통합 프로세서(208)가 상기 각 테이블 데이터(407, 295)를 재설정하고(또한, 이를 위한 통합 프로세서(208) 내의 구성에 대해서는 도시 생략), 재설정된 각 테이블 데이터(407, 295)를 이용함으로써, 검사 대상(217)의 위치 및 형상이 변화할 경우의 화상화에 대응할 수 있다.Then, based on the specification of this interface, the integrated processor 208 resets the respective table data 407 and 295 (also not shown for the configuration in the integrated processor 208 for this), and reset each table data. By using 407 and 295, it is possible to cope with imaging when the position and shape of the inspection target 217 change.

또한, 참의 검사 대상(217)의 형상이 복잡한 경우에 대비하여, 미리 형상 데이터를 형상 데이터 기억부(208c)에 기억하고, 이 기억된 형상 데이터를 가미하여 전파 시간 테이블 데이터(407)나 편도 전파 시간 테이블 데이터(295)를 재설정하도록 동작시킬 수도 있다.In addition, in case the shape of the true inspection object 217 is complicated, the shape data is stored in advance in the shape data storage unit 208c, and the propagation time table data 407 or one-way is added to the stored shape data. The propagation time table data 295 may be operated to reset.

(제 7 실시예)(Example 7)

다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 초음파 검사 장치를 도면을 참조하여 설명한다.Next, an ultrasound inspection apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 11은 본 발명의 제 7 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 모식도이다. 도 11에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 검사 장치는 매트릭스 형상 또는 일렬로 배치한 다수의 압전 소자로 이루어진 초음파 트랜스듀서인 어레이 트랜스듀서(506), 송수신 전환 장치(508), 화상 합성 장치(509), 표시 장치(510)를 갖고, 용기(501) 내의 물(502)에 침지된 피검체(503) 내의 결함(504)을 가시화하여 나타낼 수 있다. 어레이 트랜스듀서(506)의 앞면에는 평판 형상의 슈재(505)가 커플랜트(507)를 통하여 밀착 고정되어 있다. 또한, 용기(501) 내에 반사체(513) 및 고정 스탠드(fixing stand)(515)가 설치되어 있다.It is a schematic diagram explaining the structure of the ultrasonic inspection apparatus which concerns on 7th Example of this invention. As shown in Fig. 11, the ultrasonic inspection apparatus is an array transducer 506, an ultrasonic transducer composed of a plurality of piezoelectric elements arranged in a matrix or in a line, a transmission / reception switching device 508, an image synthesizing device 509, The defect 504 in the object 503 which has the display apparatus 510 and is immersed in the water 502 in the container 501 can be visualized and shown. A flat shoe member 505 is tightly fixed to the front surface of the array transducer 506 through the coupler 507. In addition, a reflector 513 and a fixing stand 515 are provided in the container 501.

용기(501)는 물(502) 및 피검체(503)를 수용하는 용기이며, 물(502)에 침지한 상태에서 피검체(503)를 초음파에 의해 검사하기 위한 것이다.The container 501 is a container that accommodates the water 502 and the object 503, and is for inspecting the object 503 by ultrasonic waves in the state immersed in the water 502.

물(502)은 초음파를 전파하는 액체의 음향 매체의 일종이다. 즉, 액체 음향 매체로서는 물(502) 이외의 액체, 예를 들어, 기름 등을 사용할 수 있다.Water 502 is a kind of liquid acoustic medium that propagates ultrasonic waves. That is, a liquid other than water 502, for example, oil, may be used as the liquid acoustic medium.

피검체(503)는 초음파에 의해 내부 상태를 검사하고, 결함(504)(예를 들어, 보이드, 결합의 박리 등)의 유무 등의 검사가 실행되는 검사 대상이다. 또한, 피검체(503)는 고정 스탠드(515)에 의해 용기(501) 내에서 위치 결정되어 고정된다.The object 503 is an inspection object that inspects an internal state by ultrasonic waves, and inspects the presence or absence of a defect 504 (eg, removal of voids, bonding, etc.). In addition, the subject 503 is positioned and fixed in the container 501 by the fixed stand 515.

슈재(505)는 평판 형상의 고체로 이루어진 음향 매체(고체 음향 매체)이며, 어레이 트랜스듀서(506)와 피검체(503) 사이에서의 초음파의 전파 경로의 일부가 되고, 예를 들어, 플라스틱, 금속 등 적절한 재료로 구성할 수 있다.The shoe material 505 is an acoustic medium (solid acoustic medium) made of a flat plate-shaped solid, and becomes part of the propagation path of ultrasonic waves between the array transducer 506 and the object 503, for example, plastic, It can be comprised from suitable materials, such as a metal.

어레이 트랜스듀서(506)는 압전 소자로서 기능하는 것이며, 복수의 압전 소자(520)가 어레이 형상으로 배열되어 있다. 압전 소자(520)는 전기를 압력으로, 압력을 전기로 변환하는 변환 소자이며, 초음파를 발신하는 동시에, 피검체(503) 중의 결함(504) 등으로부터 반사되는 반사 초음파(X)를 수신할 수 있다.The array transducer 506 functions as a piezoelectric element, and a plurality of piezoelectric elements 520 are arranged in an array shape. The piezoelectric element 520 is a conversion element that converts electricity into pressure and pressure into electricity, and can transmit ultrasonic waves and receive reflected ultrasonic waves X reflected from defects 504 and the like in the object 503. have.

