KR101433622B1 - Processing apparatus and processing method - Google Patents

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KR101433622B1 KR1020130022745A KR20130022745A KR101433622B1 KR 101433622 B1 KR101433622 B1 KR 101433622B1 KR 1020130022745 A KR1020130022745 A KR 1020130022745A KR 20130022745 A KR20130022745 A KR 20130022745A KR 101433622 B1 KR101433622 B1 KR 101433622B1
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가부시끼가이샤 도시바
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Abstract

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 처리 장치는, 피처리물을 반송하는 반송부, 반송부에 의해 반송되는 피처리물의 처리면에 공급한 제1 처리액을 회수하는 회수부, 회수부에 의해 회수한 제1 처리액을 피처리물의 처리면에 토출하는 제1 노즐, 제1 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고 제2 처리액을 피처리물의 처리면에 토출하는 제2 노즐, 제2 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고 세정액을 피처리물의 처리면에 토출하는 제3 노즐을 구비하고 있다.
그리고, 제2 노즐은 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 하류측을 향하여 제2 처리액을 토출하고, 제3 노즐은 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 상류측을 향하여 세정액을 토출한다.According to one embodiment of the present invention, a processing apparatus includes a transfer section for transferring a material to be processed, a recovery section for recovering a first treatment liquid supplied to the treatment surface of the material to be treated, which is conveyed by the transfer section, A second nozzle provided downstream of the first nozzle in the conveying direction and discharging the second treatment liquid onto the treated surface of the article to be treated, a second nozzle disposed on the downstream side in the conveying direction of the first nozzle, And a third nozzle provided downstream of the nozzle in the carrying direction and discharging the cleaning liquid onto the treated surface of the article to be treated.
The second nozzle discharges the second processing liquid toward the downstream side in the carrying direction with respect to the carrying direction, and the third nozzle moves the cleaning liquid toward the upstream side in the carrying direction rather than the direction perpendicular to the carrying direction .

Figure R1020130022745
Figure R1020130022745

Description

처리 장치 및 처리 방법{PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD}≪ Desc / Clms Page number 1 > PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD &

<관련 출원의 인용><Citation of related application>

본 출원은, 2012년 3월 14일에 출원한 선행하는 일본 특허 출원 제2012-057939호에 의한 권리의 이익에 기초를 두고, 또한, 그 이익을 청구하며, 그 내용 전체가 인용에 의해 본 명세서에 포함된다.This application is based on and claims the benefit of the prior Japanese Patent Application No. 2012-057939, filed on March 14, 2012, and claims the benefit of which is hereby incorporated by reference in its entirety, .

여기서 설명하는 실시형태는, 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.The embodiments described herein relate to a processing apparatus and a processing method.

반도체 장치나 플랫 패널 디스플레이 등의 전자 디바이스의 제조에 있어서는, 판상(板狀)의 피처리물(예를 들어, 웨이퍼나 글래스 기판 등)의 표면에 처리액을 공급하여 각종 처리를 행하고 있다.BACKGROUND ART [0002] In the production of electronic devices such as semiconductor devices and flat panel displays, various kinds of treatments are performed by supplying a treatment liquid to the surface of a plate-like object to be processed (for example, a wafer or a glass substrate).

이 경우, 피처리물의 크기가 커지면 처리액의 소비량이 많아진다. 그로 인해, 피처리물의 표면에 공급한 처리액을 회수하고, 회수한 처리액을 재이용하는 기술이 제안되어 있다.In this case, the larger the size of the object to be processed, the larger the consumption amount of the processing liquid. Therefore, there is proposed a technique of recovering the treatment liquid supplied to the surface of the object to be treated, and reusing the recovered treatment liquid.

그런데, 회수한 처리액에는 각종 물질이 포함되어 있어, 필터 등으로는 제거할 수 없는 경우도 있다. 그로 인해, 회수한 처리액을 재이용함으로써, 피처리물의 표면이 오염될 우려가 있다.However, the recovered process liquid contains various substances and may not be removed by a filter or the like. Therefore, there is a possibility that the surface of the object to be treated is contaminated by reusing the recovered treatment liquid.

이 경우, 회수한 처리액에 의한 처리 후에, 피처리물의 표면에 순수를 공급하여 오염 물질을 제거하는 것도 생각할 수 있지만, 피처리물의 표면에 순수를 공급하는 것만으로는 오염 물질을 전부 제거할 수 없는 경우가 있다. 또한, 처리액의 재이용을 반복하여 행하면, 처리에 유효한 성분이 점차 적어지거나 하여 처리 부족이나 처리 불균일 등이 발생할 우려도 있다.In this case, it is conceivable to supply pure water to the surface of the object to be treated to remove the contaminant after the treatment with the recovered treatment liquid. However, only by supplying pure water to the surface of the object to be treated, There is no case. In addition, when the treatment liquid is repeatedly reused, the effective components in the treatment gradually decrease, which may result in inadequate treatment or uneven treatment.

이처럼, 회수한 처리액에 의한 처리를 행하면, 피처리물의 적절한 처리를 행할 수 없게 될 우려가 있다.In this manner, when the treatment with the recovered treatment liquid is performed, there is a possibility that appropriate treatment of the treatment target can not be performed.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 회수한 처리액에 의한 처리를 행하는 경우에도 적절한 처리를 행할 수 있는 처리 장치 및 처리 방법을 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a processing apparatus and a processing method capable of performing appropriate processing even when processing by the recovered processing liquid is performed.

일 실시형태에 따르면, 처리 장치는, 피처리물을 반송하는 반송부와, 상기 반송부에 의해 반송되는 상기 피처리물의 처리면에 공급한 제1 처리액을 회수하는 회수부와, 상기 회수부에 의해 회수한 상기 제1 처리액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제1 노즐과, 상기 제1 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 제2 처리액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제2 노즐과, 상기 제2 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 세정액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제3 노즐을 구비하고 있다.According to one embodiment, the processing apparatus includes a transfer section for transferring the object to be processed, a recovery section for recovering the first processing liquid supplied to the processing surface of the object to be processed conveyed by the transfer section, A first nozzle disposed on a downstream side of the first nozzle in a carrying direction and configured to discharge the second treatment liquid onto a treatment surface of the object to be treated; And a third nozzle provided on the downstream side of the second nozzle in the transport direction and discharging the cleaning liquid onto the processing surface of the object to be treated.

그리고, 상기 제2 노즐은, 상기 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 하류측을 향하여 상기 제2 처리액을 토출하고, 상기 제3 노즐은, 상기 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 상류측을 향하여 상기 세정액을 토출한다.The second nozzle discharges the second treatment liquid toward a downstream side in the carrying direction with respect to a direction perpendicular to the carrying direction, and the third nozzle is movable in a direction perpendicular to the carrying direction, The cleaning liquid is discharged toward the upstream side in the carrying direction.

본 발명은 회수한 처리액에 의한 처리를 행하는 경우에도 적절한 처리를 행할 수 있는 처리 장치 및 처리 방법을 제공할 수 있다.The present invention can provide a processing apparatus and a processing method capable of performing appropriate processing even when processing by the recovered processing liquid is performed.

도 1은 제1 실시형태에 따른 처리 장치의 구성을 예시하기 위한 모식도이다.
도 2는 비교예에 관한 노즐(190) 및 노즐(200)을 예시하기 위한 모식도이다. 도 2의 (a)는 노즐(190) 및 노즐(200)의 토출 방향을 예시하기 위한 모식도, 도 2의 (b)는 피복성과 치환성을 예시하기 위한 모식도이다.
도 3은 본 실시형태에 따른 노즐(19) 및 노즐(20)을 예시하기 위한 모식도이다. 도 3의 (a)는 노즐(19) 및 노즐(20)의 토출 방향을 예시하기 위한 모식도, 도 3의 (b)는 피복성과 치환성을 예시하기 위한 모식도이다.
도 4의 (a) 내지 (e)는 처리액 및 세정액의 공급 위치와, 피처리물(100)의 반송 속도와, 피복성 및 치환성과의 관계에 대하여 예시하기 위한 모식도이다.
도 5는 제2 실시형태에 따른 처리 방법에 대하여 예시하기 위한 흐름도이다.1 is a schematic diagram for illustrating a configuration of a processing apparatus according to the first embodiment.
Fig. 2 is a schematic diagram illustrating a nozzle 190 and a nozzle 200 according to a comparative example. 2 (a) is a schematic view for illustrating the discharge direction of the nozzle 190 and the nozzle 200, and FIG. 2 (b) is a schematic view for illustrating the coverage and the substitutability.
3 is a schematic view for illustrating the nozzle 19 and the nozzle 20 according to the present embodiment. 3 (a) is a schematic view for illustrating the discharge direction of the nozzle 19 and the nozzle 20, and FIG. 3 (b) is a schematic view for illustrating the coverage and the substitutability.
4A to 4E are schematic diagrams for illustrating the relationship between the feed position of the treatment liquid and the cleaning liquid, the conveying speed of the substance to be treated 100, and the coverage and replacement performance.
5 is a flowchart for illustrating a processing method according to the second embodiment.

