KR20040088495A - 다중 선 검출기 유닛들을 포함하는 방사선 검출기 배열부 - Google Patents

다중 선 검출기 유닛들을 포함하는 방사선 검출기 배열부 Download PDF

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KR20040088495A
KR20040088495A KR10-2004-7012498A KR20047012498A KR20040088495A KR 20040088495 A KR20040088495 A KR 20040088495A KR 20047012498 A KR20047012498 A KR 20047012498A KR 20040088495 A KR20040088495 A KR 20040088495A
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엑스카운터 에이비
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Abstract

대상물을 이미지화하는 방사선 검출기 배열부는, 각각의 광선 그룹을 1차원 이미지화 하게 각각 배열되어 있는 다중 선 검출기 유닛들을 포함한다. 상기 검출기 유닛들은 2차원 배열에서 평행하게 배열되어 있다. 상기 검출기 유닛들은, 상기 검출기 유닛과 평행한 열들(44; 61) 및 상기 유닛에 수직인 더미들(45; 63)에 착석되어 있는데, 여기에서 각각의 열에 있는 상기 1차원 검출기 유닛들은 1차원에서 상기 대상물을 함께 검출할 수 있다. 장치(87 내지 89, 91)는 상기 더미들과 평행한 상기 대상물과 관련된 상기 검출기 유닛들을, 적어도 상기 더미들에 있는 두개의 인접한 검출기 유닛들 간의 거리(s1)에 상응하는 거리만큼 이동시키는 것에 대비하는 것이다.

Description

다중 선 검출기 유닛들을 포함하는 방사선 검출기 배열부{radiation detector arrangement comprising multiple line detector units}
가스에 근거를 둔 전리 방사선 검출기들은, 일반적으로, 제작비용이 저렴하고, 가스 증대를 이용하여 신호의 크기를 크게 증대시킬 수 있으며, 이로인해, 높은 공간 분해능을 갖는 검출에 대비할 수 있기 때문에 매우 유용하다.
특정 종류의 가스에 근거를 둔 전리 방사선 검출장치가 있는데, 그 장치에는 광자와 가스 원자들 사이의 상호 작용에 의해 방출된 전자들이, 입사 방사선에 수직인 방향에서 추출될 수 있다. 그 결과로서, 매우 향상된 공간 분해능이 달성될 수 있다.
이러한 검출기는 일반적으로, 평면 캐소드 배열부 및 애노드 배열부를 포함하고 있으며, 상기 캐소드 배열부 및 애노드 배열부 사이에 형성된 공간에 배열되어 있는 이온화가능 가스를 포함하고 있다. 상기 검출기는, 방사선 소스로부터의 평면 방사선 빔이, 상기 이온화 가능 가스를 이온화 시키기는 상기 캐소드 배열부 및 애노드 배열부 간의 사이에 존재하고, 그리고 상기 캐소드 및 애노드 장치들과평행하게 존재하는 상기 검출기 측통로에 들어갈 수 있도록 배열되어 있다. 또한, 상기 이온화 가능 가스의 이온화 동안 생성된 전자들을 이동시켜, 임의적으로 증가시키기 위하여, 상기 전극들 사이로 전압이 인가된다. 판독 배열부는 상기 이동되는 전자들에 의하여 유도된 전하를 검출하기 위하여 상기 애노드에 연관하여 배열되어 있다.
상기 검출기는 분명히 순간적인 일차원 이미지 생성에 대비하지만, 2차원 이미지를 생성하기 위해서, 상기 검출기 및 선택적인 상기 방사성 소스는, 다양한 판독치들이 기록되는 동안, 측정된 대상물에 관련한 일차원 검출기 배열에 가로지르는 방향으로 이동되어야 한다. 하지만 이러한 스캐닝에 근거를 둔 2차원 검출은 시간 소모적이어서, 넓은 면적들이 이미지화 되어야 한다면 비실용적이다. 또한, 진찰되는 대상물이 사람 또는 동물인 경우에는, 사람 또는 동물이 스캐닝 동안 움직여, 이미지를 무용하게 만들거나 적어도, 획득된 이미지 질을 심각하게 감소시킬 위험이 존재한다.
스캐닝 시간을 줄이기 위해서, 다중 선 스캔을 달성 시킬 수 있는 더미화된 검출기 배열부가 프랭크 등에 의한 미국 특허 6,118,125에서 제안되었다. 상기 검출기 배열부는, 이미지화될 대상물의 조사를 위해 다수의 시준기 창들과 함께 평면 부채꼴 형상의 다량의 X-레이 빔들을 생산하는 X-선 소스를 포함하고 있다. 상기 대상물을 통해 전달된 상기 빔들은, 상기 X-선 빔들과 맞추어진 다수의 두번째 시준기 창들을 통하여 선택적으로, 상기 더미화된 검출기들에 들어간다. 상기 검출기 배열부는 측정되어야할 대상물을 스캔하기 위해 하나의 유닛으로서 이동된다.
본 발명은 대상물을 2차원으로 검출하는 스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출기 배열부들에 관한 것이다.
도 1 은 본 발명의 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부에 있어서의 사용을 위한 검출기 유닛을, 횡단 측면도로 개략적으로 설명한 도면이다.
도 2 는 도 1 의 검출기 유닛을, 도입 시준기가 일부 제거된 상태에서 정면도로, 개략적으로 설명한 도면이다.
도 3 은 선 A-A를 따라 취해진 도 1 의 검출기 유닛에 대하여 횡단도를 개략적으로 설명한 도면이다.
도 4 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부로서, 도 1 내지 도 3 의 복수개의 검출기 유닛을 포함하고 있는 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 설명한 도면이다.
도 5 는 예를들면, 도 4 의 상기 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부에 포함되어서, 진찰 중에 있는 대상물에 대한 방사선 조사량을 감소시킬 수 있는 상류 시준기의 개략적인 평면도이다.
도 6 은 본 발명의 제2 실시예에 따른 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부로서, 도 1 내지 도 3 의 복수의 검출기 유닛을 포함하는 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 설명한 도면이다.
도 7 은 본 발명에 따른 유방암 진찰용 장치로서, 도 4 또는 도 6 에 도시된 바와 같은 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부 및 도 5 에 도시된 바와 같은 상류 시준기를 포함하는 장치를 측면도로 개략적으로 설명한 도면이다.
예를 들어 의료 응용물과 같은 일부 응용물들에서, 이미지화될 영역이 50cm X 50cm 정도로 클 수 있으며, 본 발명자들은, 넓은 면적 응용물에 대해서 미국 특허 6,118,125에서 설명된 것과 같은 더미화된 검출기 배열부가, 제조 및 사용에 매우 비현질적이라는 것을 주지하였다. 제작 오차 허용도들은 유지하기 어렵고, 높은 분해능 검출기 유닛들을 대량으로 제작하는 것은 높은 수준의 효율, 균일성 및 질을 요구한다.
