KR200458852Y1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

전 기판 처리 과정 중에 전 도중 서셉터에 온도 유지 가스를 공급하여 서셉터의 온도가 유지되도록 함으로써 서셉터가 외부 환경에 접했을 때 급격히 냉각되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치가 개시된다. 본 고안에 따른 기판 처리 장치는, 복수개의 기판이 보트에 탑재된 상태로 로딩되어 기판 처리되는 기판 처리 장치로서, 본체(110) - 본체(110)에는 기판(10)을 기판 처리 온도로 가열할 수 있는 히터(130)를 포함하고 있음 -; 본체(110)의 내측에 설치되고 기판(10)에 대하여 기판 처리 공간을 제공하는 챔버(120); 본체(110)의 하측에 설치되고, 챔버(120)에 기판 처리 가스를 공급하는 기판 처리 가스 공급관(142)과 기판 처리 가스 공급관(142)을 통해 공급된 기판 처리 가스를 배기하는 기판 처리 가스 배기관(144)이 연결되는 매니폴드(140); 본체(110)와 챔버(120)의 사이에 챔버(120)의 냉각을 위한 냉각 가스를 공급하는 냉각 가스 공급관(200); 냉각 가스 공급관(200)을 통해 공급된 냉각 가스를 배기하는 냉각 가스 배기관(300); 보트(20)가 적재되고 기판에 대하여 기판의 하측으로부터 열을 공급할 수 있는 서셉터(400); 서셉터(400)에 온도 유지용 가스를 공급하는 온도 유지 가스 공급관(500); 및 온도 유지 가스 공급관(500)을 통해 공급된 온도 유지용 가스를 배기하는 온도 유지 가스 배기관(600)을 포함하고, 전 기판 처리 과정 중에 서셉터(400)에 온도 유지용 가스를 공급함으로써 서셉터(400)가 외부 환경에 의하여 냉각되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.

Description

기판 처리 장치{Substrate Treatment Apparatus}
본 고안은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 전 기판 처리 과정 중에 서셉터에 온도 유지 가스를 공급하여 서셉터의 온도가 유지되도록 함으로써 서셉터가 외부 환경에 접했을 때 급격히 냉각되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조시 사용되는 대면적 기판 처리 장치는 크게 증착 장치와 어닐링 장치로 구분될 수 있다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 단계를 담당하는 장치로서, 예를 들어 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 같은 화학 증착 장치와 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 증착 장치가 있다. 또한, 어닐링 장치는 증착 공정 후에 증착된 막의 특성을 향상시키는 단계를 담당하는 장치이다.
일반적으로, 증착 공정과 어닐링 공정은 챔버의 내부에 복수개의 기판을 로딩한 후 히터의 동작에 의해 발생된 소정의 열을 인가하며 진행된다.
이와 같은 기판 처리를 위해 복수개의 기판은 보트에 상하로 적재된 상태에서 기판 처리 장치의 챔버의 내부로 수직으로 로딩 및 언로딩된다.
챔버의 내부에서 기판을 처리할 때, 보트 하부측의 기판에 대하여는 서셉터에 적재된 서셉터 히터에서 발생된 열이 인가된다. 이때, 기판 처리 후, 보트에 적재된 기판이 하강할 때 서셉터가 챔버 외부의 환경에 노출되면 외기에 의해 서셉터가 급속히 냉각된다. 이후에 기판 처리를 위해서는 보트가 수직으로 상승하면 기판 처리를 위해 서셉터를 소정의 온도로 상승시키기 전까지 많은 시간이 소모되고 이로 인해 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
또한, 서셉터의 온도를 상승시키기 위해서는 서셉터에 내장되어 있는 히터의 사용량이 많아지게 되고 이로 인해 서셉터 히터의 수명이 저하되는 문제점이 있었다.