이하, 도면을 참조하면서, 실시형태에 대하여 예시한다. 또한, 각 도면 중, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하여 상세한 설명은 적절히 생략한다.Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted as appropriate.

[제1 실시형태][First Embodiment]

도 1은 제1 실시형태에 따른 처리 장치의 구성을 예시하기 위한 모식도이다.1 is a schematic diagram for illustrating a configuration of a processing apparatus according to the first embodiment.

도 1에 도시한 바와 같이, 처리 장치(1)에는, 제1 처리부(2), 제2 처리부(3), 반송부(4)가 설치되어 있다.As shown in Fig. 1, the processing apparatus 1 is provided with a first processing section 2, a second processing section 3, and a carry section 4.

제1 처리부(2)는 피처리물(100)의 처리면(100a)에 공급한 처리액(제1 처리액의 일례에 상당함)을 회수하고, 회수한 처리액을 다시 피처리물(100)의 처리면(100a)에 공급한다.The first processing section 2 recovers the processing liquid (corresponding to one example of the first processing liquid) supplied to the processing surface 100a of the object to be processed 100 and transfers the recovered processing liquid to the object 100 To the treatment surface 100a of the wafer W.

제2 처리부(3)는 제1 처리부(2)에 의해 처리된 피처리물(100)의 처리면(100a)의 적정화를 행한다. 예를 들어, 회수한 처리액을 재이용함으로써 피처리물(100)의 처리면(100a)에 부착된 오염 물질을 제거한다. 또한, 처리액의 재이용을 반복하여 행함으로써 발생하는 처리 부족이나 처리 불균일 등을 경감시킨다.The second processing section 3 performs the optimization of the processing surface 100a of the object to be processed 100 processed by the first processing section 2. For example, the recovered treatment liquid is reused to remove the contaminants adhering to the treatment surface 100a of the treatment target 100. [ In addition, it is possible to reduce the processing shortage, uneven treatment, and the like caused by repeating the reuse of the treatment liquid.

반송부(4)는 제1 처리부(2)측으로부터 제2 처리부(3)측을 향하여 피처리물(100)을 반송한다. 예를 들어, 반송부(4)는 피처리물(100)을 지지한 상태에서 회전 가능한 복수의 반송 롤러(4a)를 피처리물(100)의 반송 방향(101)을 따라 설치한 것으로 할 수 있다. 피처리물(100)은 반송 롤러(4a) 위를 반송 방향(101)을 향하여 반송된다.The carry section 4 carries the object 100 from the first processing section 2 side toward the second processing section 3 side. For example, the carry section 4 may be provided with a plurality of conveying rollers 4a rotatable in a state of supporting the article to be processed 100 along the conveying direction 101 of the article to be processed 100 have. The article to be processed 100 is conveyed on the conveying roller 4a toward the conveying direction 101. [

이 경우, 반송 롤러(4a)의 회전 속도를 제어함으로써, 피처리물(100)의 반송 속도를 조정할 수 있도록 되어 있다. 또한, 도시는 생략하였지만, 반송 롤러(4a)를 지지하는 회전축, 제어 모터, 구동력 전달부, 프레임 등도 설치되어 있다. 또한, 반송 롤러(4a)를 갖는 반송부(4)를 예시했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 반송 로봇이나, 피처리물(100)을 지지하는 벨트를 갖는 반송 장치 등, 피처리물(100)을 소정의 방향을 향하여 반송할 수 있는 것을 적절히 선택할 수 있다.In this case, the conveying speed of the article to be processed 100 can be adjusted by controlling the rotating speed of the conveying roller 4a. Although not shown, a rotary shaft for supporting the conveying roller 4a, a control motor, a driving force transmitting portion, a frame, and the like are also provided. Further, the carrying section 4 having the carrying roller 4a is exemplified, but the present invention is not limited to this. For example, it is possible to appropriately select the material to be transported in a predetermined direction, such as a transport robot or a transport apparatus having a belt that supports the article to be processed 100.

이어서, 제1 처리부(2)에 대하여 추가로 예시한다.Next, the first processing section 2 is further exemplified.

제1 처리부(2)에는, 노즐(5)(제1 노즐의 일례에 상당함), 노즐(6), 회수부(7), 세정액 수납부(15), 세정액 공급부(16)가 설치되어 있다.A nozzle 5 (corresponding to an example of the first nozzle), a nozzle 6, a recovery section 7, a cleaning liquid storage section 15, and a cleaning liquid supply section 16 are provided in the first processing section 2 .

노즐(5)은 회수부(7)에 의해 회수된 처리액을 피처리물(100)의 처리면(100a)에 토출한다. 노즐(5)은 반송 롤러(4a)의 상방에 설치되어 있다. 노즐(5)의 토출구(5a)는 피처리물(100)의 처리면(100a)에 대치하여 설치되어 있다. 노즐(5)은 피처리물(100)의 처리면(100a)에 대하여 바로 위로부터 처리액을 토출한다. 토출구(5a)는 구멍 형상을 나타내며, 반송 방향(101) 및 반송 방향(101)에 직교하는 방향으로 복수 설치되어 있다. 노즐(5)은 피처리물(100)의 처리면(100a)의 전역에 대하여 처리액을 토출한다.The nozzle 5 discharges the treatment liquid recovered by the recovery unit 7 to the treatment surface 100a of the object to be treated 100. The nozzle 5 is provided above the conveying roller 4a. The discharge port 5a of the nozzle 5 is provided so as to face the processing surface 100a of the object to be treated 100. [ The nozzle 5 discharges the processing liquid directly from above the processing surface 100a of the object to be processed 100. [ The discharge port 5a has a hole shape, and a plurality of discharge ports 5a are provided in a direction orthogonal to the carrying direction 101 and the carrying direction 101. [ The nozzle 5 discharges the processing liquid over the entire processing surface 100a of the object to be processed 100.

노즐(5)에 의한 처리액의 토출 형태는, 처리의 목적이나 처리액의 종류 등에 따라 적절히 변경할 수 있다. 예를 들어, 노즐(5)은 액상의 처리액을 토출하는 것이어도 되고, 안개 상태 등의 형태의 처리액을 토출하는 것이어도 된다.The discharge form of the treatment liquid by the nozzle 5 can be appropriately changed depending on the purpose of the treatment, the kind of the treatment liquid, and the like. For example, the nozzle 5 may discharge the treatment liquid in a liquid state, or may discharge the treatment liquid in a mist state or the like.

노즐(5)로부터 토출되는 처리액은, 처리의 목적이나 피처리물(100)의 처리면(100a)의 재질 등에 의해 적절히 변경할 수 있다. 예를 들어, 피처리물(100)이 글래스 기판이며, 처리면(100a)에 부착되어 있는 금속 오염물을 제거하는 경우에는, 처리액으로서 불화수소산(hydrofluoric acid) 등을 사용할 수 있다.The treatment liquid discharged from the nozzle 5 can be appropriately changed depending on the purpose of the treatment, the material of the treatment surface 100a of the object to be treated 100, and the like. For example, when the object to be processed 100 is a glass substrate and metal contaminants attached to the processing surface 100a are removed, hydrofluoric acid or the like may be used as the processing liquid.

