KR20050001086A - 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치 및 이를 이용한 고속미세패턴 기록시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치 및 이를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템에 관한 것이다. 본 발명은 2차원으로 어레이된 광량조절셀(액정 셀 또는 마이크로 거울 등)을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부와, x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키는 마이크로 렌즈 어레이와, 상기 마이크로 렌즈의 초점 거리를 두께로 하며 상기 마이크로 렌즈 어레이에 접합되어 광을 투과시키는 기판과, 상기 기판에 금속 박막을 입히고, 상기 마이크로 렌즈에 의해 집속된 광을 통과시키는 개구를 상기 금속 박막에 x축과 y축으로 배열시켜 이루어진 마이크로 렌즈 어레이를 포함하여 2차원 광변조 미세 개구 어레이를 형성한다. 그리고, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이에 광원부, 광전송부와 평행광 생성렌즈에 의해 생성된 광을 조사하여 미세 개구를 통해 광이 출력되게 하고, 이렇게 개구를 통해 조사된 광이 2차원 평면에 스캐닝되도록 x축과 y축 방향으로 이동하는 스캔 장치를 구비하여 미세 패턴을 고속으로 기록한다.

Description

2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치 및 이를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템{Two-dimensional light-modulating nano/micro aperture array and high-speed nano pattern recording system utilized with the array}
본 발명은 리소그래피(lithography) 기술에 관한 것으로, 특히, 입사되는 광을 미세 패턴의 기록이 가능하도록 변조시키는 2차원 광변조 미세 개구 어레이(nano aperture array) 장치 및, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용하여 고속으로 반도체 소자와 같은 나노 크기의 패턴을 형성시키는 고속 미세패턴 기록시스템에 대한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 제조에 사용되는 리소그래피 기술은 마스킹(masking) 공정과 노광 공정으로 이루어진다. 즉, 리소그래피 기술은 초정밀 광학계를 이용하여 미세 패턴을 기록한 포토마스크(photo mask)를 제작하고, 제작한 포토 마스크의 형상을 노광하여 실리콘 웨이퍼에 옮기는 기술이다.
이러한 리소그래피 기술은 실리콘 웨이퍼에 형성하는 마스크 패턴의 미세화를 주관하고 있으므로, 고집적화 되어가고 있는 반도체 소자 기술의 핵심 기술로 부각되고 있다. 리소그래피 기술이 진보할수록 실리콘 웨이퍼에 형성되는 마스크 패턴의 선폭이 좁아지게 되어 반도체의 고집적화가 이루어진다. 리소그래피의 광학계로 구현할 수 있는 패턴의 선폭을 나타내는 분해능(resolution)은 다음의 수학식 1과 같이 표현된다.
상기 수학식 1에서, k1은 리소그래피 공정변수이고, λ는 사용하는 광원의 파장이며, NA(numerical aperture)는 광학계의 개구수를 나타낸다.
패턴의 선폭은 분해능이 작을수록 미세해지므로, 현재 분해능을 작게 하려는시도를 하고 있다. 수학식 1에 따르면, 분해능은 공정 변수(k1)값이 작거나, 개구수(NA)가 크거나, 파장이 짧은 광원을 사용하면 그 값이 작아진다.
현재, 생산 공정에서 구현되고 있는 리소그래피 기술현황을 간략히 설명하면, 공정 변수인 k1은 0.4∼0.3 정도까지 내릴 수 있으며, 사용하는 광학계의 개구수(NA)가 0.8 정도에 이른다. 이러한 현재의 조건하에, 사용하는 광원을 파장이 248nm인 크립톤 플로라이드(KrF) 엑시머(excimer) 레이저를 사용하게 되면 리소그래피의 선폭을 결정짓는 분해능은 90∼120nm 정도가 된다.
그리고 향후, 파장이 193nm인 알곤 플로라이드(ArF) 엑시머 레이저로 광원을 대체하게 되면, 리소그래피의 선폭을 결정짓는 분해능은 70∼100nm 정도로 높일 수 있을 것으로 기대된다.
그러나 상기와 같이 파장이 점점 짧은 자외선을 광원으로 사용하여 분해능을 높이기 위해서는 현재 정밀 광학계에 사용되는 광부품의 재질인 고품위 용융석영(fused silica)이 칼슘 플로라이드(CaF)로 대체되어야 하고, 사용하는 포토레지스터도 새로운 자외선에 감응하는 것으로 바뀌어야 한다. 또한, 마스크 패턴을 이용하여 노광을 하게 되면 광원이 개구부에 의해 회절되어 노광이 잘 되지 않는다.
그리고 일반적으로 알려진 바와 같이 사용하는 광원의 파장에 비해 크기가 매우 작은 수 nm 구멍으로 광을 투과시키면, 투과된 광의 세기는 개구 크기의 4제곱에 비례한다. 그러므로 개구의 크기가 작아질수록 개구부를 통과한 광의 세기는4제곱에 반비례하여 급격히 줄어들게 된다. 그러므로 광원이 통과하는 개구부를 작게 하여 나노 패턴을 형성하게 되면 개구부를 통과한 광원의 세기가 작아져서 노광 시간이 길어지고, 나노 패턴을 제작하기 위한 스캔(scan) 시간도 길어지는 문제점이 있다.
