JP2013202547A - Substrate processing apparatus - Google Patents
Substrate processing apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013202547A JP2013202547A JP2012075691A JP2012075691A JP2013202547A JP 2013202547 A JP2013202547 A JP 2013202547A JP 2012075691 A JP2012075691 A JP 2012075691A JP 2012075691 A JP2012075691 A JP 2012075691A JP 2013202547 A JP2013202547 A JP 2013202547A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- printed circuit
- circuit board
- processing
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Images
Abstract
Description
この発明は、搬送機構により水平方向に搬送される矩形状の基板の両面に対して処理液を供給することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus for simultaneously processing both surfaces of a substrate by supplying a processing liquid to both surfaces of a rectangular substrate transported in a horizontal direction by a transport mechanism.
プリント基板、有機EL表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、太陽電池用パネル基板、PDP用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の矩形状の基板を処理する基板処理装置においては、基板の下面を搬送ローラにより支持して水平方向に搬送しながら、基板の表面に対し処理液を供給して、基板を処理する構成となっている。 Substrate processing apparatus for processing rectangular substrates such as printed circuit boards, glass substrates for organic EL display devices, glass substrates for liquid crystal display devices, panel substrates for solar cells, glass substrates for PDP, glass substrates for photomasks, optical disk substrates, etc. In the method, the substrate is processed by supplying the processing liquid to the surface of the substrate while supporting the lower surface of the substrate by the conveyance roller and conveying the substrate in the horizontal direction.
なお、特許文献1には、オーバーフローにより上昇流を生じている洗浄液中に、ウエハを傾斜状態で浸漬するとともに、ウエハの横方向からメガソニック振動を洗浄液に付与する基板洗浄装置が開示されている。 Patent Document 1 discloses a substrate cleaning apparatus that immerses a wafer in an inclined state in a cleaning liquid that generates an upward flow due to overflow, and applies megasonic vibration to the cleaning liquid from the lateral direction of the wafer. .
上述した搬送ローラにより基板の下面を支持して搬送する従来の基板処理装置においては、基板に供給された処理液が基板の裏面側に回り込み、搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入する場合がある。このような場合においては、搬送ローラの回転による基板の移動に伴って搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入した処理液も移動し、この処理液は基板の裏面側に筋状に残存することになる。 In the conventional substrate processing apparatus that supports and conveys the lower surface of the substrate by the conveying roller described above, the processing liquid supplied to the substrate wraps around the back side of the substrate and enters between the surface of the conveying roller and the back surface of the substrate. There is a case. In such a case, the processing liquid that has entered between the front surface of the transport roller and the back surface of the substrate also moves along with the movement of the substrate due to the rotation of the transport roller, and this processing liquid streaks on the back surface side of the substrate. Will remain.
この基板の処理工程が、例えば、ガラス基板の表面に生成したシリコン酸化膜をフッ酸でエッチング処理するエッチング処理工程の場合においては、このように筋状に残存した処理液により基板の裏面側がエッチングされるという問題がある。このような現象が発生した場合においては、ガラス基板の裏面側にエッチングムラが生じ、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することができない。また、この基板処理工程が、プリント基板の両面を処理する工程であった場合においても、基板の表面と裏面とで処理状態が不均一となり、基板の表裏両面を均一に処理することは不可能となる。 In the case where this substrate processing step is an etching processing step in which, for example, a silicon oxide film formed on the surface of a glass substrate is etched with hydrofluoric acid, the back surface side of the substrate is etched by the processing liquid remaining in this manner. There is a problem of being. When such a phenomenon occurs, etching unevenness occurs on the back surface side of the glass substrate, and the front and back surfaces of the substrate cannot be uniformly etched. In addition, even when this substrate processing process is a process for processing both sides of the printed circuit board, the processing state is non-uniform on the front and back surfaces of the substrate, and it is impossible to process both the front and back surfaces of the substrate uniformly. It becomes.
