KR200458141Y1 - Treatment apparatus for large area substrate - Google Patents

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Abstract

본 고안은 대면적 기판 처리장치에 관한 것으로, 약액을 저장하는 수조와, 상기 수조의 마주하는 두 측면에 각각 마련되어 대면적 기판의 진입과 진출을 가능하게 하는 제1 및 제2오토셔터와, 상기 수조에 약액을 공급하되, 그 약액의 수위가 항상 상기 제1 및 제2오토셔터의 높이 보다 높게 유지되도록 공급하는 공급관을 포함한다. 이와 같은 구성의 본 고안은 수조의 내부에 약액을 채운 상태에서 기판이 그 수조를 통과하면서 약액에 의한 표면처리가 이루어지도록 함으로써, 기판에 손상을 주지않아 공정불량의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a large-area substrate processing apparatus, comprising a water tank for storing a chemical liquid, first and second auto shutters provided on two opposite sides of the water tank to enable entry and exit of a large-area substrate, and Supplying a chemical liquid to the tank, and includes a supply pipe for supplying so that the level of the chemical liquid is always maintained higher than the height of the first and second auto shutter. The present invention has the effect of preventing the occurrence of process defects without damaging the substrate by causing the substrate to be surface treated by the chemical liquid while the chemical liquid is filled in the tank. have.

기판, 처리, 손상방지 Board, Processing, Damage Prevention

Description

대면적 기판 처리장치{Treatment apparatus for large area substrate}Large area substrate processing apparatus {Treatment apparatus for large area substrate}

본 고안은 대면적 기판 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 표면에 형성된 배양막의 손상없이 대면적 기판의 표면을 처리하기 위한 대면적 기판 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a large area substrate processing apparatus, and more particularly, to a large area substrate processing apparatus for treating the surface of a large area substrate without damaging the culture membrane formed on the surface of the substrate.

일반적으로 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 대면적 기판의 경우 약액 등을 소정의 높이로 균일하게 도포처리할 필요가 있다. 이는 기판에 형성된 박막의 선택적인 식각이나 감광막의 스트립 공정에서 공정을 수행하기 위한 약액을 그 기판에 소정의 높이로 균일하게 도포하는 공정을 포함한다.In general, in the case of a large-area substrate for manufacturing a flat panel display device, it is necessary to uniformly apply a chemical liquid to a predetermined height. This includes a step of uniformly applying a chemical liquid to a predetermined height on the substrate for performing the process in the selective etching of the thin film formed on the substrate or the stripping process of the photosensitive film.

이때 상기 약액의 도포과정에서 종래 대면적 기판의 처리장치는 이송되는 기판의 상부에서 약액을 슬릿 노즐을 통해 분사하는 장치를 사용하였으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 처리장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.At this time, in the process of applying the chemical liquid, the conventional apparatus for processing a large-area substrate used an apparatus for injecting the chemical liquid through a slit nozzle from the upper portion of the substrate to be transported. It will be described in detail as follows.

도 1은 종래 대면적 기판의 처리장치의 단면 구성도이다. 1 is a cross-sectional configuration diagram of a conventional processing apparatus for a large area substrate.

도 1을 참조하면 종래 대면적 기판의 처리장치는, 다수의 공급포트(11)를 통해 외부에서 공급되는 약액을 길이방향으로 확산시켜 저면에 고르게 형성된 공급홀(H)을 통해 공급하는 공급파이프(12)를 포함하는 공급관(10)과, 상기 공급관(10)을 통해 공급되는 약액을 일시 저장하고 그 약액이 오버플로우 되도록 하는 1차수조(20)와, 상기 1차수조(20)에서 오버플로우된 약액이 흘러내리도록 하며 하부에 마련된 슬릿(31)을 통해 기판의 상부에 도포될 수 있도록 하는 2차수조(30)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a conventional processing apparatus for a large-area substrate may include a supply pipe configured to diffuse a chemical liquid supplied from the outside through a plurality of supply ports 11 in a longitudinal direction and to supply the same through a supply hole H formed on the bottom surface thereof ( A supply pipe 10 including 12), a primary tank 20 for temporarily storing the chemical liquid supplied through the supply pipe 10 and causing the chemical liquid to overflow, and an overflow in the primary tank 20 It is configured to include a secondary water tank 30 to allow the applied chemical to flow down and to be applied to the upper portion of the substrate through the slit 31 provided at the bottom.

이하, 상기와 같이 구성된 종래 대면적 기판 처리장치의 구성을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the structure of the conventional large area substrate processing apparatus comprised as mentioned above is demonstrated in detail.