노즐(6)은 반송 롤러(4a)의 하방에 설치되어 있다. 노즐(6)의 토출구(6a)는 피처리물(100)의 처리면(100a)에 대향하는 면(100b)에 대치하여 설치되어 있다. 노즐(6)은 피처리물(100)의 면(100b)에 대하여 바로 아래로부터 세정액을 토출한다. 토출구(6a)는 구멍 형상을 나타내며, 반송 방향(101) 및 반송 방향(101)에 직교하는 방향으로 복수 설치되어 있다.The nozzle 6 is provided below the conveying roller 4a. The discharge port 6a of the nozzle 6 is provided so as to face the surface 100b opposed to the processing surface 100a of the article to be processed 100. [ The nozzle 6 discharges the cleaning liquid immediately below from the surface 100b of the object to be treated 100. [ The discharge port 6a has a hole shape and a plurality of discharge ports 6a are provided in a direction orthogonal to the carrying direction 101 and the carrying direction 101. [

여기에서, 노즐(5)로부터 피처리물(100)의 처리면(100a)에 토출된 처리액은, 피처리물(100)의 주연으로부터 유출되어, 포집부(30)에 의해 포집된다. 이때, 피처리물(100)의 주연으로부터 유출된 사용 완료된 처리액의 일부가, 반송 롤러(4a)에 부착되고, 반송 롤러(4a)에 부착된 사용 완료된 처리액이 피처리물(100)의 면(100b)에 부착되는 경우가 있다.The treatment liquid discharged from the nozzle 5 onto the treatment surface 100a of the treatment target 100 flows out from the periphery of the treatment target 100 and is collected by the collection portion 30. [ At this time, a part of the used processing liquid that has flowed out from the periphery of the article to be processed 100 is attached to the conveying roller 4a, and the used processing liquid adhered to the conveying roller 4a is conveyed And may be adhered to the surface 100b.

이 경우, 사용 완료된 처리액에는, 제거된 물질이 포함되어 있으므로, 피처리물(100)의 면(100b)이 오염될 우려가 있다. 또한, 사용 완료된 처리액에는, 처리에 유효한 성분이 포함되어 있으므로 피처리물(100)의 면(100b)이 손상될 우려도 있다.In this case, since the used processing liquid contains the removed material, there is a possibility that the surface 100b of the object to be treated 100 is contaminated. In addition, since the processing solution that has been used has a component effective for the treatment, the surface 100b of the object to be treated 100 may be damaged.

따라서, 노즐(6)로부터 피처리물(100)의 면(100b)에 대하여 세정액을 토출함으로써 피처리물(100)의 면(100b)에 부착된 사용 완료된 처리액을 제거하도록 되어 있다.Therefore, the used liquid adhered to the surface 100b of the article to be treated 100 is removed by discharging the cleaning liquid from the nozzle 6 to the surface 100b of the article to be treated 100. [

노즐(6)로부터 토출되는 세정액은, 예를 들어 순수 등으로 할 수 있다. 노즐(6)로부터 토출되는 세정액은, 상온이어도 되고, 가열된 것이어도 된다. 가열된 세정액을 사용하면, 피처리물(100)의 온도를 상승시킬 수 있으므로, 처리면(100a)에 있어서의 처리의 효율을 향상시킬 수 있다.The cleaning liquid discharged from the nozzle 6 can be, for example, pure water. The cleaning liquid discharged from the nozzle 6 may be at room temperature or heated. When the heated cleaning liquid is used, the temperature of the object to be treated 100 can be raised, and the efficiency of the treatment on the treated surface 100a can be improved.

노즐(6)에 의한 세정액의 토출 형태는, 적절히 변경할 수 있다. 예를 들어, 노즐(6)은 액상의 세정액을 토출하는 것이어도 되고, 안개 상태 등의 형태의 세정액을 토출하는 것이어도 된다.The discharge form of the cleaning liquid by the nozzle 6 can be appropriately changed. For example, the nozzle 6 may discharge the cleaning liquid in the liquid state, or may discharge the cleaning liquid in the form of mist or the like.

회수부(7)는 반송부(4)에 의해 반송되는 피처리물(100)의 처리면(100a)에 공급한 처리액을 회수한다.The recovery unit 7 recovers the treatment liquid supplied to the treatment surface 100a of the object to be treated 100 conveyed by the carry unit 4. [

회수부(7)에는, 포집부(30), 수납부(8), 공급부(9), 필터(10)가 설치되어 있다.The collecting section 7 is provided with a collecting section 30, a storage section 8, a supplying section 9, and a filter 10.

포집부(30)는 피처리물(100)의 주연으로부터 유출된 사용 완료된 처리액을 포집한다. 포집부(30)는 노즐(6)의 하방에 설치되어 있다. 그로 인해, 피처리물(100)의 면(100b)에 토출된 사용 완료된 세정액도 포집한다. 포집부(30)의 형태에는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 상단부가 개구된 상자 형상의 형태를 갖는 것을 예시할 수 있다. 또한, 예를 들어 제1 처리부(2)를 수납하는, 도시하지 않은 하우징 등을 포집부(30)로 할 수 있다.The collecting section (30) collects the spent process liquid flowing out from the periphery of the object to be treated (100). The collecting part (30) is provided below the nozzle (6). As a result, the used cleaning liquid discharged onto the surface 100b of the object to be treated 100 is also collected. The shape of the collecting portion 30 is not particularly limited, but may be, for example, a box-like shape having an opened upper end. In addition, for example, a housing or the like, not shown, for housing the first processing section 2 can be used as the collecting section 30.

포집부(30)에는 배출구(30a)가 설치되고, 배출구(30a)에는 배관(11)의 일단부가 접속되어 있다. 그리고, 배관(11)의 타단부는 수납부(8)의 유입구(8a)에 접속되어 있다. 즉, 포집부(30)에 의해 포집된 사용 완료된 처리액과 사용 완료된 세정액의 혼합액을 수납부(8)에 수납할 수 있도록 되어 있다.The collecting section 30 is provided with a discharge port 30a and the discharge port 30a is connected to one end of the pipe 11. [ The other end of the pipe 11 is connected to the inlet 8a of the receiving portion 8. That is, the mixed liquid of the used processing liquid collected by the collecting section 30 and the used cleaning liquid can be stored in the storage section 8.

수납부(8)는 포집부(30)에 의해 포집된 사용 완료된 처리액과 사용 완료된 세정액의 혼합액을 수납한다. 수납부(8)는 반드시 필요하지는 않지만, 수납부(8)를 설치하도록 하면 공급부(9)에 의한 공급을 안정시킬 수 있다.The storage portion 8 houses a mixture of the used processing liquid collected by the collecting portion 30 and the used cleaning liquid. Although the storage portion 8 is not necessarily required, if the storage portion 8 is provided, the supply by the supply portion 9 can be stabilized.

또한, 처리액의 재이용을 반복하여 행함으로써, 사용 완료된 처리액에 포함되는 처리에 유효한 성분은 점차 적어진다. 또한, 사용 완료된 세정액이 혼입됨으로써, 처리에 유효한 성분의 농도는 더욱 감소하게 된다. 그로 인해, 예를 들어 처리에 유효한 성분의 농도가 소정의 값 이하가 된 경우에는, 폐액구(8b)로부터 배출하거나, 유입구(8a)로부터 농도 조정을 위한 처리액을 공급하거나 할 수도 있다.Further, by repeating the reuse of the treatment liquid, the effective components for the treatment included in the used treatment liquid are gradually decreased. Further, by incorporating the used cleaning liquid, the concentration of the component effective for treatment is further reduced. Therefore, for example, when the concentration of the effective component in the treatment becomes a predetermined value or less, it may be discharged from the waste solution port 8b, or the treatment solution for concentration adjustment may be supplied from the inlet port 8a.

수납부(8)에는 배출구(8c)가 설치되고, 배출구(8c)에는 배관(12)의 일단부가 접속되어 있다. 그리고, 배관(12)의 타단부는 공급부(9)에 접속되어 있다. 즉, 수납부(8)에 수납되어 있는 사용 완료된 처리액과 사용 완료된 세정액의 혼합액을 공급부(9)에 공급할 수 있도록 되어 있다.A discharge port 8c is provided in the storage portion 8 and one end of the pipe 12 is connected to the discharge port 8c. The other end of the pipe 12 is connected to the supply unit 9. [ That is, the mixed liquid of the used processing liquid stored in the storage section 8 and the used cleaning liquid can be supplied to the supply section 9.