따라서, 본 발명의 주 목적은, 큰 대상물에 대하여 2차원으로 검출을 할 수 있는 스캐닝에 근거를 둔 전리 방사선 검출기 배열부에 높은 공간 분해능을 제공하는 것이다.
이런 관점에서, 대랑 생산에 적합하고, 예를 들어 의료 진찰들을 위한 질높은 이미지를 제공할 수 있는 검출기 배열부를 제공하는 것에 대한, 특정 목적이 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 밀집된 매트릭스 상태에 있는 복수의 선 검출기 유닛을 포함하여서 스캐닝 시간 및 스캐닝 거리를 단축시킬 수 있는 검출기 배열부를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 신뢰성 있고, 정밀하고, 값싸며, 긴 수명을 갖는 검출 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 상기 대상물의 동일한 영역을 스캔하는 하나 이상의 선 검출기 유닛을 이용하는 것(오버 샘플링으로서 언급됨)에 의해, 사용 불가능한 무용채널(즉, 상기 판독 배열부의 개개의 판독소자)로 부터 야기되는 문제를 경감시킬 수 있는 검출기 배열부를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 이동으로 인한 흐릿함이, 개개의 선 검출기 유닛들에 의하여 상기 대상물의 각각의 부분에 스냅 사진을 순간적으로 기록하는 것에 의하여 최소화 되어, 제한된 시간동안 만약에 있을 수 있는 대상물의 움직임, 예를 들어 측정 중에 있는 환자의 심장 박동과 같은 움직임이, 다만 제한된 수의 선 이미지들에 영향을 미지지만, 종래의 2차원 검출기들에 의해 얻어진 것과 같은 완벽한 2차원 이미지에는 영향을 미치지 않는 검출기 배열부를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 어떠한 이동에 의한 흐려짐에 대한 영향도 오버 샘플링 작업에 의해, 즉, 각각의 위치에서 복수의 이미지들을 기록하여 상기 대상물의 2차원 이미지의 각각의 부분이, 상이한 시간들에서 기록된 다수의 선형 이미지들로부터 나온 결과들에 의하여 형성되게 하여서, 상기 대상물이 모든 여러 선형 이미지 기록들 동안 바람직하게 움직이지 않게되는 오버 샘플링 작업에 의해 더 감소될 수 있는 검출기 배열부를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 복수의 선 검출기 유닛들이, 상기 멀리 떨어진 가장자리들에 위치된 채널들(즉, 상기 선 검출기들의 판독 소자들) 사이에서의 오버랩에 대비하게 매트릭스 상태로 배열되어서, 만약에 있을 수 있는 에지현상, 예를 들어 상기 선 검출기들의 멀리 떨어져 있는 가장자리들에서의 낮은 감광도 현상에 대한 영향을 감소 시킬 수 있는 검출기 배열부를 제공하는 것이다.
많은 목적들 중에서도 특히 이러한 목적들은, 첨부된 청구범위에 청구된 바와 같은 검출기 배열부들에 의하여 달성될 수 있다.
본 발명자들은, 높은 정밀도를 갖고서 대량 생산되기에 매우 적합하게된, 보다 작은 전리 방사선 검출기 유닛들을 2차원 열로 배열하는 것에 의하여, 유방암 검사 측정들에 있어서의 가슴들과 같은 커다란 대상물들에 대해 높은 분해능을 갖는 2차원 이미지화를 제공하기 위해 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부가 제공될 수 있다는 것을 알아내었다. 상기 검출기 유닛들은 열들 및 더미들로 배열되어 있는데, 여기에서 각각의 열에 있는 상기 검출기 유닛들은, 상기 열 방향으로 인접한 검출기 유닛들 간에 중첩된 상태에서 파상으로 배치되어 있다. 또한, 상기 2차원 열은, 상기 입사 전리 방사선의 방사선 방향에 수직 방향인 평면에 배열되어 있다.
본 발명의 또 다른 특징들 및 그에 따른 잇점들은, 본 발명의 제한이 아닌 예시의 목적으로만 주어진, 이하에 제공된 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명 및 첨부된 도 1 내지 도 7 로부터 명백하게 될 것이다.
개별적으로, 본 발명의 스캐닝에 기반을 둔 검출기 배열부에서의 사용을 위한 검출기 유닛에 대하여 횡단 측면도, 시준기의 일부분들이 제거된 상태로 있는 정면도 및 횡단 평면도로 각각 도시하고 있는 도 1 내지 도 3 을 참조하여, 상기 검출기 유닛은 간략하게 설명된다.
상기 검출기 유닛은, 평면 X-선 빔(1)이 캐소드 배열부(3) 및 애노드 배열부(5) 사이에 있는 측통로들에 들어갈 수 있도록 방향 설정되어 있다. 슬릿 형상의 시준기(7) 및 방사선 투과 창(9)은, 상기 검출기 유닛의 앞쪽에 제공 되어있어서, 상기 X-선 빔(1)이 상기 검출기 유닛으로 들어가도록 하는 입구를 형성하고 있다.상기 슬릿 형상의 시준기(7)는, 얇은 슬릿이 에칭가공되어 있는 상태에서 상기 검출기 유닛의 입구 쪽에 접착된 예를 들어 텅스텐과 같은 재질의 얇은 금속 박막이 될 수 있고, 그리고 상기 방사선 투과 창(9)은 얇은 플락스틱 또는 탄소 섬유 박막이 될 수 있다.
상기 전극 배열부들(3, 5) 각각은, 각각의 유전체 기판(12, 14)에 의해 지지되는 전기적으로 전도성있는 전극 층(11, 13)을 포함하고 있으며, 여기에서 상기 배열부들은 상기 캐소드 층(11)과 애노드 층(13)들이 서로에 직면하도록 방향설정되어 있다. 바람직하게는, 상기 전극 배열부들(3, 5)은 평면, 장방형이며 서로에 평행하게 되어 있다. 상기 애노드 배열부 및 캐소드 배열부(3, 5)들은 금속이 도금된 유리 판이 될 수 있다. 상기 캐소드 층(11)은 또 다른 대안으로서 도핑된 실리콘이 되어, 유리로 만들어진 유전체 기판에 접착될 수 있다.
바람직하게는, 상기 전극 배열부들(3, 5) 및 상기 창(9)은, 가스 또는 가스 혼합물로 채워질 수 있는 기밀 구획부(19)를 측벽들(15, 16, 17)과 함께 구획 형성한다. 선택적으로, 상기 전극 배열부(3, 5)들은 기밀의 외장 캐이스(도시되어 있지 않음) 내부에 배열된다. 상기 이온화 가능 가스 또는 가스 혼합물은, 예를 들어 크립톤 및 이산화탄소 또는 크세논 및 이산화탄소로 구성될 수 있다. 상기 가스는 압력하에 있을 수 있는데, 바람직하게는 1 내지 20 기압의 범위에서 압력하에 있을 수 있다.