먼저, 상기 공급관(10)은 하부에 공급홀(H)이 동일한 크기와 동일한 간격으로 형성되어 있는 공급파이프(12)의 상단에 공급포트(11)가 다수로 연결된 형태이다.First, the supply pipe 10 has a shape in which a plurality of supply ports 11 are connected to an upper end of a supply pipe 12 in which supply holes H are formed at the same size and at equal intervals.

상기 공급포트(11)를 통해 공급되는 약액은 외부에서 원활한 약액의 공급을 위해 소정의 압력으로 공급되어지며, 그 공급된 약액은 상기 공급파이프(12)를 통해 도포할 기판의 폭방향인, 표면처리장치의 길이방향을 따라 확장시킨다.The chemical liquid supplied through the supply port 11 is supplied at a predetermined pressure for smooth supply of the chemical liquid from the outside, and the supplied chemical liquid is a width direction of the substrate to be applied through the supply pipe 12. Extend along the length of the processing apparatus.

상기 공급파이프(12)의 공급홀(H)을 통해 공급되는 약액은 상기 1차수조(20) 에 저장되며, 그 저장된 약액이 1차수조(20)의 상부측으로 오버플로우되어 2차수조(30)로 공급된다.The chemical liquid supplied through the supply hole (H) of the supply pipe 12 is stored in the primary tank 20, the stored chemical liquid overflows to the upper side of the primary tank 20, the secondary tank 30 Is supplied.

상기 2차수조(30)는 저면이 경사면이며 그 경사면의 끝단에 약액을 외부로 배출하는 슬릿(31)이 마련되어 있다. 그 경사면을 따라 이동하는 약액은 상기 공급포트(11)를 통해 공급될 때의 압력이 대부분 해소될 수 있다.The secondary water tank 30 has an inclined surface and a slit 31 for discharging the chemical liquid to the outside at the end of the inclined surface. The chemical liquid moving along the inclined surface can be largely released when the pressure is supplied through the supply port (11).

그러나, 상기 슬릿(31)의 위치는 기판과 소정거리 이격되어 있는 것이며 약액이 기판에 낙하할 때의 충격을 완전히 해소할 수는 없다.However, the position of the slit 31 is spaced apart from the substrate by a predetermined distance and cannot completely eliminate the impact when the chemical liquid falls on the substrate.

특히 기판의 표면에 배양막 등이 형성된 경우에는 그 배양막에 손상을 줄 수 있으며, 따라서 공정의 불량을 유발할 수 있는 문제점이 있었다.In particular, when a culture film or the like is formed on the surface of the substrate, the culture film may be damaged, thus causing a problem in the process.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 고안이 해결하고자 하는 과제는, 기판에 손상을 주지않고 기판을 처리할 수 있는 대면적 기판 처리장치를 제공함에 있다.The problem to be solved by the present invention in view of the above problems is to provide a large-area substrate processing apparatus capable of processing a substrate without damaging the substrate.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 고안은, 약액을 저장하는 수조와, 상기 수조의 마주하는 두 측면에 각각 마련되어 대면적 기판의 진입과 진출을 가능하게 하는 제1 및 제2오토셔터와, 상기 수조에 약액을 공급하되, 그 약액의 수위가 항상 상기 제1 및 제2오토셔터의 높이 보다 높게 유지되도록 공급하는 공급관을 포함한다.The present invention for solving the above problems, the tank for storing the chemical liquid, the first and second auto shutter provided on each of the two opposite sides of the tank to enable the entry and exit of the large-area substrate, and Supplying a chemical liquid to the tank, and includes a supply pipe for supplying so that the level of the chemical liquid is always maintained higher than the height of the first and second auto shutter.

상기와 같이 구성되는 본 고안은 수조의 내부에 약액을 채운 상태에서 기판이 그 수조를 통과하면서 약액에 의한 표면처리가 이루어지도록 함으로써, 기판에 손상을 주지않아 공정불량의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention constituted as described above has the effect of preventing the occurrence of process defects without damaging the substrate by allowing the substrate to be treated by the chemical while the substrate passes through the tank while the chemical is filled in the tank. There is.

이하, 상기와 같은 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention as described above in detail as follows.

도 2와 도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 대면적 기판 처리장치의 구성도 및 기판의 진행에 따른 동작상태도이다.2 and 3 is a configuration diagram of a large-area substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention and an operation state diagram according to the progress of the substrate.