なお、上述した特許文献1に記載の基板洗浄装置は、洗浄槽と基板とのクロスコンタミネーションを防止するためのものではあるが、大型の矩形状の基板を搬送して処理する場合に対応可能なものではない。 The substrate cleaning apparatus described in Patent Document 1 described above is intended to prevent cross-contamination between the cleaning tank and the substrate, but can be used when a large rectangular substrate is transported and processed. Not something.
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of uniformly processing both front and back surfaces of a substrate.
請求項1に記載の発明は、搬送機構により水平方向に搬送される矩形状の基板の両面に対して処理液を供給することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置において、前記搬送機構は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第1円錐台状部材と、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第2円錐台状部材とを接続した形状を有し、前記矩形状の基板の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する複数のガイド部材により、前記基板を案内しながら搬送することを特徴とする。 The invention according to claim 1 is the substrate processing apparatus for simultaneously processing both surfaces of the substrate by supplying the processing liquid to both surfaces of the rectangular substrate transported in the horizontal direction by the transport mechanism. The mechanism includes a first frustoconical member whose axis is oriented in the vertical direction and the outer diameter decreases downward, and a second frustoconical member whose axis is oriented in the vertical direction and the outer diameter increases upward; The substrate is conveyed while being guided by a plurality of guide members that are in contact with only edges on both sides facing each other in a direction orthogonal to the conveyance direction of the rectangular substrate. And
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、処理液を貯留する処理槽を備え、前記搬送機構は、前記処理槽に貯留された処理液中において基板を搬送することにより、当該基板の両面を同時に処理する。 According to a second aspect of the invention, there is provided the processing tank according to the first aspect, wherein the processing tank stores a processing liquid, and the transport mechanism transports the substrate in the processing liquid stored in the processing tank. , Processing both sides of the substrate simultaneously.
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記基板の両面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズルを備え、前記搬送機構により搬送される基板の両面に前記複数の処理液噴出ノズルから処理液を噴出することにより、当該基板の両面を同時に処理する。 According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the plurality of treatment liquid ejection nozzles that eject the treatment liquid to both surfaces of the substrate are provided, and the plurality of the plurality of treatment liquid ejection nozzles are conveyed on both surfaces of the substrate conveyed by the conveyance mechanism. Both surfaces of the substrate are processed simultaneously by ejecting the treatment liquid from the treatment liquid ejection nozzle.
請求項1に記載の発明によれば、矩形状の基板の端縁のみに当接する複数のガイド部材により基板を案内しながら搬送することから、基板の表裏両面に搬送ローラ等の搬送機構が接触することはなく、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。 According to the first aspect of the present invention, since the substrate is conveyed while being guided by the plurality of guide members that are in contact with only the edge of the rectangular substrate, the conveyance mechanism such as the conveyance roller contacts both the front and back surfaces of the substrate. The front and back surfaces of the substrate can be uniformly processed at the same time.
請求項2に記載の発明によれば、基板の両面を処理槽に貯留された処理液と接触させることにより、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。 According to the second aspect of the present invention, both the front and back surfaces of the substrate can be simultaneously and uniformly processed by bringing both surfaces of the substrate into contact with the processing liquid stored in the processing tank.
