KR200475584Y1 - 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판투입구가 구비된 기판처리베스의 선후단부에 일정 크기의 버퍼구역을 형성하는 버퍼베스를 구비하되, 상기 버퍼베스에는 상기 기판을 이송시킬 수 있는 이송수단과 상기 이송수단 하측부에 가습유닛을 설치함으로써, 약액의 수분 손실로 인해 기판 투입구 부분에 발생될 수 있는 석출물의 성장을 미연에 방지하는 것은 물론 석출물에 의한 기판투입구의 작동 불량을 방지하여 기판의 손상이나 이송 불량을 차단할 수 있는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치에 관한 것이다.

Description

가습유닛이 구비된 기판 처리 장치{Apparatus for processing glass substrate with humidification unit}

본 고안은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 기판처리베스의 선후단부에 일정 크기의 버퍼구역을 형성하는 버퍼베스를 구비하고, 상기 버퍼베스에는 가습유닛을 설치하여 버퍼구역 내부의 습도 조절이 가능하도록 함으로써, 약액의 수분 손실로 인해 발생될 수 있는 석출물의 성장을 미연에 방지하여 기판의 이송 불량이나 손상을 차단할 수 있는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치에 관한 것이다.

일반적으로 액정 표시장치(LCD:liquid crystal display) 등에 사용되는 유리 기판(glass substrate)은 액정표시장치의 성능을 좌우하는 주요 부품 중의 하나로서, 표면에는 절연층, 컬러층, 편광층, 등 여러 막층이 형성되어야 하기 때문에 이송장치에 의해 이송되면서 세정공정, 증착공정, 식각공정, 박리공정 등의 처리과정을 연속적으로 거치게 된다.

이와 같은 각 공정들은 기판 처리 장치인 베스(bath) 또는 챔버(chamber) 내에서 이루지는 것으로서, 기판은 주로 이송장치에 의해 베스나 챔버의 내부에 투입되어 처리된 후 다음 공정으로 이송되어 진다.

이때 기판은 베스나 챔버 내에서 약액 또는 반응가스에 의해 처리되기 때문에, 베스나 챔버는 내부 반응공간이 외부와 격리시킬 수 있도록 선단부에 기판투입구가 설치됨과 아울러 기판투입구를 개폐할 수 있는 셔터장치가 구비된다.

이하 종래의 기판 처리 장치의 베스 구조를 간략히 설명한다.

도 1은 종래의 기판 처리 장치의 개략적인 부분 측단면도를 나타낸 것이다.

도시된 바와 같이, 종래의 기판 처리 장치의 베스(100)의 선단부에는 기판(100)이 투입되는 기판투입구(116)가 형성되고 기판투입구(116)에는 셔터장치(120)가 설치된다.

여기서 셔터장치(120)는 고정플레이트(110)와 개폐판(135)으로 구성된다.

고정플레이트(110)는 개폐판(135)이 슬라이딩 되어 기판투입구(116)를 개폐할 수 있게 베스(100)의 선단면에 설치되는 것이다.

따라서 셔터장치(120)는 기판(100)이 베스(100) 내에 투입되면 개폐판(135)을 슬라이딩시켜 기판투입구(116)를 폐쇄시킴으로써, 공정 간의 처리 영역을 격리시키게 되는 것이다.

그러나 상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는 다음과 같은 문제점들이 있었다.

첫째, 장기간 사용시 기판투입구 또는 기판배출구의 개폐 과정에서 베스 내의 약액 성분이 누출됨으로써, 약액의 수분 손실로 인한 석출물이 기판투입구나 기판배출구에 성장되어 고착되는 문제점이 있었고, 둘째 상기와 같은 석출물에 의해 기판이 손상되거나 또는 기판 반송 불량은 물론 기판의 품질 불량이 발생되는 문제점이 있었으며, 셋째, 이러한 석출물 제거를 위하여 기판투입구에 DI water(탈이온수:dionized water)를 분사시킬 수 있는 별도의 샤워(shower)장치를 설치하는 경우에는 DI water의 사용량이 과다해질 뿐 아니라, 유량 조절이 용이하지 않아 석출물을 효과적으로 제거할 수 없는 문제점이 있었다.

