KR20050039656A - An adhesive sheet for dicing, a dicing method, and a method for manufacturing a semiconductor - Google Patents

An adhesive sheet for dicing, a dicing method, and a method for manufacturing a semiconductor Download PDF

Info

Publication number
KR20050039656A
KR20050039656A KR1020040084872A KR20040084872A KR20050039656A KR 20050039656 A KR20050039656 A KR 20050039656A KR 1020040084872 A KR1020040084872 A KR 1020040084872A KR 20040084872 A KR20040084872 A KR 20040084872A KR 20050039656 A KR20050039656 A KR 20050039656A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
dicing
adhesive sheet
thermoplastic elastomer
layer
olefinic thermoplastic
Prior art date
Application number
KR1020040084872A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101116536B1 (en
Inventor
야마모토쇼우지
다카야나기겐지로
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20050039656A publication Critical patent/KR20050039656A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101116536B1 publication Critical patent/KR101116536B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

제품 품위의 저하나 비용적인 불이익이 없고, 다이싱시의 실 형상 쓰레기의 발생이 적은 것으로서, 익스팬드 공정에서도 필름이 찢어지는 일이 없고, 칩핑 발생이 낮게 억제되는 다이싱용 점착 시트를 제공한다. Provided is a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, in which there is no deterioration of product quality and no disadvantage in cost, less generation of thread-like waste during dicing, and no film tearing even in the expanding process, and chipping is suppressed low.

기재 필름(11)상의 한 면 이상에 점착제층(12)이 설치되어 이루어지는 다이싱용 점착 시트(1)에 있어서, 상기 기재 필름(11)이 2층 이상의 다층 필름이고, 상기 다층 필름의 2층 이상이 프로필렌을 중합 성분으로서 함유하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머이고, 융점 피크 온도가 120 내지 170℃인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고, 또한 상기 2층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머는 각각의 프로필렌 함유량이 다르다. In the dicing adhesive sheet 1 in which the adhesive layer 12 is provided on one or more surfaces of the base film 11, the base film 11 is a multilayer film of two or more layers, and two or more layers of the multilayer film. An olefinic thermoplastic elastomer containing this propylene as a polymerization component, an olefinic thermoplastic elastomer having a melting point peak temperature of 120 to 170 ° C, and an olefinic thermoplastic elastomer contained in the two or more layers are different in their propylene contents. .

Description

다이싱용 점착 시트, 다이싱 방법 및 반도체 소자의 제조 방법{AN ADHESIVE SHEET FOR DICING, A DICING METHOD, AND A METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR} Adhesive sheet for dicing, dicing method and manufacturing method of a semiconductor element {AN ADHESIVE SHEET FOR DICING, A DICING METHOD, AND A METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR}

본 발명은 다이싱용 점착 시트에 관한 것이다. 또한 상기 다이싱용 점착 시트를 사용하여 다이싱을 실시하는 방법에 관한 것이다. 또한 상기 다이싱용 점착 시트를 사용한 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 다이싱용 점착 시트는 반도체 웨어 등의 소자 소편을 절단 분리(다이싱)할 때, 상기 반도체 웨어 등의 피절단물을 고정하기 위해서 사용하는 반도체 웨어 다이싱용 점착 시트로서 특히 유용하다. 예컨대, 본 발명의 다이싱용 점착 시트는 실리콘 반도체 다이싱용 점착 시트, 화합물 반도체 웨어 다이싱용 점착 시트, 반도체 패키지 다이싱용 점착 시트, 유리 다이싱용 점착 시트 등으로서 사용할 수 있다. The present invention relates to an adhesive sheet for dicing. Moreover, it is related with the method of dicing using the said adhesive sheet for dicing. Moreover, it is related with the manufacturing method of the semiconductor element using the said adhesive sheet for dicing. The adhesive sheet for dicing of this invention is especially useful as an adhesive sheet for semiconductor wear dicing used in order to fix to-be-cut objects, such as the said semiconductor wear, when cut | disconnecting (dicing) element fragments, such as a semiconductor wear. For example, the adhesive sheet for dicing of this invention can be used as an adhesive sheet for silicon semiconductor dicing, an adhesive sheet for compound semiconductor wear dicing, an adhesive sheet for semiconductor package dicing, an adhesive sheet for glass dicing, etc.

종래부터 실리콘, 갈륨, 비소 등을 재료로 하는 반도체 웨어는 대직경의 상태로 제조된 후, 소자 소편에 절단 분리(다이싱)되고, 또한 마운트 공정으로 옮겨진다. 이 때, 반도체 웨어는 점착 시트에 첨부되어 유지된 상태로 다이싱 공정, 세정 공정, 익스팬드 공정, 픽업 공정, 마운트 공정의 각 공정이 실시된다. 상기 점착 시트로서는 플라스틱 필름으로 이루어지는 기재상에 아크릴계 점착제가 1 내지 200μm 정도 도포되어 이루어진 것이 일반적으로 사용되고 있다. BACKGROUND ART Conventionally, semiconductor wear made of silicon, gallium, arsenic, or the like is manufactured in a state of large diameter, and then cut and diced (dicing) into element pieces, and transferred to a mounting process. At this time, each process of a dicing process, a washing | cleaning process, an expanding process, a pick-up process, and a mounting process is performed in the state in which the semiconductor wear was attached to the adhesive sheet and hold | maintained. As the pressure-sensitive adhesive sheet, one having an acrylic pressure-sensitive adhesive applied on the substrate made of a plastic film about 1 to 200 μm is generally used.

상기 다이싱 공정에 있어서는 회전하면서 이동하는 둥근 칼에 의해서 웨이퍼의 절단이 실시되지만, 그 때 반도체 웨어를 유지하는 다이싱용 점착 시트의 기재 내부까지 절단을 실시하는 풀 컷트라고 불리는 절단 방식이 주류를 이루고 있다. 그리고 풀컷트에 의한 절단 방법으로서는 점착 시트의 내부까지 절단이 실시되는 결과, 기재인 플라스틱 필름 자체가 실 형상이 된 절단 쓰레기가 발생한다. 이 실 형상 쓰레기가 칩(피절단체) 측면 등에 접착하면, 접착된 실 형상 쓰레기는 그대로 후 공정에서 마운트화되고, 밀봉되어 버려, 반도체 소자의 신뢰성을 현저히 저하시키는 원인이 된다는 문제가 있었다. 또한, 픽업 공정에서는 개개의 칩을 CCD 카메라로 인식하여 위치를 맞춘 후에 픽업이 실시되지만, 실 형상 쓰레기가 있다는 인식 에러를 일으킨다는 불량도 있다. In the dicing step, the wafer is cut by a circular knife moving while rotating, but at this time, a cutting method called full cut, which cuts to the inside of the base material of the adhesive sheet for dicing holding the semiconductor wear, is mainstream. have. And as a cutting method by a full cut, as cutting | disconnection is performed to the inside of an adhesive sheet, the cutting waste in which the plastic film itself which is a base material becomes a thread shape arises. When the yarn-like garbage adheres to the side of the chip (the cut body) or the like, the bonded yarn-like garbage is mounted as it is in the later step and sealed, which causes a problem of significantly lowering the reliability of the semiconductor element. Further, in the pick-up step, pick-up is performed after the individual chips are recognized by the CCD camera and aligned, but there is also a defect that causes a recognition error that there is real garbage.

이러한 문제를 해결하기 위한 수단으로서, 예컨대, 기재로서 에틸렌-메타크릴레이트 공중합체를 사용한 점착 시트가 제안되어 있다(일본특허 공개공보 제 1993-156214호 참조). 그러나 이 점착 시트에서는 실 형상 쓰레기의 발생은 어느 정도 적어지지만, 이후, 고신뢰성 반도체 제조의 다이싱 공정에 견딜 수 있을 정도의 레벨을 만족하지 못했다. 또한 익스팬드 공정에 있어서의 익스팬드 공정 시, 다이싱에서의 절단 부분보다 시트 기재가 찢어지기 쉬워, 대량의 익스팬드를 필요로 하는 공정에서는 안정적으로 사용하기 곤란하다. As a means for solving such a problem, the adhesive sheet which used the ethylene-methacrylate copolymer as a base material, for example is proposed (refer Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 1993-156214). However, in this adhesive sheet, although the generation | occurrence | production of thread-shaped waste reduces to some extent, after that, it did not satisfy | fill the level with which it can endure the dicing process of high reliability semiconductor manufacture. In addition, at the time of the expansion step in the expanding step, the sheet base material is more likely to be torn than the cut portion in the dicing, and it is difficult to use stably in a step requiring a large amount of expansion.

또한, 기재 필름에 1 내지 80MRad의 전자선 또는 γ선 등의 방사선을 조사한 필름을 사용한 점착 시트가 제안되어 있다(일본특허 공개공보 제 1993-211234호 참조). 그러나 이 점착 시트에서는 방사선 조사에 의한 필름 손상이 커 외관적으로 양호한 필름이 수득되기 어렵고, 필름 제조에 있어서 막대한 비용이 들어, 품위면 및 가격면에서 바람직하지 못하다. 또한, 본 방법에 따르면, 필름이 잘 찢어지는 성질을 조장하기 때문에, 익스팬드가 필요한 다이싱용 점착 시트에 대해서는 특히 바람직하지 않다. Moreover, the adhesive sheet using the film which irradiated the base film with radiation, such as 1-80MRad electron beam or (gamma) ray, is proposed (refer Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 1993-211234). However, in this adhesive sheet, the film damage by radiation irradiation is large and it is difficult to obtain a favorable film externally, and enormous cost in film manufacture is unfavorable in terms of quality and price. Moreover, according to this method, since the film promotes the property which tears well, it is not especially preferable about the adhesive sheet for dicing which needs expansion.

또한, 기재 필름으로서, 프로필렌 및 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀을 중합 성분으로서 함유하고, 또한 융점 피크 온도가 120℃ 이상인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 사용한 점착 시트가 제안되어 있다(일본특허 공개공보 제 2003-7654호 참조). 이 점착 시트는 실 형상 쓰레기의 발생을 억제할 수 있다. Moreover, as a base film, the adhesive sheet which uses olefinic thermoplastic elastomer which contains propylene and ethylene and / or (alpha) -olefin of C4-C8 as a polymerization component, and whose melting point peak temperature is 120 degreeC or more is proposed (Japanese patent) See Published Publication No. 2003-7654). This adhesive sheet can suppress generation | occurrence | production of thread-shaped garbage.