請求項3に記載の発明によれば、基板の両面を処理液噴出ノズルから噴出される処理液と接触させることにより、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。 According to the third aspect of the present invention, both surfaces of the substrate can be simultaneously and uniformly processed by bringing both surfaces of the substrate into contact with the treatment liquid ejected from the treatment liquid ejection nozzle.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明の第1実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図2は、プリント基板100とガイド部材21との配置関係を示す正面概要図である。さらに、図3は、プリント基板100とガイド部材21との配置関係を示す平面概要図である。なお、図2においては、後述する処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32の図示を省略している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic side view of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic front view showing the positional relationship between the printed
この基板処理装置は、複数の搬送ローラ22により搬入および搬出される矩形状のプリント基板100に対して、その表裏両面を処理液により同時に処理するためのものであり、プリント基板100を処理するための処理液を貯留する処理槽11と、処理液の回収槽12と、処理液を貯留する貯留槽41とを備える。また、この基板処理装置は、プリント基板100の上方からプリント基板100の表面に向けて処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル31と、プリント基板100の下方からプリント基板100の裏面に向けて処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル32とを備える。
This substrate processing apparatus is for processing both the front and back surfaces of a rectangular printed
プリント基板100は、処理槽11中において、複数のガイド部材21により、プリント基板100の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁を案内されながら、水平方向に搬送される。このガイド部材21は、図2に示すように、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第1円錐台状部材21aと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第2円錐台状部材21bとを接続した形状を有する。すなわち、このガイド部材21は、所謂「鼓形状」を有する。そして、このガイド部材21は、矩形状のプリント基板100の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する。
The printed
これらの複数のガイド部材21は、図示しないモータに連結された鉛直方向を向く駆動軸24の駆動により、鉛直方向を向く軸心を中心に、互いに同期して回転する。プリント基板100は、図2および図3に示すように、複数のガイド部材21の回転に伴って、これらのガイド部材21によりその両側の端縁を支持され、案内されて搬送される。
The plurality of
図1に示すように、処理槽11には、プリント基板100の搬入口15と搬出口16とが形成されるとともに、搬入口15を開閉するシャッター13と、搬出口16を開閉するシャッター14とが配設されている。また、この処理槽11の下面には、処理液の供給管19と、処理液の排出管17が付設されている。供給管19は、管路37およびそこに配設されたポンプ38を介して貯留槽41と連結されている。また、排出管17は、管路42およびそこに配設された開閉弁44を介して貯留槽41と連結されている。さらに、各処理液噴出ノズル31は、管路35、ポンプ36および管路33を介して貯留槽41と連結されており、各処理液噴出ノズル32は、管路34、ポンプ36および管路33を介して貯留槽41と連結されている。
As shown in FIG. 1, a carry-in
回収槽12は、処理槽11における搬入口15および搬出口16から流下した処理液を回収するためのものである。この回収槽12の下面には、処理液の回収管18が付設されている。回収管18は、管路43を介して貯留槽41と連結されている。また、処理槽11の搬出口16と対向し、かつ、回収槽12の上方となる位置には、プリント基板100に付着する処理液を除去するための上下一対のエアナイフ23が配設されている。
The
この基板処理装置によりプリント基板100を処理するときには、最初に、貯留槽41から処理槽11に処理液を供給して、処理槽11内に処理液を貯留する。この処理液供給に先立って、開閉弁44を閉止するとともに、ポンプ38の作用により、貯留槽41内の処理液を管路37を介して処理槽11に送液することにより、処理液の液位が複数のガイド部材21により搬送されるプリント基板100より上方となるようにする。この処理液供給工程においては、搬入口15はシャッター13により閉じられており、搬出口16はシャッター14により閉じられている。
When the printed
処理槽11内に処理液が貯留されると、図1に示すように、複数の搬送ローラ22およびガイド部材21によりプリント基板100を搬送して、このプリント基板100を処理槽11に搬入する。処理槽11内に搬送されたプリント基板100は、その端縁のみに当接するガイド部材21により支持されて搬送される。すなわち、このガイド部材21は、プリント基板100の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する状態で、プリント基板100の搬送速度に応じて回転することにより、このプリント基板100を処理槽11内まで水平方向に搬送する。
When the processing liquid is stored in the
この基板搬入工程においては、搬入口15のシャッター13を開放する。このため、処理槽11内の処理液は搬入口15から回収槽12に流下し、管路43を介して貯留槽41に回収される。この場合においても、ポンプ38による処理液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽11における処理液の液位を一定に維持することができる。