상기 측벽들(15, 16, 17)은, 도 1 내의 부호 21 로서 지시된 바와 같은 홈을 가져서, 상기 측벽들이, 상기 전극 배열부들(3, 5)의 주위부의 적어도 일부분들을따라 이격부 또는 지지부들로서 작용하여, 상기 캐소드 배열부(11) 및 애노드 배열부(13)를 용이하게 구별할 수 있는 거리에서 떨어지게 유지한다. 선택적으로, 별개의 이격부들은, 상기 캐소드 배열부(3) 및 애노드 배열부(5) 사이에 제공된다.
고 직류전압 공급 유닛(도 1 내지 도 3 에 도시되어 있지 않음)은, 내부 전극 구획부(19) 안에서 전기장을 만들어서 그 구획부 안의 전자들 또는 이온들을 이동시켜 선택적으로 증폭시키기에 적절한 전위에서 상기 상기 캐소드(11) 및 애노드(13)를 유지시킬 목적으로 제공된다. 편의적으로, 상기 캐소드(11)는 사용 중에 음 전압(-V1)으로 유지되어 있는 반면에, 상기 애노드(13)는 접지되어 있다.
또한, 상기 검출기 유닛은, 애노드(13)를 향하여 이동되는 전자 및/또는 캐소드(11)를 향하여 이동되는 이온에 대한 검출을 위한 판독 배열부를 포함한다. 상기 판독 배열부는 도 1 내지 도 3 에 도시된 바와 같이 애노드 배열부(13) 그 자체로 구성되어 있다. 선택적으로, 별개의 판독 배열부가 인접한 애노드(13) 또는 인접한 캐소드(11) 또는 다른 곳에 배열될 수 있다.
1차원 이미지화 능력에 대비하기 위하여, 상기 애노드/판독 층(13)은, 일정 배열의 도체 또는 반도체 소자들 즉, 나란히 배열되어서 유도체 기판(14) 위에서 서로 전기적으로 분리된 스트립들(23)로 구성되어 있다. 검출된 이미지에 있는 시차 에러를 보상하여, 증가된 공간해상도에 대비하기 위하여, 상기 애노드/판독 스트립들은 각각의 위치에서 상기 X-선 빔의 입사 광자들의 방향에 평행한 방향으로 뻗어있다. 이로인해, 포인트 소스로부터의 발산 빔이 주어진다면, 상기 애노드/판독 스트립들(23)은 부채꼴 형상으로 배열되어 있다.
애노드들/판독 배열부의 또 다른 형상에 있어서(도시 되어 있지 않음), 상기 스트립들은 상기 입사 X-선들의 방향에서 여러 조각들로 더 나뉘어져, 상기 조각들이 서로에 전기적으로 절연되게, 그리고 처리전자장치들에 개별적으로 연결되게 한다. 이런 판독 배열부는, 방사선의 에너지 분해능된 검출에 이용될 수 있다. 이러한 점에 대해서, 특정 참조는, 2000년 3월 31일자로 출원되고, 발명의 명칭이 전리 방사선에 대한 스펙트럼 분석 검출이고, 스웨덴 특허출원 번호가 0001167-6인 계류 중인 스웨덴 특허출원에 만들어지는데, 상기 특허출원은 여기에서 참고로서 개재되어 있다.
상기 애노드/판독 스트립들 각각은 바람직하게는 판독 및 신호 처리 장치(도 1 내지 도 3 에 예시되어 있지 않음)에 연결되어 있으며, 그 결과 각각의 스트립으로부터 발생된 상기 신호들은 개별적으로 처리될 수 있다. 상기 스트립들 역시 상기 애노드를 구성하고 있기 때문에, 분리를 위한 적절한 연결들이 필요된다.
1차원 판독기가 별개의 장치인 경우에, 상기 애노드 층(13)은 스트립들 없이 단일 전극으로서 형성될 수도 있다.
상기 전극층들(11, 13) 사이의 거리가 설명의 목적을 위해 도 1 및 2 에서 과대하게 확대되어 있는 것은 일단 이해할 수 있을 것이다. 일예의 기하학적 외형으로서, 상기 검출기 유닛은 40mm의 폭, 2mm의 두께 및 35mm의 깊이가 될 수 있으며, 이에 반하여 상기 내부 전극의 거리는 0.05 내지 2mm가 될 수 있다. 상기 검출기 유닛에 들어가는 방사선 쉬트의 두께를 좌우하는 상기 시준기 슬릿의 폭(w)은10 ㎛ 정도로 작거나 또는 적어도 2mm 정도로 넓을 수도 있다. 각각의 판독 스트립(23)은 10㎛~2mm의 폭을 가질 수 있으며, 이러한 사실은 수백 또는 수천의 스트립들 즉, 예시된 것보다 많은 스트립들이 하나의 검출기 유닛 상에서 나란히 배열될 수 있다는 것을 의미한다.
동작 중에, X-선들은 상기 캐소드 배열부(3)에 평행하게 근접되어 있는 상기 시준기 슬릿을 통하여 상기 검출기 유닛에 들어가게 된다. 상기 X-선들은 지수 확률적 분포에 따라 상기 검출기 유닛에 있는 가스와 상호작용하여, 상기 수많은 X-선들이 조기에 상기 가스 체적상태로 바뀐다. 상기 평균 상호작용 길이는 일반적으로 10 내지 100mm가 된다.
상호작용에서, X-선 광자(25)는 자신의 에너지를 가스 원자에 있는 전자에 전달하여, 상기 전자가 광자 효과, 콤프턴 산란 및/또는 오거 효과로서 알려진 과정들을 통해 상기 원자로부터 방출되게 한다. 이러한 전자는 상기 가스를 통해 주행하여, 새로운 가스 원자들과 충돌하여서, 전자들이 결국 자신의 에너지를 잃고 정지할 때까지 보다 많은 전자들을 방출시킨다. 이 과정에서, 일반적으로 약 천개의 전자들로 이루어진 구름(cloud)(27)이 생성된다.
상기 캐소드(11)와 상기 애노드(13) 사이에 전기장(U)을 인가하는 것에 의하여, 이들 전자들은 방향(29)(도 1 내지 도 2 에 있어서 수직방향)으로 상기 애노드를 향하여 끌려가게 되는데, 상기 방향은 입사하는 X-선 광자 궤적에 일반적으로 수직방향이 된다. 상기 인가된 전기장이 충분한 세기를 갖는다면, 상기 전자들은 상기 가스로부터 더 많은 전자들을 녹아웃 시켜, 가속되게 하여, 애벌런치 과정에서, 더 많은 전자들을 녹아웃 시키기에 충분한 에너지를 얻는다. 상기 과정은 가스 애벌런치 증폭으로서 알려져 있다. 상기 많은 수의 전자들이 상기 애노드에 접근함에 따라, 이 전자들은 상기 구름(27)에 가장 가까이에 있는 스트립(23a)에서 전자적 신호를 유도한다.