현재, 반도체 집적도 발전속도에 따른 기술 로드 맵의 기준을 만족하기 위한 리소그래피 기술의 분해능은 수 년내에 55nm에 이르게 되며, 이를 위한 자외선 레이저를 이용한 리소그래피, 전자빔 리소그래피 기술에 대한 연구도 활발하게 진행되고 있으나, 가능성을 보여주는 수준에 머물러 있다. 지난 10 여년간 광 리소그래피 기술 수준은 반도체 집적 소자 기술의 한계를 결정짓고 있는 상황을 어렵게 이어가고 있으며, 기술혁신을 위한 새로운 개념의 미세 패터닝(patterning) 기술의 출현이 시급히 요구되고 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 포토마스크를 사용하지 않고 미세 패턴을 포토레지스트에 고속으로 직접 기록하는 새로운 개념의 미세 패터닝 기술을 제공하여 분해능에 관련된 기술적인 한계를 극복하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 현재 활용중인 포토레지스트의 감응파장에 부합하는 레이저 광원을 사용할 수 있게 함으로써 포토레지스트에 의해 발생되는 문제점을 해결하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 단면을 보인 간략도,
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정 광변조부의 평면도,
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 단면을 보인 간략도,
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 구성도,
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 패턴을 기록하는 포토레지스트면의 상태도,
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 구성도.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치는 수십 nm 크기의 개구로 많은 광을 투과시킬 수 있는 2가지 공지된 원리를 이용한다. 첫 번째 원리는 금속 광도파형 개구를 사용하여 투과율을 획기적으로 개선시키는 것으로, X. Shi and L. Hesselink에 의해 제목 "Mechanism for enhancing power throughput from planar nano-apertures for near-field optical data storage"로 Japan Journal of Applied Physics Vol. 41, pp. 1632-1635 (2002)에 발표되었다.
제2 원리는 개구수(NA) 값이 큰 렌즈와 굴절율이 높은 매질을 함께 결합하여 초점에서 광이 집속되는 크기를 획기적으로 줄이는 것으로, Y.J. Kim, K.S. Suzuki, and K. Goto에 의해 제목 "Parallel recording array head of nano-aperture flat-tip probes for high-density near-field optical data storage"로 Jpn. J. Appl. Phys.40, pp1783-1789 (2001)에 발표되었고, K. Goto, Y.J. Kim, S. Mitsugi, K. Suzuki, K. Kurihara and T. Horibe에 의해 제목 "Microoptical two-dimensional devices for the optical memory head of an ultrahigh data transfer rate and density system using a vertical cavity surface emitting laser array"로 Jpn. J. Appl. Phys.41, pp.4835-4840(2002)에 발표되었다.
따라서, 상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 특징에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치는 x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부와, x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키는 마이크로 렌즈 어레이와, 상기 마이크로 렌즈의 초점 거리를 두께로 하며 상기 마이크로 렌즈 어레이에 접합되어 광을 투과시키는 기판과, 상기 기판에 금속 박막을 입히고, 상기 마이크로 렌즈에 의해 집속된 광을 통과시키는 개구를 상기 금속 박막에 x축과 y축으로 배열시켜 이루어진 개구 어레이를 포함한다.
또한, 상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제2 특징에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치는 x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부, x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키며, 상기 마이크로 렌즈의 형상이 초점을 자신의 표면에 맺히도록 하는 형상인 마이크로 렌즈 어레이와, 상기 초점이 맺히는 상기 마이크로 렌즈의 면에 금속 박막을 입히고, 상기 금속 박막에서 각 마이크로 렌즈에 의해 초점이 맺히는 지점에 개구를 형성하여 이루어지는 개구 어레이를 포함한다.
한편, 상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이를 이용한 고속 미세패턴 기록 시스템은 상기 본 발명의 제1 특징 또는 제2 특징에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 중 하나와, 광을 방출하는 광원부와, 상기 레이저 광을 전송하는 광전송부와, 상기 광전송부에서 전송한 광을 평행광으로 만드는 평행광 생성렌즈와, 연결된 장치를 x축과 y축 방향으로 이동시켜 상기 마이크로 렌즈 어레이의 개구에서 조사된 광이 목표로 하는 패턴을 형성하게 하는 스캔 장치를 포함한다.
바람직하게는, 상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 액정 셀의 액정배열 방향을 전압으로 조절하여 입사하는 광량을 조절하여 출력하는 액정 광변조기인 것을 양호하다.
또한, 상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 마이크로 거울의 경사각을 조절하여 입사하는 광량을 조절하는 DMD(Digital Micromirror Device)인 것이 양호하다.
바람직하게는, 상기 광변조부는 광의 2차원 공간변조를 위해 개발된 다른 여러 종류의 양자/전자 광학 어래이 소자인 것이 양호하다.
그리고, 상기 기판은 유리 기판 또는 GaP 기판 등인 것이 양호하다.
