KR20040079728A - Cutting apparatus and mathod for semiconductor package - Google Patents

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KR20040079728A
KR20040079728A KR1020030014751A KR20030014751A KR20040079728A KR 20040079728 A KR20040079728 A KR 20040079728A KR 1020030014751 A KR1020030014751 A KR 1020030014751A KR 20030014751 A KR20030014751 A KR 20030014751A KR 20040079728 A KR20040079728 A KR 20040079728A
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Abstract

PURPOSE: An apparatus and a method for cutting a semiconductor package are provided to cut easily a resin-molded assembly of the semiconductor package by using a water jet method. CONSTITUTION: An X-axis transfer table is moved to an X-axis. The first and the second chuck tables(16,17) are rotatably installed at the X-axis transfer table. The first and the second rotary drivers(22,23) are installed at the X-axis transfer table. The first and the second vacuum chucks are installed at the first and the second chuck tables. A water jet nozzle unit(20) injects water by using a water jet method. The first Y-axis unit(12) transfers the water jet nozzle unit to the Y-axis. The first Z-axis unit(14) elevates the first Y-axis unit. A pickup plate(18) is used for absorbing and elevating targets on the first and the second vacuum chucks. The second Y-axis unit transfers the pickup plate to the Y-axis. The second Z-axis unit(15) elevates the second Y-axis unit. A vision unit(19) is installed at one side of the first Y-axis unit. The third Z-axis unit is fixed to one side of the first Y-axis unit. An upper tank and a lower tank are used for storing the water injected from the water jet nozzle unit.

Description

반도체 팩키지의 절단 장치 및, 방법{Cutting apparatus and mathod for semiconductor package}Cutting device and method for semiconductor package {Cutting apparatus and mathod for semiconductor package}

본 발명은 반도체 팩키지 절단 장치 및, 절단 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 매트릭스 타입의 리이드 프레임 스트립에 반도체 칩을 장착하여 수지 몰딩된 반도체 팩키지를 개별의 단위 반도체 팩키지로 절단하기 위한 방법 및, 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package cutting device and a cutting method, and more particularly, a method and apparatus for cutting a resin molded semiconductor package into individual unit semiconductor packages by mounting a semiconductor chip on a matrix type lead frame strip. It is about.

매트릭스 타입의 리이드 프레임 스트립은 복수개의 단위 리이드 프레임이 댐바를 통해서 상호 연결되어 있다. 이러한 리이드 프레임 스트립은 반도체 칩의 장착, 와이어 본딩 및, 수지 몰딩 공정을 거치는 동안에 절단되지 않고 일체로 유지됨으로써 작업 생산성을 향상시킬 수 있다. 수지 몰딩 공정이 종료된 후에는 단위 반도체 팩키지들이 일체로 형성된 수지 몰딩의 단일체내에 감싸여진 상태가 되므로, 수지 몰딩과 그 안에 매립된 리이드 프레임 스트립을 함께 절단함으로써 개별의 반도체 팩키지로 분리시켜야만 한다. 즉, 단위 리이드 프레임을 상호 연결하는 댐바 부분을 따라서 몰딩과 댐바를 같이 절단함으로써 일체로 형성된 수지 몰딩이 개별의 반도체 팩키지로 분리될 수 있는 것이다. 이러한 작업은 소위 다이싱(dicing) 또는 소우잉(sawing) 작업으로 불리운다.In the matrix type lead frame strip, a plurality of unit lead frames are interconnected through a dam bar. Such lead frame strips can be maintained integrally without being cut during the mounting, wire bonding, and resin molding processes of the semiconductor chip, thereby improving work productivity. After the resin molding process is completed, the unit semiconductor packages are wrapped in a single body of the resin molding which is integrally formed. Therefore, the resin molding and the lead frame strip embedded therein must be cut together to be separated into individual semiconductor packages. That is, the resin molding formed integrally by cutting the molding and the dambar together along the dambar portion interconnecting the unit lead frames can be separated into individual semiconductor packages. This operation is called a dicing or sawing operation.

다이싱, 또는 소우잉 작업을 수행하는 방식으로서 현재 가장 널리 사용되는 것은 블레이드 방식과 레이저 방식을 들 수 있다. 블레이드 방식은 다이아몬드로 형성된 절단 공구를 사용하는 방식이며, 레이저 방식은 레이저를 이용하여 수지 몰딩과 댐바를 절단하는 방식이다.The most widely used methods for performing dicing or sowing operations are the blade method and the laser method. The blade method is a method using a cutting tool formed of diamond, the laser method is a method of cutting the resin molding and the dam bar using a laser.