반사체(513)는 반사부로서 기능하고, 소정의 압전 소자(520)로부터 송신된 초음파를 반사하여 그 전파 방향을 변화시키며, 피검체(503)의 측방으로부터 입사시킨다.The reflector 513 functions as a reflector, reflects the ultrasonic wave transmitted from the predetermined piezoelectric element 520, changes its propagation direction, and makes it enter from the side of the object 503.

커플랜트(507)는 슈재(505)와 어레이 트랜스듀서(506) 사이의 음향적인 결합 상태를 향상시키기 위한 매개이며, 통상은 적당한 점성을 갖는 반유동체의 음향 매체, 일례로서 글리세린을 사용할 수 있다. 슈재(505)와 어레이 트랜스듀서(506) 사이에 커플랜트(507)를 개재시킴으로써, 슈재(505)와 어레이 트랜스듀서(506) 사이에서의 초음파 전달이 효율적으로 실행되고, 또한, 슈재(505) 및 어레이 트랜스듀서(506) 각각의 계면에서의 초음파 반사(일종의 잡음)가 저감된다.The coupler 507 is a medium for improving the acoustic coupling state between the shoe material 505 and the array transducer 506, and typically, glycerin may be used as an acoustic medium of a semi-fluid having moderate viscosity. By interposing the coupler 507 between the shoe material 505 and the array transducer 506, the ultrasonic transfer between the shoe material 505 and the array transducer 506 is efficiently performed, and the shoe material 505 is provided. And ultrasonic reflection (a kind of noise) at the interface of each of the array transducers 506 is reduced.

송수신 전환 장치(508)는 어레이 트랜스듀서(506) 내의 복수의 압전 소자(520)로부터 초음파를 송신 및 수신하는 소자의 선택 등을 행하는 장치이며, 구동 소자 선택부(521), 신호 발생부(522), 신호 검출 회로(523), 증폭기(524)를 갖는다.The transmission / reception switching device 508 is a device for selecting an element that transmits and receives an ultrasonic wave from the plurality of piezoelectric elements 520 in the array transducer 506, and includes a driving element selecting unit 521 and a signal generating unit 522. ), A signal detection circuit 523, and an amplifier 524.

구동 소자 선택부(521)는 신호 발생 회로로서 기능하는 것이며, 신호 발생부(522)가 발생한 전기 신호를 입력시키고, 초음파를 발생시키는 압전 소자(520)를 선택하기 위한 선택 회로이다.The drive element selection unit 521 functions as a signal generation circuit, and is a selection circuit for inputting an electric signal generated by the signal generation unit 522 and selecting the piezoelectric element 520 for generating ultrasonic waves.

신호 발생부(522)는 압전 소자(520)에 초음파를 발생시키기 위한 전기 신호를 발생하기 위한 것이며, 통상적으로 발진 회로를 포함한다.The signal generator 522 is for generating an electrical signal for generating ultrasonic waves in the piezoelectric element 520, and typically includes an oscillation circuit.

신호 검출 회로(523)는 검출부로서 기능하는 것이며, 초음파를 수신함으로써 압전 소자(520) 각각이 발생한 전기 신호를 검출하는 검출 회로이다. 이 검출 시에, 압전 소자(520)를 적절히 선택할 수 있고, 선택된 압전 소자(520)에 대응하는 전기 신호가 증폭기(524)에 보내진다. 이 때, 복수의 압전 소자(520)의 선택을 가능하게 하여, 신호 처리의 병렬성 향상을 도모하고 있다.The signal detection circuit 523 functions as a detection unit, and is a detection circuit that detects an electrical signal generated by each of the piezoelectric elements 520 by receiving ultrasonic waves. At the time of this detection, the piezoelectric element 520 can be selected suitably, and the electrical signal corresponding to the selected piezoelectric element 520 is sent to the amplifier 524. At this time, the plurality of piezoelectric elements 520 can be selected, and the parallelism of the signal processing is improved.

증폭기(524)는 신호 검출 회로(523)에 의해 검출된 신호를 증폭하기 위한 것이며, 신호 검출 회로(523)로부터의 출력 수(선택된 압전 소자(520)의 수)에 대응하는 개수분의 증폭 소자가 존재한다.The amplifier 524 is for amplifying a signal detected by the signal detection circuit 523, and an amplifier element corresponding to the number of outputs from the signal detection circuit 523 (the number of the selected piezoelectric elements 520). Is present.

즉, 송수신 전환 장치(508)는 압전 소자(520)로부터 반사 초음파(X)(초음파 에코(X))를 수신하는 수신 소자를 선택하고, 선택된 압전 소자(520)에서 발생한 전기 신호(E)를 증폭한 후에 화상 합성 장치(509)에 차례로 송신한다.That is, the transmission / reception switching device 508 selects a reception element that receives the reflected ultrasonic wave X (ultrasound echo X) from the piezoelectric element 520, and transmits the electrical signal E generated by the selected piezoelectric element 520. After amplification, the signals are sequentially transmitted to the image synthesizing apparatus 509.