배관(13)의 일단부는 공급부(9)에 접속되고, 타단부는 필터(10)에 접속되어 있다. 배관(14)의 일단부는 필터(10)에 접속되고, 타단부는 노즐(5)에 접속되어 있다. 그로 인해, 수납부(8)에 수납되어 있는 사용 완료된 처리액과 사용 완료된 세정액의 혼합액을 필터(10)를 통하여 노즐(5)에 공급할 수 있도록 되어 있다.One end of the pipe 13 is connected to the supply part 9 and the other end is connected to the filter 10. One end of the pipe 14 is connected to the filter 10 and the other end is connected to the nozzle 5. Therefore, the mixed liquid of the used processing liquid stored in the storage portion 8 and the used cleaning liquid can be supplied to the nozzle 5 through the filter 10.

공급부(9)는 예를 들어 펌프 등과 같이 처리액을 반송할 수 있는 것으로 할 수 있다.The supply unit 9 may be capable of transporting the process liquid, such as, for example, a pump.

필터(10)는 공급부(9)에 의해 노즐(5)에 공급되는 사용 완료된 처리액과 사용 완료된 세정액의 혼합액에 포함되는 오염 물질을 제거한다. 필터(10)에 의해 전부 제거할 수 없었던 오염 물질(예를 들어, 금속 이온 등)의 일부는, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 부착되게 되지만, 제2 처리부(3)에 의한 처리에 의해 제거할 수 있다. 또한, 처리액의 재이용을 반복하여 행하면, 처리에 유효한 성분이 점차 적어지거나 하여 처리 부족이나 처리 불균일 등이 발생하는데, 제2 처리부(3)에 의한 처리에 의해 경감시킬 수 있다.The filter 10 removes contaminants contained in the mixed liquid of the used processing liquid supplied to the nozzle 5 by the supply unit 9 and the used cleaning liquid. A part of the contaminants (for example, metal ions or the like) which can not be completely removed by the filter 10 is attached to the treatment surface 100a of the object to be treated 100, Can be removed. In addition, when the reuse of the treatment liquid is repeatedly performed, the effective components in the treatment gradually become smaller, resulting in inadequate treatment or uneven treatment, which can be alleviated by the treatment by the second treatment section 3.

배관(17)의 일단부는 세정액 수납부(15)에 접속되고, 타단부는 세정액 공급부(16)에 접속되어 있다. 또한, 배관(18)의 일단부는 세정액 공급부(16)에 접속되고, 타단부는 노즐(6)에 접속되어 있다. 그로 인해, 세정액 수납부(15)에 수납되어 있는 세정액을 노즐(6)에 공급할 수 있도록 되어 있다.One end of the pipe 17 is connected to the cleaning liquid storage portion 15 and the other end is connected to the cleaning liquid supply portion 16. [ One end of the pipe 18 is connected to the cleaning liquid supply unit 16 and the other end is connected to the nozzle 6. [ Therefore, the cleaning liquid contained in the cleaning liquid containing portion 15 can be supplied to the nozzle 6. [

세정액 수납부(15)는 세정액을 수납한다.The cleaning liquid storage portion 15 receives the cleaning liquid.

세정액 공급부(16)는 예를 들어 펌프 등과 같이 세정액을 반송할 수 있는 것으로 할 수 있다.The cleaning liquid supply unit 16 may be capable of transporting the cleaning liquid such as, for example, a pump.

또한, 세정액의 온도를 제어하는 도시하지 않은 온도 제어부 등을 적절히 설치하도록 할 수도 있다.Further, a temperature control unit (not shown) for controlling the temperature of the cleaning liquid may be appropriately provided.

이어서, 제2 처리부(3)에 대하여 추가로 예시한다.Next, the second processing section 3 is further exemplified.

제2 처리부(3)에는, 노즐(19)(제2 노즐의 일례에 상당함), 노즐(20)(제3 노즐의 일례에 상당함), 수납부(21), 공급부(22), 세정액 수납부(23), 세정액 공급부(24), 배출부(25)가 설치되어 있다.The nozzle 20 (corresponding to an example of the third nozzle), the storage section 21, the supply section 22, the cleaning liquid A storage portion 23, a cleaning liquid supply portion 24, and a discharge portion 25 are provided.

노즐(19)은 노즐(5)의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 피처리물(100)의 처리면(100a)에 토출한다. 노즐(19)은 반송 롤러(4a)의 상방에 설치되어 있다. 노즐(19)의 토출구(19a)는 반송 방향(101)에 직교하는 방향으로 긴 슬릿 형상을 하고 있다. 그로 인해, 노즐(19)은 피처리물(100)의 처리면(100a)에 대하여 선상(線狀)으로 처리액(제2 처리액의 일례에 상당함)을 토출할 수 있다. 또한, 노즐(19)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향(101)의 하류측을 향하여 처리액을 토출한다.The nozzle 19 is disposed downstream of the nozzle 5 in the carrying direction and discharges a new process liquid not used for processing to the processing surface 100a of the article to be processed 100. [ The nozzle 19 is provided above the conveying roller 4a. The discharge port (19a) of the nozzle (19) has a long slit shape in a direction perpendicular to the transport direction (101). Thereby, the nozzle 19 can discharge the treatment liquid (corresponding to an example of the second treatment liquid) in a line with the treatment surface 100a of the treatment target 100. [ The nozzle 19 discharges the processing liquid toward the downstream side in the carrying direction 101 rather than the direction perpendicular to the carrying direction 101 of the article to be processed 100. [

노즐(19)에 의한 처리액의 토출 형태는, 처리의 목적이나 처리액의 종류 등에 따라 적절히 변경할 수 있다. 예를 들어, 노즐(19)은 액상의 처리액을 토출하는 것이어도 되고, 안개 상태 등의 형태의 처리액을 토출하는 것이어도 된다.The discharge form of the treatment liquid by the nozzle 19 can be appropriately changed depending on the purpose of the treatment, the kind of the treatment liquid, and the like. For example, the nozzle 19 may discharge the treatment liquid in a liquid state, or may discharge the treatment liquid in a mist state or the like.

노즐(19)로부터 토출되는 처리액에 포함되는 처리에 유효한 성분은, 노즐(5)로부터 토출되는 처리액에 포함되는 처리에 유효한 성분과 같은 것으로 할 수 있다. 단, 노즐(5)로부터 토출되는 처리액은 회수된 처리액인데, 노즐(19)로부터 토출되는 처리액은 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액이다. 또한, 노즐(19)로부터 토출되는 처리액의 농도는, 노즐(5)로부터 토출되는 처리액의 농도와 동일하게 할 수도 있고, 상이한 것으로 할 수도 있다. 노즐(19)로부터 토출되는 처리액으로서는, 예를 들어 불화수소산 등을 예시할 수 있다.The component effective for the treatment included in the treatment liquid discharged from the nozzle 19 can be the same as the component effective for the treatment contained in the treatment liquid discharged from the nozzle 5. [ However, the treatment liquid discharged from the nozzle 5 is the recovered treatment liquid, and the treatment liquid discharged from the nozzle 19 is a new treatment liquid not yet used for treatment. The concentration of the treatment liquid discharged from the nozzle 19 may be equal to or different from the concentration of the treatment liquid discharged from the nozzle 5. [ As the treatment liquid discharged from the nozzle 19, for example, hydrofluoric acid and the like can be mentioned.

노즐(20)은 노즐(19)의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 세정액을 피처리물(100)의 처리면(100a)에 토출한다. 노즐(20)은 반송 롤러(4a)의 상방에 설치되어 있다. 노즐(20)의 토출구(20a)는 반송 방향(101)에 직교하는 방향으로 긴 슬릿 형상을 하고 있다. 그로 인해, 노즐(20)은 피처리물(100)의 처리면(100a)에 대하여 선상으로 세정액을 토출할 수 있다.The nozzle 20 is provided on the downstream side in the carrying direction of the nozzle 19 and discharges the cleaning liquid onto the processing surface 100a of the article to be treated 100. [ The nozzle 20 is provided above the conveying roller 4a. The discharge port 20a of the nozzle 20 has a long slit shape in a direction orthogonal to the transfer direction 101. [ Therefore, the nozzle 20 can discharge the cleaning liquid in a line on the processing surface 100a of the article to be treated 100. [

또한, 노즐(20)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 상류측을 향하여 처리액을 토출한다.Further, the nozzle 20 discharges the processing liquid toward the upstream side in the transport direction rather than the direction perpendicular to the transport direction 101 of the article to be processed 100. [

노즐(20)에 의한 세정액의 토출 형태는, 적절히 변경할 수 있다. 예를 들어, 노즐(20)은 액상의 세정액을 토출하는 것이어도 되고, 안개 상태 등의 형태의 세정액을 토출하는 것이어도 된다. 노즐(20)로부터 토출되는 세정액은, 예를 들어 순수 등으로 할 수 있다.The discharge form of the cleaning liquid by the nozzle 20 can be appropriately changed. For example, the nozzle 20 may discharge the liquid cleaning liquid, or may discharge the cleaning liquid in the form of mist or the like. The cleaning liquid discharged from the nozzle 20 can be, for example, pure water.