한편, 점착 시트를 사용한 다이싱 공정에서는 절단된 반도체 소자(웨이퍼)의 뒷면에 칩핑이라고 불리는 균열(크랙)이 발생한다는 문제가 있다. 최근, IC card 등의 보급에 따라, 반도체 소자의 박형화가 진행되고 있어서, 반도체 소자의 칩핑은 반도체 소자의 중대한 강도 저하를 초래하여, 그 신뢰성을 현저히 저하시킨다는 문제가 있고, 또한 수율을 저하시킨다. 그러나 상기 일본특허 공개공보 제 2003-7654호의 점착 시트는 익스팬드 공정에 있어서의 필름의 찢어짐과, 칩핑의 양자를 충분히 만족시킨다고는 할 수 없었다. On the other hand, in the dicing process using an adhesive sheet, there exists a problem that the crack (crack) called chipping generate | occur | produces on the back surface of the cut | disconnected semiconductor element (wafer). In recent years, with the widespread use of IC cards and the like, thinning of semiconductor devices is progressing, so that chipping of semiconductor devices causes a significant decrease in strength of the semiconductor devices, which significantly lowers the reliability thereof, and also lowers the yield. However, the pressure-sensitive adhesive sheet of Japanese Patent Laid-Open No. 2003-7654 was not able to sufficiently satisfy both the tearing of the film and the chipping in the expansion step.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술에 따른 문제를 해결하고자 하는 것으로, 제품 품위의 저하 또는 비용적인 불이익이 없고, 다이싱시의 실 형상 쓰레기의 발생이 적고, 익스팬드 공정에 있어서도 필름이 찢어지지 않고, 또한 칩핑의 발생을 낮게 억제하는 다이싱용 점착 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the problems according to the prior art as described above, there is no deterioration of product quality or costly disadvantages, less generation of yarn-like waste during dicing, and the film does not tear even in the expansion process Moreover, it aims at providing the adhesive sheet for dicing which suppresses generation | occurrence | production of chipping low.

또한 본 발명은 상기 다이싱용 점착 시트를 사용한 다이싱 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 상기 다이싱용 점착 시트를 사용한 반도체 소자의 제조 방법을 제공하는 것, 상기 제조 방법에 의해 수득된 반도체 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. Moreover, an object of this invention is to provide the dicing method using the said adhesive sheet for dicing. Moreover, it aims at providing the manufacturing method of the semiconductor element using the said adhesive sheet for dicing, and providing the semiconductor element obtained by the said manufacturing method.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 다이싱용 점착 시트를 구성하는 기재 필름에 관해서 예의 검토한 결과, 기재 필름으로서 특정한 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 사용한 다층 필름을 수득함으로써 상기 목적을 달성할 수 있다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하는 데 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining about the base film which comprises the adhesive sheet for dicing in order to solve the said subject, it discovered that the said objective can be achieved by obtaining the multilayer film which used the specific olefinic thermoplastic elastomer as a base film. The present invention has been accomplished.

즉, 본 발명은 기재 필름상의 한 면 이상에 점착제층이 마련되어 이루어지는 다이싱용 점착 시트에 있어서, That is, this invention is an adhesive sheet for dicing in which an adhesive layer is provided in one or more surfaces on a base film,

상기 기재 필름이 2층 이상의 다층 필름이고, The base film is a multilayer film of two or more layers,

상기 다층 필름의 2층 이상은 프로필렌을 중합 성분으로서 함유하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머이고, 융점 피크 온도가 120 내지 170℃인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고 있고, Two or more layers of the said multilayer film are olefinic thermoplastic elastomers which contain propylene as a polymerization component, contain a olefinic thermoplastic elastomer whose melting point peak temperature is 120-170 degreeC,

또한, 상기 2층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머는 각각의 프로필렌 함유량이 다른 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트에 관한 것이다. Moreover, the olefinic thermoplastic elastomer contained in the said 2 or more layer relates to the adhesive sheet for dicing characterized by each propylene content being different.

상기 본 발명의 다이싱용 점착 시트의 기재 필름은 다층 필름에 의해 구성되어 있고, 다층 필름의 2층 이상은 프로필렌을 중합 성분으로서 함유하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머이고, 융점 피크 온도가 120 내지 170℃인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고 있다. 이러한 올레핀계 열가소성 엘라스토머는 다이싱시에 기재 필름의 신장이 저하되어, 다이싱시의 실 형상 쓰레기의 발생을 억제한다. 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 융점 피크 온도는 바람직하게는 140℃ 이상, 더 바람직하게는 160℃ 이상이다. 융점 피크 온도는 일반적으로는 JIS K7121에 준거하여 시차 주사 열량계(DSC)로 측정된다. The base film of the adhesive sheet for dicing of this invention is comprised by the multilayer film, and two or more layers of a multilayer film are olefinic thermoplastic elastomers which contain propylene as a polymerization component, and are olefins whose melting point peak temperature is 120-170 degreeC. It contains a thermoplastic elastomer. In such an olefinic thermoplastic elastomer, elongation of the base film at the time of dicing decreases, and generation | occurrence | production of the yarn-like waste at the time of dicing is suppressed. The melting point peak temperature of the olefinic thermoplastic elastomer is preferably 140 ° C or higher, more preferably 160 ° C or higher. Melting point peak temperature is generally measured with a differential scanning calorimeter (DSC) in accordance with JIS K7121.

또한 상기 다층 필름에 있어서, 2층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머는 각각의 프로필렌 함유량이 다른 것이 사용된다. 프로필렌 함유량을 바꿈으로써, 각 층에는 다른 성질을 부여할 수 있다. Moreover, in the said multilayer film, what differs in each propylene content is used for the olefinic thermoplastic elastomer contained in two or more layers. By changing the propylene content, different properties can be given to each layer.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 2층 이상의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 다층 필름은 프로필렌 함유량이 적은 쪽의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층이 점착제층 측이 되는 것이 바람직하다. In the adhesive sheet for dicing, in the multilayer film containing two or more olefinic thermoplastic elastomers, it is preferable that the layer containing the olefinic thermoplastic elastomer having less propylene content becomes the pressure sensitive adhesive layer side.

프로필렌 함유량이 상대적으로 적은 층은 다이싱의 컷팅이 실시되는 층으로 사용함으로써, 칩핑을 억제할 수 있다. 또한, 다이싱 후의 픽업성을 양호하게 할 수 있다. 한편, 프로필렌 함유량이 상대적으로 많은 층은 다이싱의 컷팅이 실시되지 않는 층으로서 사용함으로써, 익스팬드 공정에 있어서도 찢어짐에 대한 강도를 필름에 부여할 수 있다. By using a layer having a relatively low propylene content as a layer in which dicing is cut, chipping can be suppressed. Moreover, the pick-up property after dicing can be made favorable. On the other hand, by using a layer having a relatively high propylene content as a layer which is not subjected to dicing, it is possible to give the film strength against tearing even in an expand process.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 상기 2층 이상의 다층 필름의 1층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 프로필렌 함유량은 45 내지 90몰%이고, 또한, 다른 1층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 프로필렌 함유량은 65 내지 98몰%인 것이 바람직하다. In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the propylene content of the olefinic thermoplastic elastomer contained in at least one layer of the multilayer film of the two or more layers is 45 to 90 mol%, and the olefinic thermoplastic elastomer contained in the other one or more layers. It is preferable that propylene content is 65-98 mol%.

프로필렌 함유량이 45 내지 90몰%인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층은 다이싱의 컷팅이 실시되는 층의 하나로서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 층에 사용하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 프로필렌 함유량은 50 내지 85몰%이 바람직하고, 또한 55 내지 78몰%인 것이 바람직하다. It is preferable to use the layer containing the olefin thermoplastic elastomer whose propylene content is 45-90 mol% as one of the layers to which dicing is cut. 50-85 mol% is preferable and, as for the propylene content of the olefin thermoplastic elastomer used for the said layer, it is preferable that it is 55-78 mol%.

프로필렌 함유량이 65 내지 98몰%인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층은 다이싱의 컷팅이 실시되지 않는 층의 하나로서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 층에서 사용하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 프로필렌 함유량은 70 내지 96몰%가 바람직하고, 78 내지 96몰%인 것이 더 바람직하다. It is preferable to use the layer containing the olefin thermoplastic elastomer whose propylene content is 65-98 mol% as one of the layers which are not cut of dicing. 70-96 mol% is preferable and, as for the propylene content of the olefin thermoplastic elastomer used in the said layer, it is more preferable that it is 78-96 mol%.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머의, o-다이클로로벤젠을 용매로서 사용한 온도 0 내지 140℃ 사이의 온도 상승 용해 분별에 있어서의 0℃에서의 용출분은 전체 용출량에 대하여 10 내지 60중량%인 것이 바람직하다. In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the elution fraction at 0 ° C. in the temperature rise dissolution fractionation between the temperatures of 0 to 140 ° C. using o-dichlorobenzene as the solvent of the olefinic thermoplastic elastomer is 10 to the total amount of elution. It is preferable that it is to 60 weight%.

상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 0℃에서의 용출분의 전체 용출량에 대한 비율은 다이싱시의 실 형상 쓰레기의 발생을 억제하고, 또한 익스팬드성 또는 기재 필름의 점착제층과의 접착성을 만족할 수 있는 바람직한 범위이다. 0℃에서의 용출분의 비율이 적어지면, 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 성형하여 수득되는 기재 필름이 딱딱하고, 익스팬드시의 신장성이 나빠지는 등, 픽업도 실시하기 어려워지는 경향이 있다는 점에서, 상기 0℃에서의 용출분의 비율은 20중량% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 0℃에서의 용출분의 비율이 많아지면, 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 성형하여 수득되는 기재 필름의 점착제층과의 접착성이 뒤떨어지는 경향이 있다는 점에서 상기 0℃에서의 용출분의 비율은 50중량% 이하인 것이 바람직하다. The ratio of the olefin thermoplastic elastomer to the total elution amount of the eluent at 0 ° C suppresses the generation of the yarn-like waste during dicing and can satisfy the adhesiveness of the expandable or adhesive layer of the base film. It is a preferable range. When the proportion of the eluate at 0 ° C. decreases, the base film obtained by molding the olefinic thermoplastic elastomer is hard, and since the extensibility at the time of expansion is poor, there is a tendency that pick-up also becomes difficult to perform. It is preferable that the ratio of the eluent at 0 degreeC is 20 weight% or more. Moreover, when the ratio of the eluent at 0 degreeC becomes large, since it exists in the tendency for adhesiveness with the adhesive layer of the base film obtained by shape | molding an olefinic thermoplastic elastomer to be inferior, the ratio of the elution content at said 0 degreeC. It is preferable that silver is 50 weight% or less.

또한, 상기 온도 상승 용리 분별(Temperature Rising Elution Fractionation: TREF)이란, 공지의 분석법이다. 원리적으로는 고온에서 폴리머를 용매에 완전히 용해시킨 후 냉각하여, 용액 중에 존재하는 불활성 담체의 표면에 엷은 폴리머층을 형성시킨다. 이 때, 결정화하기 쉬운 고결정성 성분으로부터, 결정화하기 어려운 저결정성 또는 비결정성 성분의 순서로 폴리머층이 형성된다. 계속해서, 연속 또는 단계적으로 승온시키면, 상기와 반대로, 저결정성 또는 비결정성 성분으로부터 용출하여, 최후에 고결정성 성분이 용출한다. 이 각 온도에서의 용출량과 용출 온도에 의해서 그려지는 용출 곡선으로부터 폴리머의 조성 분포를 분석하는 것이다. In addition, the said temperature rising elution fractionation (TREF) is a well-known analysis method. In principle, the polymer is completely dissolved in a solvent at a high temperature and then cooled to form a thin polymer layer on the surface of the inert carrier present in solution. At this time, the polymer layer is formed from the high crystalline component which is easy to crystallize in the order of the low crystalline or amorphous component which is difficult to crystallize. Subsequently, if it heats up continuously or stepwise, in contrast to the above, it elutes from a low crystalline or amorphous component, and a high crystalline component elutes at last. The composition distribution of the polymer is analyzed from the dissolution curve drawn by the dissolution amount and the dissolution temperature at each temperature.