화상 합성 장치(509)는 화상을 생성하는 화상 생성부로서 기능하는 것이며, A/D 변환기(525) 및 병렬 프로세서(526)를 갖는다. A/D 변환기(525)는 신호 검출 회로(523)에서 수신한 전기 신호를 아날로그 디지털 변환한다.The image synthesizing apparatus 509 functions as an image generating unit for generating an image, and has an A / D converter 525 and a parallel processor 526. The A / D converter 525 analog-to-digital converts the electrical signal received by the signal detection circuit 523.

병렬 프로세서(526)는 음속 보정부 및 화상 생성부로서 기능하는 것이며, A/D 변환기(525)에 의해 디지탈화된 신호에 의거하여, 검사 대상의 상태를 가시화하기 위한 신호 처리를 행하는 신호 처리부이다.The parallel processor 526 functions as a sound speed correcting unit and an image generating unit, and is a signal processing unit that performs signal processing for visualizing the state of the inspection object based on the signal digitalized by the A / D converter 525.

표시 장치(510)는 화상 합성 장치(509)로부터 유도된 정보를 표시하는 표시 장치이며, 예를 들어, CRT 및 액정 표시 장치를 이용할 수 있다.The display device 510 is a display device that displays information derived from the image synthesizing device 509. For example, a CRT and a liquid crystal display device can be used.

(초음파 검사 장치의 동작)(Operation of Ultrasonic Testing Equipment)

이하, 초음파 검사 장치의 동작을 설명한다.The operation of the ultrasonic inspection apparatus will be described below.

(1) 신호 발생부(522)로부터 구동 소자 선택부(521)를 거쳐 압전 소자(520)에 입력된 전기 신호에 의해 압전 소자(520)로부터 초음파가 송신된다. 압전 소자(520)로부터 송신된 초음파는 슈재(505) 및 물(502)을 통하여 피검체(503) 내의 결함(504)에 도달한다. 이 초음파는 결함(504)에 의해 반사되어 반사 초음파(X)로 되고, 다시 물(502)과 슈재(505)를 통하여 압전 소자(520)에 수신된다.(1) Ultrasonic waves are transmitted from the piezoelectric element 520 by an electric signal input from the signal generator 522 to the piezoelectric element 520 via the driving element selector 521. Ultrasonic waves transmitted from the piezoelectric element 520 reach the defect 504 in the object 503 through the shoe material 505 and the water 502. This ultrasonic wave is reflected by the defect 504 to become the reflected ultrasonic wave X, and is again received by the piezoelectric element 520 through the water 502 and the shoe material 505.

(2) 수신한 반사 초음파(X)에 의해 각각의 압전 소자(520)로부터 발생한 전기 신호가 신호 검출 회로(523), 증폭기(524), A/D 변환기(525)에 의해 검출, 증폭, 디지털 변환되고, 병렬 프로세서(526)에 의해 화상 합성 처리된다.(2) The electrical signals generated from the respective piezoelectric elements 520 by the received reflected ultrasonic wave X are detected, amplified, and digitalized by the signal detection circuit 523, the amplifier 524, and the A / D converter 525. The image is converted and processed by the parallel processor 526.

이 화상 합성 처리는 초음파의 송신으로부터 수신까지의 송수신 전파 시간(td) 및 반사 초음파(X)의 강도(진폭값)(Ad)를 이용한 개구 합성 처리에 의해 행할 수 있다.This image combining process can be performed by the aperture combining process using the transmission / reception propagation time td from the transmission of the ultrasonic wave to the reception and the intensity (amplitude value) Ad of the reflected ultrasonic wave X.

즉, 초음파의 발신 위치와 수신 위치를 초점으로 하는 송수신 전파 시간(td)에 대응하는 거리가 일정한 타원면(등거리 전파면(512)) 위에 피검체(503)의 초음파 반사원(예를 들어, 결함(504))이 있기 때문에, 서로 다른 발신 위치 및 수신 위치에서의 타원면의 교차하는 위치가 반사원 위치로 되고, 다수의 발신 위치(압전 소자(520))와 수신 위치(압전 소자(520))의 조합에서의 타원면 중첩(가산)을, 예를 들어, 3차원 화상 메모리 상에서 행함으로써 피검체(503) 내부의 화상을 재구성할 수 있다.That is, an ultrasonic reflection source (for example, a defect) of the subject 503 on an ellipsoidal surface (equal-distance propagation surface 512) having a constant distance corresponding to the transmission / reception propagation time td that focuses on the transmitting position and the receiving position of the ultrasonic wave 504), the intersections of the ellipsoids at different transmission positions and reception positions become reflection source positions, and a plurality of transmission positions (piezoelectric elements 520) and receiving positions (piezoelectric elements 520) are provided. The ellipsoidal superposition (addition) in the combination of, for example, can be reconstructed on the three-dimensional image memory to reconstruct the image inside the object 503.