본 고안은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 고안의 목적은 기판처리베스 선단부에 적정 습도를 유지할 수 있는 버퍼구역을 설치함으로써, 약액의 수분 손실로 인해 기판 투입구 등에 발생될 수 있는 석출물의 성장을 미연에 방지하는 것이다.

본 고안의 다른 목적은 기판배출구가 형성되는 기판처리베스의 후단부에도 버퍼베스를 연결 설치함으로써, 기판 배출과정에 발생될 수 있는 석출물 방생을 제거하고자 하는 것이다.

본 고안의 또 다른 목적은 약액 성분에 의한 석출물 발생을 차단하여 기판의 반송 불량을 방지함과 동시에 기판의 손상 등에 의한 기판 품질 불량을 방지하기 위한 것이다.

본 고안의 또 다른 목적은 버퍼구역 내의 습도 조절이 용이하도록 하여 DI water의 사용량을 최소화시키고자 하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은 기판이 투입될 수 있는 기판투입구가 선단부에 구비된 기판처리베스와, 상기 기판처리베스의 선단부에 연결되도록 설치되어 일정 크기의 버퍼구역을 형성하는 버퍼베스, 및 상기 버퍼구역 내의 습도를 조절할 수 있도록 상기 버퍼베스에 설치되는 가습유닛을 포함하여 구성된다.

또한 상기 버퍼베스는 기판배출구가 형성되는 상기 기판처리베스의 후단부에도 연결 설치되게 할 수 있다.

이때 상기 버퍼베스는 일측면에 기판이 통과할 수 있는 기판유출입구가 형성되고, 내부에는 상기 기판을 연속 이송시킬 수 있도록 이송수단이 구비된다.

또 상기 가습유닛은 상기 버퍼구역의 저면에 설치되어 수분을 상향 분사시킬 수 있게 구비될 수 있다.

또 상기 가습유닛은 초음파 가습기가 사용되는 것이 바람직하다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안은 기판투입구 부분에 발생될 수 있는 석출물의 성장을 미연에 방지하여 기판의 반송불량 방지는 물론 기판의 품질 불량이나 손상 등을 차단하고, 또한 일정 영역 내의 효과적인 습도 조절이 가능하여 DI water 사용량을 최소화할 수 있어 기판 처리 장치의 공정 품질과 효율을 현저히 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

도 1은 종래의 기판 처리장치의 개략적인 부분 단면도,
도 2는 본 고안의 기판처리장치의 부분 절개도,
도 3은 본 고안의 개략적인 측단면도이다.
도 4는 본 고안의 버퍼베스가 기판처리베스의 선후단부에 각각 구비된 측단면도이다.

이하 본 고안에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 2는 본 고안의 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치의 부분 절개도를 나타낸 것이고, 도 3은 본 고안의 개략적인 측단면도를 나타낸 것이다.

도시된 바와 같이, 본 고안의 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치는 기판처리베스(10)와 버퍼베스(30) 및 가습유닛(50)으로 구성된다.

기판처리베스(10)는 식각(에칭,etching) 공정 등이 수행되는 부분으로서, 공정 수행이 가능하도록 반응공간을 제공하는 베스본체(12)가 구비되며, 베스본체(12) 내측에는 기판(100)을 이송시키는 이송수단(200)이 구비된다.

여기서 기판처리베스(10)는 기판(100)상에 다수의 에칭 공정이 순차적으로 수행되어져야 하는 경우에는 각 에칭 공정을 수행할 수 있는 다수의 베스본체(12)가 순차적으로 연결 설치될 수도 있다.

한편 이송수단(200)은 다수개의 회전롤러(210)가 일정 간격으로 배치되어 동일 방향으로 회전 가능하게 설치됨으로써, 기판(100)이 베스본체(12) 내부로 투입되도록 함과 아울러 후속 공정 진행을 위해 공정이 완료된 기판(100)을 일정 속도로 이송시켜 배출시키게 되는 것이다.

또한 베스본체(12) 내부에는 약액을 공급하는 일반적인 구조의 약액공급수단(도시하지 않음)이 설치될 수 있을 것이다.

한편 베스본체(12)의 선단면에는 이송되는 기판(100)이 투입될 수 있는 일정 크기의 기판투입구(15)가 구비되며, 기판투입구(15)에는 기판투입구(15)를 개폐시킬 수 있는 셔터장치(16)가 구비된다.