측정 장치로서는 코로스 분별 장치(미쓰비시 화학(주) 제품, CFC·T150A)를 사용했다. 측정해야 할 샘플(올레핀계 열가소성 엘라스토머)을 용매(o-다이클로로벤젠)를 사용하여, 농도 30mg/ml이 되도록 140℃에서 용해하고, 이것을 측정 장치 내의 샘플 루프 내에 주입했다. 이하의 측정은 설정 조건에 따라 자동적으로 실시되었다. 샘플 루프 내에 유지된 시료 용액은 용해 온도차를 사용하여 분별하는 TREF 컬럼(불활성체인 유리 비즈가 충전된 내경 4mm, 길이 150mm의 장치 부속의 스테인레스 컬럼)에 0.4ml 주입되었다. 상기 샘플은 1℃/분의 속도로 140℃에서 0℃의 온도까지 냉각되고, 상기 불활성 담체로 코팅되었다. 이 때 고결정 성분(결정화하기 쉬운 것)으로부터 저결정 성분(결정화하기 어려운 것)의 순으로 불활성 담체 표면에 폴리머층이 형성된다. TREF 컬럼은 0℃에서 추가로 30분간 유지한 후, 하기와 같이 단계적으로 승온되어, 각각의 온도에 있어서 30분간 유지되면서, 그 온도에 있어서의 용출분이 측정되었다. 용출 온도(℃): 0, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 49, 52, 55, 58, 61, 64, 67, 70, 73, 76, 79, 82, 85, 88, 91, 94, 97, 100, 102, 120, 140. As a measuring apparatus, Coros fractionation apparatus (made by Mitsubishi Chemical Corporation, CFC, T150A) was used. The sample to be measured (olefinic thermoplastic elastomer) was dissolved at 140 ° C. to a concentration of 30 mg / ml using a solvent (o-dichlorobenzene), and this was injected into the sample loop in the measuring device. The following measurements were performed automatically in accordance with the set conditions. 0.4 ml of the sample solution held in the sample loop was injected into a TREF column (a stainless column with an inner diameter of 4 mm and a 150 mm long device filled with inert glass beads) fractionated using a dissolution temperature difference. The sample was cooled from 140 ° C. to 0 ° C. at a rate of 1 ° C./min and coated with the inert carrier. At this time, a polymer layer is formed on the surface of the inert carrier in order from the high crystalline component (which is easy to crystallize) to the low crystalline component (which is difficult to crystallize). The TREF column was held for an additional 30 minutes at 0 ° C., and then stepped up as follows, and held for 30 minutes at each temperature, and the elution at that temperature was measured. Elution temperature (° C): 0, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 49, 52, 55, 58, 61, 64, 67, 70, 73, 76, 79, 82, 85, 88, 91, 94, 97, 100, 102, 120, 140.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 2층 이상이, 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 50중량% 이상 함유하고 있는 것이 바람직하다. In the adhesive sheet for dicing, it is preferable that two or more layers containing the olefinic thermoplastic elastomer contain 50% by weight or more of the olefinic thermoplastic elastomer.

기재 필름 중의 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 함유량은, 실 형상 쓰레기 발생 방지 효과로부터, 단층 필름 또는 다층 필름의 1층 이상이, 보통 50중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상인 것이 바람직하다. 기재 필름을 다층으로 한 경우에는 예컨대, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 포함하는 신장성이 낮은 층을 풀 컷트시에 둥근 칼의 컷팅이 실시되는 깊이까지의 적어도 일층(한층 더)에 마련함으로써 다이싱시의 실 형상 쓰레기의 발생을 방지할 수 있고, 다른 층에 익스팬드시에 필요한 신장성이 우수한 층을 마련함으로써, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머가 포함하는 층의 낮은 신장성을 보충할 수 있다. 기타, 대전 방지성이 우수한 층 등의 기능층을 마련하여 다층화하여 대전 방지 성능 등의 추가 기능을 부가할 수도 있다. As for content of the said olefinic thermoplastic elastomer in a base film, 1 or more layers of a single | mono layer film or a multilayer film are 50 weight% or more normally, Preferably it is 80 weight% or more from a yarn waste prevention effect. When the base film is a multilayer, for example, when dicing by providing a low-extension layer containing the olefinic thermoplastic elastomer in at least one layer (more) to a depth at which a round knife is cut during full cut. The generation of the yarn-like garbage can be prevented, and by providing a layer having excellent extensibility at the time of expansion in another layer, the low extensibility of the layer contained in the olefinic thermoplastic elastomer can be supplemented. In addition, a functional layer such as a layer having excellent antistatic property may be provided and multilayered to add additional functions such as antistatic performance.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 점착제층의 두께는 1 내지 200μm인 경우에 효과적이다. In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is effective when it is 1 to 200μm.

점착제층을 두껍게 하는 것은, 다이싱 중의 반도체 웨어의 진동 등에 의해서, 다이싱 품위를 현저히 저하시켜, 비용적으로도 불리해지기 때문에 점착제층의 두께는 1 내지 200μm, 특히 바람직하게는 3 내지 50μm이 된다. 보통, 다이싱 공정으로서는 다이싱용 점착 시트에 대해 둥근 칼이 5 내지 230μm 정도의 컷팅, 절단을 실시하기 때문에, 점착제층이 그 컷팅 깊이 보다 얇고, 기재 필름까지 컷팅이 실시되어, 기재 필름에 의한 실 형상 쓰레기가 문제가 되는 경우에 본 발명의 다이싱용 점착 시트는 효과적으로 기능한다. The thickening of the pressure-sensitive adhesive layer significantly lowers the quality of the dicing due to vibration of the semiconductor wear during dicing and the like, which is also disadvantageous in terms of cost, so that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 to 200 µm, particularly preferably 3 to 50 µm. do. Usually, as a dicing process, since a round knife cuts and cut | disconnects about 5-230 micrometers with respect to the adhesive sheet for dicing, an adhesive layer is thinner than the cutting depth, and it cuts to a base film, and the seal | sticker with a base film When shape garbage becomes a problem, the adhesive sheet for dicing of this invention functions effectively.

상기 다이싱용 점착 시트에 있어서, 점착제층은 방사선 경화형 점착제에 의해 형성되는 것이 바람직하다. In the pressure sensitive adhesive sheet for dicing, the pressure sensitive adhesive layer is preferably formed of a radiation curable pressure sensitive adhesive.

방사선 경화형 점착제층을 사용하면, 방사선을 조사함으로써 점착력을 저하시킬 수 있어서, 웨이퍼 등을 절단 분리한 후에, 웨이퍼 등으로부터의 점착 시트의 제거를 용이하게 할 수 있다. When the radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer is used, the adhesive force can be lowered by irradiating radiation, so that the adhesive sheet can be easily removed from the wafer or the like after cutting and separating the wafer or the like.

또한 본 발명은 상기 다이싱용 점착 시트를 피절단물에 붙인 후, 상기 점착 시트의 기재 필름까지 컷팅을 실시함으로써 피절단물을 다이싱하는 것을 특징으로 하는 다이싱 방법에 관한 것이다. Moreover, this invention relates to the dicing method characterized by dicing the to-be-cut object by sticking the said dicing adhesive sheet to a to-be-cut object, and then cutting to the base film of the said adhesive sheet.

또한 본 발명은 상기 다이싱용 점착 시트를, 반도체 부품에 첨부한 후에 상기 점착 시트의 기재 필름까지 컷팅을 실시함으로써 다이싱을 실시하는 공정, 및 상기 점착 시트의 익스팬드 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것이다. Furthermore, this invention is equipped with the process of dicing by cutting to the base film of the said adhesive sheet after attaching the said adhesive sheet for dicing to a semiconductor component, and the process of expanding the said adhesive sheet, It is characterized by the above-mentioned. A method for manufacturing a semiconductor device.

이하, 본 발명의 다이싱용 점착 시트를, 도 1을 참조하면서 구체적으로 설명한다. 도 1에 나타낸 바와 같이 본 발명의 다이싱용 점착 시트(1)는 기재 필름(11)과, 상기 기재 필름(11)의 적어도 한 면에 마련된 점착제층(12)과, 또한 필요에 따라 점착층(12)과 접하고 기재 필름(11)과는 반대측 면에 붙여진 세퍼레이터(13)로 구성되어 있다. 도 1에서는 기재 필름(11)의 한 면에 점착제층(12)을 갖지만, 점착제층(12)은 기재 필름의 양면에 형성할 수도 있다. 기재 필름은 2층 이상의 다층 필름이다. 도 1로서는 기재 필름(11)이 2층인 경우를 예시하고 있다. 다이싱측 기재층(11b)는 점착제층(12)의 측에 있어서, 다이싱시에 컷팅이 실시되는 층이 될 수 있다. 한편, 시트 배면측 기재층(11a)은 점착제층(12)과는 반대측에 있고, 다이싱시에 커팅이 실시되지 않는 층으로 할 수 있다. 다이싱용 점착 시트(1)는 시트를 감아 테이프 형상으로 실시할 수도 있다. Hereinafter, the adhesive sheet for dicing of this invention is demonstrated concretely, referring FIG. As shown in FIG. 1, the adhesive sheet 1 for dicing of this invention is a base film 11, the adhesive layer 12 provided in at least one surface of the said base film 11, and the adhesive layer (if needed) It consists of the separator 13 which contact | connected 12) and stuck on the surface opposite to the base film 11. In FIG. 1, although the adhesive layer 12 is provided in one side of the base film 11, the adhesive layer 12 can also be formed in both surfaces of a base film. The base film is a multilayer film of two or more layers. As FIG. 1, the case where the base film 11 is two layers is illustrated. The dicing-side base material layer 11b may be a layer which is cut at the time of dicing on the side of the adhesive layer 12. On the other hand, the sheet back side base material layer 11a is on the opposite side to the adhesive layer 12, and it can be set as the layer which is not cut at the time of dicing. The dicing adhesive sheet 1 can also be wound in a tape shape.

기재 필름(11)의 2층 이상은 프로필렌을 중합 성분으로서 함유하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머이다. 올레핀계 열가소성 엘라스토머는, 보통 프로필렌 외에, 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀을 중합 성분으로서 함유한다. 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀으로서는 부텐-1, 3-메틸펜텐-1, 4-메틸펜텐-1, 헥센-1, 옥텐-1 등을 들 수 있다. 올레핀계 열가소성 엘라스토머로서는 프로필렌과 에틸렌과의 공중합체가 바람직하다. Two or more layers of the base film 11 are olefinic thermoplastic elastomers containing propylene as a polymerization component. The olefinic thermoplastic elastomer usually contains, in addition to propylene, ethylene and / or α-olefin having 4 to 8 carbon atoms as the polymerization component. Examples of the α-olefin having 4 to 8 carbon atoms include butene-1, 3-methylpentene-1, 4-methylpentene-1, hexene-1, octene-1 and the like. As an olefinic thermoplastic elastomer, the copolymer of propylene and ethylene is preferable.

올레핀계 열가소성 엘라스토머를 구성하는 각 중합 성분의 비율은 올레핀계 열가소성 엘라스토머가 상기 융점 피크 온도, 온도 상승 용리 분별에 관계되는 요건을 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 프로필렌의 비율은 보통, 45 내지 98중량%의 범위로 조정되고, 이 범위에서 프로필렌 함유량이 다른 2종 이상의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 사용하는 것이 바람직하다. 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의α-올레핀은 프로필렌의 비율을 뺀 잔량이다. The ratio of each of the polymerization components constituting the olefinic thermoplastic elastomer is not particularly limited as long as the olefinic thermoplastic elastomer satisfies the requirements related to the melting point peak temperature and the temperature eluting fractionation. The proportion of propylene is usually adjusted in the range of 45 to 98% by weight, and it is preferable to use two or more kinds of olefinic thermoplastic elastomers having different propylene content in this range. Ethylene and / or α-olefin having 4 to 8 carbon atoms is the residual amount minus the proportion of propylene.