본 고안은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 서셉터로 고온의 온도 유지용 가스를 공급하여 기판 처리 후 기판 언로딩시 서셉터가 외부 환경에 노출되었을 때 서셉터가 급속히 냉각되는 것을 방지하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 고안은 기판 처리 후 서셉터의 온도를 유지하여 기판 처리의 재개시 서셉터의 온도를 기판 처리 수준으로 상승시키기 위한 시간을 감소시켜 기판 생산 효율을 증가시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 고안은 기판 처리 후 서셉터의 온도를 유지하여 기판 처리의 재개시 서셉터 히터의 동작량을 감소시켜 서셉터 히터의 수명을 연장할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안에 따른 기판 처리 장치는, 복수개의 기판이 보트에 탑재된 상태로 로딩되어 기판 처리되는 기판 처리 장치로서, 본체 - 상기 본체에는 기판을 기판 처리 온도로 가열할 수 있는 히터를 포함하고 있음 -; 상기 본체의 내측에 설치되고 기판에 대하여 기판 처리 공간을 제공하는 챔버; 상기 본체의 하측에 설치되고, 상기 챔버에 기판 처리 가스를 공급하는 기판 처리 가스 공급관과 상기 기판 처리 가스 공급관을 통해 공급된 기판 처리 가스를 배기하는 기판 처리 가스 배기관이 연결되는 매니폴드; 상기 본체와 상기 챔버의 사이에 상기 챔버의 냉각을 위한 냉각 가스를 공급하는 냉각 가스 공급관; 상기 냉각 가스 공급관을 통해 공급된 냉각 가스를 배기하는 냉각 가스 배기관; 상기 보트가 적재되고 기판에 대하여 기판의 하측으로부터 열을 공급할 수 있는 서셉터; 상기 서셉터에 온도 유지용 가스를 공급하는; 및 상기 온도 유지 가스 공급관을 통해 공급된 온도 유지용 가스를 배기하는 온도 유지 가스 배기관을 포함하고, 전 기판 처리 과정 중에 상기 서셉터에 온도 유지용 가스를 공급함으로써 상기 서셉터가 외부 환경에 의하여 냉각되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.
상기 서셉터는 서셉터 본체; 상기 서셉터 본체 내에 탑재되는 서셉터 히터; 및 상기 서셉터 본체 내에 복수개로 탑재되는 단열판을 포함할 수 있다.
상기 서셉터 본체는 내벽과 외벽으로 구성되고, 상기 내벽과 외벽 사이에는 공간이 형성되며, 상기 공간으로는 상기 온도 유지 가스 공급관으로 공급된 온도 유지용 가스가 유동할 수 있다.
상기 내벽과 상기 외벽의 사이에 형성되는 온도 유지용 가스 유동로를 더 포함할 수 있다.
상기 서셉터 본체의 상판을 구성하는 상기 내벽과 상기 외벽 사이에 형성되는 상기 온도 유지용 가스 공급로와, 상기 서셉터 본체의 하판을 구성하는 상기 내벽과 상기 외벽 사이에 형성되는 온도 유지용 가스 공급로는 가스 유동 경로의 방향이 반대일 수 있다.
상기 냉각 가스 배기관을 통해 배기되는 냉각 가스를 냉각하는 냉각기를 더 포함할 수 있다.
상기 냉각 가스 배기관에는 냉각 가스를 외부로 배기하기 위한 블로어가 설치될 수 있다.
상기 온도 유지용 가스는 질소일 수 있다.
본 고안에 따른 기판 처리 장치는, 서셉터로 고온의 온도 유지용 가스를 공급하여 기판 처리 후 기판 언로딩시 서셉터가 외부 환경에 노출되었을 때 서셉터가 급속히 냉각되는 것을 방지하는 효과를 갖는다.
또한, 본 고안은 기판 처리 후 서셉터의 온도를 유지하여 기판 처리의 재개시 서셉터의 온도를 기판 처리 수준으로 상승시키기 위한 시간을 감소시켜 기판 생산 효율을 증가시키는 효과를 갖는다.