기판(100)은 베스본체(12) 내에서 약액 또는 반응가스에 의해 처리되기 때문에, 셔터장치(16)는 베스본체(12) 내의 공간을 외부와 격리시킬 수 있도록 기판투입구(15)를 개폐시키게 되는 것이다.

셔터장치(16)는 기판투입구(15)를 슬라이딩 개폐시키는 일반적인 구조의 개폐장치가 사용될 수 있을 것이다.

한편 베스본체(12)의 후면에는 식각 공정이 완료된 기판(100)을 후속 공정으로 이송시키기 위한 기판배출구(17)와 셔터장치(16)가 구비될 수 있을 것이다.

따라서 기판(100)은 이송수단(200)에 의해 기판투입구(15)를 통해 베스본체(12) 내로 투입된 후, 공정이 완료되면 기판배출구(17)를 통해 후속 공정으로 이송되는 것이다.

한편 버퍼베스(30)는 기판처리베스(10)의 선단부에 연결되도록 설치되는 것으로서, 내부에 일정 크기의 버퍼구역(35)이 형성되도록 구비된다.

이때 버퍼베스(30)의 일측면에는 기판(100)이 통과할 수 있는 기판유출입구(32)가 형성되며, 내부에는 기판투입구(15)를 통해 기판(100)을 기판처리베스(10) 내부로 투입시킬수 있도록 이송수단(200)이 구비된다.

이송수단(200)은 기판(100)이 버퍼베스(30)로 투입된 후 기판투입구(15)를 통해 기판처리베스(10)에 연속적으로 이송될 수 있도록 기판처리베스(10)의 이송수단(200)과 연계되어 작동되도록 설치된다.

여기서 이송수단(200)은 양단이 지지프레임(250)에 회전 가능하게 설치되는 회전축(220)과 회전축(220)을 따라 일정 간격으로 배치되는 다수개의 회전롤러(210)로 구성될 수 있다.

한편 버퍼베스(30)의 내측 저면에는 버퍼구역(35) 내의 습도를 조절할 수 있는 가습유닛(50)이 설치된다.

가습유닛(50)은 버퍼구역(35)을 상대적으로 습한 상태로 유지함으로써, 기판처리베스(10) 내부의 약액이 기판투입구(15)의 개폐 작동시 외부에 누출되어 약액의 특정 성분(옥살산 등)의 수분 손실로 인해 석출물이 발생되는 것을 방지하게 되는 것이다.

석출물은 기판(100) 투입을 위하여 베스본체(12)의 기판투입구(15)가 개폐될 때, 베스본체(12) 내의 약액이 외부에 누출되어 상대적으로 건조한 분위기에 의해 수분이 증발됨으로써 발생되는 것으로서, 기판투입구(15)나 셔터장치(16) 또는 이송수단(200)에 고착되어 이송불량 또는 셔터장치(16)의 작동불량은 물론 기판(100)의 손상을 발생시키게 된다.

이때 버퍼베스(30)는 기판처리베스(10)의 선단부에 일정 크기의 버퍼구역(35)을 형성함과 동시에 버퍼구역(35)을 적정 습도로 유지함으로써, 기판투입구(15)로부터 누출된 약액의 수분 손실로 인한 석출물 발생을 사전에 방지하게 되는 것이다.

여기서 버퍼베스(30)는 선단부에 기판반송장치(300)가 연결될 수 있을 것이다.

따라서 기판반송장치(300)로부터 이송되는 기판(100)은 버퍼베스(30)의 버퍼구역(35)을 경유하여 기판처리베스(10) 내부로 투입되는 것이다.

한편 가습유닛(50)은 초음파 진동자를 이용하여 물 분자를 진동시켜 증발시키는 일반적인 초음파 가습기가 사용될 수 있으며, 또한 가열식 가습기 등이 사용될 수 있을 것이다.

또한 가습유닛(50)은 버퍼베스(30)의 하측부에 설치되는 것으로 한정되는 아니며, 버퍼구역(35)의 측면부나 상부에 설치될 수도 있으며, 또한 분무장치를 이용하여 버퍼구역(35) 내부로 수분을 분무시킬 수 있게 버퍼베스(30) 외측면에 설치될 수도 있을 것이다.