상술한 바와 같이, 1층 이상은 프로필렌 함유량이 45 내지 90몰%의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층이고, 상기 층은 컷팅이 실시되는 측의 층으로 하는 것이 바람직하다. 한편, 다른 1층 이상은 프로필렌 함유량이 65 내지 98몰%의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층이고, 상기 층은 컷팅이 실시되지 않는 측의 층으로 하는 것이 바람직하다. As described above, at least one layer is a layer containing an olefinic thermoplastic elastomer having a propylene content of 45 to 90 mol%, and the layer is preferably a layer on the side to be cut. On the other hand, at least one other layer is a layer containing an olefinic thermoplastic elastomer having a propylene content of 65 to 98 mol%, and the layer is preferably a layer on the side where no cutting is performed.

본 발명의 올레핀계 열가소성 엘라스토머는 상기 중합 성분을 함유하는 것이고, 상기 융점 피크 온도, 온도 상승 용리 분별에 관계된 조건을 만족하는 것이면 그 제조 방법은 제한되지 않는다. 예컨대, 1단계에서 프로필렌 단독 중합체 또는 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀과의 램덤 공중합체를 제조한 후, 둘째 단계 이후에서 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 기타 α-올레핀의 램덤 공중합체를 제조하는, 2단계 이상의 순차 중합 방법; 프로필렌 단독 중합체 또는 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의α-올레핀의 램덤 공중합체와, 에틸렌과 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀과의 램덤 공중합체, 또는 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8과 프로필렌과의 램덤 공중합체를 각각 별도로 중합한 것을 블렌드하는 제조 방법을 들 수 있다. 이들 방법으로서는 2단계 이상의 순차 중합 방법이 바람직하다. The olefinic thermoplastic elastomer of the present invention contains the polymerization component, and the production method is not limited as long as it satisfies the conditions related to the melting point peak temperature and the temperature eluting fractionation. For example, in one step, a propylene homopolymer or a random copolymer of propylene and ethylene and / or an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms is produced, followed by propylene and ethylene and / or other α having 4 to 8 carbon atoms after the second step. A two or more sequential polymerization process for preparing a random copolymer of olefins; A propylene homopolymer or a random copolymer of propylene with ethylene and / or an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms, a random copolymer of ethylene with an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms, or with ethylene and / or 4 to 8 carbon atoms The manufacturing method which blends what superposed | polymerized the random copolymer with propylene each separately is mentioned. As these methods, two or more sequential polymerization methods are preferable.

이하, 이 순차 중합 방법에 관해서 상술한다. 순차 중합에 사용되는 촉매는 특별히 한정되지 않지만, 유기 알루미늄 화합물과, 티탄 원자, 마그네슘 원자, 할로겐 원자, 및 전자 공여성 화합물을 필수로 하는 고체 성분으로 이루어지는 것이 바람직하다. Hereinafter, this sequential polymerization method is explained in full detail. Although the catalyst used for sequential superposition | polymerization is not specifically limited, It is preferable to consist of an organoaluminum compound, the solid component which consists essentially of a titanium atom, a magnesium atom, a halogen atom, and an electron donating compound.

여기서, 유기 알루미늄 화합물로서는 이 종의 중합이 공지된 화학식(Rl)mAlX(3-m)(상기 식에서, R1은 탄소수 1 내지 12의 탄화수소 잔기이고, X는 할로겐 원자를 나타내고, m은 1 내지 3의 정수이다.)로 표시되는 화합물, 예컨대, 트라이메틸알루미늄, 트라이에틸알루미늄 등의 트라이알킬알루미늄, 다이메틸알루미늄클로라이드, 다이에틸알루미늄클로라이드 등의 다이알킬알루미늄할라이드, 메틸알루미늄세스퀴클로라이드, 에틸알루미늄세스퀴클로라이드 등의 알킬알루미늄세스퀴할라이드, 메틸알루미늄다이클로라이드, 에틸알루미늄다이클로라이드 등의 알킬알루미늄다이할라이드, 다이에틸알루미늄하이드라이드 등의 알킬알루미늄하이드라이드 등을 들 수 있다.Here, as the organoaluminum compound, the polymerization of this species is known in general formula (R l ) m AlX (3-m) (wherein R 1 is a hydrocarbon moiety having 1 to 12 carbon atoms, X represents a halogen atom, and m is A dialkyl aluminum halide such as trialkylaluminum such as trimethylaluminum or triethylaluminum, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, methylaluminum sesquichloride, Alkyl aluminum hydrides such as alkyl aluminum sesquihalides such as ethyl aluminum sesquichloride, methyl aluminum dichloride and ethyl aluminum dichloride, and alkyl aluminum hydrides such as diethyl aluminum hydride.

또한 티탄 원자, 마그네슘 원자, 할로겐 원자, 및 전자 공여성 화합물을 필수로 하는 고체 성분으로서는, 또한 이 종류의 중합에 있어서 공지된 것을 사용할 수 있다. 티탄 원자의 공급원이 되는 티탄 화합물로서는 화학식: Ti(OR2)(4-n)Xn (상기 식에서, R2는 탄소수 1 내지 10의 탄화수소 잔기이고, X는 할로겐 원자를 나타내고, n은 0 내지 4의 정수이다.)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 4염화티탄, 테트라에톡시티탄, 테트라부톡시티탄 등이 바람직하다. 마그네슘 원자의 공급원이 되는 마그네슘 화합물로서는 예컨대, 다이알킬마그네슘, 마그네슘다이할라이드, 다이알콕시마그네슘, 알콕시마그네슘할라이드 등을 들 수 있고, 특히 마그네슘다이할라이드 등이 바람직하다. 또한, 할로겐 원자로서는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다. 이들 할로겐 원자 중 염소가 바람직하다. 또한, 이들 할로겐 원자는 보통, 상기 티탄 화합물로부터 공급되지만, 알루미늄의 할로겐 화합물, 규소의 할로겐 화합물, 텅스텐의 할로겐 화합물 등의 기타 할로겐 공급원으로부터 공급될 수도 있다.Moreover, as a solid component which makes a titanium atom, a magnesium atom, a halogen atom, and an electron donating compound essential, a well-known thing can be used for this kind of superposition | polymerization. As a titanium compound which is a source of a titanium atom, the chemical formula is: Ti (OR 2 ) (4-n) X n (wherein R 2 is a hydrocarbon moiety having 1 to 10 carbon atoms, X represents a halogen atom, and n represents 0 to 0). And an integer of 4). Especially, titanium tetrachloride, tetraethoxy titanium, tetrabutoxy titanium, etc. are preferable. Examples of the magnesium compound serving as the source of the magnesium atom include dialkyl magnesium, magnesium dihalide, dialkoxy magnesium, alkoxy magnesium halide and the like, and magnesium dihalide is particularly preferable. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Of these halogen atoms, chlorine is preferred. In addition, these halogen atoms are usually supplied from the titanium compound, but may also be supplied from other halogen sources such as halogen compounds of aluminum, halogen compounds of silicon, halogen compounds of tungsten and the like.

전자 공여성 화합물로서는 알콜류, 페놀류, 케톤류, 알데하이드류, 카복실산류, 유기산 또는 무기산 및 그 유도체 등의 산소-함유 화합물, 암모니아, 아민류, 나이트릴류, 아이소사이아네이트류 등의 질소-함유 화합물을 들 수 있다. 특히 무기산 에스터, 유기산 에스터, 유기산 할라이드 등이 바람직하고, 규소에스터, 아세트산셀로솔브에스터, 프탈산할라이드 등이 더 바람직하고, 화학식: R3R4 (3-p) Si(OR5)p(상기 식에서, R3는 탄소수 3 내지 20, 바람직하게는 4 내지 10의 분지쇄상 지방족 탄화수소 잔기 또는 탄소수 5 내지 20, 바람직하게는 6 내지 10의 환상 지방족 탄화수소 잔기를 나타내고, R4는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10의 분지쇄 또는 직쇄상 지방족 탄화수소 잔기를 나타내고, p는 1 내지 3의 정수이다.)로 표시되는 유기 규소 화합물, 예컨대, t-뷰틸-메틸-다이에톡시실레인, 사이클로헥실-메틸-다이메톡시실레인, 사이클로헥실-메틸-다이에톡시실레인 등이 특히 바람직하다.Examples of the electron donating compound include oxygen-containing compounds such as alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, organic acids or inorganic acids and derivatives thereof, and nitrogen-containing compounds such as ammonia, amines, nitriles and isocyanates. Can be. In particular, inorganic acid esters, organic acid esters, organic acid halides, and the like are preferable, and silicon esters, cellosolve esters, phthalate halides, and the like are more preferable, and a chemical formula: R 3 R 4 (3-p) Si (OR 5 ) p (above) Wherein R 3 represents a branched aliphatic hydrocarbon residue having 3 to 20 carbon atoms, preferably 4 to 10 carbon atoms or a cyclic aliphatic hydrocarbon residue having 5 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, and R 4 represents 1 to 20 carbon atoms. Preferably a branched or straight chain aliphatic hydrocarbon residue of 1 to 10, p being an integer of 1 to 3), such as t-butyl-methyl-diethoxysilane, cyclo Hexyl-methyl-dimethoxysilane, cyclohexyl-methyl-diethoxysilane, etc. are particularly preferable.

순차 중합법에 있어서, 제 1 단계에서는 프로필렌 또는 추가로 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀을 공급하고, 상기 촉매의 존재 하에 온도 50 내지 150℃, 바람직하게는 50 내지 100℃, 프로필렌의 분압 0.5 내지 4.5MPa, 바람직하게는 1 내지 3.5MPa의 조건에서 프로필렌 단독 중합체 등을 중합하고, 계속해서 제 2 단계에서 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀을 공급하고, 상기 촉매의 존재 하에 온도 50 내지 150℃, 바람직하게는 50 내지 100℃, 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀의 분압 각각 0.3 내지 4.5MPa, 바람직하게는 0.5 내지 3.5MPa의 조건으로, 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀 공중합체의 중합을 실시함으로써 이루어진다. In the sequential polymerization method, in the first step, propylene or additionally ethylene and / or α-olefin having 4 to 8 carbon atoms is supplied, and in the presence of the catalyst, a temperature of 50 to 150 ° C, preferably 50 to 100 ° C, propylene Propylene homopolymer or the like at a partial pressure of 0.5 to 4.5 MPa, preferably 1 to 3.5 MPa, followed by propylene and ethylene and / or? -Olefins having 4 to 8 carbon atoms in the second step, In the presence of a catalyst at a temperature of 50 to 150 ° C., preferably 50 to 100 ° C., and a partial pressure of propylene and ethylene and / or an alpha olefin having 4 to 8 carbon atoms, respectively, of 0.3 to 4.5 MPa, preferably 0.5 to 3.5 MPa. And polymerization of propylene and ethylene and / or an α-olefin copolymer having 4 to 8 carbon atoms.