또한, 본 고안은 기판 처리 후 서셉터의 온도를 유지하여 기판 처리의 재개시 서셉터 히터의 동작량을 감소시켜 서셉터 히터의 수명을 연장하는 효과를 갖는다.
도 1은 본 고안에 따른 기판 처리 장치의 일 실시예의 구성을 나타내는 도면.
도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 서셉터의 구성을 나타내는 도면.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 서셉터 본체의 구성을 나타내는 도면.
도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 공간을 통한 온도 유지용 가스의 유동을 나타내는 도면.
도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 온도 유지 가스 유동로의 일 예의 구성을 나타내는 도면.
도 6은 본 고안의 일 실시예에 따른 온도 유지 가스 유동로의 다른 예의 구성을 나타내는 도면.
도면을 참조하여 본 고안의 실시예를 설명하기로 한다.
도 1은 본 고안에 따른 기판 처리 장치(100)의 일 실시예의 구성을 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 고안에 따른 기판 처리 장치(100)는 본체(110), 챔버(120), 매니폴드(140), 냉각 가스 공급관(200), 냉각 가스 배기관(300), 및 서셉터(400), 온도 유지 가스 공급관(500) 및 온도 유지 가스 배기관(600)을 포함하여 구성될 수 있다.
본체(110)는 소정의 크기로 형성되고, 내부에는 공간이 형성된다. 그리고, 후술하는 구성 요소들이 모두 연결될 수 있다. 본체(110)에는 기판 처리에 필요한 열을 발생시키는 히터(130)가 포함되어 있다.
챔버(120)는 소정의 크기로 형성되어 본체(110)의 내측으로 설치된다. 챔버(120)의 내부에는 복수개의 기판(10)을 처리 하기 위한 공간이 형성된다. 여기서 기판(10)은 보트(20)에 적재된 상태에서 챔버(120)의 내부로 로딩된다.
히터(130)는 챔버(120) 내부의 기판(10)에 대하여 열을 인가하기 위하여 챔버(120)의 주위를 둘러싸는 형태로 구성될 수 있다. 히터(130)는 복수개의 발열체(132)를 포함한다. 발열체(132)의 재질은 칸탈(Kanthal), 실리콘 카바이드(SiC), 몰리브덴 실리사이드(MoSi2) 등을 포함할 수 있다.
발열체(132)의 동작은 PID 제어(proportional integral derivative control) 방식에 준하여 이루어질 수 있다. PID 제어는 이미 널리 알려져 있는 공지 기술이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
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매니폴드(140)는 본체(110)의 하측에 설치된다. 매니폴드(140)는 챔버(120)에 기판 처리 가스를 공급하는 기판 처리 가스 공급관(142)과 기판 처리 가스 공급관(142)을 통해 공급된 기판 처리 가스를 배기하는 기판 처리 가스 배기관(144)이 연결된다.
기판 처리 가스 배기관(144)에는 자동 압력 조절기(150)가 연결될 수 있다. 자동 압력 조절기(150)는 제어부(700)에 의해 조절되면서 기판 처리 가스 배기관(144)을 통해 배기되는 기판 처리 가스의 유량을 조절할 수 있다.
냉각 가스 공급관(200)은 본체(110)와 챔버(120) 사이에 연결되어 챔버(120)에 냉각 가스를 공급하여 챔버(120) 내부를 냉각할 수 있다. 이때 공급되는 냉각 가스는 질소를 포함할 수 있다.
냉각 가스 배기관(300)은 챔버(120)에 연결되어, 챔버(120)로 공급된 냉각 가스를 외부로 배기할 수 있다. 냉각 가스 배기관(300)은 냉각 가스 공급관(200)과 대향한 상태로 연결될 수 있다.
냉각 가스 배기관(300)에는 냉각기(310)가 설치될 수 있다. 냉각기(310)는 냉각 가스 배기관(300)을 통해 배출되는 냉각 가스를 소정의 온도로 냉각하여 배출한다.