또한, 2차원 광변조 미세 개구 어레이를 이용한 고속 미세패턴 기록 시스템는 상기 미세 개구 어레이의 개구에서 반사된 광을 입사하여 전기적 신호로 변환시키는 2개의 CCD부를 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 상측면에 각각 설치하고, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이로 입사하는 광 중 편광을 분할하여 상기 CCD부 중 하나에 제공하는 편광 광분할기를 구비하며, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 통과한 후 반사된 편광이 변하지 않게 하여 상기 CCD부중 다른 하나에 제공되게 하는 파장판을 더 포함하는 것이 양호하다.
이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치 및 이를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템을 설명한다.
이하, 도 1과 도 2를 참조로 하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 마이크로 렌즈 어레이 장치를 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 단면을 보인 간략도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정 광변조부의 평면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(10)는 액정 광변조부(11), 마이크로 렌즈 어레이(12), 금속 광도파형 개구 어레이(13), 간극 조정부(14) 및, 기판(15)을 포함한다.
액정 광변조부(11)는 일종의 공간 광변조기로서, 다수의 액정을 이용하여 투과하는 광량을 조절한다. 액정 광변조부(11)는 도 2에 도시된 바와 같이 x축으로 m1개의 액정이 배열되어 있고 y축으로 m2개의 액정이 배열된 2차원 어레이 형태를 가진다. 여기서, 각각의 액정은 하나의 셀을 형성하므로 이하에서는 각 셀을'액정 셀(cell)'이라 한다.
액정 광변조부(11)는 다수의 액정 셀과 더불어 각 액정 셀에 서로 다른 전계가 상기 액정 셀에 각각 인가되도록 제작된다. 따라서 액정 광변조부(11)는 전압에 의해 형성되는 전계에 의해 액정의 배열 방향에 가변되고, 그에 따라 입사하는 광의 투과율을 조절한다. 이렇게, 광의 투과도를 조절할 수 있어서 액정 광변조부(11)를 일명 광 밸브(light valve)라고 한다.
액정 광변조부(11)는 간단하게, 광의 투과를 0%가 되게 하는 제1 전압과, 광의 투과를 100%가 되게 하는 제2 전압을 설정 전압으로 세팅하여 액정의 방향을 조절하게 할 수 있다. 나아가, 액정 광변조부(11)는 액정의 방향을 여러 단계로 바꿀 수 있는 3 이상의 전압으로 광의 투과가 0%로부터 단계적으로 100%가 되게 할 수 있다. 여기서, 액정 셀의 배열 형태는 매트릭스(matrix) 형태인 것이 양호하다.
마이크로 렌즈 어레이(12)는 2차원 어레이 형태로 배치된 다수의 마이크로 렌즈로 이루어진다. 마이크로 렌즈 어레이(12)는 액정 광변조부(11)를 통과한 광을 마이크로 렌즈를 통해 집속시키기 위한 것이므로, 액정 광변조부(11)의 아래에 배치된다. 보다 구체적으로는, 마이크로 렌즈 어레이(12)의 마이크로 렌즈가 액정 광변조부(11)의 액정 셀에 대하여 1:1로 대응한다. 이때, 1:1로 대응하는 액정 셀과 마이크로 렌즈는 광축에 대해 나란하다.
마이크로 렌즈 어레이(12)는 최대로 액정 광변조부(11)의 셀에 대응하는 수만큼의 마이크로 렌즈로 구성될 수 있으며, 상기 렌즈의 배열 형태(즉, 2차원 어레이 형태)는 액정 광변조부(11)의 액정 셀의 배열 형태에 따라 결정된다. 즉, 액정 셀의 배열 형태가 매트릭스 형태이면 렌즈의 배열 형태 또한 매트릭스 형태가 된다.
기판(15)은 마이크로 렌즈 어레이(12)에 접합되어 있으며, 마이크로 렌즈의 초점거리를 두께로 하고 있다. 기판(15)은 광이 투과될 수 있는 유리(glass)와 GaP 등과 같이 소정의 굴절율을 가지고 광을 투과시킬 수 있는 매질인 것이 양호하다.
금속 광도파형 개구 어레이(13)는 마이크로 렌즈에 의해 광이 집속되는 기판(15)의 일면에 금속 박막을 입히고, 금속 박막에 2차원 어레이 형태로 다수의 개구 즉, 금속 광도파형 개구를 형성하여 이루어진다. 상기 다수의 개구는 렌즈에 의해 집속된 광을 통과시키기 위해 광축에 대해 마이크로 렌즈와 1:1로 대응되게 형성된다. 금속 광도파형 개구 어레이(13)는 최대 마이크로 렌즈의 수만큼의 개구를 형성할 수 있으며, 상기 개구의 배열 형태(즉, 2차원 어레이 형태)는 마이크로렌즈의 배열 형태에 따라 결정된다. 즉, 마이크로 렌즈의 배열 형태가 매트릭스 형태이면 개구의 배열 형태 또한 매트릭스 형태가 된다.
reference 1에는 상기와 같이 소정의 굴절율을 가진 기판(15)과 금속 박막에 형성된 금속 광도파형 개구를 사용하는 경우, 투과율이 향상되며, 집속된 광속의 세기를 능가하는 광원이 출력될 수 있다는 점이 개시되어 있다.