또한, 이 때의 중합은 회분식, 연속, 반회분식 중 어떤 것에 의할 수 있다. 또한, 제 1 단계의 중합은 기상 또는 액상 중에서 실시되고, 제 2 단계의 중합도 기상 또는 액상 중에서 실시된다. 단지, 각 단계는 기상 중에서 실시하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 각 단계의 체류 시간은 각각 0.5 내지 10시간, 바람직하게는 1 내지 5시간이다. In addition, the superposition | polymerization at this time can be based on either batch type, continuous type, or semi-batch type. In addition, the polymerization of the first stage is carried out in a gaseous phase or a liquid phase, and the polymerization of the second stage is also carried out in a gaseous phase or a liquid phase. However, each step is particularly preferably carried out in the gas phase. In addition, the residence time of each step is 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 5 hours, respectively.

또한 상기 방법에 의해 제조되는 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 분체 입자에 끈적임 등의 문제가 생길 때는 분체 입자의 유동성을 부여할 목적으로, 제 1 단계에서의 중합 후, 제 2 단계에서의 중합 개시 전 또는 중합 도중에, 활성 수소 함유 화합물을 첨가하는 것이 바람직하다. 활성 수소 함유 화합물의 첨가량으로서는 촉매의 고체 성분 중의 티탄 원자에 대하여 100 내지 1000배 몰로, 또한, 촉매의 유기 알루미늄 화합물에 대하여 2 내지 5배몰의 범위가 바람직하다. 또한, 활성 수소 함유 화합물로서는 예컨대, 물, 알콜류, 페놀류, 알데하이드류, 카복실산류, 산아마이드류 암모니아, 아민류 등을 들 수 있다. In addition, when a problem such as stickiness occurs in the powder particles of the olefin-based thermoplastic elastomer produced by the above method, for the purpose of imparting fluidity of the powder particles, after the polymerization in the first step, before the polymerization starts in the second step or the polymerization On the way, it is preferable to add an active hydrogen containing compound. As an addition amount of an active hydrogen containing compound, the range of 100-1000 times mole with respect to the titanium atom in the solid component of a catalyst, and the range of 2-5 times mole with respect to the organoaluminum compound of a catalyst are preferable. Examples of the active hydrogen-containing compound include water, alcohols, phenols, aldehydes, carboxylic acids, acid amides ammonia and amines.

또한, 상기 방법에 의해 제조되는 올레핀계 열가소성 엘라스토머의, JIS K7210에 준거하여 온도 230℃, 하중 21.18N에서 측정한 멜트플로레이트(MFR)는 0.1 내지 50g/10분이고, JIS K7112에 준거하여 수중 치환법으로써 측정한 밀도는 0.87 내지 0.89g/cm3 정도이며, JIS K7203에 준거하여 온도 23℃에서 측정한 휨 탄성율은 600MPa 이하인 것이 된다.In addition, the melt fluorate (MFR) measured by the temperature of 230 degreeC and the load of 21.18N based on JISK7210 of the olefinic thermoplastic elastomer manufactured by the said method is 0.1-50 g / 10min, and it is underwater in accordance with JIS K7112. The density measured by the substitution method is about 0.87 to 0.89 g / cm 3 , and the flexural modulus measured at a temperature of 23 ° C. in accordance with JIS K7203 is 600 MPa or less.

올레핀계 열가소성 엘라스토머는 공지된 유기 퍼옥사이드 또는 추가로 2중 결합을 분자 내에 1개 이상, 바람직하게는 2개 이상 갖는 가교제의 존재 하에서 동적으로 열처리하여 MFR을 조정할 수도 있다. The olefinic thermoplastic elastomer may also be subjected to dynamic heat treatment in the presence of a known organic peroxide or additionally a crosslinking agent having at least one, preferably at least two, double bonds in the molecule to adjust the MFR.

본 발명의 기재 필름(11)은 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고 있는 층을 2층 이상 갖고 있다. 또한, 상기 2층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머로서는 각각의 프로필렌 함유량이 다른 것을 사용하고 있다. 상기 각 층은 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층만으로 형성할 수 있다. 기타, 각 층은 필요에 따라 다른 플라스틱 수지 또는 엘라스토머와의 혼합체로 이루어지는 층으로 실시할 수도 있다. 이러한 플라스틱 수지 또는 엘라스토머로서는 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리부텐 등의 공지된 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리염화바이닐, 폴리우레탄, 폴리 스티렌, 스타이렌계 엘라스토머, 에틸렌과 프로필렌 및/또는 탄소수 4 내지 8의 α-올레핀으로 이루어지는 에틸렌-프렌-α올레핀 공중합체(고무) 등의 통상의 플라스틱 또는 엘라스토머 시트용 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 상술한 바와 같이, 기재 필름 중의 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 함유량은 실 형상 쓰레기 발생 방지 효과로부터, 통상, 50중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상이 바람직하다. 또한, 본 발명의 기재 필름은 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층을 2층 이상 함유하고 있으면, 다른 플라스틱 수지 또는 엘라스토머에 의해 형성되는 층을 추가로 마련할 수도 있다. The base film 11 of this invention has two or more layers containing the said olefinic thermoplastic elastomer. As the olefinic thermoplastic elastomer contained in the two or more layers, those having different propylene contents are used. Each layer may be formed of only a layer containing an olefinic thermoplastic elastomer. In addition, each layer can also be implemented with the layer which consists of a mixture with another plastic resin or an elastomer as needed. Such plastic resins or elastomers include known polyolefins such as polypropylene, polyethylene, polybutene, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, polyurethane, polystyrene, styrene-based elastomers, ethylene, propylene and / or α- having 4 to 8 carbon atoms. Resin for ordinary plastics or elastomer sheets, such as an ethylene-prene- alpha olefin copolymer (rubber) which consists of olefins, can be used preferably. As described above, the content of the olefin-based thermoplastic elastomer in the base film is usually 50% by weight or more, preferably 80% by weight or more, from the effect of preventing the occurrence of trash wastes. Moreover, if the base film of this invention contains two or more layers containing the said olefinic thermoplastic elastomer, you may further provide the layer formed by another plastic resin or an elastomer.

또한, 기재 필름(11) 중에는 광유 등의 연화제, 탄산칼슘, 실리카, 활석, 운도, 점토 등의 충전재, 산화 방지제, 광 안정제, 대전 방지제, 윤활제, 분산제, 중화제, α-정핵제, β-정핵제 등의 각종 첨가제가 필요에 따라 배합될 수도 있다. In addition, in the base film 11, softeners such as mineral oil, fillers such as calcium carbonate, silica, talc, cloudiness, clay, antioxidants, light stabilizers, antistatic agents, lubricants, dispersants, neutralizing agents, α-nucleated agents, β-nucleated Various additives, such as an agent, may be mix | blended as needed.

본 발명의 기재 필름(11)은 2층 필름 또는 3층 이상의 다층 필름이며, 다층 공압출법 등의 통상적인 방법에 따라 제작할 수 있다. 또한, 드라이 라미네이트법 등의 관용의 필름 적층법에 의해 제조할 수 있다. The base film 11 of this invention is a 2-layer film or a multilayer film of three or more layers, and can be manufactured in accordance with conventional methods, such as a multilayer coextrusion method. Moreover, it can manufacture by usual film lamination methods, such as a dry lamination method.

기재 필름(11)의 두께는 보통 10 내지 300μm, 바람직하게는 30 내지 200μm 정도이다. 기재 필름(다층 필름)(11)에 있어서, 각 층의 두께는 다이싱시에 둥근 칼이 도달한다고 상정되는 범위를 고려하여 적당히 결정된다. 보통, 점착제층(12)이 접하는 표면에서 다이싱시에 둥근 칼은 150μm 정도까지 도달한다고 상정된다. 따라서, 보통, 다이싱시에 둥근 칼이 도달한다고 상정되는 층(도 1에서는 층11b)의 두께, 즉, 바람직하게는 프로필렌 함유량이 적은 쪽의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층의 두께는 10 내지 150μm 정도, 바람직하게는 20 내지 120μm의 범위로 조정된다. 한편, 다이싱시에 둥근 칼이 그 정도로 깊게 도달하지 않으면 상정되는 층(도 1에서는 층11a)의 두께, 즉, 프로필렌 함유량이 많은 쪽의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고 있는 층의 두께가 20 내지 150μm 정도, 바람직하게는 30 내지 100μm의 범위로 조정된다. The thickness of the base film 11 is 10-300 micrometers normally, Preferably it is about 30-200 micrometers. In the base film (multilayer film) 11, the thickness of each layer is suitably determined in consideration of the range assumed to reach the round knife at the time of dicing. Usually, it is assumed that a round knife reaches to about 150 micrometers at the time of dicing on the surface which the adhesive layer 12 contact | connects. Therefore, usually, the thickness of the layer (layer 11b in FIG. 1) that is assumed to reach a round knife at the time of dicing, that is, the thickness of the layer containing the olefin-based thermoplastic elastomer, preferably of which the propylene content is smaller is 10 to About 150 micrometers, Preferably it is adjusted to the range of 20-120 micrometers. On the other hand, if the round knife does not reach that deep during dicing, the thickness of the layer (layer 11a in FIG. 1) assumed, that is, the thickness of the layer containing the olefin-based thermoplastic elastomer having the higher propylene content is 20 to 20. About 150 micrometers, Preferably it adjusts to the range of 30-100 micrometers.

또한, 수득된 기재 필름(11)은 필요에 따라 1축 또는 2축 연신 처리를 실시할 수도 있다. 연신 처리를 실시하는 경우에는 60 내지 100℃ 정도로 실시하는 것이 바람직하다. 이렇게 하여 제막된 기재 필름은 필요에 따라 매트 처리, 코로나 방전 처리, 프라이머 처리 등의 관용적인 물리적 또는 화학적 처리를 실시할 수 있다. In addition, the obtained base film 11 can also be uniaxially or biaxially stretched as needed. When performing an extending | stretching process, it is preferable to carry out about 60-100 degreeC. The base film thus formed can be subjected to conventional physical or chemical treatments such as matt treatment, corona discharge treatment, primer treatment and the like as necessary.

점착제층(12)은 공지 내지 관용의 점착제를 사용할 수 있다. 이러한 점착제는 전혀 제한되지 않지만, 예컨대 고무계, 아크릴계, 실리콘계, 폴리비닐에터계 등의 각종 점착제가 사용된다. The adhesive layer 12 can use a well-known or usual adhesive. Although such an adhesive is not restrict | limited at all, Various adhesives, such as rubber type, an acryl type, silicone type, polyvinyl ether type, are used, for example.

상기 점착제로서는 아크릴계 점착제가 바람직하다. 아크릴계 점착제 베이스 폴리머인 아크릴계 폴리머는 보통 (메트)아크릴산알킬의 중합체 또는 공중합성 단량체와의 공중합체가 사용된다. 아크릴계 폴리머의 주요 단량체로서는 그 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 20℃ 이하인 (메트)아크릴산알킬이 바람직하다. As said adhesive, an acrylic adhesive is preferable. The acrylic polymer, which is an acrylic pressure-sensitive adhesive base polymer, is usually a copolymer of an alkyl (meth) acrylate or copolymerizable monomer. As a main monomer of an acryl-type polymer, the alkyl (meth) acrylate whose glass transition temperature of the homopolymer is 20 degrees C or less is preferable.