도 2와 도 3을 참조하면 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 대면적 기판 처리장치는, 약액을 저장하는 수조(1)와, 상기 수조(1)의 마주하는 양측면부에 마련되어 기판(S)의 진입과 진출을 가능하게 하는 제1 및 제2오토셔터(2,3)와, 상기 수조(1)의 저면에서 약액을 그 수조의 내측으로 공급하는 공급관(4)과, 상기 수조(1)의 내측에서 상기 기판(S)의 저면을 지지하고, 이송하는 이송축(5)들과, 상기 기판(S)의 상부 가장자리를 눌러 기판(S)의 이탈을 방지하는 상부롤러(6)를 포함하여 구성된다.2 and 3, a large-area substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, the tank (1) for storing the chemical liquid, provided on both sides of the water tank (1) facing the substrate (S) First and second auto shutters 2 and 3 enabling entry and exit, a supply pipe 4 for supplying a chemical liquid from the bottom of the tank 1 to the inside of the tank, and Including the transfer shafts (5) for supporting and transporting the bottom surface of the substrate (S) from the inside, and the upper roller (6) to press the upper edge of the substrate (S) to prevent separation of the substrate (S) It is composed.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention configured as described above in more detail.

먼저, 수조는 기판(S)을 완전히 수용할 수 있는 면적의 것이며, 기판(S)의 이송방향으로 상호 마주하는 두 측면에 각각 제1오토셔터(2)와 제2오토셔터(3)가 구비되어 있다.First, the water tank is an area capable of completely accommodating the substrate S, and the first auto shutter 2 and the second auto shutter 3 are provided on two sides facing each other in the transport direction of the substrate S, respectively. It is.

또한 그 수조(1)의 저면는 외부의 약액을 수조(1)의 내측으로 공급하는 공급관(4)을 포함하여 구성되며, 그 공급관(4)을 통해 공급된 수조(1) 내의 약액은 기판(S)을 완전히 디핑(Dipping) 처리할 수 있도록 상기 제1오토셔터(2)와 제2오토셔터(3)의 위치보다 더 높은 수위로 유지된다.In addition, the bottom surface of the water tank 1 includes a supply pipe 4 for supplying an external chemical liquid to the inside of the water tank 1, and the chemical liquid in the water tank 1 supplied through the supply pipe 4 is a substrate (S). ) Is maintained at a higher water level than the positions of the first auto shutter 2 and the second auto shutter 3 so as to completely dipping).

먼저 기판(S)이 이송되어 수조(1)와 인접한 위치까지 위치하면 상기 제1오토셔터(2)가 오픈된다. 이때 상기 설명과 같이 수조(1) 내의 약액의 수위는 그 제1오토셔터(2)보다 높은 위치에 있기 때문에 약액이 그 오픈된 제1오토셔터(2)를 통해 외부로 유출된다. First, when the substrate S is transferred to a position adjacent to the water tank 1, the first auto shutter 2 is opened. At this time, since the water level of the chemical liquid in the water tank 1 is higher than the first auto shutter 2, the chemical liquid flows out through the open first auto shutter 2.

이와 같은 상태에서 기판(S)의 이송이 진행되어 도 3에는 기판(S)의 일부가 수조(1)의 내측으로 진입한 상태를 나타낸다.In this state, the transfer of the substrate S proceeds, and FIG. 3 shows a state in which a part of the substrate S enters the inside of the water tank 1.

이때에도 상기 오픈된 제1오토셔터(2)를 통해서 약액이 계속 배출되고 있으며, 그 수위를 유지하여 상기 기판(S)을 디핑 처리하기 위하여, 상기 공급관(4)을 통해 공급되는 약액의 양은 상기 제1오토셔터(2)를 통해 배출되는 약액의 양과 동일하거나 더 많은 양의 약액을 공급한다.In this case, the chemical liquid is continuously discharged through the open first auto shutter 2, and the amount of the chemical liquid supplied through the supply pipe 4 is maintained in order to maintain the level of the substrate S. Supplying the chemical liquid in the same or greater amount than the chemical liquid discharged through the first auto shutter (2).

기판(S)이 완전히 수조(1)의 내측으로 진입한 상태에서 상기 제1오토셔터(2)가 닫히며, 제2오토셔터(2)가 열리고, 그 기판(S)은 이송축(5)들에 의해 이송되어 그 제2오토셔터(2)를 통해 외부로 진출한다.The first auto shutter 2 is closed and the second auto shutter 2 is opened in a state where the substrate S completely enters the inside of the water tank 1, and the substrate S is transferred to the feed shaft 5. Is conveyed by the field and advances to the outside through the second auto shutter 2.

이때 역시 상기 오픈된 제2오토셔터(3)를 통해 상기 수조(1) 내의 약액이 배출되며, 상기 공급관(4)을 통해 공급되는 약액이 그 배출되는 약액의 양보다 많도록 하여 수위를 유지한다.At this time, the chemical liquid in the water tank 1 is discharged through the open second auto shutter 3, and the chemical liquid supplied through the supply pipe 4 is kept larger than the amount of the chemical liquid discharged to maintain the water level. .