구체적으로는, 송신측 및 수신측 각각에서 선택된 한 쌍의 압전 소자(520)마다 송수신 전파 시간(td)에 대응한 등거리 전파면(512)을 계산하고, 계산된 등거리 전파면(512) 위에 반사 초음파(X)의 진폭값(Ad)을 가산한다. 송신측 및 수신측 각각에서 선택된 압전 소자(520)의 조합 각각에 대응하는 복수의 등거리 전파면(512)이 산출되고, 이들 복수의 등거리 전파면(512) 위에서의 반사 초음파(X)의 진폭값이 가산됨으로써, 피검체(503)의 화상을 그 내부의 결함(504) 등을 포함하여 생성할 수 있다.Specifically, the equidistant propagation surface 512 corresponding to the transmission / reception propagation time td is calculated for each pair of piezoelectric elements 520 selected on the transmission side and the reception side, respectively, and reflected on the calculated equidistant propagation surface 512. The amplitude value Ad of the ultrasonic wave X is added. A plurality of equidistant propagation surfaces 512 corresponding to each of the combinations of piezoelectric elements 520 selected on each of the transmitting and receiving sides are calculated, and the amplitude values of the reflected ultrasonic waves X on the plurality of equidistant propagation surfaces 512 are calculated. By this addition, the image of the subject 503 can be generated including the defect 504 and the like therein.

송수신 전파 시간(td)은 초음파의 송신으로부터 반사 초음파(X)를 수신할 때까지 필요한 시간이며, 송신측의 압전 소자(520)로부터 초음파를 송신시킨 시각(t1)과 수신측의 압전 소자(520)가 초음파를 수신한 시각(t2)의 차(t2-t1)이다.The transmission / reception propagation time td is a time required from the transmission of the ultrasonic wave to the reception of the reflected ultrasonic wave X, the time t1 at which the ultrasonic wave is transmitted from the piezoelectric element 520 on the transmitting side, and the piezoelectric element 520 on the receiving side. Is the difference t2-t1 of the time t2 at which the ultrasonic wave was received.

(3) 송수신 전파 시간(td)으로부터 등거리 전파면(512)을 계산할 때에, 「슈재(505)와 물(502)의 계면」과 「피검체(503)와 물(502)의 계면」의 양 계면에서의 굴절을 가미하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 다음 식 (1) 및 (2)에 표시되는 스넬 식을 고려하여, 등거리 전파면(512)이 보다 정밀하게 산출된다.(3) When calculating the equidistant propagation surface 512 from the transmission / reception propagation time td, the amount of “the interface between the shoe material 505 and the water 502” and the “interface between the object 503 and the water 502” It is preferable to add refraction at the interface. Specifically, the equidistant propagation surface 512 is calculated more precisely in consideration of the Snell's formula shown in the following formulas (1) and (2).

C5/sinθ52=C2/sinθ25 … 식 (1)C 5 / sin θ 52 = C 2 / sin θ 25. Formula (1)

C2/sinθ23=C3/sinθ32 … 식 (2)C 2 / sin θ 23 = C 3 / sin θ 32. Formula (2)

여기서, C5 : 슈재(505) 중에서의 초음파 속도Here, C5: the ultrasonic velocity in the shoe material 505

C2 : 물(502) 중에서의 초음파 속도C2: ultrasonic velocity in water 502

C3 : 피검체(503) 중에서의 초음파 속도C3: ultrasonic velocity in the subject 503

θ52 : 슈재(505)로부터 물(502)로의 초음파 입사(출사)각θ52: Ultrasonic Incident (Emission) Angle from the Shoe Material 505 to the Water 502

θ25 : 슈재(505)로부터 물(502)로의 초음파 출사(입사)각θ25: Ultrasonic emission (incidence) angle from the shoe material 505 to the water 502

θ23 : 물(502)로부터 피검체(503)로의 초음파 입사(출사)각θ23: Ultrasonic Incident (Emission) Angle from the Water 502 to the Subject 503

θ32 : 물(502)로부터 피검체(503)로의 초음파 출사(입사)각θ32: Ultrasonic emission (incident) angle from the water 502 to the subject 503

이다.to be.

(4) 용기(501) 내에 고정시킨 반사체(513)에 의해, 압전 소자(520)로부터 송신한 초음파를 수평 방향으로 반사시켜, 피검체(503)의 측면에 수평 방향 계측용 초음파(Z)를 입사시킬 수 있다. 이 수평 방향 계측용 초음파(Z)는 피검체(503)의 측면이나 그 내부의 결함(504) 등에서 반사되어, 압전 소자(520)에서 수신되고, 병렬 프로세서(526)에서의 화상 합성 처리에 이용할 수 있다.(4) The ultrasonic wave transmitted from the piezoelectric element 520 is reflected in the horizontal direction by the reflector 513 fixed in the container 501, and the horizontal direction ultrasonic wave Z is applied to the side surface of the to-be-tested object 503. Can be incident. This horizontal direction measurement ultrasonic wave Z is reflected from the side surface of the subject 503, the defect 504 inside, etc., is received by the piezoelectric element 520, and used for the image synthesis process by the parallel processor 526. Can be.

이와 같이, 수평 방향 계측용 초음파(Z)의 데이터를 수용함으로써, 피검체(503)의 측면이나 그 내부의 결함(504)의 수평 위치 계측, 또는 수평 방향으로부터의 화상화를 동시에 행할 수 있다.Thus, by accommodating the data of the horizontal direction measurement ultrasonic wave Z, the horizontal position measurement of the side surface of the to-be-tested object 503 and the defect 504 inside, or imaging from a horizontal direction can be performed simultaneously.