배관(26)의 일단부는 노즐(19)에 접속되고, 타단부는 공급부(22)에 접속되어 있다. 배관(27)의 일단부는 공급부(22)에 접속되고, 타단부는 수납부(21)에 접속되어 있다. 그로 인해, 수납부(21)에 수납되어 있는 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 노즐(19)에 공급할 수 있도록 되어 있다.One end of the pipe 26 is connected to the nozzle 19 and the other end is connected to the supply part 22. One end of the pipe 27 is connected to the supply part 22 and the other end is connected to the accommodating part 21. [ As a result, a new processing liquid accommodated in the accommodating portion 21 and not used for processing can be supplied to the nozzle 19.

수납부(21)는 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 수납한다.The accommodating portion 21 accommodates a new process liquid which has not yet been used for processing.

공급부(22)는 예를 들어 펌프 등과 같이 처리액을 반송할 수 있는 것으로 할 수 있다.The supply unit 22 can be configured to carry the treatment liquid such as a pump, for example.

배관(28)의 일단부는 노즐(20)에 접속되고, 타단부는 공급부(24)에 접속되어 있다. 배관(29)의 일단부는 공급부(24)에 접속되고, 타단부는 수납부(23)에 접속되어 있다. 그로 인해, 수납부(23)에 수납되어 있는 세정액을 노즐(20)에 공급할 수 있게 되어 있다. 수납부(23)은 세정액을 수납한다.One end of the pipe 28 is connected to the nozzle 20 and the other end is connected to the supply part 24. One end of the pipe 29 is connected to the supply part 24 and the other end is connected to the accommodating part 23. As a result, the cleaning liquid stored in the storage portion 23 can be supplied to the nozzle 20. The storage portion 23 houses the cleaning liquid.

공급부(24)는 예를 들어 펌프 등과 같이 세정액을 반송할 수 있는 것으로 할 수 있다.The supply unit 24 may be capable of transporting the cleaning liquid such as a pump, for example.

배출부(25)는 반송 롤러(4a)의 하부에 설치되어 있다. 배출부(25)는 피처리물(100)의 주연으로부터 유출된 사용 완료된 처리액과 세정액을 포집함과 함께, 포집한 사용 완료된 처리액과 세정액을 배출구(25a)로부터 배출한다.The discharge portion 25 is provided below the conveying roller 4a. The discharge unit 25 collects the used processing liquid and the cleaning liquid flowing out from the periphery of the object to be treated 100 and discharges the used processing liquid and the cleaning liquid from the discharge port 25a.

배출부(25)의 형태에는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 상단부가 개구된 상자 형상의 형태를 갖는 것을 예시할 수 있다.The shape of the discharge portion 25 is not particularly limited, but may be, for example, a shape having a box-like shape in which the upper end is opened.

이어서, 제2 처리부(3)의 작용, 효과에 대하여 추가로 예시한다.Next, the function and effect of the second processing section 3 will be further exemplified.

제2 처리부(3)에 있어서는, 회수한 처리액을 재이용함으로써 피처리물(100)의 처리면(100a)에 부착된 오염 물질을 제거하거나, 처리액의 재이용을 반복하여 행함으로써 발생하는 처리 부족이나 처리 불균일 등을 경감하거나 한다.In the second processing section 3, the collected processing liquid is reused to remove contaminants adhering to the processing surface 100a of the object to be processed 100, or the processing liquid is reused repeatedly, Or treatment unevenness or the like.

그로 인해, 제2 처리부(3)에 있어서는, 노즐(19)로부터 토출된 처리액에 대한 피복성과 치환성을 고려할 필요가 있다. 또한, 노즐(19)로부터 토출된 처리액을 제거하기 위해서는, 노즐(20)로부터 토출된 세정액에 대한 피복성과 치환성을 고려할 필요가 있다.Therefore, in the second processing section 3, it is necessary to take account of covering and replacement property of the processing liquid discharged from the nozzle 19. [ In order to remove the processing liquid discharged from the nozzles 19, it is necessary to take into consideration the covering property and the replacement property with respect to the cleaning liquid discharged from the nozzles 20.

즉, 노즐(5)로부터 토출된 처리액(재이용된 처리액)을 노즐(19)로부터 토출된 처리액에 의해 치환함과 함께, 처리면(100a)을 노즐(19)로부터 토출된 처리액에 의해 피복할 필요가 있다.That is, the processing liquid discharged from the nozzle 5 (the recycled processing liquid) is replaced with the processing liquid discharged from the nozzle 19, and the processing surface 100a is transferred to the processing liquid discharged from the nozzle 19 It is necessary to cover them.

또한, 노즐(19)로부터 토출된 처리액을 노즐(20)로부터 토출된 세정액에 의해 치환함과 함께, 처리면(100a)을 노즐(20)로부터 토출된 세정액에 의해 피복할 필요가 있다.It is also necessary to replace the treatment liquid discharged from the nozzle 19 with the cleaning liquid discharged from the nozzle 20 and coat the treatment surface 100a with the cleaning liquid discharged from the nozzle 20. [

여기서, 피복성과 치환성은 처리액이나 세정액의 점도나 접촉각의 영향을 받는다.Here, the covering property and the substitution property are influenced by the viscosity and the contact angle of the treatment liquid and the cleaning liquid.

제1 처리부(2)에 있어서 사용되는 처리액(재이용된 처리액)의 점도, 제2 처리부(3)에 있어서 사용되는 처리액(새로운 세정액)의 점도, 제2 처리부(3)에 있어서 사용되는 세정액의 점도가 너무 높아지면, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 처리액이나 세정액에 의해 덮이지 않는 부분이 발생할 우려가 있다. 즉, 처리액이나 세정액에 의한 피복성이 악화된다.The viscosity of the processing liquid (recycled processing liquid) used in the first processing section 2, the viscosity of the processing liquid (new washing liquid) used in the second processing section 3, If the viscosity of the cleaning liquid becomes too high, there is a possibility that a portion not covered by the treatment liquid or the cleaning liquid may be formed on the treatment surface 100a of the object to be treated 100. [ That is, the covering property by the treatment liquid and the cleaning liquid deteriorates.

그로 인해, 전자 디바이스의 제조에 있어서, 판상의 피처리물(100)의 처리면(100a)을 처리할 경우에는, 처리액이나 세정액의 점도는 물의 점도와 동일 정도로 하는 것이 일반적이다.Therefore, when the processing surface 100a of the plate-shaped article to be processed 100 is processed in the production of an electronic device, the viscosity of the processing liquid and the cleaning liquid is generally set to be equal to the viscosity of water.

또한, 피처리물(100)의 처리면(100a)에는 미세한 요철이 마련되는 일도 있지만, 대략 평탄면이다.The processed surface 100a of the article to be treated 100 may be provided with fine irregularities, but is roughly a flat surface.

그로 인해, 전자 디바이스의 제조에 있어서, 판상의 피처리물(100)의 처리면(100a)을 처리할 경우에는, 처리면(100a)에 있어서의 처리액이나 세정액의 접촉각은, 물의 접촉각과 동일 정도가 되는 것이 일반적이다.Therefore, when the processing surface 100a of the plate-shaped object to be processed 100 is processed in manufacturing the electronic device, the contact angle of the processing liquid or the cleaning liquid on the processing surface 100a is the same as the contact angle of water .

즉, 전자 디바이스의 제조에 있어서, 판상의 피처리물(100)의 처리면(100a)을 처리할 경우에는, 물과 동일 정도의 점도나 접촉각을 고려하여 피복성과 치환성을 검토하면 된다.That is, when the processing surface 100a of the plate-like object to be processed 100 is processed in the production of an electronic device, the coating and the substitution property may be examined in consideration of the viscosity and the contact angle which are the same as those of water.