냉각 가스 배기관(300)을 통한 냉각 가스의 배기가 용이하도록 하기 위해 냉각 가스 배기관(300)에는 가스 블로어(gas blower)(320)가 설치될 수 있다.
가스 블로어(320)는 제어부(700)의 제어에 대응하여 제어될 수 있다.
여기서, 챔버(120)의 온도를 측정하고 측정된 온도에 해당하는 신호를 출력하여 제어부(700)로 입력하는 온도 센서(710)가 연결될 수 있다. 온도 센서(710)에 의한 온도 측정은 1회에 그치지 않고, 냉각 가스 배기관(300)를 통한 냉각 가스의 배기가 시작되는 시기부터 일정한 시간 간격으로 계속적으로 이루어질 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.
서셉터(400)는 복수개의 기판이 적재되어 있는 보트(20)의 하부에서 하부측의 기판에 대하여 열을 인가하여 기판 처리가 이루어지도록 한다.
도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 서셉터(400)의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 서셉터(400)는 서셉터 본체(410), 서셉터 히터(420) 및 단열판(430) 등을 포함하여 구성될 수 있다.
서셉터 본체(410)는 대략 직육면체 형태로 형성된다. 서셉터 본체(410)의 내부에는 서셉터 히터(420) 및 단열판(430)이 내장된다.
서셉터 본체(410)는 석영 재질을 포함할 수 있다.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 서셉터 본체(410)의 구성을 나타내는 도면이다.
서셉터 본체(410)는 외벽(412)과 내벽(414)으로 구성된다. 외벽(412)과 내벽(414)은 소정의 간격으로 이격되어 공간(416)이 형성되고, 공간(416)으로는 온도 유지용 가스가 유동할 수 있다. 서셉터 본체(410)의 일측 상부로는 온도 유지 가스 공급관(500)이 연결되고, 서셉터 본체(410)의 타측 하부로는 온도 유지 가스 배기관(600)이 연결된다. 온도 유지 가스 공급관(500)과 온도 유지 가스 배기관(600)에 대해서는 후술하기로 한다.
도 4는 본 고안의 일 실시예에 따른 공간(416)을 통한 온도 유지용 가스의 유동을 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 온도 유지 가스 공급관(500)을 통해 공급된 온도 유지용 가스는 외벽(412)과 내벽(414) 사이의 공간(416) 전체에 걸쳐 유동하는 것을 알 수 있다.
한편, 서셉터 본체(410)의 외벽(412)과 내벽(414) 사이에 형성된 공간에는 온도 유지 가스 유동로(440)가 형성될 수 있다.
도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 온도 유지 가스 유동로(440)의 일 예의 구성을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 온도 유지 가스 유동로(440)는 외벽(412)과 내벽(414) 사이에 형성되는 공간상에 배치되는 격벽(442)에 의해 형성된다. 즉, 외벽(412)과 내벽(414) 사이에는 온도 유지 가스 공급관(500) 측에서 온도 유지 가스 배기관(600) 측을 향하여 복수개의 격벽(442)이 형성된다. 이때, 복수개의 격벽(442)은 서로 평행하게 형성된다. 또한, 격벽(442)의 일단은 서셉터 본체(410)의 가장 자리 일측과 연결되지만, 타단은 서셉터 본체(410)의 가장자리와 이격되어, 이격된 부분으로는 온도 유지 가스가 유동할 수 있도록 한다.
그리고, 서로 이웃하는 격벽(442)의 이격 부분은 서로 반대측에 형성된다. 따라서, 온도 유지 가스 유동로(440)는 외벽(412)과 내벽(414) 사이에 공간을 전부 지나며 온도 유지 가스 공급관(500) 측에서 온도 유지 가스 배기관(600)으로 유동할 수 있다.
도 6은 본 고안의 일 실시예에 따른 온도 유지 가스 유동로의 다른 예의 구성을 나타내는 도면이다.