여기서, 기록 속도를 높이기 위해서는 개구 어레이의 갯수가 많을수록 유리하며, 그에 따라 마이크로 렌즈의 직경 또한 작은 것이 양호하다.
간극 조정부(14)는 액정 광변조부(11)와, 마이크로 렌즈 어레이(12)와, 금속 광도파형 개구 어레이(13)를 고정시키는 하우징으로서, 액정 광변조부(11)와 마이크로 렌즈 어레이(12)간의 간격을 조절할 수 있도록 제작된다.
현재 알려진 바에 따르면 액정 광변조부 빔 프로젝트(beam projector) 등에 활용되는 액정 셀이 약 10㎛ 정도로 미세 크기이다. 그러므로, 실제로 제작되는 액정 광변조기(11)의 액정 셀을 10㎛ 크기로 x, y축 각각에 1000개 이상 배치하여, 전체적으로 100만개 이상의 액정 셀을 갖도록 제작할 수 있다. 이때, 하나의 액정 셀의 크기가 10㎛×10㎛이라면, 전체 액정 셀 어레이의 크기는 1cm×1cm가 된다.
그리고, 현재 가공 기술로 상기 마이크로 렌즈 어레이(12)의 마이크로 렌즈는 직경이 10㎛ 크기로 제작할 수 있으므로, 개구의 크기를 집속된 광속의 크기인 수십 nm로 제작하면 상기 금속 광도파형 개구 어레이(13)를 통해 기록되는 패턴은 나노 패턴이 된다.
상기와 같이 액정 및 마이크로 렌즈의 직경을 10㎛로 제작하게 되면, 두 개구간의 간격은 10㎛가 된다. 이는 마이크로 렌즈에 의해 집속된 광은 마이크로 렌즈의 중심에 위치하게 되기 때문이다.
한편, 상기와 같이 금속 광도파형 개구를 기판 상에 2차원 어레이 형태로 제작하고 2차원 미세 개구 어레이를 결합하여 각 개구에 레이저 광을 집속시킴으로써 나타나는 집속된 광속의 크기는 다음의 수학식 2와 같다.
광속의 크기 = 0.51 λ0/(nNA)
수학식 2에서, λ0는 사용하는 광원의 파장, n은 매질의 굴절율이다.
따라서, 본 발명을 달성하기 위한 수학식 2에 따른 광학적 조건은 액정 광변조부(11)에 입사시킬 광원을 파장이 작은 광원으로 사용하고, 마이크로 렌즈의 개구수(NA)를 1 이상 높은 값이 되도록 하며, 기판의 굴절율이 큰 것이 양호하다.
여기서, 광도파형 개구 어레이(13)의 기판을 1.5 이상 되는 굴절율이 높은 매질을 사용하면 마이크로 렌즈의 개구수(NA)를 1 이상의 높은 값을 갖게 할 수 있다. 그리고, 광원을 400nm 근처의 청색 레이저를 사용하게 되면 개구 입구에 집속되는 광속의 직경(즉, 광속의 크기)을 100nm 이하로 쉽게 줄일 수 있다. 또한, 광원을 488nm 알곤 이온 레이저와 굴절율이 3.5 정도인 GaP 기판을 사용하면, 집속된 광속의 직경을 70nm로 줄일 수 있다.
이하, 도 3을 참조로 하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세개구 어레이 장치를 설명한다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 구성도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(20)는 액정 광변조부(21), 마이크로 렌즈 어레이(22), 광도파 헤드 어래이(23)와, 하우징(24)을 포함한다.
액정 광변조부(21)는 제1 실시예의 액정 광변조부(11)와 동일하다.
마이크로 렌즈 어레이(22)는 개구수(NA) 값이 큰 피라미드 형상의 마이크로 렌즈가 x축과 y축으로 배열된 형태로 이루어져 있다. 이때, 마이크로 렌즈는 제1 실시예의 기판(15)으로 제작되며, 초점이 꼭지점 부근에 맺히도록 형성된다.
광도파 헤드 어레이(23)는 마이크로 렌즈 어레이(22)의 하단에 금속 박막을 입히고, 상기 금속 박막에 다수의 개구를 형성하여 이루어진다. 이때 마이크로 렌즈에 입사한 광은 렌즈 곡률에 의해 굴절되고 금속 박막에 의해 가이드 되어 피라미드의 꼭지점 부근에 맺히므로, 개구는 광의 세기가 가장 강한 피라미드의 꼭지점 부근에 형성된다.
하우징(24)은 각 구성(21 내지 23)을 고정시키기 위한 것이다.
본 발명의 제2 실시예에서의 셀, 마이크로 렌즈와 개구는 제1 실시예에서 상술한 바와 같이 1:1 대응이 되도록 위치한다.
본 발명의 제2 실시예와 같이 개구수(NA)가 큰 마이크로 렌즈와 굴절율이 높은 기판을 결합하면 수학식 2를 통해 증명되듯이 초점에서 집속되는 광속의 크기는 획기적으로 줄어들게 된다.
이하, 도 4를 참조로 하여 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템을 설명한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 구성도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 고속 미세패턴 기록시스템은 광원부(100), 출력안정부(110), 광전송부(120), 평행광 생성렌즈(130), 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)와, 스캔부(150)와, 하우징(160)을 포함한다.