또한, 이 수평 방향 계측용 초음파(Z)의 송신 및 수신을 행하는 압전 소자(520)를 반사 초음파(X)의 송신 및 수신을 행하는 압전 소자(520)와 구분하여 둠으로써, 반사 초음파(X)에 의한 피검체(503)의 정면 방향 화상과 수평 방향 계측용 초음파(Z)에 의한 피검체(503)의 측면 방향 화상을 구분하는 것이 용이해진다. 또한, 표시 장치(510)에서의 표시 시에, 이렇게 구분된 정면 화상 및 측면 화상을 서로 다른 표시 색으로 표시함으로써, 화상의 식별을 용이하게 행할 수 있다.In addition, the piezoelectric element 520 which transmits and receives the horizontal measurement ultrasonic wave Z is distinguished from the piezoelectric element 520 which transmits and receives the reflected ultrasound X, thereby making the reflected ultrasound X It becomes easy to distinguish the front direction image of the subject 503 by the horizontal direction image of the subject 503 by the horizontal direction measurement ultrasonic wave Z. In the display on the display device 510, the front image and the side image thus divided can be displayed in different display colors, so that the image can be easily identified.

(5) 물(502) 중에서의 음속은 수온 등에 의해 변동하기 때문에, 초음속을 보정함으로써 보다 정밀한 화상을 생성할 수 있다.(5) Since the speed of sound in the water 502 fluctuates due to water temperature or the like, a more precise image can be generated by correcting the supersonic speed.

이 보정은 물(502) 중에서의 초음속 값 자체를 화상 합성 장치(509)에 입력하여 기억시킴으로써 행할 수도 있으나, 피검체(503) 또는 고정 스탠드 표면으로부터의 반사 초음파(X)의 송수신 전파 시간(td)에 의거하여 행할 수도 있다.This correction can be performed by inputting and storing the supersonic value itself in the water 502 into the image synthesizing apparatus 509, but the transmission / reception propagation time td of the reflected ultrasonic wave X from the surface of the subject 503 or the fixed stand. It can also be carried out based on).

슈재(505)의 두께(d5), 슈재(505)로부터 피검체(503) 표면까지의 거리(L), 및 슈재(505) 중에서의 음속(C5)을 이미 알고 있을 때에, 물(502) 중에서의 음속(C2)은 다음 식 (3)에 의해 산출할 수 있다.In the water 502, when the thickness d5 of the shoe material 505, the distance L from the shoe material 505 to the surface of the object 503, and the sound velocity C5 in the shoe material 505 are already known. Can be calculated by the following equation (3).

td=2·(d5/C5)+2·(L/C2) … 식 (3)td = 2 (d5 / C5) + 2 (L / C2). Formula (3)

여기서, 피검체(503)의 표면 형상의 특징(예를 들어, 평면 및 곡면)에 의거하여, 합성 화상의 화상 해석에 의해 피검체(503) 표면을 추출함으로써, 물(502) 중에서의 음속을 자동적으로 보정할 수 있게 된다. 구체적으로는, 합성 화상을 2치화 등 함으로써, 피검체(503)의 윤곽을 추출하고, 이 윤곽으로부터 압전 소자(520)에 가까운 점을 선택하며, 이 점에 대응하는 송수신 전파 시간(td)을 구하여, 물(502) 중에서의 음속(C2)의 보정을 행한다.Here, the sound velocity in the water 502 is extracted by extracting the surface of the object 503 by image analysis of the synthesized image based on the characteristics of the surface shape of the object 503 (for example, a plane and a curved surface). The correction will be made automatically. Specifically, by binarizing the synthesized image, the outline of the subject 503 is extracted, a point close to the piezoelectric element 520 is selected from the outline, and the transmission / reception propagation time td corresponding to this point is determined. Then, the speed of sound C2 in the water 502 is corrected.

(제 8 실시예)(Example 8)

도 12는 본 발명의 제 8 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 모식도이다. 도 12에 나타낸 바와 같이, 이 초음파 검사 장치는 어레이 트랜스듀서(506)를 수신 전용으로서 이용하는 동시에, 추가의 슈재(545)와 슈재(545)에 대하여 커플랜트(547)를 통하여 밀착 고정된 송신용 어레이 트랜스듀서(546)를 갖고 있다.It is a schematic diagram explaining the structure of the ultrasonic inspection apparatus which concerns on 8th Example of this invention. As shown in FIG. 12, the ultrasonic inspection apparatus uses the array transducer 506 as a reception only, and transmits the additional shoe member 545 and the shoe member 545 in tight contact with the coupler 547. It has an array transducer 546.

슈재(545)는 물(502) 내에서 슈재(505)에 대하여 피검체(503)를 사이에 끼운 위치에 슈재(505)의 표면과 평행하게 되도록 고정된 평판 구조의 고체 음향 매체이며, 슈재(505)와 동일한 재료를 사용할 수 있다.The shoe member 545 is a solid acoustic medium having a flat plate structure fixed to be parallel to the surface of the shoe member 505 at a position in which the subject 503 is sandwiched with respect to the shoe member 505 in the water 502. The same material as 505 can be used.