즉, 도 5에 도시된 온도 유지 가스 유동로(440)가 서셉터 본체(410) 상부의 상판에 형성된 온도 유지 가스 유동로(440)라면, 도 6에 도시된 온도 유지 가스 유동로(440)는 서셉터 본체(410) 하부의 하판에 형성되는 온도 유지 가스 유동로(440)를 나타낸다. 도면에 도시된 바와 같이, 서셉터 본체(410)의 상부와 하부에 형성되는 온도 유지 가스 유동로(440)는 경로는 서로 반대로 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 외벽(412)과 내벽(414) 사이에 형성되는 공간 상에 배치되는 격벽(442)은 온도 유지 가스 유동로(440)를 형성할 수도 있지만, 서셉터 본체(410)의 전체적인 내구성을 강화하는 효과를 부수적으로 포함할 수도 있다.
서셉터 히터(420)는 기판 처리시 보트(20)의 하부에 소정의 열을 인가하여 보트(20)의 하부에 적재되어 있는 기판(10)을 기판 처리 온도로 가열한다.
단열판(430)은 서셉터 히터(420)에서 발열된 열이 서셉터(400)의 하부로 인가되는 것을 방지하여, 서셉터 히터(420)의 열이 보트(20) 하부의 기판(10)으로 인가될 수 있도록 한다. 단열판(430)의 재질은 석영을 포함할 수 있다. 단열판(430)은 서셉터 본체(410)의 내측에 복층으로 배치된다. 이때, 단열판(430)의 배치 층수는 사용자에 의해 가변될 수 있다.
서셉터(400)의 온도 유지에 사용된 온도 유지 가스는 온도 유지 가스 배기관(600)을 통해 배기된다.
온도 유지 가스 공급관(500)은 서셉터 본체(410)의 일측 상부로 연결되어, 서셉터 본체(410)로 온도 유지 가스를 공급한다. 여기서, 온도 유지 가스 공급관(500)을 통해 공급된 온도 유지 가스는 서셉터 본체(410)의 외벽(412)과 내벽(414) 사이의 공간(416)을 통해 유동한다.
온도 유지 가스 배기관(600)은 서셉터 본체(410)의 타측 하부로 연결된다. 온도 유지 가스 배기관(600)으로는 서셉터 본체(410)의 외벽(412)과 내벽(414) 사이의 공간을 통해 유동하며 서셉터의 온도 유지에 사용되었던 온도 유지 가스가 배출된다.
이때, 공급되는 온도 유지 가스는 질소를 포함한다.
상기와 같이 구성된 본 고안의 동작을 살펴보기로 한다.
복수개의 기판(10)을 홀더(12)에 안착시킨 상태에서 보트(20)에 적재하고, 보트(20)를 서셉터(400)에 탑재한다. 이후, 엘리베이터(미도시)를 이용하여 보트(20)가 챔버(120) 내측에 위치되도록 서셉터(400)를 상승시킨 후, 히터(130)를 동작시켜 기판 처리를 진행한다. 이때, 히터(130)를 동작시키기 전에 서셉터 히터(420)를 미리 작동시켜 놓아서 서셉터(400)를 소정의 온도에 도달시켜 놓는 것이 바람직하다.
기판 처리가 완료되면 냉각 가스 공급관(200)을 통해 냉각 가스를 공급하여 챔버(120)의 온도를 소정의 수준으로 냉각시킨다. 챔버(120)가 냉각되면, 서셉터(400)와 함께 보트(20)를 하강시켜 기판(10)을 언로딩하도록 한다. 이때, 서셉터(400)가 외부 환경과 접하며 급격히 냉각될 수 있으므로 온도 유지 가스 공급관(500)을 통해 온도 유지 가스를 공급한다.
온도 유지 가스는 서셉터 본체(410)의 외벽(412)과 내벽(414) 사이의 공간을 유동하며 서셉터(400)가 급격히 냉각되는 것을 방지한다.