광원부(100)는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)에 제공될 레이저 광원을 제공한다. 상기 광원부(100)에서 조사하는 광원으로는 나노 패턴을 기록하고자 하는 경우, 488nm의 알곤 이온레이저, 442nm의 헬륨 카드뮴 레이저, 405nm의 다이오드 레이저, 355nm의 야그 레이저의 3차 고조파, 266 nm 야그 레이저 4차 고조파등 100 mW 이상의 출력을 내는 연속발진 레이저 광원이면 모두 가능하다. 이러한 레이저 종류의 선택은 미세 개구 어레이 장치를 구성하는 기판 재질의 투과도, 포토레지스트의 분광감광도, 마이크로 렌즈의 직경 등을 고려하여 결정된다.
출력안정부(110)는 광원부(100)에서 조사하는 광의 세기를 일정치로 만들며, 광전송부(120)는 출력안정화부(110)에 의해 광의 세기가 안정화된 광을 목표지점으로 전송한다. 광전송부(120)를 통과한 광은 공간여과(spatial filtering)되어 출사된다. 여기서, 도 4에 도시된 광전송부(120)는 광전송 화이버(fiber)이다.
평행광 생성렌즈(130)는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)의 상측에배치되며, 광전송부(120)를 통해 전송된 광을 평행광으로 만들어 넓은 지역으로 분포시킨다. 이때, 평행광은 적어도 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140) 전체에 분포되며, 광의 세기 분포를 균일하게 하기 위하여 광평활기(beam homogenizer)를 사용하는 것이 양호하다.
2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)는 상술한 본 발명의 제1 및 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(10, 20) 중 하나이다. 도 4에 도시된 바로는, 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)는 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(10)이다. 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)는 각 액정 셀에 서로 다른 전압을 가할 수 있는 장치를 내장(또는 연결)된 컴퓨터(미도시)에 연결되며, 컴퓨터에 의해 각 액정 셀에 인가되는 전압이 조절된다. 각 액정 셀에 인가된 전압은 해당 액정 셀의 광투과도를 결정하게 된다.
스캔부(150)는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)를 x축과 y축으로 이동시킨다. 이러한 스캔부(150)의 이동에 의해 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)는 하측에 배치된 포토레지스트에 각 개구에서 출력된 광으로 나노 패턴을 그리게 된다. 여기서, 스캔부(150)는 분해능이 나노급에 이르는 초정밀 스테이지인 것이 양호하다.
스캔부(150)는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)를 x축 또는 y축으로 이동시킬 경우에 이웃하는 개구에 의해 형성되는 패턴과 겹치지 않게 하여야 한다. 그러므로, 스캔부(150)는 나노급의 분해능을 가져야 한다.
여기서, 스캔부(150)는 x축 또는 y축으로 이동할 뿐만 아니라, z축으로도 이동한다. z축으로 이동할 경우 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)와 포토레지스트간의 거리가 좁혀지거나 넓어지게 된다.
여기서, 본 발명에 활용되는 스캔부(150) 즉, 나노 스테이지의 구동 장치로 상용장비로 개발된 제품은 Physik Instrumente사의 PZT NanoAutomation Stages Model P-752 등이며, 상기 제품은 300 g의 부하에서 폭 15 ㎛을 시간 17 ms에 스캔할 수 있다.
상기와 같은 스캔부(150)는 스테이지를 조정하는 장치(미도시)가 컴퓨터(미도시)와 인터페이스(interface)되어 컴퓨터에 입력된 패턴 정보에 따라 x, y축으로 이동한다.
하우징(160)은 광전송부(120)의 광출력 노즐에 연결되어 있으며, 평행광 생성렌즈(130)를 위치적으로 고정시키고, 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)를 고정시키는 역할과 함께, 스캔부(150)에 연결되어 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)가 스캔부(150)의 동작에 연동하게 한다.
이하, 도 5를 참조로 하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 동작을 설명한다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 패턴을 기록하는 포토레지스트면의 상태도이다.
우선, 사용자는 실리콘 웨이퍼(122) 상에 도포된 포토레지스트(121)에 형성될 패턴의 형상 정보 즉, 도 5에 도시된 패턴의 형상 정보를 컴퓨터에 입력한다.그러면, 컴퓨터는 입력한 패턴 정보를 설정된 좌표값에 매칭시켜 각 좌표에서의 패턴 존재 유무를 파악한다. 그리고, 컴퓨터는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)의 각 개구의 위치 정보(좌표 정보)를 이미 알고 있다. 그러므로, 컴퓨터는 상기에서 파악한 각 좌표에서의 패턴 정보(패턴 존재 유무)와 각 개구의 위치 정보를 매칭시켜 각 개구별로 광을 방출할 개구와 광을 차단할 개구를 판단한다. 즉, 컴퓨터는 개구가 위치한 좌표에 패턴이 존재하면 광을 방출시키고, 개구가 위치한 좌표에 패턴이 존재하지 않으면 광이 방출하지 않는다.