상기 전자적 신호는 상기 스트립에 접속된 판독 전자장치에 의하여 검출된다. 상기 전자장치에 있어서, 상기 신호는 증폭되어, 역치 전압과 비교된다. 상기 신호가 상기 역치 전압을 넘게 되면, 이러한 스트립에 대한 카운터 특성은 활성화되며, 기저장된 값에 하나를 더한다. 이러한 방식으로, 각각의 애노드 스트립 위에 이미지화 되는 X-선들의 수가 카운트 된다. 상기 방법은 광자 카운팅으로 불린다.
또 다른 방법으로서, 많은 X-선들로부터 나온 상기 신호들은, 모든 X-선들에 의해 누적된 총 에너지와 관계된 하나의 숫자로 통합될 수 있다.
도 1 내지 도 3 의 검출기 유닛을 포함하고 있는 X-선 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부를 정면도로 개략적으로 예시하고 있는 도 4 를 이제 참조하여, 본 발명의 제1 실시예가 설명될 것이다.
상기 검출기 배열부는, 공통 지지 구조물(42) 위에 2차원 열로 배열되어있는 복수의 선 검출기 유닛들(41)을, 상기 선 검출기 유닛들의 각각의 도입 슬릿들(43)이 상기 검출기 배열부의 전면에 직면하고 있는 상태에서 포함하고 있다. 상기 검출기 배열부가 더 많은 유닛들을 포함하고 있다는 것이 이해될 수 있지만, 설명의 목적을 위해서, 도 4 는 4 X 10 매트릭스의 검출기 유닛들을 포함하고 있는 데, 즉 각 열(44)이 4개의 검출기 유닛들을 포함하고 있고, 각각의 더미(45)가 10개의 검출기 유닛들을 포함하고 있다. 예를 들어, 상기 검출기 유닛들이 S1=5mm(도입 슬릿(43)에서 도입 슬릿 사이) 만큼 이격되어 있고, 20X20 내지 50X50cm2범위의 면적이 덮혀져 있다면, 각각의 더미는 40 내지 100개의 검출기 유닛들을 포함할 수 있다. 각각의 선 검출기 유닛의 폭은 예를 들어 40 내지 60mm가 되어, 5 내지 12 개의 검출기 유닛들이 각각의 열에 배열된다.
만약에 있을 수 있는 검출기 유닛들의 가장 밀집된 배열은, 상기 더미(45)들 각각의 일차원 검출기 유닛들이, 상기 더미중 인접한 더미의 검출기 유닛들과 모서리 겹침으로 위치결정되어 있다면(도 4 에 도시되어 있지 않음) 얻어진다. 이런 예에 있어서, 어느 하나의 더미에 있는 상기 검출기 유닛들 사이의 거리(S1)(도입 슬릿으로부터 도입슬릿 사이의 거리)는 상기 검출기 유닛들의 두께와 동일하다.
또한, 도 4 의 상기 검출기 배열부는, 옆면 및 앞면 덮개(명확하게 도시되어 있지 않음)를 포함할 수 있다.
동작 중에, 진찰 될 상기 대상물은 상기 검출기의 앞쪽에 위치결정된다. 상기 검출기 유닛들이 반복적으로 판독되는 동안, 상기 검출기 배열부는, 피보팅 운동으로 또는 화살표 방향(47)으로의 병진운동으로 상기 대상물을 가로질러 주사되어, 이차원 이미지를 생성하게 된다. 여기서, 확실하게 상기 X-선 빔은 모든 검출기 유닛들을 동시에 조사하기에 충분한 폭이 되어야 한다.
도 4 실시예의 신규의 특징이 각각의 열(44)에 있는 상기 검출기 유닛(41)의 파형배열에 있다는 것은 주목 되어야 한다. 도 1 내지 도 3 의 상기 검출기 유닛이, 도 2 및 3 에서 보여질 수 있는 바와 같이 측벽들과 스페이서들의 존재로 인해, 그 극단측 부분에서 검출할 수 있는 능력이 없기 때문에, 상기 유닛들은 20 내지 50cm 의 모든 간격을 커버하게 파형으로 배열되어, 어떠한 무용구역을 회피할 수 있다. 하나의 검출기 유닛의 도입 슬릿이 끝나는 부분에서, 또 다른 검출기 유닛의 도입 슬릿이 각각의 열(44)내에서 시작된다. 이러한 특징은, 도 4 에서 점선(48)을 따라 명확하게 보여질 수 있고, 상기 검출기 유닛들 간의 중첩부(x1)를 요구하며, 여기에서 x1은 적어도 0.05mm 또는 0.1mm가 될 수 있다. 상기 중첩부는 보다 클 수 있으며, 도 6 을 참조 하여 아래의 설명을 참조하라.
또한, 1차원 검출기 유닛(41)들의 2차원 배열은 입사 X-선 빔의 방사 방향에 직교하는 평면에 배열되어 있다. 이러한 특징은 파형으로 배열된 검출기 배열부를 얻어서, 높은 공간 분해능 및 높은 감도에 대비하는데 중요하다.
환자에 대한 방사선량을 줄이기 위하여, 도 5 에 예시된 바와 같은 시준기는 방사선 소스 및 환자 사이에 배열된다. 상기 시준기(51)는 방사선 흡수 물질, 예를 들어 텅스텐으로 이루어지며, 열(53) 및 더미(54)들로 배열되어 있는 복수의 방사선 통과 슬릿(52)을 포함하고 있다. 상기 방사선 통과 슬릿(52)들은 도 4 의 배열부의 검출기 유닛들의 도입 슬릿들과 맞추어 져서, 상기 시준기(51)에 의해 생성된 각각의 평면 방사선 빔이 환자의 각각의 부위를 통과하여, 도 4 의 배열부에 있는 상기 검출기 유닛들 각각으로 입사된다. 따라서, 상기 시준기(51)는 스캐닝을 하는 동안 상기 검출기 배열부와 함께 이동되어, 상기 맞춤 상태를 유지하게 한다.
상기 선 검출기 유닛들이 평면 기판 위에서 서로에 평행하게 배열되지 않지만, 상기 사용된 방사선 소스를 향하게 배열되어서, 상기 방사선 소스로부터 나온 방사선이 각각의 검출기 유닛에 들어가게 한다는 것은 이해 되어야 한다.
동일한 목적을 위해, 상기 시준기(51)는, 상기 검출기 유닛들에 비하여 보다 적게 떨어져 이격되어 있고 상기 검출기 유닛 도입 슬릿들보다 더 좁은 슬릿들을 갖고 있다. 상기 방사선 소스(점 소스, 선 소스 또는 2차원 소스), 시준기(51) 및 검출기 배열부 간에 맞춤은, 상기 시준기(51)를 통과하여 상기 검출기 배열부의 각각의 검출기 유닛들(41)내로 지나가는, 상기 방사선 물질로부터 나오는 다수의 평면 방사선 빔들에 대비한 것이다.