따라서 기판(100)은 기판반송장치(300)의 이송수단(200)에 의해 버퍼베스(30)로 투입되어 버퍼구역(35)을 통과한 후, 기판투입구(15)를 통해 기판처리베스(10)로 투입되며, 이때 버퍼구역(35)은 기판투입구(15)로부터 누출되는 약액에 의해 석출물이 발생되는 것을 방지함으로써, 기판(100)의 이송이 원활하게 이루어질 수 있게 하는 것이다.

여기서 버퍼베스(12)는 기판처리베스(10)의 선단부에 설치되는 것으로 한정되는 아니며, 기판배출구(17)가 구비된 기판처리베스(10)의 후면부에도 연결 설치될 수 있다.

이하, 도 4를 참조하여 버퍼베스(40)가 기판처리베스(10)의 후단부에도 설치된 실시예를 설명한다.

도 4는 본 고안의 버퍼베스(30,40)가 기판처리베스(10)의 선후단부에 각각 구비된 상태의 측단면도를 나타낸 것이다.

도시된 바와 같이, 버퍼베스(40)는 기판배출구(17)가 형성된 기판처리베스(10)의 후단부에도 설치되어 버퍼구역(45)을 형성하게 되며, 후측면에는 기판유출입구(42)가 형성되고, 내부에는 기판(100)을 이송시킬 수 있는 이송수단(200) 및 가습유닛(50)이 구비된다.

따라서 버퍼베스(40)는 에칭 공정이 완료된 기판(100)이 후속 공정을 위해 기판배출구(17)를 통해 배출되는 과정에서 발생될 수 있는 약액 성분의 석출물 성장을 차단함으로써, 석출물로 인한 기판배출구(17)의 셔터장치(16)의 작동 불량이나, 기판(100)의 이송불량 및 기판(100) 손상을 방지할 수 있게 되는 것이다.

따라서 본 고안은 기판처리베스(10) 선단부와 후단부에 적정 습도를 유지할 수 있는 버퍼구역(35,45)을 각각 설치함으로써, 약액의 수분 손실로 인해 기판투입구(15) 또는 기판배출구(17) 등에 발생될 수 있는 석출물의 성장을 미연에 방지할 수 있어 기판(100)의 이송 불량이나 기판(100)의 손상 등에 의한 기판(100) 품질 불량을 방지할 수 있는 것이다.

이상, 상기의 실시 예는 단지 설명의 편의를 위해 예시로서 설명한 것에 불과하며, 본 고안의 기술 범주 내에서 다양한 형태로 변형 적용이 가능할 것이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10,40 : 기판처리베스 12 : 베스본체
15,116 : 기판투입구 16,120 : 셔터장치
17 : 기판배출구 30,40 : 버퍼베스
32,42 : 기판유출입구
35,45 : 버퍼구역 50 : 가습유닛
100 : 기판 110 : 고정플레이트
135 : 개폐판 200 : 이송수단
210 : 회전롤러 220 : 회전축
250 : 지지프레임 300 : 기판반송장치

Claims (5)

1. 기판이 투입될 수 있는 기판투입구가 선단부에 구비된 기판처리베스;
   상기 기판처리베스의 선단부에 연결되도록 설치되어 일정 크기의 버퍼구역을 형성하는 버퍼베스; 및
   상기 버퍼구역 내의 습도를 조절할 수 있도록 상기 버퍼베스에 설치되는 가습유닛;을 포함하여 구성하되,
   상기 버퍼베스는,
   기판배출구가 형성되는 상기 기판처리베스의 후단부에도 연결 설치되는 것을 특징으로 하는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치.
2. 삭제
3. 제1항에 있어서,
   상기 버퍼베스는 일측면에 기판이 통과할 수 있는 기판유출입구가 형성되고, 내부에는 상기 기판을 연속 이송시킬 수 있도록 이송수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치.
4. 제3항에 있어서,
   상기 가습유닛은 상기 버퍼구역의 저면에 설치되어 수분을 상향 분사시킬 수 있게 구비되는 것을 특징으로 하는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치.
5. 제4항에 있어서,
   상기 가습유닛은 초음파 가습기가 사용되는 것을 특징으로 하는 가습유닛이 구비된 기판 처리 장치.
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   

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