실제로는 기록되는 패턴의 명암을 균일하게 만들기 위하여, 각 개구 어래이를 통과하여 출력되는 레이저 광의 세기 분포를 균일하게 하게 만든다. 이를 위하여 입사되는 레이저 광의 세기 분포 및 개구의 투과도 교정 데이타를 기초하여 2차원 공간 변조기 셀의 투과도를 적절히 조절한다.
컴퓨터는 광을 차단할 개구에 1:1로 대응하는 액정 셀에 인가될 전압을 제1 전압으로 설정하고, 광을 방출 해당 개구에 1:1로 대응하는 액정 셀에 인가될 전압을 제2 전압으로 설정한다. 설정된 전압은 시스템 동작시에 액정 광변조기(11)의 각 액정 셀에 인가된다. 여기서, 액정 셀에 제1 전압이 인가되면 액정 셀의 액정은 광축의 수직 방향으로 배열되고, 제2 전압이 인가되면 액정 셀은 광축을 따라 배열된다.
한편, 광원부(100)에서 레이저 광원을 조사하면, 조사한 광은 출력안정부(110)를 지나 광전송부(120)를 통해 하우징(160)에 조사되고, 조사된 광은 평행광 생성렌즈(130)에 의해 평행광이 되어 3차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)의 액정 광변조기에 골고루 입사된다.
평행광은 다수개의 액정 셀에 인가되고, 그중 컴퓨터에 의해 광을 통과시키는 액정 셀(즉, 제2 전압이 인가된 액정 셀)에 입사한 평행광만이 미세 개구 어레이의 렌즈에 의해 집속되어 대응하는 하나의 개구를 통해 포토레지스트(121)에 조사된다.
도 5에 각 개구를 통과하여 포토레지스트(121)에 조사된 광 즉, 광점이 도시되어 있다. 도 5에서, CT는 광점을 통해 최종적으로 포토레지스트(121)에 형성시킬 패턴 형상으로, 이해를 돕기 위해 미리 도시하였다. 그리고 포토레지스트(121)에 점선으로 구획된 부분은 하나의 개구를 통과한 광점에 의해 스캔될 면적이다. 그리고, 구획된 각 면적에 표기된 '○와 ● '는 광점이다. 여기서, '○'는 액정 셀에 의해 차단된 광점 즉, 포토레지스트(121)에 조사되지 못한 광점이고, '●'는 액정 셀에 통과하여 포토레지스트(121)에 조사된 광점이다.
따라서, 도 5에 도시된 바와 같이, 패턴 외부에 위치하는 광점은 액정 셀에 의해 차단되어 ○가 되고, 패턴에 속하는 위치에 있는 광점은 액정 셀을 통과하여 ●가 된다.
상기와 같이 패턴에 속하는 위치에 있는 개구에서만 광이 투과되는 상태에서, 스캔부(150)는 B에 도시된 바와 같이 광점이 구획된 부분(A)의 면적을 벗어나지 않게 x축과 y축 방향으로 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이동시켜 하나의 개구가 하나의 구획된 부분(A)의 스캔을 담당하게 한다.
B에 도시된 바와 같은 스캐닝 동작을 좀더 상세히 설명하기 위해, 나노 소자를 이루는 셀의 크기(즉, 구획된 부분(A)의 크기)가 10㎛×10㎛이고, 마이크로 렌즈의 크기가 50nm라고 가정하면, 스캔부(140)가 x축 방향으로 스캔닝하는 폭은 10㎛가 되며 y축으로 200번 스캐닝하면 셀의 면적 모두를 스캐닝하게 된다.
여기서, 스캔 도중에 광점이 패턴 외부에서 내부로 진입하거나, 패턴 내부에서 패턴 외부로 벗어나게 되면 액정 셀에 인가되는 전압이 가변되어 광점이 ○에서 ● 또는, ●에서 ○가 된다.
결국, 상기와 같은 스캔부(150)의 동작과, 액정 셀에 인가되는 전압의 가변으로 인해 포토레지스트에는 목표로 하는 패턴이 형성된다.
상술한 본 발명의 패턴 형성 동작은 마치 잉크젯 프린트로 그림을 인쇄하는 것과 유사함을 알 수 있다.
여기서, 개구 어레이에서 방출되는 광은 빠르게 발산하므로 포토레지스트 면과 개구가 약 20nm 정도의 간격으로 가까이 붙어서 움직이는 것이 양호하다. 그러므로, 포토레지스트 면과 개구 간의 거리는 상당히 미세함을 고려하여 간격을 조정하는 장치를 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치 또는 스캔부(150)에 부착하는 것이 양호하다.
이하, 도 6을 참조로 하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 동작을 설명한다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템의 구성도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 고속 미세패턴 기록시스템은 광원부(100), 출력안정부(110), 광전송부(120), 평행광 생성렌즈(130), 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)와, 스캔부(151), 하우징(160), CCD부(170), 편광 광분할기(180) 및 1/4 파장판(190)을 포함한다.
본 발명의 제2 실시예의 고속 미세패턴 기록 시스템은 본 발명의 제1 실시예의 고속 미세패턴 기록 시스템과 전반적으로 동일하나, 개구를 통과한 광의 콘트라스트(contrast)를 보정하기 위해 개구를 통과한 광의 세기를 검출하기 위한 구성을 더 구비하는 것이 다르고, 스캔을 위해 미세 이동하는 장치가 다르다.