도 2는 비교예에 관한 노즐(190) 및 노즐(200)을 예시하기 위한 모식도이다. 또한, 도 2의 (a)는 노즐(190) 및 노즐(200)의 토출 방향을 예시하기 위한 모식도이고, 도 2의 (b)는 피복성과 치환성을 예시하기 위한 모식도이다.Fig. 2 is a schematic diagram illustrating a nozzle 190 and a nozzle 200 according to a comparative example. 2 (a) is a schematic view for illustrating the discharge direction of the nozzle 190 and the nozzle 200, and FIG. 2 (b) is a schematic view for illustrating the coverage and the substitution property.

도 3은 본 실시형태에 따른 노즐(19) 및 노즐(20)을 예시하기 위한 모식도이다. 또한, 도 3의 (a)는 노즐(19) 및 노즐(20)의 토출 방향을 예시하기 위한 모식도이고, 도 3의 (b)는 피복성과 치환성을 예시하기 위한 모식도이다.3 is a schematic view for illustrating the nozzle 19 and the nozzle 20 according to the present embodiment. 3 (a) is a schematic view for illustrating the discharge direction of the nozzle 19 and the nozzle 20, and FIG. 3 (b) is a schematic view for illustrating the coverage and the substitution property.

도 2의 (b), 도 3의 (b)에 있어서는, 처리액이나 세정액의 분포를 모노톤 색의 농담으로 표현하며, 처리액이나 세정액이 많을수록 짙고, 처리액이나 세정액이 적을수록 연해지도록 나타내고 있다.In FIG. 2 (b) and FIG. 3 (b), the distributions of the treatment liquid and the cleaning liquid are represented by shades of monotone color, and the more the treatment liquid and the cleaning liquid are thicker, .

도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 노즐(190)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 상류측을 향하여 처리액을 토출한다. 노즐(200)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향(101)의 하류측을 향하여 세정액을 토출한다. 즉, 전술한 노즐(19) 및 노즐(20)은, 토출 방향이 각각 반대측으로 되어 있다.As shown in Fig. 2A, the nozzle 190 discharges the processing liquid toward the upstream side in the carrying direction with respect to the direction perpendicular to the carrying direction 101 of the article to be processed 100. As shown in Fig. The nozzle 200 discharges the cleaning liquid toward the downstream side in the transport direction 101 rather than the direction perpendicular to the transport direction 101 of the article to be treated 100. [ That is, the above-described nozzle 19 and the nozzle 20 are arranged so that their ejection directions are opposite to each other.

이러한 경우에는, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 노즐(190)로부터 토출된 처리액이 피처리물(100)의 주연으로부터 유출되는 양이 많아진다. 그로 인해, 처리액에 의해 덮이는 면적이 작아져, 처리액에 대한 피복성이 악화된다. 이 경우, 처리액의 토출량을 증가시켜서 피복성을 개선하도록 하면, 처리액의 소비량이 많아져서, 제1 처리부(2)에 있어서 회수한 처리액을 재이용하는 의의가 없어지게 된다.In such a case, as shown in Fig. 2 (b), the amount of the processing liquid discharged from the nozzle 190 flows out from the periphery of the article to be processed 100 is increased. As a result, the area covered by the treatment liquid becomes small, and the coverage with respect to the treatment liquid deteriorates. In this case, if the discharge amount of the treatment liquid is increased to improve the coatability, the consumption amount of the treatment liquid becomes large, and the meaning of reusing the treatment liquid recovered in the first treatment unit 2 is eliminated.

본 실시형태에 있어서는, 도 3의 (a)에 도시한 바와 같이, 노즐(19)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향(101)의 하류측을 향하여 처리액을 토출한다. 노즐(20)은 피처리물(100)의 반송 방향(101)에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 상류측을 향하여 세정액을 토출한다.3 (a), the nozzle 19 has a downstream side in the conveying direction 101 with respect to the direction perpendicular to the conveying direction 101 of the article to be treated 100 Thereby discharging the treatment liquid. The nozzle 20 discharges the cleaning liquid toward the upstream side in the transport direction rather than the direction perpendicular to the transport direction 101 of the article to be processed 100. [

이러한 경우에는, 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 노즐(19)로부터 토출된 처리액과, 노즐(20)로부터 토출된 세정액이 서로 대립하는 영역이 형성되므로, 노즐(19)로부터 토출된 처리액이 피처리물(100)의 주연으로부터 유출되는 양을 적게 할 수 있다. 그로 인해, 처리액에 의해 덮이는 면적이 커져, 처리액에 대한 피복성이 향상된다. 또한, 처리액에 대한 치환성도 향상된다. 그 결과, 처리액의 토출량이 적은 경우에도, 충분한 피복성과 치환성을 확보하는 것이 가능하게 되고, 오염 물질의 제거 및 처리 부족이나 처리 불균일 등의 경감을 도모할 수 있다.In this case, as shown in FIG. 3 (b), a region in which the treatment liquid discharged from the nozzle 19 and the cleaning liquid discharged from the nozzle 20 are opposed to each other is formed, It is possible to reduce the amount of the treatment liquid that flows out from the periphery of the object to be treated 100. As a result, the area covered by the treatment liquid becomes large and the coverage with respect to the treatment liquid is improved. Further, the substitution property to the treatment liquid is also improved. As a result, even when the discharge amount of the treatment liquid is small, it is possible to secure sufficient coverage and replacement property, and it is possible to reduce the removal of pollutants and the inadequate treatment or uneven treatment.

이어서, 피처리물(100)의 반송 속도, 처리액 및 세정액의 공급량, 처리액 및 세정액의 공급 위치 등에 대하여 예시한다.Next, examples of the conveying speed of the object to be processed 100, the processing liquid, the supply amount of the cleaning liquid, the processing liquid, and the supply position of the cleaning liquid will be described.

예를 들어, 피처리물(100)의 반송 속도를 너무 빠르게 하면, 단위 면적당 처리액 및 세정액의 공급량이 감소하기 때문에 피복성이나 치환성이 악화될 우려가 있다.For example, if the conveying speed of the object to be processed 100 is too high, the amount of the treating liquid per unit area and the amount of the washing liquid to be supplied may decrease, which may result in deterioration of coatability and substitutability.

한편, 피처리물(100)의 반송 속도를 너무 느리게 하면 생산성이 낮아진다.On the other hand, if the conveying speed of the object to be processed 100 is too slow, productivity is lowered.

또한, 예를 들어 처리액 및 세정액의 공급량을 너무 많게 하면 소비량이 많아진다.Also, if the supply amount of the treatment liquid and the cleaning liquid is excessively increased, for example, the consumption amount increases.

한편, 처리액 및 세정액의 공급량을 너무 적게 하면 피복성이나 치환성이 악화될 우려가 있다.On the other hand, if the supply amount of the treatment liquid and the cleaning liquid is too small, there is a fear that the coating property and the substitution property are deteriorated.

본 발명자들이 얻은 지식에 의하면, 예를 들어 피처리물(100)의 반송 속도를 50 ㎜/s 이하, 처리액 및 세정액의 공급량을 16 ℓ/min 이상, 32 ℓ/min 이하, 처리면(100a) 상에 있어서의 처리액의 공급 위치(100b)와, 처리면(100a) 상에 있어서의 세정액의 공급 위치(100c) 사이의 거리(d)를 160 ㎜ 이상, 240 mm 이하로 하면, 피복성 및 치환성을 향상시킬 수 있다.According to the knowledge obtained by the inventors of the present invention, for example, when the conveying speed of the object to be processed 100 is 50 mm / s or less, the supply amount of the processing liquid and the cleaning liquid is 16 liters / min to 32 liters / min, If the distance d between the supply position 100b of the treatment liquid on the treatment surface 100a and the supply position 100c of the cleaning liquid on the treatment surface 100a is 160 mm or more and 240 mm or less, And the substitution property can be improved.