송신용 어레이 트랜스듀서(546)에는 복수의 압전 소자(540)가 어레이 형상으로 배열되며, 어레이 트랜스듀서(506)와 동일한 구성이다.A plurality of piezoelectric elements 540 are arranged in an array shape in the transmission array transducer 546 and have the same configuration as the array transducer 506.

커플랜트(547)는 슈재(545)와 어레이 트랜스듀서(546) 사이의 음향적인 결합 상태를 향상시키기 위한 매개이며, 커플랜트(507)와 동일한 재료를 사용할 수 있다.The coupler 547 is a medium for improving the acoustic coupling state between the shoe material 545 and the array transducer 546, and may use the same material as the coupler 507.

이하, 제 8 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the ultrasonic inspection apparatus according to the eighth embodiment will be described.

송수신 전환 장치(508)에 의해, 어레이 트랜스듀서(546) 내의 복수의 압전 소자(540)로부터 특정한 압전 소자(540)가 선택 구동되고, 선택 구동된 압전 소자(540)로부터 투과 초음파(U)가 송신된다. 투과 초음파(U)는 슈재(545), 물(502), 피검체(503)의 내부를 투과하고, 다시 물(502)과 슈재(505)를 통하여 어레이 트랜스듀서(506)에서 수신된다. 복수의 압전 소자(520)가 발생하는 전기 신호(E)가 송수신 전환 장치(508)에 의해 선택적으로 검출된다. 화상 합성 장치(509)는 검출된 전기 신호(E)로부터 피검체(503)의 투과 화상을 합성하고, 표시 장치(510)는 합성된 투과 화상 합성 처리 결과를 표시한다.By the transmission / reception switching device 508, the specific piezoelectric element 540 is selectively driven from the plurality of piezoelectric elements 540 in the array transducer 546, and the transmission ultrasonic wave U is transmitted from the selectively driven piezoelectric element 540. Is sent. The transmitted ultrasound U passes through the shoe material 545, the water 502, and the object 503, and is received by the array transducer 506 again through the water 502 and the shoe material 505. The electrical signal E generated by the plurality of piezoelectric elements 520 is selectively detected by the transmission / reception switching device 508. The image synthesizing apparatus 509 synthesizes the transmission image of the subject 503 from the detected electric signal E, and the display device 510 displays the result of the combined transmission image composition processing.

그 결과, 용기(501) 외에 어레이 트랜스듀서(506)를 설치한 상태에서, 물(502) 내의 피검체(503) 내부의 가시화를 행할 수 있다.As a result, the inside of the subject 503 in the water 502 can be visualized in a state where the array transducer 506 is provided in addition to the container 501.

화상 합성 장치(509)에서의 화상 합성 처리는 투과 초음파(U)의 송수신 전파 시간 및 진폭값에 의거하여 실행된다. 송신용 압전 소자(540)로부터 수신용 압전 소자(520)에 이르는 초음파의 경로 중에 물(502)과는 상이한 매체(예를 들어, 피검체(503) 자체나 결함(504) 등의 내부 구조)가 있으면, 그 계면(예를 들어, 피검체(503)나 결함(504) 등의 표면)에서 초음파가 반사되어 수신되는 투과 초음파(U)의 진폭이 감소된다. 또한, 매체 내부를 투과 초음파(U)가 통과함으로써 송수신 전파 시간이 변화한다. 이와 같이, 송신용 압전 소자(540)로부터 수신용 압전 소자(520)에 이르는 초음파의 경로(초음파 투과 경로)에 대응하여 투과 초음파(U)의 송수신 전파 시간 및 진폭값을 연산함으로써, 피검체(503) 내부의 결함(504)의 투과 화상을 합성할 수 있다.The image combining process in the image synthesizing apparatus 509 is executed based on the transmission and reception propagation time and amplitude values of the transmission ultrasonic waves U. Medium different from the water 502 in the path of the ultrasonic wave from the transmitting piezoelectric element 540 to the receiving piezoelectric element 520 (for example, an internal structure such as the object 503 itself or a defect 504). If there is, the amplitude of the transmitted ultrasonic wave U received by reflecting the ultrasonic wave at the interface (for example, the surface of the object 503 or the defect 504 or the like) is reduced. In addition, the transmission and reception propagation time changes by the transmission ultrasonic waves U passing through the inside of the medium. In this way, the transmit / receive propagation time and amplitude values of the transmission ultrasonic waves U are calculated in correspondence with the path of the ultrasonic waves (ultrasound transmission paths) from the transmission piezoelectric element 540 to the reception piezoelectric element 520, thereby inspecting the subject ( 503 A transparent image of the defect 504 inside can be synthesized.

초음파 투과 경로의 산출은 송신용 압전 소자(540)와 수신용 압전 소자(520) 사이의 위치 관계에 의거하여 실행된다. 초음파 투과 경로의 산출 시에, 「슈재(505)와 물(502)의 계면」과 「슈재(545)와 물(502)의 계면」의 굴절을 고려함으로써, 보다 정밀하게 초음파 투과 경로를 계산할 수 있다. 즉, 식 (1) 및 (2)의 스넬 식을 적절히 가미한다.The calculation of the ultrasonic transmission path is performed based on the positional relationship between the transmitting piezoelectric element 540 and the receiving piezoelectric element 520. In calculating the ultrasonic transmission path, the ultrasonic transmission path can be calculated more precisely by taking into account the refraction of the “interface between the shoe material 505 and the water 502” and the “interface between the shoe material 545 and the water 502”. have. That is, the Snell formula of Formulas (1) and (2) is appropriately added.