상기 검출기 배열부에서 별개의 기밀 구획부들을 갖는 다수의 개별 검출기 유닛(41)들을 정렬시키는 대신, 모든 개별의 검출기 유닛들에 대하여 공통의 기밀 구획부를 갖는 하나의 검출기 배열부(도시되어 있지 않음)가 제공될 수 있다는 것 또한 이해될 수 있을 것이다. 그러한 검출기 박스는, 지지부(42), 측벽들과 그리고 상기 도입 슬릿(43)이 구비된 공통 시준기, 예를 들어 도 5 에 도시된 바와 같은 시준기와 유사한 시준기 및 그 전면에 공통 방사선 도입 창을 포함하는 앞 커버를 포함할 수 있다. 따라서, 도 4 에 있는 개별의 검출기 유닛(41)들의 직사각형은, 두개의 띄움 장치들에 의하여 분리되어 있는 각각의 검출 유닛의 전극들을 의미하며, 상기 각각의 검출기 유닛의 상기 측벽들(15, 16, 17), 상기 슬릿 형상의 시준기(7) 및 상기 방사선 투과 창(9)은 생략될 수 있다.
정면에서 바라본 시점으로, X-선 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부를 개략적으로 정면도로 예시한 도 6 을 이제 참조하여, 본 발명의 제2 실시예가 설명될 것이다.
도 6 실시예의 또 다른 특징은, 입사 방사선의 시준 또는 영사에 관련이 있다. 제어 가능한 가변 조리개를 갖는, 또 다른 시준기 또는 차폐장치의 제공에 의해, 측정에 필요 없는 수많은 방사선은, 측정 대상물에 도달하기 전에 차단될 수 있다. 상기 시준기는 상기 측정 대상물의 상류에 바람직하게는, 사용되고 있다면, 상기 시준기(51)의 바로 앞 또는 바로 뒤에 배열되며, 도 6 에서 점선으로 개략적으로 표시되어 있다.
본 발명의 상기 검출기 배열부의 디자인은, 스캔의 개시 시점 또는 스캔이 시작되기 전에, 예를 들어, 신속한 노출 제어 측정 동안, 측정 대상물의 외형을 신속하게 판단하는데 우수하다. 상기 대상물의 거의 정확한 형상은, 예를 들어 역치값에 근거를 둔 결정 알고리즘에 의해 결정된다. 따라서, 상기 시준기 또는 차폐 장치의 가변 가능한 조리개는, 상기 대상물을 통과하지 못하는 방사선을 차폐하고, 상기 대상물을 통과하는 방사선만이 통과하도록 제어된다.
도 6 에서, 반원형의 조리개를 갖는 시준기가 도시 되어 있다. 그러나, 다른 형상들, 예를 들어 원형 또는 장방형의 시준기들이 상기 목적에 동일하게 적합할 수 있다.
상기 시준기(64)의 목적은, 불필요하고, 분산되어서 원하지 않는 방식으로 예를 들어 신호대 잡음비를 줄이는 방식으로 측정치들과 간섭할 수 있는 방사선, 또는 결과로서 상기 대상물에 대한 증분된 방사선 조사량을 가지고 상기 조사 중에있는 대상물을 향해서 재방향 설정될 수 있는 방사선을 차폐하는 것이다. 따라서, 향상된 검출 질 및 감소된 방사선 조사량은 시준기(64)의 사용에 의해 달성된다.
도 6 에서, 상기 검출기 유닛들은, 예를 들어, 2 내지 10mm 또는 5 내지 10mm의 인접한 열들의 검출기 유닛들 간의 중첩부를, 즉, 도 4 장치의 중첩부보다 더 큰 중접부를 갖는 상태로 배열되어, 인접한 열들의 검출기 유닛들의 도입 슬릿들 사이에서도 즉, 활성 검출 영역들 사이에서도 중첩부(x2)를 보장하여서, 이중 측정 값들이 상기 측정 대상물을 가로지르는 스트립들로부터 얻어지게 한다. 상기 개별 검출기 유닛들이, 에지 영향, 예를 들어 선 검출기들의 멀리 떨어진 에지들에서의 보다 낮은 감도와 같은 영향 또는 이와 유사한 영향을 받아 상기 외부 측정 소자들의 측정 값들이 신뢰할 수 없게 된다면 가치있는 것이다. 더욱이, 이러한 검출 소자들의 개개의 것들 또는 판독치들에 대한 어떠한 손상도, 얻은 이미지들에 있어서의 부족함 또는 무용 픽셀 값들을 야기하지 않는다.
도 4 및 도 6 을 참조하여 상기된 신규의 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부의 실시예가 도 1 내지 도 3 에 도시된 바와 같은 복수의 검출 유닛을 포함하는 대신에, 거의 모든 종류의 복수의 선 검출기 유닛들, 예를 들어, PIN-다이오드 내에서 상기 X-선들이 반도체와 상호작용 해서 전하들을 방출하는 실리콘과 같은 반도체들의 PIN-다이오드들과 같은 복수의 선 검출기 유닛들, 빛은 내는 물질인 셀렌으로 코팅된 감광성의 검출기들 또는 다른 반도체가 덮혀진 전자 장치로 구비되어, 박막 트랜지스터(TFT) 회로, CCD의 회로, CMOS 회로 등과 같이 축적된 전하를 검출할 수 있다는 것은 일단 이해될 것이다.
그러나, 바람직한 선 검출기 유닛은 임의로 전자 애벌런치 증폭기로 구비된 가스에 근거를 둔 이온화 검출기로서, 특히 자유 전자들이 입사 전리의 방향에 수직인 방향으로 흐르게 되는 가스에 근거를 둔 이온화 검출기이다. 본 발명의 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부에서, 사용하기 위한 다른 종류의 가스에 근거를 둔 검출기 유닛들에 대한 보다 상세한 설명을 위하여, 톰 프랭크 등에 의해 발명되고 XCounter AB에 양도된 아래의 미국 특허 출원에 참조가 만들어 지는데, 여기에서 이 출원들은 참조로서 편입된 것이다.: 08/969554(미국특허 제6,118,125로서 발행됨); 09/443,292; 09/443,320; 09/443,321; 09/444,569; 09/550288; 09/551603; 09/552692; 09/698174; 09/708521; 09/716228; 및 09/760748.
유방암 진찰용 장치를 측면도로 개략적으로 예시하고 있는 도 7 을 마지막으로 참조하여, 본 발명의 또 다른 실시예가 설명될 것이다.
위로부터 아래로, 상기 장치는 X-선 소스(81), 필터들(82), 상류 시준기(83), 상부 압박 플레이트(84), 하부 압박 플레이트(85) 및 검출기 배열부(86)를 포함한다.