또한, 반송 방향(101)에 직교하는 방향에 있어서의 피처리물(100)의 치수의 영향은, 노즐(19)의 토출구(19a) 및 노즐(20)의 토출구(20a)의 반송 방향(101)에 직교하는 방향에 있어서의 치수를 피처리물(100)의 치수보다도 크게 함으로써 없앨 수 있다. 즉, 노즐(19)의 토출구(19a) 및 노즐(20)의 토출구(20a)의 반송 방향(101)에 직교하는 방향에 있어서의 치수를 피처리물(100)의 치수보다도 크게 해 두면 된다.The influence of the dimension of the article to be processed 100 in the direction orthogonal to the carrying direction 101 is influenced by the discharge port 19a of the nozzle 19 and the discharge direction 20a of the discharge port 20a of the nozzle 20 The dimension in the direction orthogonal to the workpiece 100 can be made larger than the dimension of the article 100 to be processed. That is, the size of the discharge port 19a of the nozzle 19 and the discharge port 20a of the nozzle 20 in the direction perpendicular to the transport direction 101 may be made larger than the dimension of the material 100 to be processed.

도 4는 처리액 및 세정액의 공급 위치와, 피처리물(100)의 반송 속도와, 피복성 및 치환성과의 관계에 대하여 예시하기 위한 모식도이다.4 is a schematic diagram for illustrating the relationship between the feed position of the treatment liquid and the cleaning liquid, the conveying speed of the material to be treated 100, and the coverage and replacement performance.

도 4의 (a) 내지 (e)에 있어서는, 처리액이나 세정액의 분포를 모노톤 색의 농담으로 표현하며, 처리액이나 세정액이 많을수록 짙고, 처리액이나 세정액이 적을수록 연해지도록 나타내고 있다. 또한, 도 4의 (a) 내지 (c)에 있어서는 피처리물(100)의 반송 속도를 50 ㎜/s, 도 4의 (d) 및 (e)에 있어서는 피처리물(100)의 반송 속도를 167 ㎜/s로 하고 있다.4 (a) to 4 (e), the distributions of the treatment liquid and the cleaning liquid are expressed by the shades of monotone color, and the more the treatment liquid and the cleaning liquid are, the darker the treatment liquid and the cleaning liquid are. 4 (a) to 4 (c), the conveying speed of the object to be processed 100 is 50 mm / s. In FIGS. 4 (d) and 4 Is 167 mm / s.

또한, 도 4의 (a) 내지 (e)에 있어서는, 처리액 및 세정액의 공급량을 32 ℓ/min으로 하고 있다.4 (a) to 4 (e), the supply amount of the treatment liquid and the cleaning liquid is 32 L / min.

도 4의 (a)는 처리면(100a) 상에 있어서의 처리액의 공급 위치(100b)와, 처리면(100a) 상에 있어서의 세정액의 공급 위치(100c) 사이의 거리(d)(이하, 간단히 거리(d)라고 칭함)를 80 ㎜로 했을 경우이다.4A shows the distance d between the supply position 100b of the treatment liquid on the treatment surface 100a and the supply position 100c of the cleaning liquid on the treatment surface 100a , Simply referred to as distance d) is set to 80 mm.

이 경우, 거리(d)가 너무 짧기 때문에, 공급된 처리액 중, 세정액이 공급되는 위치에까지 도달하는 처리액의 양이 과대해진다. 그로 인해, 처리액을 세정액으로 치환하는 것이 어려워진다.In this case, since the distance d is too short, the amount of the processing liquid that reaches the position where the cleaning liquid is supplied becomes excessive in the supplied processing liquid. As a result, it becomes difficult to replace the treatment liquid with the cleaning liquid.

도 4의 (b)는 거리(d)를 160 ㎜으로 했을 경우, 도 4의 (c)는 거리(d)를 240 ㎜으로 했을 경우이다.Fig. 4 (b) shows the case where the distance d is 160 mm, and Fig. 4 (c) shows the case where the distance d is 240 mm.

이들 경우, 공급된 처리액 중, 적당한 양이 피처리물(100)의 주연으로부터 배출되므로, 세정액이 공급되는 위치에까지 도달하는 처리액의 양의 적정화를 도모할 수 있다. 그로 인해, 처리액 및 세정액에 대한 피복성과 치환성을 향상시킬 수 있다.In these cases, since an appropriate amount of the supplied treating liquid is discharged from the periphery of the object to be treated 100, it is possible to optimize the amount of the treating liquid reaching the position where the cleaning liquid is supplied. As a result, it is possible to improve the coverage and the substitution property of the treatment liquid and the cleaning liquid.

도 4의 (d)는 거리(d)를 160 ㎜으로 했을 경우, 도 4의 (e)는 거리(d)를 240 ㎜으로 했을 경우이다.Fig. 4 (d) shows the case where the distance d is 160 mm, and Fig. 4 (e) shows the case where the distance d is 240 mm.

이들 경우에는, 피처리물(100)의 반송 속도(167 mm/s)가 너무 빠르기 때문에, 처리액 및 세정액이 퍼지는 시간이 적어져, 처리액 및 세정액에 덮이는 면적이 작아진다. 그로 인해, 처리액 및 세정액에 대한 피복성이 악화된다. 또한, 피처리물(100)의 반송 속도(167 mm/s)가 너무 빠르기 때문에, 세정액이 공급되는 위치에까지 도달하는 처리액의 양이 과대해진다. 그로 인해, 처리액을 세정액으로 치환하는 것이 어려워진다.In these cases, the conveying speed (167 mm / s) of the object to be processed 100 is too fast, so that the processing liquid and the cleaning liquid spread over less time, and the area covered by the processing liquid and the cleaning liquid becomes smaller. As a result, the coverage of the treatment liquid and the cleaning liquid deteriorates. Also, since the conveying speed (167 mm / s) of the object to be processed 100 is too fast, the amount of the processing liquid reaching the position where the cleaning liquid is supplied becomes excessive. As a result, it becomes difficult to replace the treatment liquid with the cleaning liquid.

[제2 실시형태][Second Embodiment]

이어서, 제2 실시형태에 따른 처리 방법에 대하여 예시한다.Next, a processing method according to the second embodiment will be exemplified.

도 5는 제2 실시형태에 따른 처리 방법에 대하여 예시하기 위한 흐름도이다.5 is a flowchart for illustrating a processing method according to the second embodiment.

제2 실시형태에 따른 처리 방법은, 예를 들어 전술한 처리 장치(1)에 있어서 실행할 수 있다.The processing method according to the second embodiment can be executed, for example, in the processing apparatus 1 described above.

제2 실시형태에 따른 처리 방법은, 반송되는 피처리물(100)의 처리면(100a)에, 노즐로부터 처리액을 토출하여 피처리물(100)을 처리하는 처리 방법이다.The processing method according to the second embodiment is a processing method for processing the object to be treated 100 by ejecting the processing liquid from the nozzle onto the processing surface 100a of the object to be processed 100 to be transported.

그리고, 제2 실시형태에 따른 처리 방법은, 반송되는 피처리물(100)의 처리면(100a)에 공급한 처리액을 회수하는 공정(스텝 S1)과,The processing method according to the second embodiment includes a step (step S1) of recovering the processing liquid supplied to the processing surface 100a of the object to be processed 100 to be transported,

회수한 처리액을 피처리물(100)의 처리면(100a)에, 노즐(5)로부터 토출하는 공정(스텝 S2)과,(Step S2) of discharging the recovered treatment liquid from the nozzle 5 to the treatment surface 100a of the object to be treated 100,

노즐(5)의 반송 방향의 하류측에 있어서, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 노즐(19)로부터 토출하는 공정(스텝 S3)과,A step (step S3) of discharging a new process liquid, which has not yet been used for processing, from the nozzle 19 on the processing surface 100a of the article to be processed 100 on the downstream side in the carrying direction of the nozzle 5,

노즐(19)의 반송 방향의 하류측에 있어서, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 세정액을 노즐(20)로부터 토출하는 공정(스텝 S4)을 구비하고 있다.And a step of discharging the cleaning liquid from the nozzle 20 onto the processing surface 100a of the article to be treated 100 on the downstream side of the nozzle 19 in the carrying direction (step S4).

또한, 노즐(5)의 반송 방향의 하류측에 있어서, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 노즐(19)로부터 토출하는 공정에 있어서, 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 하류측을 향해서, 노즐(19)로부터 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액을 토출한다.In the process of discharging a new process liquid not used for processing from the nozzles 19 on the process surface 100a of the object to be processed 100 on the downstream side in the transport direction of the nozzles 5, The nozzle 19 discharges a new processing liquid which has not yet been used for processing, toward the downstream side in the transport direction with respect to the direction perpendicular to the transport direction.