상기 광의 세기를 검출하기 위한 구성은 입사하는 광을 전기적 신호로 변환시키는 CCD부(170)와, 입사하는 광 중 특정 편광을 분리하는 편광 광분할기(180)와, 금속박막과 포토레지스트(121) 등에 의해 반사된 편광이 변하는 것을 방지하기 위한 1/4 파장판(190)이다.
CCD부(170) 중 좌측 CCD부(170)는 편광 분할기(180)에 의해 분할되어 편광 분할기(180)의 반사판(점선으로 도시)에 의해 반사된 편광을 검출하고 이를 전기적 신호로 변환시킨다. 그리고, 우측 CCD부(170)는 1/4 파장판(190)을 통과하고 금속 박막 또는 포토레지스트(121) 등에 의해 반사되어 다시 1/4 파장판(190)을 통과한 후편광 광분할기(180)의 반사판에 의해 반사된 편광을 검출하고 검출한 편광을 전기적 신호로 변환시킨다. 이렇게 변환된 평광에 대한 전기적 신호는 컴퓨터(미도시)에 제공한다. 컴퓨터는 CCD부(170)의 출력을 평균하여 평균값으로 포토레지스트(121)에 입사하는 광에 대한 정보를 파악한다.
한편, 스캔부(151)는 제1 실시예에 따른 스캔부(150)와 달리, 포토레지스트(121)의 하측에 설치된다. 더욱 상세히는, 포토레지스트(121)가 도포된 실리콘 웨이퍼(122)의 하단에 설치된다. 그리고, 스캔부(151)는 실리콘 웨이퍼(122)를 제1 실시예의 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)를 고속으로, 미세 이동시키는 것과 같이 고속으로 미세 이동시켜 개구를 통과한 광이 포토레지스트(121)에 소정의 패턴이 고속으로 기록되게 한다. 이때, 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치(140)는 간격조절 기능만 유지한다.
한편, 상술한 본 발명의 실시예에서는 입사하는 광의 양을 조절하는 장치로서 액정을 이용하는 광변조부를 이용하고 있다. 그러나, 당업자라면 액정 광변조부 이외에 입사하는 광을 조절하는 장치를 액정 광변조부를 대체하여 용이하게 본 발명을 실시할 수 있다.
즉, 당업자라면, TMA(Thin film Micromirror actuated)라는 투과형 디스플레이를 이용한 DMD(Digital Micromirror Device)를 이용할 수 있다.
상기 DMD는 미소크기인 다수의 마이크로 거울과 마이크로 거울을 경사각을 조절하는 액츄에이터를 구성으로 한다. 이러한 DMD는 마이크로 거울의 경사각으로 광의 투과율을 조절한다. 이러한 DMD는 현재 빔 프로젝터 등에 사용되고 있다.
또한 2차원 공간 광변조기는 여러 종류의 양자/전자 광학 소자들이 개발되고 있는 바 이러한 소자로도 본 발명의 원리를 구현할 수 있다.
이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.
본 발명은 미세 간격으로 형성된 다수의 개구를 통해 스캐닝함으로써, 단일 나노 프로브(probe)를 이용하는 종래에 비해 고속으로 미세 패턴을 기록할 수 있으며, 어레이된 개구의 수를 증가시킬수록 기록 속도가 증가하고, 상기 개구의 수를 x, y축으로 1000개 이상 배열하게 되면 100만배 이상 고속으로 미세 패턴을 기록할 수 있다.
본 발명은 청색 및 근 자외선 영역의 레이저 광원을 사용하고 액정 셀 및 마이크로 렌즈의 크기를 수십 ㎛ 이내, 개구를 nm 이내로 제작하면, 종래의 반도체 공정에서 사용하는 포토레지스트를 그대로 채용하더라도 수십 nm의 나노 패턴을 형성할 수 있다.
본 발명은 수십 ㎛이내의 광을 수십 nm 이내의 개구를 통과시킬때 광속이 감소되지 않도록 하여 궁극적으로 30nm 정도의 선폭을 실현할 수 있게 함으로써, 반도체 산업에서 필요한 리소그래피 기술의 수요를 향후 10년 이상 만족하면서 생산공정 장비의 핵심기술로 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 패턴 마스크를 이용하지 않고 고가의 장비를 대체하지 않아도 저가의 장비로도 미세 패턴을 기록할 수 있게 한다.