본 발명에 따른 초음파 검사 장치, 초음파 트랜스듀서, 검사 장치, 초음파 화상화 장치는 전자 디바이스 제조 산업, 전자 기기 제조 산업, 계측 기기 제조 산업 등에서 제조할 수 있고, 또한, 자동차 부품 제조 산업이나 각종 소재 제조 산업, 반도체 디바이스 제조 산업, 엔지니어링 산업 등에서 사용할 수 있다. 따라서, 산업상 이용성을 갖는다.The ultrasonic inspection apparatus, the ultrasonic transducer, the inspection apparatus, and the ultrasonic imaging apparatus according to the present invention can be manufactured in the electronic device manufacturing industry, the electronic device manufacturing industry, the measurement device manufacturing industry, and the like. It can be used in industry, semiconductor device manufacturing industry, engineering industry and the like. Therefore, it has industrial utility.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The block diagram explaining the structure of the ultrasonic inspection apparatus which concerns on 1st Example of this invention.

도 2는 도 1 중에 나타낸 압전 소자(41a) 등의 단면 구조를 나타내는 도면.FIG. 2 is a diagram showing a cross-sectional structure of the piezoelectric element 41a and the like shown in FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도.3 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도.4 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도.5 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 초음파 검사 장치의 구성을 설명하는 구성도.6 is a configuration diagram illustrating a configuration of an ultrasound inspection apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 초음파 화상화 장치에 의해 초음파 검사를 행하는 구성 예를 설명하는 도면.7 is a view for explaining an example of the configuration of performing an ultrasonic inspection by the ultrasonic imaging apparatus according to the sixth embodiment of the present invention.

도 8은 도 7 중에 나타낸 신호 처리부(270) 내의 구성을 더 상세하게 나타내는 도면.FIG. 8 is a view showing in more detail the configuration in the signal processing unit 270 shown in FIG.

도 9는 도 8 중에 나타낸 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i) 내에서 실행되는 처리를 설명하는 설명도.FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining processing executed in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i shown in FIG.

도 10은 도 8 중에 나타낸 각 병렬 프로세서(207a, 207b, …, 207i) 내에서 실행되는 처리의 다른 예를 설명하는 설명도.10 is an explanatory diagram for explaining another example of a process executed in each of the parallel processors 207a, 207b, ..., 207i shown in FIG.

도 11은 본 발명의 제 7 실시예에 따른 초음파 검사 장치를 나타내는 모식도.11 is a schematic diagram showing an ultrasonic inspection apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.

도 12는 본 발명의 제 8 실시예에 따른 초음파 검사 장치를 나타내는 모식도.12 is a schematic diagram showing an ultrasonic inspection apparatus according to an eighth embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 신호 발생부 2 : 구동 소자 선택부1: signal generator 2: drive element selector

4 : 신호 검출 회로 7 : 신호 처리부4 signal detection circuit 7 signal processing unit

9 : 초음파 트랜스듀서 10 : 표시장치9: ultrasonic transducer 10: display device

11 : 반도체 칩 17 : 커플랜트11 semiconductor chip 17 coupler

29 : 전극층 71 : 진동 변위 검출기29 electrode layer 71 vibration displacement detector

Claims (8)