In this substrate loading process, the
プリント基板100が完全に処理槽11内に収納されれば、搬入口15をシャッター13により閉じる。そして、ポンプ36の作用により処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32から、複数のガイド部材21により支持されたプリント基板100の両面に処理液を噴出することにより、このプリント基板100の表裏両面を処理液により処理する。この処理液噴出ノズル31、32からの処理液噴出時には、プリント基板100は、その両側の端縁のみをガイド部材21により支持されていることから、プリント基板100にムラが発生することを防止して、プリント基板100の表裏全面を均一に処理することが可能となる。
When the printed
なお、このプリント基板100の処理時には、複数のガイド部材21の回転を停止してプリント基板100の搬送を停止させてもよく、また、複数のガイド部材21により、プリント基板100を処理槽11内で往復移動させるようにしてもよい。また、このプリント基板100の処理時においては、図示を省略したオーバーフロー管等を使用して処理液の液位を一定に維持してもよく、あるいは、開閉弁44を開閉制御して処理液の液位を一定に維持してもよい。
When processing the printed
プリント基板100が十分に処理されれば、処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32からの処理液の供給を停止する。そして、搬出口16のシャッター14を開放する。シャッター14を開放することにより搬出口16から流下した処理液は、回収槽12により受け取られ、管路43を介して、貯留槽41に回収される。この場合においても、ポンプ38による処理液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽11における処理液の液位を一定に維持することができる。
When the printed
そして、複数のガイド部材21によりプリント基板100を水平方向に搬送して、処理槽11より退出させる。処理槽11における搬出口16を通過したプリント基板100の両面には、エアナイフ23から圧縮空気が噴出される。これにより、プリント基板100の両面に付着した処理液が除去され、回収槽12に滴下する。これにより、後段の処理工程への処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
Then, the printed
以上のように、この発明の第1実施形態に係る基板処理装置によれば、矩形状のプリント基板100の端縁のみに当接する複数のガイド部材21によりプリント基板100を案内しながら搬送することから、プリント基板100の表裏両面に接触することなく、プリント基板100の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
As described above, according to the substrate processing apparatus of the first embodiment of the present invention, the printed
なお、上述したガイド部材21は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第1円錐台状部材21aと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第2円錐台状部材21bとを接続した形状を有することから、搬送方向と直交する方向である幅方向のサイズに関して、種々の寸法を有する複数のタイプのプリント基板100を処理する場合において、それぞれこのような複数のタイプのプリント基板100を搬送して処理することが可能となる。図4は、このような場合のプリント基板100とガイド部材21との配置関係を示す正面概要図である。
The
図4に示すように、プリント基板100の幅方向のサイズが、図2に示すプリント基板100よりも小さい場合には、このプリント基板100は、ガイド部材21を構成する第2円錐台状部材21bにおける傾斜面によりその端縁を支持されて搬送される。この場合においても、矩形状のプリント基板100の端縁のみに当接する複数のガイド部材21によりプリント基板100を案内しながら搬送することができ、プリント基板100の表裏両面に接触することなく、プリント基板100の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
As shown in FIG. 4, when the size in the width direction of the printed
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図5は、この発明の第2実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図6は、プリント基板100とガイド部材21との配置関係を示す正面概要図である。なお、上述した実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a schematic side view of a substrate processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 6 is a schematic front view showing the positional relationship between the printed
上述した実施形態においては、処理槽1内に処理液を貯留し、この処理液中にプリント基板100を浸漬して処理している。これに対して、この第2実施形態に係る基板処理装置においては、複数のガイド部材21により搬送されるプリント基板100の表裏両面に対して、処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32から直接処理液を噴出させて処理する構成を採用している。このため、この実施形態に係る基板処理装置においては、図1に示す基板処理装置における供給管19、管路37およびポンプ38は省略されている。また、管路42に配設された開閉弁44も省略されている。
In the embodiment described above, the processing liquid is stored in the processing tank 1, and the printed
この第2実施形態に係る基板処理装置によりプリント基板100を処理するときには、シャッター13を開いて搬入口15を開放する。この状態で、図5に示すように、複数の搬送ローラ22およびガイド部材21によりプリント基板100を搬送して、このプリント基板100を処理槽11に搬入する。処理槽11内に搬送されたプリント基板100は、その端縁のみに当接するガイド部材21により支持されて搬送される。
When the printed