블레이드 방식과 레이저 방식의 최대 장점은 절단시에 절단 깊이를 조절할 수 있다는 것이며, 그에 따라서 피절단물을 취급하고 절단 위치를 설정하는 필요한 관련 장치들이 단순화될 수 있다는 것이다. 보다 구체적으로, 피절단물에 해당하는 리이드 프레임 스트립의 수지 몰딩된 단일체는 회전 가능한 진공 척에 고정된 상태로 제 1 방향에서 절단이 수행되며, 다음에 진공 척을 회전시켜서 제 2 방향에서 절단이 수행될 수 있다. 이때 절단 깊이가 조절될 수 있으므로, 절단시에 피절단물을 지지하고 있는 진공 척이 절단 공구에 의해서 손상될 가능성은 배제될 수 있다.The greatest advantage of the blade method and the laser method is that the cutting depth can be adjusted at the time of cutting, thereby simplifying the necessary related devices for handling the cut and setting the cutting position. More specifically, the resin molded unitary of the lead frame strip corresponding to the cutting object is cut in the first direction while being fixed to the rotatable vacuum chuck, and then the vacuum chuck is rotated to cut the cut in the second direction. Can be performed. Since the cutting depth can be adjusted at this time, the possibility that the vacuum chuck holding the cutting object at the time of cutting is damaged by the cutting tool can be excluded.

위와 같은 장점에도 불구하고 블레이드 방식과 레이저 방식의 절단 작업이 가지는 가장 큰 문제점은 절단 작업에서 많은 열이 발생한다는 것이다. 즉, 블레이드 방식에서는 다이아몬드 공구와 수지 몰딩이 직접적으로 접촉하여야 하므로 마찰열이 과다하게 발생되며, 레이저 방식에 있어서도 수지 몰딩이나 댐바를 레이저로 연소시키는 과정에서 열이 발생한다는 문제점이 있다. 이와 같이 발생된 열은 수지 몰딩내에 매립된 반도체 칩에 직접적이고 부정적인 영향을 미친다는 문제점이 있다. 따라서 이러한 문제점을 해결하기 위하여 한편으로는 열을 발생시키는 절단 작업을 진행하면서 다른 한편으로는 절단 작업시에 발생하는 열을 냉각시키기 위한 장치를 별도로 구비하여야만 한다. 예를 들면 냉각수를 절단 작업 부위에 순환시키게 된다. 그러나 냉각수 순환 방식은 열에 의한 문제를 해결하기에는 미흡한 방식이다.Despite the above advantages, the biggest problem of the blade and laser cutting is that a lot of heat is generated in the cutting. That is, in the blade method, since the diamond tool and the resin molding have to be in direct contact, friction heat is excessively generated, and there is a problem in that the heat is generated in the process of burning the resin molding or the dam bar with the laser. The heat generated as described above has a problem of directly and negatively affecting the semiconductor chip embedded in the resin molding. Therefore, in order to solve this problem, on the one hand, while performing a cutting operation to generate heat, on the other hand, a device for cooling the heat generated during the cutting operation must be provided separately. For example, coolant is circulated to the cutting work site. However, the cooling water circulation method is insufficient to solve the heat problem.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 개선된 반도체 팩키지 절단 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide an improved semiconductor package cutting device.

본 발명의 다른 목적은 워터젯(water-jet) 방식의 반도체 팩키지 절단 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a water-jet type semiconductor package cutting device.

본 발명의 다른 목적은 개선된 반도체 팩키지 절단 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an improved method for cutting semiconductor packages.

도 1 에 도시된 것은 본 발명에 따른 반도체 팩키지 절단 장치의 전체적인 사시도이다.1 is an overall perspective view of a semiconductor package cutting device according to the present invention.

도 2a 및, 도 2b 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 제 1 진공 척과 제 2 진공 척에 대한 개략적인 사시도이다.2A and 2B are schematic perspective views of the first and second vacuum chucks shown in FIG. 1.

도 2c 에 도시된 것은 절단된 상태의 반도체 팩지를 개략적으로 도시한 것이다.2c schematically illustrates the semiconductor package in a cut state.

도 3 에 도시된 것은 제 1 및, 제 2 의 척 테이블의 회전 메카니즘을 개략적으로 도시한 설명도이다.3 is an explanatory view schematically showing the rotation mechanism of the first and second chuck tables.

도 4 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치(20)에 구비되는 개별의 노즐에 대한 개략적인 구성도이다.4 is a schematic configuration diagram of individual nozzles provided in the water jet nozzle apparatus 20 shown in FIG. 1.

도 5a 및, 도 5b 에 도시된 것은 도 4 에서 A-A 로 표시된 선을 따라서 절단된 단면도이다.5A and 5B are cross-sectional views taken along the line A-A in FIG. 4.

도 6 에 도시된 것은 도 1 에서 상부 탱크 내장 프레임(2)과 하부 탱크 내장 프레임(2)내에 설치되는 상부 탱크 및, 하부 탱크에 대한 개략적인 사시도이다.6 is a schematic perspective view of the upper tank and the lower tank installed in the upper tank inner frame 2 and the lower tank inner frame 2 in FIG. 1.