(메트)아크릴산알킬의 알킬기로서는 예컨대, 메틸기, 에틸기, 뷰틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 아이소노닐기 등을 들 수 있다. 또한, 상기 공중합성 단량체로서는 (메트)아크릴산의 하이드록시알킬에스터(예컨대, 하이드록시에틸에스터, 하이드록시뷰틸에스터, 하이드록시헥실에스터 등), (메트)아크릴산글리시딜에스터, (메트)아크릴산, 이타콘산, 무수말레산, (메트)아크릴산아마이드, (메트)아크릴산N-하이드록시메틸아마이드, (메트)아크릴산알킬아미노알킬, (예컨대, 다이메틸아미노에틸메타크릴레이트, t-뷰틸아미노에틸메타크릴레이트 등), 아세트산바이닐, 스타이렌, 아크릴로나이트릴 등을 들 수 있다. As an alkyl group of (meth) acrylate, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, 2-ethylhexyl group, an octyl group, an isononyl group, etc. are mentioned, for example. Moreover, as said copolymerizable monomer, hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid (for example, hydroxyethyl ester, hydroxybutyl ester, hydroxyhexyl ester, etc.), (meth) acrylic-acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid, Itaconic acid, maleic anhydride, (meth) acrylic acid amide, (meth) acrylic acid N-hydroxymethylamide, (meth) acrylate alkylaminoalkyl, (e.g., dimethylaminoethyl methacrylate, t-butylaminoethyl methacrylate) Vinyl acetate, styrene, acrylonitrile, etc. are mentioned.

또한, 점착제로서는 자외선, 전자선 등에 의해 경화하는 방사선 경화형 점착제나 가열 발포형 점착제를 사용할 수도 있다. 또한, 다이싱·다이본드 겸용 가능한 점착제일 수도 있다. 본 발명에 있어서는 방사선 경화형 점착제, 특히 자외선 경화형 점착제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 점착제로서 방사선 경화형 점착제를 사용하는 경우에는 다이싱 공정 전 또는 후에 점착제에 방사선이 조사되기 때문에 상기 기재 필름은 충분한 방사선 투과성을 갖는 것이 바람직하다. As the pressure-sensitive adhesive, a radiation-curable pressure-sensitive adhesive or a heat-expandable pressure-sensitive adhesive that is cured by ultraviolet rays, electron beams, or the like can also be used. Moreover, the adhesive which can be used for a dicing die bond may be sufficient. In the present invention, it is preferable to use a radiation curable pressure sensitive adhesive, particularly an ultraviolet curable pressure sensitive adhesive. Moreover, when using a radiation curable adhesive as an adhesive, since the radiation is irradiated to an adhesive before or after a dicing process, it is preferable that the said base film has sufficient radiation transmittance.

방사선 경화형 점착제는 예컨대, 상기 베이스 폴리머(아크릴계 폴리머)와, 방사선 경화 성분을 함유하여 이루어진다. 방사선 경화 성분은 분자 중에 탄소-탄소 2중 결합을 갖고, 라디칼 중합에 의해 경화 가능한 단량체, 올리고머 또는 폴리머를 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 방사선 경화 성분으로서는 예컨대, 트라이메틸올프로판트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨트라이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜다이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가알콜과의 에스터화물; 에스터아크릴레이트 올리고머; 2-프로펜일-다이-3-뷰텐일시아누레이트, 2-하이드록시에틸비스(2-아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트, 트리스(2-메타크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트 등의 아이소사이아누레이트 또는 아이소사이아누레이트 화합물 등을 들 수 있다. The radiation curable pressure sensitive adhesive contains, for example, the base polymer (acrylic polymer) and a radiation curable component. The radiation curable component has a carbon-carbon double bond in the molecule, and any monomer, oligomer or polymer that can be cured by radical polymerization can be used without particular limitation. Examples of the radiation curable component include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acryl. Esters of (meth) acrylic acid and polyhydric alcohols such as late, neopentyl glycol di (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Esteracrylate oligomers; Isocyanu, such as 2-propenyl-di-3-butenylcyanurate, 2-hydroxyethylbis (2-acryloxyethyl) isocyanurate, and tris (2-methacryloxyethyl) isocyanurate Elate or isocyanurate compound, etc. are mentioned.

또한, 방사선 경화형 점착제의 베이스 폴리머(아크릴계 폴리머)로서는 폴리머 측쇄에 탄소-탄소 2중 결합을 갖는 방사선 경화형 폴리머를 사용할 수도 있다. 이 경우에 있어서는 특별히 상기 방사선 경화 성분을 첨가할 필요는 없다. As the base polymer (acrylic polymer) of the radiation curable pressure sensitive adhesive, a radiation curable polymer having a carbon-carbon double bond in the polymer side chain can also be used. In this case, it is not necessary to add the said radiation hardening component in particular.

방사선 경화형 점착제를 자외선에 의해 경화시키는 경우에는 광중합 개시제가 필요하다. 중합 개시제로서는 예컨대, 벤조일메틸에터, 벤조인프로필에터, 벤조인아이소부틸에터 등의 벤조인알킬에터류; 벤질, 벤조인, 벤조페논, α-하이드록시사이클로헥실페닐케톤 등의 방향족 케톤류; 벤질다이메틸케탈 등의 방향족 케탈류; 폴리바이닐벤조페논; 클로로티오크산톤, 도데실티오크산톤, 다이메틸티오크산톤, 다이에틸티오크산톤 등의 티오크산톤류 등을 들 수 있다. When hardening a radiation curable adhesive with an ultraviolet-ray, a photoinitiator is needed. As a polymerization initiator, For example, benzoin alkyl ether, such as benzoyl methyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether; Aromatic ketones such as benzyl, benzoin, benzophenone and α-hydroxycyclohexylphenyl ketone; Aromatic ketals such as benzyl dimethyl ketal; Polyvinylbenzophenone; Thioxanthones, such as a chloro thioxanthone, a dodecyl thioxanthone, a dimethyl thioxanthone, and a diethyl thioxanthone, etc. are mentioned.

상기 점착제에는 또한 필요에 따라, 가교제, 점착 부여제, 충전제, 노화 방지제, 착색제 등의 관용의 첨가제를 함유시킬 수 있다. 가교제로서는 예컨대, 폴리아이소사이아네이트 화합물, 멜라민 수지, 요소 수지, 아지리딘 화합물, 에폭시 수지, 무수화물, 폴리아민, 카복실기 함유 폴리머 등을 들 수 있다. The said adhesive can also be made to contain common additives, such as a crosslinking agent, a tackifier, a filler, anti-aging agent, a coloring agent, as needed. Examples of the crosslinking agent include polyisocyanate compounds, melamine resins, urea resins, aziridine compounds, epoxy resins, anhydrides, polyamines, and carboxyl group-containing polymers.

본 발명의 다이싱용 점착 시트(1)는 예컨대, 기재 필름(11)의 표면에, 점착제를 도포하여 건조시켜(필요에 따라 가열 가교시켜) 점착제층(12)을 형성하고, 필요에 따라 이 점착제층(12)의 표면에 세퍼레이터(13)를 접착함으로써 제조할 수 있다. 또한, 별도, 세퍼레이터(13)에 점착제층(12)을 형성한 후, 이들을 기재 필름(11)에 접착하는 방법 등을 채용할 수 있다. In the adhesive sheet 1 for dicing of this invention, an adhesive is apply | coated to the surface of the base film 11, for example, it heat-crosslinks as needed, the adhesive layer 12 is formed, and this adhesive is needed. It can manufacture by adhering the separator 13 to the surface of the layer 12. In addition, after forming the adhesive layer 12 in the separator 13, the method etc. which adhere these to the base film 11 can be employ | adopted.

점착제층(12)의 두께는 점착제의 종류, 또는 다이싱 컷팅 깊이에 의해 보다 적절히 결정할 수 있다. 상기 점착제층(12)의 두께는 보통 1 내지 200μm, 바람직하게는 3 내지 50μm 정도이다. The thickness of the adhesive layer 12 can be more suitably determined by the kind of adhesive or the dicing cut depth. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is usually 1 to 200 μm, preferably about 3 to 50 μm.

세퍼레이터(13)는 라벨 가공을 위해, 또는 점착제층(12)을 평활하게 하는 목적을 위해, 필요에 따라 마련된다. 세퍼레이터(13)의 구성 재료로서는 종이, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 합성 수지 필름 등을 들 수 있다. 세퍼레이터(13)의 표면에는 점착제층(12)으로부터의 박리성을 높이기 위해 필요에 따라 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리가 실시될 수도 있다. 또한, 강성을 높이는 등의 목적에 따라, 1축 또는 2축 연신 처리 또는 다른 플라스틱 필름 등으로 적층을 실시할 수도 있다. 세퍼레이터의 두께는 보통 10 내지 200μm, 바람직하게는 25 내지 100μm정도이다. The separator 13 is provided as needed for label processing or for the purpose of smoothing the adhesive layer 12. As a constituent material of the separator 13, synthetic resin films, such as paper, polyethylene, a polypropylene, and a polyethylene terephthalate, etc. are mentioned. In order to improve the peelability from the adhesive layer 12, the surface of the separator 13 may be subjected to a peeling treatment such as silicon treatment, long chain alkyl treatment, fluorine treatment or the like as necessary. Moreover, lamination | stacking may be performed by uniaxial or biaxial stretching process, another plastic film, etc. according to the purpose of raising rigidity, etc. The thickness of the separator is usually 10 to 200 m, preferably about 25 to 100 m.

실시예Example

이하, 실시예에 따라 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되지 않는다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by these Examples.

실시예 1Example 1

(기재 필름의 제작)(Production of base film)

미쓰비시 화학(주) 제품인 「상품명: 제라스 5053」와 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 7053」을 (주)푸라코사 제품인 2종 2층 T다이 성형기(설정 온도 230℃)에 공급하여 제막했다. 이에 의해, 두께 100μm(층비= 50:50), 폭 29cm의 2층 기재 필름을 제작했다. Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "Jeras 5053" and Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product "Product Name: Geras 7053" were supplied to Purako Co., Ltd., 2 type 2-layer T-die molding machine (setting temperature 230 degreeC), Unveiled. This produced the 2-layer base film of thickness 100micrometer (layer ratio = 50: 50), and width 29cm.

미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 5053」는 프로필렌 성분 72.5몰% 및 에틸렌 성분 17.5몰%의 올레핀계 열가소성 엘라스토머이고, o-다이클로로벤젠을 용매로서 사용한, 온도 0 내지 140℃ 사이의 온도 상승 용리 분별에 있어서의 0℃에서의 용출분이 전체 용출량에 대하여 41.7중량%이고, 융점 피크 온도가 164℃이고, 밀도가 0.88g/cm3이고, MFR(230℃, 21.18N)이 6.8g/10분이다.Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "Geras 5053" is an olefinic thermoplastic elastomer of 72.5 mol% of a propylene component and 17.5 mol% of an ethylene component, and the temperature between 0-140 degreeC which used o-dichlorobenzene as a solvent. The elution fraction at 0 ° C in the eluting fractionation was 41.7% by weight, the melting point peak temperature was 164 ° C, the density was 0.88 g / cm 3 , and the MFR (230 ° C, 21.18N) was 6.8 g / 10 minutes.