プリント基板100が完全に処理槽11内に収納されれば、搬入口15をシャッター13により閉じる。そして、ポンプ36の作用により処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32から、複数のガイド部材21により支持されたプリント基板100の両面に向けて処理液噴出することにより、このプリント基板100の表裏両面を処理液により処理する。
When the printed
この場合においても、プリント基板100は、その両側の端縁のみをガイド部材21により支持されていることから、プリント基板100にムラが発生することを防止して、プリント基板100の表裏全面を均一に処理することが可能となる。このプリント基板100の処理時には、複数のガイド部材21の回転を停止してプリント基板100の搬送を停止させてもよく、また、複数のガイド部材21により、プリント基板100を処理槽11内で往復移動させるようにしてもよい。
Even in this case, since the printed
プリント基板100が十分に処理されれば、処理液噴出ノズル31および処理液噴出ノズル32からの処理液の噴出を停止する。そして、搬出口16のシャッター14を開放する。そして、複数のガイド部材21によりプリント基板100を水平方向に搬送して、処理槽11より退出させる。処理槽11における搬出口16を通過したプリント基板100の両面には、エアナイフ23から圧縮空気が噴出される。これにより、プリント基板100の両面に付着した処理液が除去され、回収槽12に滴下する。これにより、後段の処理工程への処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
When the printed
以上のように、この発明の第2実施形態に係る基板処理装置においても、矩形状のプリント基板100の端縁のみに当接する複数のガイド部材21によりプリント基板100を案内しながら搬送することから、プリント基板100の表裏両面に接触することなく、プリント基板100の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
As described above, also in the substrate processing apparatus according to the second embodiment of the present invention, the printed
図7は、ガイド部材の変形例を示す説明図である。 FIG. 7 is an explanatory view showing a modification of the guide member.
上述した第1、第2実施形態に係るガイド部材21は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第1円錐台状部材21aと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第2円錐台状部材21bとの錐体面(側面)は平面となっており、錐体面の断面形状は直線状となっている。しかしながら、この錐体面を図7に示すように、曲線状としてもよい。この明細書で述べる円錐台状とは、このような形状をも含む概念である。
The
ここで、図7(a)に示すガイド部材51においては、プリント基板100の両側の端縁を支持および案内して搬送するための凹部が一つだけ形成されているのに対し、図7(b)に示すガイド部材61においては、互いに形状が異なる複数の凹部が形成されている。この図7(b)に示すガイド部材61によれば、異なるサイズのプリント基板100を搬送することが可能となる。
Here, in the
なお、上述した実施形態においては、プリント基板100を処理液で処理する場合について説明したが、この発明を、その他の矩形状の基板を処理する基板処理装置に適用してもよい。例えば、この発明を、エッチング液により矩形状のガラス基板をエッチング処理するための基板処理装置等に適用することも可能である。
In the above-described embodiment, the case where the printed
11 処理槽
12 回収槽
13 シャッター
14 シャッター
15 搬入口
16 搬出口
17 排出管
19 供給管
21 ガイド部材
21a 第1円錐台状部材
21b 第2円錐台状部材
22 搬送ローラ
23 エアナイフ
24 駆動軸
31 処理液噴出ノズル
32 処理液噴出ノズル
36 ポンプ
38 ポンプ
41 貯留槽
51 ガイド部材
61 ガイド部材
100 プリント基板
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記搬送機構は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第1円錐台状部材と、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第2円錐台状部材とを接続した形状を有し、前記矩形状の基板の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する複数のガイド部材により、前記基板を案内しながら搬送することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus for simultaneously processing both surfaces of the substrate by supplying the processing liquid to both surfaces of the rectangular substrate transported in the horizontal direction by the transport mechanism,
The transport mechanism includes a first truncated cone-shaped member whose axis is oriented in the vertical direction and decreases as the outer diameter decreases downward, and a second truncated cone shape whose axis is in the vertical direction and whose outer diameter increases upward. The substrate is conveyed while being guided by a plurality of guide members having a shape connected to the members and contacting only the edges on both sides facing each other in the direction orthogonal to the conveyance direction of the rectangular substrate. A substrate processing apparatus.