또한, 온도 유지 가스는 서셉터 본체(410)의 외벽(412)과 내벽(414)에 형성된 온도 유지 가스 유동로(440)를 통과하며 서셉터(400)가 급격히 냉각되는 것을 방지한다.
이후, 보트(20)에 적재되어 있는 기판(10)을 언로딩하고, 새로운 기판 처리 대상인 기판을 보트(20)에 적재한다. 보트(20)는 챔버(120) 내로 상승하며, 보트(20)에 적재되어 있는 기판(10)에 대한 기판 처리를 수행한다.
본 고안에서 서셉터(400)는 전 기판 처리 과정에서 온도 유지 가스에 의해 소정의 온도가 유지되게 하는 것이 바람직하다. 이렇게 되면, 우선적으로, 기판 처리 후 기판을 언로딩하고 이후 기판을 다시 로딩하여 기판 처리 공정의 재개시, 기판 처리 온도로 상승되기까지 서셉터 히터(420)의 동작량이 감소될 수 있어 기판 처리 효율이 향상되는 효과를 갖는다. 또한, 부수적으로, 기판 처리 과정에서도 서셉터(400)가 외부 환경에 의하여 열을 불필요하게 빼앗기는 현상을 방지할 수 있어서 보다 용이하게 챔버(120) 내부의 온도를 일정하게 유지할 수 있는 효과를 갖는다.
본 고안은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 고안의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 고안과 첨부된 실용신안등록범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.
100: 기판 처리 장치
110: 본체
120: 챔버
130: 히터
140: 매니폴드
200: 냉각 가스 공급관
300: 냉각 가스 배기관
400: 서셉터
410: 서셉터 본체
412: 외벽
414: 내벽
416: 공간
420: 서셉터 히터
430: 단열판
440: 온도 유지 가스 유동로
500: 온도 유지 가스 공급관
600: 온도 유지 가스 배기관

Claims (8)

  1. 본체, 상기 본체의 내측에 설치되며 보트에 탑재된 복수의 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하는 챔버, 상기 본체에 설치되며 상기 챔버로 유입된 후 배기되는 기판 처리 가스를 가열하는 히터, 상기 챔버로 상기 기판 처리 가스를 공급 및 배기하는 매니폴드, 상기 본체와 상기 챔버 사이로 냉각 가스를 공급하는 냉각 가스 공급관, 상기 본체와 상기 챔버 사이의 상기 냉각 가스를 배기하는 냉각 가스 배기관, 상기 본체의 하측에 위치되고 상기 보트가 적재되며 상기 보트의 하측에 탑재된 상기 기판측으로 열을 공급하는 서셉터를 포함하는 기판 처리 장치로서,
    상기 서셉터는, 외벽과 내벽으로 형성되며 상기 외벽과 상기 내벽 사이에는 상기 보트에 탑재된 하측의 상기 기판측으로 열을 공급하기 위한 온도 유지용 가스가 유동하는 공간이 형성된 서셉터 본체; 상기 서셉터 본체에 탑재된 서셉터 히터; 상기 서셉터 본체에 복수개 탑재된 단열판을 포함하고,
    상기 외벽과 상기 내벽 사이에는 상기 외벽과 상기 내벽 사이의 공간을 구획하여 상기 온도 유지용 가스가 지그재그 형태로 유동하도록 온도 유지용 가스 유동로를 형성하는 복수의 격벽이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 서셉터 본체의 상부측 상기 외벽과 상기 내벽 사이에 형성된 상기 온도 유지용 가스 유동로의 경로와 상기 서셉터 본체의 하부측 상기 외벽과 상기 내벽 사이에 형성된 상기 온도 유지용 가스 유동로의 경로는 상호 반대 방향인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 냉각 가스 배기관을 통해 배기되는 냉각 가스를 냉각하는 냉각기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 냉각 가스 배기관에는 냉각 가스를 외부로 배기하기 위한 블로어가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 온도 유지용 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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