상기 X-선 소스(81)는 종래의 X-선 튜브이다. 상기 X-선 튜브의 바로 밑에는 필터들(82)로서 작용하는, 이미지 품질에 두드러지게 기여하지 않으면서도 환자에 대한 방사선 조사량을 증가시키는 얇은 금속 박막들이 위치되어, 가장 낮은(또는 경우에 따라서는 가장 높은) 에너지 광자를 흡수한다. 이것은 규정하는 필요 요건들에서 설명된다.
상기 상류 시준기(83)는 예를 들어 도 5 의 시준기와 같이 에칭 처리된 복수의 좁은 슬릿들을 가진 텅스텐과 같은 재질의 얇은 박막이다. 상기 슬릿들은 일렬로 정리되어 있어서, 각각의 슬릿을 통과하는 X-선들이 검출기 배열부에 있는 대응 슬릿에 도달할 수 있게 맞추어져 있다. 이러한 시준기의 목적은 환자로 향하는 방사선 조사량을 줄이는 것이다. 상기 검출기 배열부의 도입 슬릿들에 들어갈 수 있는 X-선 광자들만이 상기 환자의 가슴을 통과하도록 허용된다.
상기 검출기 배열부는 도 4 또는 도 6 를 참조하여 상기에서 설명된 바와 같은 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부들 중 어느 하나가 될 수 있다.
상기 X-선 튜브(81), 상류 시준기(83) 및 상기 검출기 배열부(86)들은 공통의 E-자형 아암(87)에 부착되어, 대략 상기 X-선 튜브(81)의 높이에서 스핀들(89)에 의하여 수직 스탠드(88)에 회전가능하게 부착되어 있다. 이러한 방식으로, 상기 X-선 튜브(81), 상기 상류 시준기(83) 및 상기 검출기 배열부(86)는 상기 환자 가슴에 대하여 공통의 피보팅 운동으로 이동되어, 상기 환자 가슴을 스캔하여서, 그 가슴의 2차원 이미지를 생성할 수 있다. 상기 검출기 배열부에 있는 상기 검출기 유닛들 간의 거리가 5mm이고 상기 스핀들(89) 및 상기 검출기 유닛 간의 거리가 65cm라고 가정하면, 한번의 스캔은 약 0.5o의 회전에 상당하여 X선 소스의 포저(poser) 및 이미지 요소당 검출된 X선의 소정된 수에 종속하여 순식간에 수행될 수 있다.
도 6 을 참조하여 상기된 바와 같이, 상기 대상물을 통과하지 못하는 방사선을 차폐하는, 제어 가능한 가변 조리개를 갖는 상류 차폐 장치가 사용되게 된다면, 스캐닝 동안 상기 상류 차폐 장치도 또한 맞춤 상태가 유지되게 상기 E-자형 아암(87)에 부착된다.
상기 두개의 압박 플레이트들(84,85)은 E-자형 아암(87)에 있는 오목부 또는 그와 유사한 부분에 존재하는 지지대(90)에 의하여 상기 수직 스탠드(88)에 확고히 부착되어 있다. 측정 동안에, 가슴은 상기 두개의 압박 플레이트들(84,85) 사이에서 압박을 받게 되는데, 이 목적을 위해서 상기 플레이트들은 수직 방향으로 이동가능하면서도 잠금 가능하다.
또한, 상기 장치는, 상기 장치와 판독기를 제어하고 개별 선 검출기 유닛들의 판독 스트립들에서 유발된 전하들을 후처리하기에 적합한 소프트웨어를 구비한 마이크로 프로세서인 컴퓨터(92)와 그리고 상기 검출기 유닛들에 전기장을 인가하여 마이크로 프로세서인 컴퓨터(92)에 전력을 공급하여 수직 스탠드(88)에 격납된 스텝 모터 또는 그 유사물을 구동하여 스핀들(89)을 구동하고 그 결과 E-자형 아암(87)도 구동하는 전력 공급부(91)를 포함한다.
변경 실시예로서, 상기 시준기를 포함하는 방사선 소스/검출기 배열부 조립체 및 만약에 있을 수 있는 상기 차폐 장치를 회전시키기 위해, 상기 조립체 및 차폐 장치는 예를 들어, 선형 모터들(도시되어 있지 않음)에 의하여 상기 E-자형 아암을 선형적으로 움직이게 함으로써 스캐닝 동안 선형적으로 이동될 수 있다.
또 다른 실시예로서, 스캐닝 동안 이동되어야 할 유방암 진찰용 상기 장치의 각각의 구성요소 또는 그 구성 요소들 중 일부의 각각의 구성 요소는, 각각의 개별병진 유닛에 연결될 수 있으며, 여기에서 각각의 개별 병진 유닛은 개별적으로 부착하고 있는 구성요소들을 이동시킬 수 있다(어디에도 도시되지 않음). 바람직하게는, 상기 병진 유닛들은, 마이크로 프로세서인 컴퓨터(92)가 될 수 있는 공통의 제어 회로에 의하여 제어된다.
작동에 있어서, X-선들은 상기 X-선 튜브(81)로부터 방출되어, 상기 필터 막(82)을 통과한다. 상기 상류 시준기(83)는 상기 X-선의 대부분을 흡수한다. 이 시준기(83)에 있는 슬릿들을 통과한 X선들만이, 상기 두개의 압박 플레이트 사이에 있는 가슴을 횡단하게 된다. 상기 가슴에서, 상기 X-선 광자는 통과될 수도, 흡수될 수도 또는 분산될 수도 있다. 통과된 X-선들은 상기 가슴을 떠나서, 상기 검출기 배열부 도입 슬릿들에 들어가서 검출된다.
상기 장치의 정렬 맞춤은, 상기 상류 시준기(83)가 제거되는 동안 최대의 X-선 플럭스가 상기 선 검출기 유닛들에서 검출될 때까지, 상기 수평면 내에 X-선 소스(81)를 이동시킴으로써 수행된다. 이것은 외부에 있는 정렬 맞춤용 센서들을 조정하여 수행될 수 있는 과정이다. 이러한 외부에 있는 정렬 맞춤용 센서들은, 상기 검출기 배열부에서 위치된 1차 또는 2차원의 광학 위치 감지 센서들이 될 수 있다. 이 센서들은 상기 X-선 튜브에 부착된 레이져 다이오드들에 의하여 조명된다. 상기 X-선 튜브의 올바른 위치가 설정될 때, 각각의 광학 센서들 위에 있는 광점이 저장되며, 후에 이것은 X-선 소스를 상기 올바른 위치에 지속적으로 유지시키는데 사용된다.
상기 X-선 소스가 상기 선 검출기에 대하여 정확하게 위치 결정된다면, 상기상류 시준기(83)는 제위치에 삽입되어 맞추어진다. 상기 상류 시준기(83)는 상기 선 검출기 유닛들에 의하여 최대의 X-선 플럭스가 검출될 때까지 수평면에서 이동된다. 상기 상류 시준기(83)는 상기된 바와 같은 외부 정렬 맞춤용 센서의 사용에 의하여 정렬 맞춤된채로 유지될 수 있다.