処理液を貯留する処理槽を備え、
前記搬送機構は、前記処理槽に貯留された処理液中において基板を搬送することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
A treatment tank for storing the treatment liquid;
The said conveyance mechanism is a substrate processing apparatus which processes both surfaces of the said board | substrate simultaneously by conveying a board | substrate in the processing liquid stored in the said processing tank.
前記基板の両面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズルを備え、
前記搬送機構により搬送される基板の両面に前記複数の処理液噴出ノズルから処理液を噴出することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
A plurality of treatment liquid ejection nozzles for ejecting treatment liquid on both surfaces of the substrate;
The substrate processing apparatus which processes both surfaces of the said board | substrate simultaneously by ejecting a process liquid to the both surfaces of the board | substrate conveyed by the said conveyance mechanism from these process liquid ejection nozzles.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012075691A JP2013202547A (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012075691A JP2013202547A (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Substrate processing apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013202547A true JP2013202547A (en) | 2013-10-07 |
Family
ID=49522251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012075691A Abandoned JP2013202547A (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Substrate processing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013202547A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110369432A (en) * | 2019-07-19 | 2019-10-25 | 创富东日(深圳)科技有限公司 | Non- surface contact glass cleaning machine |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61171591U (en) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | ||
JPS638244U (en) * | 1986-06-30 | 1988-01-20 | ||
JPH0449105A (en) * | 1990-06-19 | 1992-02-18 | Nippon Sanso Kk | Sheet metal conveyor |
JPH04200678A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-21 | Shibaura Eng Works Co Ltd | Treating device for substrate |
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012075691A patent/JP2013202547A/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61171591U (en) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | ||
JPS638244U (en) * | 1986-06-30 | 1988-01-20 | ||
JPH0449105A (en) * | 1990-06-19 | 1992-02-18 | Nippon Sanso Kk | Sheet metal conveyor |
JPH04200678A (en) * | 1990-11-30 | 1992-07-21 | Shibaura Eng Works Co Ltd | Treating device for substrate |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110369432A (en) * | 2019-07-19 | 2019-10-25 | 创富东日(深圳)科技有限公司 | Non- surface contact glass cleaning machine |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101322983B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
KR102011538B1 (en) | Wiping pad, nozzle maintenance device using pad, and coating processing device | |
JP6118758B2 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and computer-readable recording medium recording substrate processing program | |
JP2006196781A (en) | Substrate surface processor | |
JP2011071385A (en) | Device and method for treating substrate | |
JP2008117889A (en) | Substrate processing apparatus | |
KR101433622B1 (en) | Processing apparatus and processing method | |
JP2013202547A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP5202400B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP2010036100A (en) | Treatment liquid supply apparatus | |
JP2010131485A (en) | Device and method for draining liquid on substrate | |
JP2009032868A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP6552363B2 (en) | Substrate drying apparatus and substrate processing apparatus | |
JP5785454B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP5906035B2 (en) | Coating device | |
JP2006303042A (en) | Substrate surface processing apparatus | |
CN211828692U (en) | Substrate processing apparatus and discharge nozzle | |
JP6047359B2 (en) | Substrate cleaning device | |
JP2017092124A (en) | Etching device | |
WO2018020531A1 (en) | Polishing method and polishing device for glass substrate | |
KR100767440B1 (en) | Apparatus for manufacturing flat panel display | |
KR20120094823A (en) | Substrate cleaning apparatus | |
KR20200041449A (en) | Apparatus for Processing Substrate | |
KR20110034537A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2013191651A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140825 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150623 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20150709 |