한편, 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 7053」는 프로필렌 성분 86.0몰% 및 에틸렌 성분 14.0몰%의 올레핀계 열가소성 엘라스토머이며, o-다이클로로벤젠을 용매로서 사용한, 온도 0 내지 140℃ 사이의 온도 상승 용리 분별에 있어서의 0℃에서의 용출분이 전체 용출량에 대하여 21.5중량%이고, 융점 피크 온도가 164℃이고, 밀도가 0.89g/cm3이고, MFR(230℃, 21.18N)이 7.0g/10분이다.On the other hand, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "Geras 7053" is an olefinic thermoplastic elastomer of 86.0 mol% of a propylene component and 14.0 mol% of an ethylene component, and is between 0-140 degreeC using o-dichlorobenzene as a solvent. The eluted fraction at 0 ° C. in the temperature rising elution fraction was 21.5% by weight based on the total amount of elution, the melting point peak temperature was 164 ° C., the density was 0.89 g / cm 3 , and the MFR (230 ° C., 21.18N) was 7.0 g / 10 minutes.

(점착제의 조제)(Preparation of Adhesive)

아크릴산뷰틸 95중량부 및 아크릴산 5중량부를 톨루엔 속에서 통상적인 방법에 의해 공중합시켜 수득된 중량 평균 분자량 500,000의 아크릴계 공중합체를 함유하는 용액에, 다이펜타에리쓰리톨헥사아크릴레이트(상품명 「카야랏드 DPHA」, 니혼화약 (주) 제품) 60중량부, 광중합 개시제(상품명 「일가큐아 184」, 치바·스페셜티·케미컬사 제품) 3중량부, 폴리아이소사이아네이트 화합물(상품명 「콜로네이트L」, 일본 폴리 우레탄 (주) 제품) 5중량부를 첨가하여, 아크릴계 자외선 경화형 점착제 용액을 조제했다. Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Kayalad DPHA) in a solution containing a weight average molecular weight of 500,000 acrylic copolymer obtained by copolymerizing 95 parts by weight of butyl acrylate and 5 parts by weight of acrylic acid in toluene by a conventional method. , Nippon Kayaku Co., Ltd.) 60 parts by weight, photopolymerization initiator (trade name "Ilgacua 184", Chiba Specialty Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight, polyisocyanate compound (brand name "Colonate L", Japan 5 parts by weight of Polyurethane Co., Ltd.) was added to prepare an acrylic ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive solution.

(다이싱용 점착 시트의 제작)(Production of the adhesive sheet for dicing)

상기에서 조제한 점착제 용액을, 상기에서 수득된 기재 필름의 코로나 처리면상에 도포하고, 80℃에서 10분간 가열 가교하여, 두께 20μm의 자외선 경화형 점착제층을 형성했다. 또한, 점착제층의 형성은 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 5053」에 의해 형성된 층측에 실시했다. 계속해서, 상기 점착제층면에 세퍼레이터를 접착하여 자외선 경화형 다이싱용 점착 시트를 제작했다. The adhesive solution prepared above was apply | coated on the corona treatment surface of the base film obtained above, and it heat-crosslinked at 80 degreeC for 10 minutes, and formed the ultraviolet curable adhesive layer of thickness 20micrometer. In addition, formation of an adhesive layer was performed to the layer side formed by "brand name: Geras 5053" which is a Mitsubishi Chemical Corporation product. Subsequently, the separator was stuck to the said adhesive layer surface, and the adhesive sheet for ultraviolet curable dicing was produced.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1의 다이싱용 점착 시트의 제작에 있어서, 기재 필름으로서, 에틸렌-메틸메타크릴레이트 공중합체(스미토모 화학 (주) 제품, 상품명 아크리프트 WD201)를 T다이 성형기에 의해 두께 100μm이 되도록 제막한 필름을 사용한 점 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 다이싱용 점착 시트를 제작했다. 또한, 에틸렌-메타크릴산 공중합체의 융점 피크 온도는 100℃이고, 밀도는 0.93g/cm3, MFR(190℃, 21.18N) 2.0g/10분이다.In the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of Example 1, an ethylene-methyl methacrylate copolymer (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product, trade name Arclift WD201) was formed into a film with a T die molding machine so as to have a thickness of 100 μm. Except for using a film, it carried out similarly to Example 1, and produced the dicing adhesive sheet. Moreover, melting | fusing point peak temperature of an ethylene-methacrylic acid copolymer is 100 degreeC, and a density is 0.93g / cm <3> , MFR (190 degreeC, 21.18N) 2.0g / 10min.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1의 다이싱용 점착 시트의 제작에 있어서, 기재 필름으로서, 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 5053」을 T다이 성형기에 의해 단층으로 두께 100μm가 되도록 제막한 필름을 사용한 점 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 다이싱용 점착 시트를 제작했다. In the preparation of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of Example 1, the present invention was carried out as a base film except that a film formed by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product "Jeras 5053" was formed into a single layer by a T-die molding machine so as to have a thickness of 100 μm. In the same manner as in Example 1, an adhesive sheet for dicing was produced.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1의 다이싱용 점착 시트의 제작에 있어서, 기재 필름으로서, 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 7053」을 T다이 성형기에 의해 단층으로 두께 100μm이 되도록 제막한 필름을 사용한 점 외에는 실시예 1와 동일하게 하여 다이싱용 점착 시트를 제작했다. In the production of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of Example 1, except that a film formed by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name "Jeras 7053" was formed into a single layer by a T-die molding machine so as to have a thickness of 100 μm. In the same manner as in Example 1, an adhesive sheet for dicing was produced.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 1의 다이싱용 점착 시트의 제작에 있어서, 기재 필름으로서, 미쓰비시 화학 (주) 제품인 「상품명: 제라스 5053」과 스미토모 화학 (주) 제품인 「상품명 아크리프트 WM 305)를 2종 2층 T다이 성형기(설정 온도 230℃)에 공급하여, 두께 100μm(층 비= 50:50)이 되도록 제막한 2층 기재 필름을 사용한 점 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 다이싱용 점착 시트를 제작했다. 또한, 점착제층의 형성은 제라스 5053에 의해 형성된 층 측에 실시했다. In preparation of the adhesive sheet for dicing of Example 1, as a base film, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product brand name: "Jeras 5053" and Sumitomo Chemical Co., Ltd. product "Arclift WM 305) are two types of two-layer T A pressure-sensitive adhesive sheet for dicing was produced in the same manner as in Example 1 except that the two-layer base film was supplied to a die molding machine (set temperature 230 ° C.) and formed into a film having a thickness of 100 μm (layer ratio = 50: 50). In addition, formation of the adhesive layer was performed on the layer side formed by JERAS 5053.

(평가 시험)(Evaluation test)

실시예 및 각 비교예에서 수득된 다이싱용 점착 시트를 하기의 방법에 의해 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다. The adhesive sheet for dicing obtained by the Example and each comparative example was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

(피쉬 아이)(Fish eye)

실시예 및 각 비교예에 있어서, 다이싱용 점착 시트를 30m 제작하고, 육안으로 직경 1mm 이상의 피쉬 아이의 개수를 계측했다. 표 1에는 1m2 당 개수를 나타낸다.In the Example and each comparative example, 30 m of adhesive sheets for dicing were produced, and the number of fish eyes of 1 mm or more in diameter was visually measured. Table 1 shows the number per 1 m 2 .

(칩핑 평가)(Chipping evaluation)

실시예 및 각 비교예에서 수득된 다이싱용 점착 시트에, 이면이 백 그라인드(#2000 마무리)된 두께 150μm의 6인치 웨이퍼를 마운트했다. 그 후, 이하의 조건에 의해, 다이싱용 점착 시트가 부착된 웨이퍼를 23℃(실온)에서 다이싱했다. 다이싱 후, 시트 이면으로부터 자외선을 조사(500mJ/cm2)하고, 계속해서 임의의 반도체칩 50개를 픽업(박리)했다. 계속해서, 반도체칩 측면의 칩핑의 칩 두께 방향의 깊이를 광학 현미경(200배)으로 관찰하고, 그 크기마다 칩핑수(개수)를 카운트했다.On the adhesive sheet for dicing obtained by the Example and each comparative example, the 6-inch wafer of 150 micrometers in thickness which was back grind | polished (# 2000 finish) was mounted. Then, the wafer with an adhesive sheet for dicing was diced at 23 degreeC (room temperature) on condition of the following. After dicing, the ultraviolet-ray was irradiated (500mJ / cm <2> ) from the back surface of the sheet | seat, and 50 arbitrary semiconductor chips were then picked up (peeled off). Subsequently, the depth of the chip thickness direction of chipping on the semiconductor chip side was observed with an optical microscope (200 times), and the number of chippings (number) was counted for each size.

(수율)(yield)

칩핑 평가를 실시한 임의의 반도체칩 50개에 관해서, 칩핑 사이즈가 50μm 이상이 아닌 것의 비율을 수율(%)로 했다. About 50 arbitrary semiconductor chips which performed the chipping evaluation, the ratio of the chipping size not being 50 micrometers or more was made into the yield (%).

<다이싱 조건><Dicing Condition>

다이싱 장치: DISCO사 제품, DFD-651 Dicing Device: Manufactured by DISCO, DFD-651

블레이드: DISCO사 제품, 27HECC Blade: DISCO, 27HECC

블레이드 회전수: 40000rpm Blade Speed: 40000rpm

다이싱 속도: 120mm/sec Dicing Speed: 120mm / sec

다이싱 깊이: 25μm Dicing Depth: 25μm

컷트 모드: 다운 컷트Cut Mode: Down Cut

다이싱 사이즈: 2.5× 2.5mmDicing size: 2.5 × 2.5mm

(익스팬드 평가)(Expand evaluation)

실시예 및 각 비교예에서 수득된 다이싱용 점착 시트에, 이면이 백 그라인드(#2000 마무리)된 두께 150μm의 6인치 웨이퍼를 마운트했다. 그 후, NEC 머시너리(주) 제품인 CPS-100를 사용하여, 끌어내림량 15mm의 익스팬드를 실시하고, 그 상태(익스팬드)로 필름의 찢어짐 유무를 육안으로 관찰했다. On the adhesive sheet for dicing obtained by the Example and each comparative example, the 6-inch wafer of 150 micrometers in thickness which was back grind | polished (# 2000 finish) was mounted. Thereafter, using a CPS-100 manufactured by NEC Machinery Co., Ltd., an expansion amount of 15 mm was expanded and the presence or absence of tearing of the film was visually observed in the state (expand).

(실 형상 쓰레기)(Room shape garbage)

상기 다이싱 조건에 의해 절단된 웨이퍼 표면을 광학 현미경으로 관찰했다. 웨이퍼 중앙부의 다이싱 라인을 세로와 가로 각 1개에 관해서 관찰하여, 확인된 실 형상 쓰레기를 카운트했다. The wafer surface cut | disconnected by the said dicing conditions was observed with the optical microscope. The dicing line of the wafer center part was observed about each of length and width, and the confirmed real garbage was counted.