도 4는 본 고안에 따른 대면적 기판 처리장치의 다른 실시예의 구성도이다.4 is a block diagram of another embodiment of a large-area substrate processing apparatus according to the present invention.

도 4를 참조하면, 상기 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한 구성에, 상기 수조(1)의 하부측에는 상기 제1오토셔터(2) 및 제2오토셔터(3)를 통해 외부로 배출된 약액을 수집하는 수집부(7)를 더 포함하는 구성이다.Referring to FIG. 4, in the configuration described with reference to FIGS. 2 and 3, the chemical liquid discharged to the outside through the first auto shutter 2 and the second auto shutter 3 is disposed at the lower side of the water tank 1. The configuration further includes a collecting unit (7) for collecting.

상기 수집부(7)는 상기 수조(1)에서 넘친 약액들을 경사면을 통해 수집하는 탱크를 예로 할 수 있으며, 그 수집부(7)에 수집된 약액은 필터를 통한 여과과정을 거처 공급관(4)을 통해 수조(1)에 재공급될 수 있도록 한다.The collection unit 7 may be an example of a tank collecting the chemical liquids overflowed from the water tank 1 through an inclined surface, and the chemical liquid collected in the collection unit 7 is filtered through a filter and then supplied to the supply pipe 4. It can be resupplied to the tank (1) through.

이와 같이 본 고안에 따른 대면적 기판 처리장치는 기판의 이송과 동기에 기판이 약액에 디핑되어 처리되도록 함으로써, 기존의 낙하방식의 도포에 비하여 기판에 형성된 배양막에 손상을 주지 않으며, 따라서 공정불량의 발생을 방지할 수 있게 된다.As described above, the large-area substrate processing apparatus according to the present invention causes the substrate to be dipped into the chemical liquid in synchronism with the transfer and transfer of the substrate, thereby not damaging the culture membrane formed on the substrate as compared to the conventional dropping method, and thus a process defect. Can be prevented from occurring.

도 1은 종래 대면적 기판 처리장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional large-area substrate processing apparatus.

도 2와 도 3은 각각 본 고안에 따른 대면적 기판 처리장치의 구성과 사용상태를 보인 단면도이다.2 and 3 are cross-sectional views showing the configuration and use of the large-area substrate processing apparatus according to the present invention, respectively.

도 4는 본 고안 대면적 기판 처리장치의 다른 실시 구성도이다.4 is another embodiment of the present invention large-area substrate processing apparatus.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1:수조 2:제1오토셔터1: Water tank 2: First auto shutter

3:제2오토셔터 4:공급관3: 2nd auto shutter 4: Supply pipe

5:이송축 6:상부롤러5: Feed shaft 6: Upper roller

7:수집부7: Collector

Claims (3)

약액을 저장하며, 제1측면을 통해 외부로부터 이송된 대면적 기판을 일방향으로 이송하여 제2측면을 통해 외부로 이송하면서 상기 약액에 의해 상기 대면적 기판을 처리하는 이송축들이 마련된 수조;A tank for storing the chemical liquid and having transfer shafts for processing the large-area substrate by the chemical liquid while transferring the large-area substrate transferred from the outside through the first side in one direction to the outside through the second side; 상기 수조의 마주하는 제1측면과 제2측면에 각각 마련되어 대면적 기판의 진입과 진출을 가능하게 하는 제1 및 제2오토셔터; 및First and second auto shutters respectively provided on the first and second side surfaces of the tank to allow entry and exit of a large-area substrate; And 상기 수조에 약액을 공급하되, 그 약액의 수위가 항상 상기 제1 및 제2오토셔터의 높이 보다 높게 유지되도록 공급하는 공급관을 포함하는 대면적 기판 처리장치.And a supply pipe for supplying a chemical liquid to the water tank, the supplying liquid for maintaining the level of the chemical liquid at all times higher than the height of the first and second auto shutters. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공급관은,The supply pipe, 상기 대면적 기판의 진입 또는 진출시, 상기 제1 또는 제2오토셔터를 통해 배출되는 약액의 양에 비하여 동일 또는 더 많은 약액을 공급하는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 처리장치.When the large-area substrate enters or exits, a large-area substrate processing apparatus for supplying the same or more chemical liquid than the amount of the chemical liquid discharged through the first or second auto shutter. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 수조의 하부측에서 상기 수조에서 오버플로우된 약액을 수집 저장하는 수집부; 및A collecting unit for collecting and storing the chemical liquid overflowed from the tank at the lower side of the tank; And 상기 수집부에 수집된 약액을 여과하여 상기 공급관을 통해 상기 수조로 공급하는 여과부를 더 포함하는 대면적 기판 처리장치.And a filtration unit for filtering the chemical liquid collected in the collection unit and supplying the chemical liquid to the water tank through the supply pipe.
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