바늘 형상 구조를 갖는 복수의 접촉 단자와,A plurality of contact terminals having a needle-like structure, 상기 접촉 단자에 접속되고, 상기 접촉 단자 중 임의의 것으로부터 구동 전압을 발생시키기 위한 구동부와,A driving portion connected to the contact terminal, for generating a driving voltage from any of the contact terminals; 상기 접촉 단자에 접속되고, 상기 발생된 구동 전압을 원인으로 하여 검사 대상으로부터 상기 접촉 단자에 회신되는 전기 신호를 상기 복수의 접촉 단자로부터 검출하는 검출부와,A detection unit connected to the contact terminal and detecting, from the plurality of contact terminals, an electrical signal returned from the inspection object to the contact terminal due to the generated drive voltage; 상기 검출된 전기 신호와 상기 임의의 접촉 단자의 위치로부터 상기 검사 대상의 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하는 것을 특징으로 하는 검사 장치.And a processing unit that performs a process of visualizing the state of the inspection object from the detected electrical signal and the position of the arbitrary contact terminal. 레이저 광을 간헐적으로 또는 강도 변조하여 발생하는 레이저 광원과,A laser light source generated by intermittently or intensity modulating the laser light, 상기 발생된 레이저 광을 스폿 형상으로 하여 검사 대상에 조사하는 광학 송신기와,An optical transmitter that irradiates the inspection object with the generated laser light as a spot shape; 상기 광학 송신기를 상기 검사 대상과 상대적으로 주사 이동하는 주사 이동 기구와,A scan movement mechanism to scan-move the optical transmitter relative to the inspection object; 상기 조사된 레이저 광에 의해 발생된 상기 검사 대상 중의 초음파의 에코에 의한 상기 검사 대상 표면에서의 진동 변위를 레이저 광을 이용하는 변위 측정 방법에 의해 비접촉으로 검출하여 전기 신호로 변환하는 진동 변위 검출부와,A vibration displacement detector which detects the vibration displacement on the surface of the inspection object caused by the echo of the ultrasonic wave in the inspection object generated by the irradiated laser light in a non-contact manner and converts it into an electrical signal by a displacement measuring method using laser light; 상기 변환된 전기 신호와 상기 주사 이동된 광학 송신기의 위치로부터 상기 검사 대상의 상태를 가시화하는 처리를 행하는 처리부를 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And a processing unit that performs a process of visualizing the state of the inspection object from the converted electric signal and the position of the scanning shifted optical transmitter. 복수의 압전 소자를 갖는 압전부와,A piezoelectric part having a plurality of piezoelectric elements, 상기 압전부와 음향적으로 접속된 평판(平板) 형상의 고체 음향 전파 매체와,A solid acoustic propagation medium having a flat plate shape acoustically connected to the piezoelectric portion; 상기 압전부로부터 압전 소자를 선택하여 초음파를 발생시키는 구동부와,A driving unit for generating ultrasonic waves by selecting a piezoelectric element from the piezoelectric unit; 상기 구동부에 의해 선택된 압전 소자로부터 송신된 초음파의 일부가 액체 음향 매체 중의 피검체로부터 반사되어 이루어진 반사 초음파에 의거하여, 상기 압전부의 압전 소자로부터 발생한 전기 신호를 검출하는 검출부와,A detection unit for detecting an electric signal generated from the piezoelectric element of the piezoelectric unit based on the reflected ultrasonic wave in which a part of the ultrasonic waves transmitted from the piezoelectric element selected by the drive unit is reflected from the object under test in the liquid acoustic medium; 상기 검출부에서 검출된 전기 신호에 의거하여, 상기 피검체의 내부 상태를 나타내는 화상을 생성하는 화상 생성부와,An image generating unit for generating an image representing an internal state of the object under test based on the electrical signal detected by the detection unit; 상기 화상 생성부에서 생성된 화상을 표시하는 표시부를 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And a display unit for displaying the image generated by the image generating unit. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 고체 음향 전파 매체가 관통하는 개구부를 갖고, 내부에 상기 피검체를 수용하는 동시에, 상기 액체 음향 매체를 축적하는 용기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And an container having an opening through which the solid acoustic propagation medium penetrates, accommodating the subject therein, and accumulating the liquid acoustic medium. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 고체 음향 전파 매체와 외측 표면이 음향적으로 접속되고, 또한 내부에 상기 피검체를 수용하는 동시에, 상기 액체 음향 매체를 축적하는 용기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And the container for accommodating the solid acoustic propagation medium and the outer surface acoustically and accommodating the test object therein and accumulating the liquid acoustic medium. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 압전부로부터 송신된 초음파가 상기 피검체의 표면에서 반사되어 상기 압전부에 수신될 때까지의 초음파 전파 시간에 의거하여, 상기 액체 음향 매체 중의 음속을 보정하는 음속 보정부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And a sound speed correction unit for correcting the sound speed in the liquid acoustic medium based on the ultrasonic propagation time until the ultrasonic waves transmitted from the piezoelectric unit are reflected from the surface of the subject to be received by the piezoelectric unit. Ultrasonic scanning device. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 압전부로부터 송신된 초음파의 일부를 반사하여, 상기 피검체에 조사하는 반사부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And a reflecting unit for reflecting a part of the ultrasonic waves transmitted from the piezoelectric unit and irradiating the inspected object. 복수의 압전 소자를 갖는 제 1 초음파 트랜스듀서와,A first ultrasonic transducer having a plurality of piezoelectric elements, 상기 제 1 초음파 트랜스듀서와 음향적으로 접속된 제 1 고체 음향 전파 매체와,A first solid acoustic propagation medium acoustically connected to the first ultrasonic transducer, 상기 제 1 초음파 트랜스듀서로부터 압전 소자를 선택하여 초음파를 발생시키는 구동부와,A driving unit for generating ultrasonic waves by selecting a piezoelectric element from the first ultrasonic transducer; 상기 제 1 고체 음향 전파 매체와 대향하여 배치된 제 2 고체 음향 전파 매체와,A second solid acoustic propagation medium disposed opposite the first solid acoustic propagation medium, 상기 제 2 고체 음향 전파 매체와 음향적으로 접속되고, 복수의 압전 소자를 갖는 제 2 초음파 트랜스듀서와,A second ultrasonic transducer acoustically connected to said second solid acoustic propagation medium, said second ultrasonic transducer having a plurality of piezoelectric elements; 상기 제 2 초음파 트랜스듀서에서 발생한 전기 신호를 검출하는 검출부와,A detector for detecting an electrical signal generated by the second ultrasonic transducer; 상기 검출부에서 검출된 전기 신호에 의거하여 화상을 생성하는 화상 생성부와,An image generator which generates an image based on the electrical signal detected by the detector; 상기 화상 생성부에서 생성된 화상을 표시하는 표시부를 구비하는 것을 특징으로 하는 초음파 검사 장치.And a display unit for displaying the image generated by the image generating unit.
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