또한, 노즐(19)의 반송 방향의 하류측에 있어서, 피처리물(100)의 처리면(100a)에 세정액을 노즐(20)로부터 토출하는 공정에 있어서, 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 반송 방향의 상류측을 향해서, 노즐(20)로부터 세정액을 토출한다.In the process of discharging the cleaning liquid from the nozzle 20 onto the processing surface 100a of the article to be treated 100 on the downstream side in the carrying direction of the nozzle 19, The cleaning liquid is discharged from the nozzle 20 toward the upstream side in the direction indicated by the arrow.

이 경우, 회수한 처리액에 포함되는 처리에 유효한 성분과, 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액에 포함되는 처리에 유효한 성분을 같은 것으로 할 수 있다.In this case, the components effective for the treatment contained in the recovered treatment liquid and the components effective for the treatment contained in the new treatment solution not yet used for treatment can be the same.

또한, 처리면(100a) 상에 있어서의 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액의 공급 위치와, 처리면(100a) 상에 있어서의 세정액의 공급 위치 사이의 거리(d)는, 160 mm 이상, 240 mm 이하로 할 수 있다.The distance d between the supply position of the new process liquid not yet used for the treatment on the treatment surface 100a and the supply position of the cleaning liquid on the treatment surface 100a is 160 mm or more, 240 mm or less.

또한, 피처리물(100)의 반송 속도는 50 ㎜/s 이하로 할 수 있다.Further, the conveying speed of the article to be processed 100 may be 50 mm / s or less.

또한, 아직 처리에 사용되지 않은 새로운 처리액 및 세정액의 공급량은 16 ℓ/min 이상, 32 ℓ/min 이하로 할 수 있다.The supply amount of the new processing liquid and the cleaning liquid which have not yet been used for the treatment can be set to 16 L / min or more and 32 L / min or less.

또한, 각 공정에서의 내용은, 처리 장치(1)에 있어서 예시한 것과 동일하게 할 수 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.The content in each step can be the same as that exemplified in the processing apparatus 1, and a detailed description thereof will be omitted.

이상으로 예시한 실시형태에 따르면, 회수한 처리액에 의한 처리를 행하는 경우에도 적절한 처리를 행할 수 있는 처리 장치 및 처리 방법을 실현할 수 있다.According to the embodiments described above, it is possible to realize a processing apparatus and a processing method capable of performing appropriate processing even when processing by the recovered processing liquid is performed.

이상, 본 발명의 몇 가지의 실시형태를 예시했지만, 이들 실시형태는, 예로서 제시한 것이며, 발명의 범위를 한정하는 것은 의도하지 않았다. 이들 신규의 실시형태는, 그 밖의 다양한 형태로 실시되는 것이 가능하며, 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서, 다양한 생략, 치환, 변경 등을 행할 수 있다. 이들 실시형태나 그 변형예는, 발명의 범위나 요지에 포함됨과 함께, 특허 청구 범위에 기재된 발명과 그 균등 범위에 포함된다. 또한, 상술한 각 실시형태는, 서로 조합하여 실시할 수 있다. While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. These new embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, alterations, and the like can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention and are included in the scope of the invention as defined in the claims and their equivalents. The above-described embodiments can be combined with each other.

Claims (6)

처리 장치로서,
피처리물을 반송하는 반송부와,
상기 반송부에 의해 반송되는 상기 피처리물의 처리면에 공급한 제1 처리액을 회수하는 회수부와,
상기 회수부에 의해 회수한 상기 제1 처리액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제1 노즐과,
상기 제1 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 제2 처리액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제2 노즐과,
상기 제2 노즐의 반송 방향의 하류측에 설치되고, 세정액을 상기 피처리물의 처리면에 토출하는 제3 노즐,
를 구비하고,
상기 제2 노즐은, 상기 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 하류측을 향하여 상기 제2 처리액을 토출하고,
상기 제3 노즐은, 상기 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 상류측을 향하여 상기 세정액을 토출하는, 처리 장치.As a processing device,
A transfer section for transferring the object to be processed,
A recovery unit that recovers the first processing liquid supplied to the processing surface of the object to be processed conveyed by the conveying unit;
A first nozzle for discharging the first treatment liquid recovered by the recovery unit to the treatment surface of the object to be treated,
A second nozzle provided downstream of the first nozzle in a carrying direction and discharging a second treatment liquid onto a treatment surface of the object to be treated,
A third nozzle provided downstream of the second nozzle in the carrying direction and discharging the cleaning liquid onto the processing surface of the object to be treated,
And,
The second nozzle discharges the second processing liquid toward a downstream side in the carrying direction with respect to a direction perpendicular to the carrying direction,
And the third nozzle discharges the cleaning liquid toward an upstream side in the transport direction with respect to a direction perpendicular to the transport direction. 제1항에 있어서,
상기 제1 처리액과 상기 제2 처리액은 동일한 성분을 포함하는, 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first treatment liquid and the second treatment liquid contain the same components. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 처리면 상에 있어서의 제2 처리액의 공급 위치와, 상기 처리면 상에 있어서의 상기 세정액의 공급 위치 사이의 거리는, 160 mm 이상, 240 mm 이하인, 처리 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the distance between the supply position of the second treatment liquid on the treatment surface and the supply position of the cleaning liquid on the treatment surface is 160 mm or more and 240 mm or less. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 피처리물의 반송 속도는 50 ㎜/s 이하이고, 상기 제2 처리액 및 상기 세정액의 공급량은 16 ℓ/min 이상, 32 ℓ/min 이하인, 처리 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein a conveying speed of the object to be processed is 50 mm / s or less, and a supply amount of the second processing liquid and the cleaning liquid is 16 L / min to 32 L / min. 제3항에 있어서,
상기 피처리물의 반송 속도는 50 ㎜/s 이하이고, 상기 제2 처리액 및 상기 세정액의 공급량은 16 ℓ/min 이상, 32 ℓ/min 이하인, 처리 장치.The method of claim 3,
Wherein a conveying speed of the object to be processed is 50 mm / s or less, and a supply amount of the second processing liquid and the cleaning liquid is 16 L / min to 32 L / min. 반송되는 피처리물의 처리면에, 노즐로부터 처리액을 토출하여 상기 피처리물을 처리하는 처리 방법으로서,
반송되는 상기 피처리물의 처리면에 공급한 제1 처리액을 회수하는 공정과,
회수한 상기 제1 처리액을 상기 피처리물의 처리면에, 제1 노즐로부터 토출하는 공정과,
상기 제1 노즐의 반송 방향의 하류측에 있어서, 상기 피처리물의 처리면에 제2 처리액을 제2 노즐로부터 토출하는 공정과,
상기 제2 노즐의 반송 방향의 하류측에 있어서, 상기 피처리물의 처리면에 세정액을 제3 노즐로부터 토출하는 공정,
을 구비하고,
상기 제1 노즐의 반송 방향의 하류측에 있어서, 상기 피처리물의 처리면에 제2 처리액을 제2 노즐로부터 토출하는 공정에 있어서, 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 하류측을 향해서, 상기 제2 노즐로부터 상기 제2 처리액을 토출하고,
상기 제2 노즐의 반송 방향의 하류측에 있어서, 상기 피처리물의 처리면에 세정액을 제3 노즐로부터 토출하는 공정에 있어서, 상기 반송 방향에 대하여 수직인 방향보다도 상기 반송 방향의 상류측을 향해서, 상기 제3 노즐로부터 상기 세정액을 토출하는, 처리 방법.A treatment method for treating a to-be-treated material by discharging a treatment liquid from a nozzle onto a treatment surface of a subject to be conveyed,
A step of recovering the first treatment liquid supplied to the treatment surface of the object to be conveyed,
A step of discharging the recovered first processing liquid from the first nozzle onto the processing surface of the object to be processed,
A step of discharging the second treatment liquid from the second nozzle to the treatment surface of the object to be treated on the downstream side in the carrying direction of the first nozzle,
A step of discharging the cleaning liquid from the third nozzle on the processing surface of the object to be processed on the downstream side in the transport direction of the second nozzle,
And,
In the process of discharging the second processing liquid from the second nozzle onto the processing surface of the object to be processed on the downstream side in the transport direction of the first nozzle, the downstream side in the transport direction The second processing liquid is discharged from the second nozzle,
In the process of discharging the cleaning liquid from the third nozzle on the processing surface of the object to be processed on the downstream side in the transport direction of the second nozzle, And the cleaning liquid is discharged from the third nozzle.
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