환자의 가슴을 스캐닝하여 2차원 X-선 이미지를 생성하는 절차는 다음과 같다. 가슴은 상기 압박 플레이트(84,85) 사이에서 압박된다. 상기 X-선 소스(81)는 활성화되고, 상기 X-선 소스(81), 상기 상류 시준기(83) 및 상기 검출기 배열부(86)를 지지하고 있는 상기 E-자형 아암(87)은, 상기 검출기 배열부가 상기 압박 플레이트(84, 85)와 평행하고, 상기 가슴벽과도 평행한 방향으로 상기 가슴을 가로질러 스캔할 수 있게, 피벗 운동으로 움직인다.
각각의 선 검출기에 있는 각각의 판독 스트립은, 개별 판독 스트립에서 신호를 생성시키는 X-선들의 수를 계속적으로 계수한다. 정규적인 이동 유지 기간에서, 즉 매 10 내지 500마이크로 미터마다, 각각의 계수는 판독되어 상기 마이크로 프로세서(92)의 메모리에 저장되고, 모든 카운터들은 0으로 재설정된다. 이러한 방식으로, 각각의 선 검출기는 상기 가슴의 수많은 선 이미지를 제공한다. 상기 X-선 소스 및 스캐닝이 멈추게 될 때, 모든 이미지 단편들은 상기 마이크로 프로세서(92)에 의하여 함께 그룹화되어, 2차원 이미지를 형성하게 된다.
상기 각각의 카운터의 계수가, 상기 검출기 유닛 도입 슬릿들의 폭(w) 및 상기 검출기 유닛들에 들어가는 상기 평면의 방사선 빔들의 두께와 동일한 매 스캔거리마다 판독 저장된다는 것은 이해될 수 있다.
또 다른 대안으로서, 각각의 카운터의 계수는 보다 많은 화소를 갖고서 증가된 공간 분해능을 갖는 이미지를 제공하기 위하여 보다 자주 판독 저장될 수 있다.
상기 스캐닝은 상기 검출기 배열부의 각각의 더미에 있는 각각의 두개의 인접한 검출기 유닛들 간의 거리(s1)와 동일한 총 거리로서 수행될 수 있다는 것 또한 이해될 수 있다.
또 다른 대안으로서, 상기 스캐닝은 상기 검출기 배열부의 각각의 더미에 있는 두개의 인접한 검출기 유닛들 간의 거리(s1)보다 더 긴 총 길이로서 수행되어, 상기 스캔에서의 중첩을 얻어서 상기 스캔의 시작 및/또는 마지막에 있어서의 어떠한 측정 문제들도 피할 수 있다.
또 다른 대안으로서, 상기 스캐닝은 상기 검출기 배열부의 각각의 더미에 있는 각각의 두개의 인접한 검출기 유닛들 간의 간격(s1) 보다 적어도 두배가 되는 총 거리로서 수행되어, 이중 스캔을 얻을 수 있다. 이런 오버 샘플링에는, 하나 이상의 선 검출기 유닛이 상기 대상물의 동일한 영역을 스캔하는데 사용되어 손상된 개별 판독 스트립들에 기인한 측정 문제들 및 작동상의 문제들이 회피될 수 있다.
이와 같은 종류의 운동으로 인한 흐릿함의 영향은 오버 샘플링하여, 즉, 각각의 지점에서 여러개(적어도 2개)의 이미지들을 기록하여 상기 대상물의 상기 2차원 이미지의 각각의 부분을, 상기 대상물이 상기 여러개의 선 이미지에 대한 모든 기록동안 아마도 가장 움직이지 않는 곳에서. 상이한 시간에 기록된 여러개의 선이미지들로부터 나온 결과들에 의하여 축적시킴으로써, 더욱 감소될 수 있다.
본 발명이 많은 방식으로 변형될 수 있다는 것은 자명하다. 이런 변형은 본 발명의 범위로부터 벗어나는 것으로서 간주되어서는 안된다.

Claims (26)

  1. 전리 방사선의 평면 광선 그룹이 대상물을 통과하거나 또는 대상물로부터 산란됨에 따라 전리 방사선의 평면 광선 그룹에 각각이 노출되어 각각의 상기 평면 광선 그룹을 1차원 이미지화하게 배열된, 복수의 1차원 검출기 유닛들(41)을 포함하는, 대상물을 2차원으로 이미지화하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부에 있어서,
    - 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이, 2차원 열의 상태에서 서로 평행하게 배열되어, 상기 각각의 평면 광선 구룹들(1)에 직면하고 있되,
    상기 1차원 검출기 유닛들이, 열들(44; 61) 및 더미들(45; 63) 상태로 착석되어 있어, 상기 열들이 상기 1차원 검출기 유닛들과 평행하고 상기 더미들이 상기 검출기 유닛들에 직교하며, 각각의 열에 있는 1차원 검출기 유닛들이 함께 1차원에서 상기 대상물을 완벽하게 검출할 수 있으며;
    - 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 반복적으로 검출하게 배열되어, 상기 대상물에 대한 2차원 이미지를 생성하는 동안, 상기 대상물과 관련된 1차원 검출기 유닛들의 상기 2차원 열을 상기 검출기 유닛 더미들과 평행한 방향으로, 상기 검출기 유닛 더미들에 있는 두개의 인접한 1차원 검출기 유닛들 사이의 거리(s1)에 적어도 상응하는 거리만큼 이동시키는 장치(87 내지 89, 91)를 상기 스캐닝에 근거를 둔 검출기 배열부가 포함하며,
    여기에서
    - 각각의 열(44; 61)의 상기 1차원 검출 유닛들이, 열의 방향에서 인접한 1차원 검출기 유닛들 간의 중첩부(x1, x2)를 갖는 상태에서 파형으로 배열되어 있으며; 그리고,
    - 평행한 1차원 검출기 유닛들의 상기 2차원 열은, 전리 방사선의 상기 복수의 평면 광선 구룹들의 방사 방향에 수직한 평면에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  2. 제 1 항에 있어서,
    - 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들(41) 각각이 전리 방사선의 평면 광선 구룹(1)을 통과시켜 들어가게 할 수 있는 도입 슬릿(43)을 포함하고 있으며, 그리고,
    - 상기 1차원 검출기 유닛들의 열들(44; 61)이, 상기 1차원 검출기 유닛들의 도입 슬릿(43)에 평행하고, 상기 더미들이 상기 도입 슬릿에 수직인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들이 공통 지지 구조물(42) 위에 2차원 열로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 열 방향에 있는 인접한 1차원 검출기 유닛들 간의 상기 중첩부(x1, x2)는 적어도 0.1mm 인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 열 방향에 있는 인접한 1차원 검출기 유닛들 간의 상기 중첩부(x1, x2)가, 상기 진찰 대상물을 가로지르는 스트립들로부터 더블 측정값을 얻기 위하여 2내지 10mm인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 더미들의 각각의 상기 1차원 검출기 유닛들이, 상기 더미들 중 인접한 더미의 검출기 유닛들과 모서리 겹침으로 위치결정되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은 통상의 입사시에 상기 평면 광선 구룹들이 상기 각각의 검출기 유닛들에 방사될 수 있도록 방향 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은, 방사선 광자들 및 가스 간에 상호 작용에 의하여 방출된 전자들이, 상기 1차원 검출기 유닛 내로 들어온 상기 각각의 광선 그룹들에 수직인 방향에서 추출될 수 있게한, 가스에 근거를 둔 전리 방사선 검출기인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각은, 이온화 가능 가스를 사이에 배열시킬 수 있게 평면 캐소드 배열부(3) 및 애노드 배열부(5)를 포함하고 있으며, 또한, 상기 검출기 유닛의 상기 도입 슬릿과 평행하게 배열된 개별의 판독 소자들의 1차원 열을 포함하는 판독 배열부(5)를 더 포함하되, 상기 광 그룹이, 상기 이온화 가능 가스를 이온화시키는 상기 캐소드 배열부와 애노드 배열부 사이에, 그리고 상기 캐소드 배열부 및 애노드 배열부와 평행하게 되어 있는 상기 검출기 측통로에 들어갈 수 있게, 상기 캐소드 및 애노드가 방향설정되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각은, 전자 애벌런치 증폭기를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들은, 이온화에 적합한 가스 또는 가스 혼합물로 채워질 수 있는 기밀 구획부(19)를 상기 캐소드 배열부(3) 및 애노드 배열부(5)와 함께 구획형성하는 도입창(9) 및 측벽들(15, 16, 17)을 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  12. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    이온화에 적합한 가스 또는 가스 혼합물로 채워질 수 있는 공통 기밀 구획부로서, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각을 둘러싸도는 상기 공통 기밀 구획부를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  13. 제 12 항에 있어서,
    1차원 열의 개별의 판독 소자들(23) 및 상기 1차원 검출기 유닛들(41) 각각의 도입 슬릿(43)들이, 상기 일차원 검출기의 전체 폭을 가로질러 뻗어있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 열(44; 61)에 있는 1차원 검출기 유닛들의 수는 적어도 2이며, 바람직하게는 4 내지 10 인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 하나의 상기 배열부에 있어서,
    각각의 더미(45; 63)에 있는 1차원 검출기 유닛들의 수는 10 내지 200 이며, 바람직하게는 40 내지 100 인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  16. 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각의 도입 슬릿의 폭이 500 ㎛ 보다 작으며, 바람직하게는 100㎛ 보다 작고, 더 바람직하게는 약 50㎛ 이거나 이보다 더 작은 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  17. 제 9 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각의 상기 검출 소자들 각각의 폭이, 500㎛ 보다 작으며, 바람직하게는 100㎛ 보다 작고, 더 바람직하게는 50㎛ 이거나 더 작은 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  18. 제 9 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 1차원 검출기 유닛들 각각의 판독 소자들의 수가 적어도 10이며, 더 바람직하게는 적어도 100인 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선검출기 배열부.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 더미에 있는 1차원 검출기 유닛들이 약 10mm 보다 작게, 바람직하게는 약 1 내지 10mm 에서, 가장 바람직하게는 약 5mm 에서 떨어져 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 대상물과 관련된 1차원 검출기 유닛들의 상기 2차원 열을 상기 검출 소자 더미들과 평행한 방향으로 이동시키는 상기 장치(87 내지 89, 91)는, 상기 검출기 유닛 더미들에 있는 두개의 인접한 1차원 검출기 유닛들 사이의 거리(s1)의 적어도 약 두배에 상응하는 거리만큼 이동하기에 적합화되어, 상기 복수의 1차원 검출기 유닛들의 개별 판독 소자들이 손상되거나 또는 작동 불능이 되더라도, 완벽한 2차원 이미지를 생성할 수 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,
    열들(53) 및 더미들(54)로 배열되어 있는 복수의 방사선 통과 슬릿들(52)을 포함하는, 방사선 흡수 물질의 상류 시준기를 포함하되, 상기 방사선 통과 슬릿들의 수가 상기 1차원 검출기 유닛들 수에 상응하며, 여기에서 상기 방사선 통과 슬릿들은, 평면 광선 그룹들이 상기 상류 시준기의 방사선 통과 슬릿들을 통과됨에 따라 각각의 1차원 검출기 유닛들을 조사하게 상기 1차원 검출기 유닛들과 정렬 맞춤되어 있으며, 그리고 상기 이동시키는 장치(87 내지 89, 91)는, 상기 방사선 통과 슬릿들 및 상기 1차원 검출기 유닛들의 정렬 맞춤이 상기 이동 중에 유지 되는 동안, 상기 대상물과 관련된 1차원 검출기 유닛들의 2차원 열을 이동시키도록 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 평면 광선 구룹들을 생산하는 X-선 소스(81)를 포함하며, 여기에서 상기 X-선 소스(81), 상기 상류 시준기(51) 및 상기 검출기 배열부들이 공통의 강성 암(87)에 견고하게 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    1차원 검출기 유닛들의 상기 2차원 열이 정지된채 유지되는 동안에, 상기 이동시키는 장치(87 내지 89, 91)는 상기 대상물을 이동시키게 적합화되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  24. 제 21 항 또는 제 22 항에 있어서,
    측정될 대상물을 수용하기 위해 1차원 검출기 유닛들의 상기 2차원 열과 상기 상류 시준기 사이에 일정 공간을 포함하며, 이 공간을 통하여 상기 평면 광선 구룹들이 상기 각각의 1차원 검출기 유닛들에 방사되기 전에 통과되는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  25. 제 24 항에 있어서,
    유방암 진찰에 이용하기에 적합하며, 그리고 상부 압박 플레이트(84) 및 하부 압박 플레이트(85)를, 이미지화될 대상물인 환자의 가슴을 압박할 수 있게 포함하는데, 여기에서, 움직임(47)이 상기 환자의 가슴 벽에 평행하거나 또는 수직하게, 상기 환자는 상기 이동시키는 장치에 대하여 방향 설정되어 배열된 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
  26. 제 24 항 또는 제 25 항에 있어서,
    진찰될 대상물을 수용하는 상기 공간의 상류에 배열되어 있는, 제어 가능한 가변 조리개를 갖는 차폐 장치(64)를 포함하되, 상기 차폐 장치의 상기 가변 조리개는, 상기 대상물의 외형에 대한 신속한 측정으로부터 결정됨에 따라 상기 대상물을 통과하지 못하는 방사선을 차단하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 스캐닝에 근거를 둔 방사선 검출기 배열부.
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