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예의 다이싱용 점착 시트로서는 피쉬 아이(실 형상 쓰레기의 발생)가 관찰되지 않는다. 또한, 칩핑 사이즈 50μm 이상의 발생은 매우 적어 수율이 양호하고, 익스팬드 공정에 있어서도 필름이 찢어지지 않는다는 점이 관찰된다. 한편, 비교예 1, 3 및 4에서는 칩핑 사이즈 50μm 이상의 발생이 많고, 수율이 양호하지 않다. 비교예 2에서는 익스팬드일 때에 필름이 찢어져서, 익스팬드를 필요로 하는 공정에서는 사용할 수 없었다. As can be seen from Table 1, the fish eye (the generation of thread-like garbage) is not observed as the adhesive sheet for dicing of the Example. In addition, it is observed that the occurrence of chipping size of 50 µm or more is very small and the yield is good, and that the film does not tear even in the expanding process. On the other hand, in the comparative examples 1, 3, and 4, the generation | occurrence | production of chipping size 50 micrometers or more is large and a yield is not favorable. In Comparative Example 2, the film was torn when expanded, and thus could not be used in a process requiring expansion.

도 1은 본 발명의 다이싱용 점착 시트의 일례를 나타내는 단면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows an example of the adhesive sheet for dicing of this invention.

부호의 설명Explanation of the sign

1 다이싱용 점착 시트Adhesive sheet for 1 dicing

11 기재 필름11 base film

11a 다이싱측 기재층11a dicing-side base layer

11b 시트 배면측 기재층11b sheet back side base material layer

12 점착제층12 adhesive layer

13 세퍼레이터 13 separator

Claims (9)

기재 필름상의 한 면 이상에 점착제층이 설치되어 이루어지는 다이싱용 점착 시트에 있어서, In the adhesive sheet for dicing which an adhesive layer is provided in one or more surfaces on a base film, 상기 기재 필름이 2층 이상의 다층 필름이고, The base film is a multilayer film of two or more layers, 상기 다층 필름의 2층 이상이 프로필렌을 중합 성분으로서 함유하는 올레핀계 열가소성 엘라스토머이고, 융점 피크 온도가 120 내지 170℃인 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하고, Two or more layers of the multilayer film are olefinic thermoplastic elastomers containing propylene as a polymerization component, and contain a olefinic thermoplastic elastomer having a melting point peak temperature of 120 to 170 ° C, 또한, 상기 2층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머가 각각의 프로필렌 함유량이 다른 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. Moreover, the olefinic thermoplastic elastomer contained in the said 2 or more layer differs in each propylene content, The adhesive sheet for dicing characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 2층 이상의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 다층 필름에서 프로필렌 함유량이 적은 쪽의 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 층이 점착제층 측으로 이루어져 있음을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. The adhesive sheet for dicing characterized in that the layer containing the olefinic thermoplastic elastomer with the less propylene content consists of an adhesive layer side in the multilayer film containing the said 2 or more olefinic thermoplastic elastomer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 2층 이상의 다층 필름의 1층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 프로필렌 함유량이 45 내지 90몰%이고, The propylene content of the olefinic thermoplastic elastomer contained in at least one layer of the two or more multilayer films is 45 to 90 mol%, 또한, 다른 1층 이상에 함유된 올레핀계 열가소성 엘라스토머가 프로필렌 함유량이 65 내지 98몰%인 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. Moreover, the olefinic thermoplastic elastomer contained in another 1 or more layer is propylene content 65-98 mol%, The adhesive sheet for dicing characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머의 o-다이클로로벤젠을 용매로서 사용한 온도 0 내지 140℃ 사이의 온도 상승 용해 분별에 있어서의 0℃에서의 용출분이 전체 용출량에 대하여 10 내지 60중량%인 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. The elution at 0 ° C in the temperature rise dissolution fractionation between 0 to 140 ° C using the o-dichlorobenzene of the olefinic thermoplastic elastomer as a solvent is 10 to 60% by weight based on the total amount of elution. A pressure-sensitive adhesive sheet. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 함유하는 2층 이상이, 올레핀계 열가소성 엘라스토머를 50중량% 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. Two or more layers containing the said olefinic thermoplastic elastomer contain 50 weight% or more of an olefinic thermoplastic elastomer, The adhesive sheet for dicing. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 점착제층의 두께가 1 내지 200μm인 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. The thickness of an adhesive layer is 1-200 micrometers, The adhesive sheet for dicing characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 점착제층이 방사선 경화형 점착제에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 다이싱용 점착 시트. The pressure-sensitive adhesive layer is formed of a radiation curable pressure-sensitive adhesive, characterized in that the adhesive sheet for dicing. 제 1 항에 따른 다이싱용 점착 시트를, 피절단물에 붙인 후, 상기 점착 시트의 기재 필름까지 컷팅을 실시함으로써 피절단물을 다이싱하는 것을 특징으로 하는 다이싱 방법. The dicing method of Claim 1 which dicing a to-be-cut object by sticking the adhesive sheet for dicing to a to-be-cut object, and then cutting to the base film of the said adhesive sheet. 제 1 항에 따른 다이싱용 점착 시트를, 반도체 부품에 첨부한 후에 상기 점착 시트의 기재 필름까지 컷팅을 실시함으로써 다이싱을 실시하는 공정, 및 상기 점착 시트의 익스팬드 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 제조 방법. After attaching the adhesive sheet for dicing according to Claim 1 to a semiconductor component, it has a process of dicing by cutting to the base film of the said adhesive sheet, and the semiconductor process characterized by the expansion process of the said adhesive sheet. Method of manufacturing the device.
KR1020040084872A 2003-10-24 2004-10-22 An adhesive sheet for dicing, a dicing method, and a method for manufacturing a semiconductor KR101116536B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003364407A JP4554908B2 (en) 2003-10-24 2003-10-24 Dicing adhesive sheet, dicing method and semiconductor element manufacturing method
JPJP-P-2003-00364407 2003-10-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050039656A true KR20050039656A (en) 2005-04-29
KR101116536B1 KR101116536B1 (en) 2012-03-13

Family

ID=34643391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040084872A KR101116536B1 (en) 2003-10-24 2004-10-22 An adhesive sheet for dicing, a dicing method, and a method for manufacturing a semiconductor

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4554908B2 (en)
KR (1) KR101116536B1 (en)
CN (1) CN100419964C (en)
TW (1) TWI318778B (en)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4850625B2 (en) * 2006-08-22 2012-01-11 日東電工株式会社 Adhesive sheet for laser processing
JP2010123763A (en) * 2008-11-20 2010-06-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive film for processing semiconductor wafer
JP5441459B2 (en) * 2009-03-19 2014-03-12 グンゼ株式会社 Back grind film and manufacturing method thereof
JP5441458B2 (en) * 2009-03-19 2014-03-12 グンゼ株式会社 Back grind film and manufacturing method thereof
JP5519189B2 (en) * 2009-05-27 2014-06-11 日東電工株式会社 Adhesive sheet for dicing electronic components
JP2011018669A (en) * 2009-07-07 2011-01-27 Nitto Denko Corp Adhesive sheet for dicing semiconductor wafer, and method for dicing semiconductor wafer using the same
JP5412359B2 (en) * 2009-07-23 2014-02-12 日東電工株式会社 Laminated film and adhesive tape
JP5210346B2 (en) * 2010-04-19 2013-06-12 電気化学工業株式会社 Method for manufacturing adhesive sheet and electronic component
CN103797567B (en) * 2011-09-30 2018-05-11 琳得科株式会社 Manufacture method with the cambial cutting diaphragm of protective film and chip
JP5019656B1 (en) * 2011-10-21 2012-09-05 古河電気工業株式会社 Adhesive tape for dicing processing for semiconductor devices
JP6129629B2 (en) * 2012-12-10 2017-05-17 日東電工株式会社 Dicing tape integrated adhesive sheet and manufacturing method of semiconductor device using dicing tape integrated adhesive sheet
JP6264865B2 (en) * 2013-11-29 2018-01-24 住友ベークライト株式会社 Dicing film
JP2016162787A (en) * 2015-02-27 2016-09-05 住友ベークライト株式会社 Base material film for dicing film and dicing film
WO2016151911A1 (en) * 2015-03-23 2016-09-29 リンテック株式会社 Semiconductor processing sheet and method for manufacturing semiconductor device
KR102476430B1 (en) * 2015-12-08 2022-12-09 린텍 가부시키가이샤 A dicing sheet and a method for manufacturing the dicing sheet
CN111128879A (en) * 2019-12-27 2020-05-08 青岛歌尔微电子研究院有限公司 Wafer and cutting method thereof

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57190064A (en) 1981-05-19 1982-11-22 Toray Ind Inc Adhesive tape
JPH07106618B2 (en) * 1991-05-17 1995-11-15 アキレス株式会社 Multi-layer sheet
JP2545170B2 (en) * 1991-12-05 1996-10-16 リンテック株式会社 Wafer sticking adhesive sheet and wafer dicing method
JPH08283671A (en) * 1995-04-14 1996-10-29 Nitto Denko Corp Adhesive film for surface protection
EP0979852B1 (en) * 1998-08-10 2004-01-28 LINTEC Corporation A dicing tape and a method of dicing a semiconductor wafer
US6713166B2 (en) * 2000-09-28 2004-03-30 Gunze Co., Ltd. Laminating film and laminate
US7141300B2 (en) * 2001-06-27 2006-11-28 Nitto Denko Corporation Adhesive sheet for dicing
JP3548547B2 (en) * 2001-06-27 2004-07-28 日東電工株式会社 Adhesive sheet for dicing
JP3984076B2 (en) * 2002-02-27 2007-09-26 日東電工株式会社 Dicing adhesive sheet
JP4578050B2 (en) * 2001-09-04 2010-11-10 グンゼ株式会社 Wafer dicing tape substrate

Also Published As

Publication number Publication date
JP4554908B2 (en) 2010-09-29
KR101116536B1 (en) 2012-03-13
TW200515499A (en) 2005-05-01
TWI318778B (en) 2009-12-21
CN100419964C (en) 2008-09-17
CN1610070A (en) 2005-04-27
JP2005129763A (en) 2005-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101116536B1 (en) An adhesive sheet for dicing, a dicing method, and a method for manufacturing a semiconductor
KR100871037B1 (en) Adhesive sheet for dicing
US8728910B2 (en) Expandable film, dicing film, and method of producing semiconductor device
JP4837490B2 (en) Adhesive sheet for processing
KR102355077B1 (en) Adhesive sheet for semiconductor processing
JP2009267389A (en) Dicing film
JP2015096580A (en) Expandable base film, dicing film, surface protective film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device
JP2009242586A (en) Adhesive tape substrate and adhesive sheet
JP3984075B2 (en) Dicing adhesive sheet
JP3443110B2 (en) Adhesive sheet for dicing
JP2001072947A (en) Dicing pressure-sensitive adhesive sheet
JP2015214658A (en) Expandable substrate film, expandable adhesive film, dicing film, production method of expandable substrate film and production method of semiconductor device
JP2005116920A (en) Adhesive sheet for semiconductor processing and method for processing semiconductor
TW201346001A (en) Adhesive sheet used in dicing
WO2015193990A1 (en) Dicing-sheet base film and dicing sheet
JP4367082B2 (en) Release agent and release sheet
JP3984076B2 (en) Dicing adhesive sheet
JP2005297247A (en) Substrate for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet
JP3548547B2 (en) Adhesive sheet for dicing
JP2004338289A (en) Base material for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet
JP2005002240A (en) Base material for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet
JP6359243B2 (en) Surface protection film
KR20190085059A (en) Adhesive tape for semiconductor processing
JP6106526B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer processing
JP6391441B2 (en) Semiconductor wafer protection sheet

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150119

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160119

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170119

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180119

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190117

Year of fee payment: 8