Claims (21)

  1. x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부;
    x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키는 마이크로 렌즈 어레이;
    상기 마이크로 렌즈의 초점 거리를 두께로 하며 상기 마이크로 렌즈 어레이에 접합되어 광을 투과시키는 기판; 및
    상기 기판에 금속 박막을 입히고, 상기 마이크로 렌즈에 의해 집속된 광을 통과시키는 개구를 상기 금속 박막에 x축과 y축으로 배열시켜 이루어진 개구 어레이를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 액정 셀의 액정 배열 방향을 전압으로 조절하여 입사하는 광량을 조절하여 출력하는 액정 광변조기인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 마이크로 거울의 경사각을 조절하여 입사하는 광량을 조절하는 DMD(Digital Micromirror Device)인 것을 특징으로하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  4. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  5. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 기판은 GaP 기판인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  6. x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부;
    x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키며, 상기 마이크로 렌즈는 초점을 자신의 표면에 맺히도록 하는 형상인 마이크로 렌즈 어레이; 및
    상기 초점이 맺히는 상기 마이크로 렌즈의 면에 금속 박막을 입히고, 상기 금속 박막에서 각 마이크로 렌즈에 의해 초점이 맺히는 지점에 개구를 형성하여 이루어지는 개구 어레이를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 액정 셀의 액정 배열 방향을 전압으로 조절하여 입사하는 광량을 조절하여 출력하는 액정 광변조기인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 마이크로 거울의 경사각을 조절하여 입사하는 광량을 조절하는 DMD(Digital Micromirror Device)인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  9. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
    상기 마이크로 렌즈는 유리 기판으로 제조되는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  10. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
    상기 마이크로 렌즈는 GaP 기판으로 제조되는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  11. 청구항 6에 있어서,
    상기 마이크로 렌즈는 피라미드 형상인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  12. 광을 방출하는 광원부;
    상기 레이저 광을 전송하는 광전송부;
    상기 광전송부에서 전송한 광을 평행광으로 만드는 평행광 생성렌즈;
    x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부, x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키는 마이크로 렌즈 어레이, 상기 마이크로 렌즈의 초점 거리를 두께로 하며 상기 마이크로 렌즈 어레이에 접합되어 광을 투과시키는 기판과, 상기 기판에 금속 박막을 입히고 상기 마이크로 렌즈에 의해 집속된 광을 통과시키는 개구를 상기 금속 박막에 x축과 y축으로 배열시켜 이루어진 개구 어레이를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치; 및
    연결된 장치를 x축과 y축 방향으로 이동시켜 상기 마이크로 렌즈 어레이의 개구에서 조사된 광이 목표로 하는 패턴을 형성하게 하는 스캔 장치를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 스캔 장치는 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치에 연결하여 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이를 x축과 y축 방향으로 스캔하는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기 스캔 장치는 상기 2차원 미세 개구 어레이에 의해 미세패턴이 기록될 매체를 지지하는 지지장치에 연결되며, 상기 지지장치를 x축과 y축 방향으로 스캔하는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
  15. 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
    상기 미세 개구 어레이의 개구에서 반사된 광을 입사하여 전기적 신호로 변환시키는 2개의 CCD부를 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 상측면에 각각 설치하고, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이로 입사하는 광 중 편광을 분할하여 상기 CCD부 중 하나에 제공하는 편광 광분할기를 구비하며, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 통과한 후 반사된 편광이 변하지 않게 하여 상기 CCD부중 다른 하나에 제공되게 하는 파장판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
  16. 청구항 12에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 액정 셀의 액정 배열 방향을 전압으로 조절하여 입사하는 광량을 조절하여 출력하는 액정 광변조기인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  17. 청구항 12에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 마이크로 거울의 경사각을 조절하여 입사하는 광량을 조절하는 DMD인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  18. 광을 방출하는 광원부;
    상기 레이저 광을 전송하는 광전송부;
    상기 광전송부에서 전송한 광을 평행광으로 만드는 평행광 생성렌즈;
    x축과 y축으로 배열된 광량조절셀을 이용하여 입사하는 광량을 조절하는 공간 광변조부, x축과 y축으로 배열된 마이크로 렌즈를 이용하여 상기 광량조절셀을 통과한 광을 집속시키며 상기 마이크로 렌즈는 초점을 자신의 표면에 맺히도록 하는 형상인 마이크로 렌즈 어레이와, 상기 초점이 맺히는 상기 마이크로 렌즈의 면에 금속 박막을 입히고 상기 금속 박막에서 각 마이크로 렌즈에 의해 초점이 맺히는 지점에 개구를 형성하여 이루어지는 개구 어레이를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치; 및
    연결된 장치를 x축과 y축 방향으로 이동시켜 상기 마이크로 렌즈 어레이의 개구에서 조사된 광이 목표로 하는 패턴을 형성하게 하는 스캔 장치를 포함하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 액정 셀의 액정 배열 방향을 전압으로 조절하여 입사하는 광량을 조절하여 출력하는 액정 광변조기인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  20. 청구항 18에 있어서,
    상기 공간 광변조부는 x축과 y축으로 배열된 마이크로 거울의 경사각을 조절하여 입사하는 광량을 조절하는 DMD(Digital Micromirror Device)인 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치.
  21. 청구항 18에 있어서,
    상기 미세 개구 어레이의 개구에서 반사된 광을 입사하여 전기적 신호로 변환시키는 2개의 CCD부를 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치의 상측면에 각각 설치하고, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이로 입사하는 광 중 편광을 분할하여 상기 CCD부 중 하나에 제공하는 편광 광분할기를 구비하며, 상기 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 통과한 후 반사된 편광이 변하지 않게 하여 상기 CCD부중 다른 하나에 제공되게 하는 파장판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 광변조 미세 개구 어레이 장치를 이용한 고속 미세패턴 기록시스템.
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