도 7 에 도시된 것은 상부 탱크의 단면도를 개략적으로 도시한 것이다.Shown in FIG. 7 schematically shows a cross-sectional view of the upper tank.

도 8 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치, 비젼 장치 및, X 축 이송 테이블상에 놓인 피절단물을 개략적으로 도시한 설명도이다.FIG. 8 is an explanatory view schematically showing the water jet nozzle device, the vision device, and the cut object placed on the X-axis transfer table shown in FIG.

도 9 에 도시된 것은 피절단물의 평면도를 도시한 것이다.9 shows a plan view of the cutting object.

도 10 은 센서에서 발생되는 신호로 경보음을 발생시키는 과정을 순서도로 나타낸 것이다.10 is a flowchart illustrating a process of generating an alarm sound with a signal generated from a sensor.

도 11 은 센서에서 검출되는 신호를 해석하기 위한 그래프이다.11 is a graph for analyzing a signal detected by a sensor.

도 12 에 도시된 것은 본 발명에 따른 장치에서 각 단계의 작업이 이루어지는 위치를 나타내는 사시도이다.Shown in Figure 12 is a perspective view showing the position at which the work of each step is performed in the device according to the invention.

< 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 ><Brief Description of Major Codes in Drawings>

11. X 축 이송 테이블 12. 제 1 의 Y 축 장치11. X axis feed table 12. First Y axis device

13. 제 2 의 Y 축 장치 14. 제 1 의 Z 축 장치13. Second Y-axis device 14. First Z-axis device

16. 제 1 의 척 테이블 17. 제 2 의 척 테이블16. The first chuck table 17. The second chuck table

18. 픽업 플레이트 19. 비젼 장치18. Pickup plate 19. Vision device

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, X 축 방향으로 왕복 이송가능한 X 축 이송 테이블; 상기 X 축 이송 테이블에 회전 가능하게 설치된 제 1 및, 제 2 척 테이블; 상기 제 1 및, 제 2 척 테이블의 회전을 위해 상기 X 축 이송 테이블에 각각 설치된 제 1 및, 제 2 회전 구동부; 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블에 설치되어 피절단물인 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체를 진공 흡착하는 제 1 및, 제 2 진공 척; 상기 피절단물에 워터 제트(water jet)를 분사시키는 워터 제트 노즐 장치; 상기 워터 제트 노즐 장치를 Y 축 방향 이송시키는 제 1 의 Y 축 장치; 상기 제 1 의 Y 축 장치를 승강시킬 수 있는 제 1 의 Z 축 장치; 상기 제 1 또는 제 2 진공 척상의 피절단물을 흡착하여 승강시키는 픽업 플레이트; 상기 픽업 플레이트를 Y 축 방향 이송시킬 수 있는 제 2 의 Y 축 장치; 상기 제 2 의 Y 축 장치를 승강시킬 수 있는 제 2 의 Z 축 장치; 상기 제 1 의 Y 축 장치의 일측에 승강 가능하게 설치된 비젼 장치; 상기 비젼 장치를 승강시키도록 상기 제 1 Y 축 장치의 일측에 고정된 제 3 의 Z 축 장치; 상기 워터 제트 노즐 장치로부터 분사된 워터 제트를 수용하는 상부 및, 하부 탱크;를 구비하는 반도체 팩키지의 절단 장치가 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, the X axis transfer table capable of reciprocating in the X-axis direction; First and second chuck tables rotatably mounted to the X axis transfer table; First and second rotational driving units respectively installed on the X-axis transfer table for rotation of the first and second chuck tables; First and second vacuum chucks installed on the first and second chuck tables to vacuum-adsorb a resin molded aggregate of a semiconductor package as a to-be-cut object; A water jet nozzle device for spraying a water jet on the cutting object; A first Y axis device for feeding the water jet nozzle device in a Y axis direction; A first Z axis device capable of elevating the first Y axis device; A pickup plate for absorbing and elevating the cutting object on the first or second vacuum chuck; A second Y axis device capable of conveying the pickup plate in the Y axis direction; A second Z axis device capable of elevating the second Y axis device; A vision device mounted on one side of the first Y-axis device in a liftable manner; A third Z-axis device fixed to one side of the first Y-axis device to lift and lower the vision device; Provided is a cutting device for a semiconductor package including an upper and a lower tank for receiving a water jet ejected from the water jet nozzle apparatus.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 제 1 진공 척에는 그것을 관통하는 복수개의 평행한 슬릿이 형성되고, 상기 제 2 진공 척에는 그것을 관통하며 상기 제 1 진공 척상의 슬릿과 직교하는 방향에서 연장된 복수개의 평행한 슬릿이 형성된다.According to one aspect of the invention, the first vacuum chuck is formed with a plurality of parallel slits penetrating it, the second vacuum chuck penetrates it and extends in a direction orthogonal to the slit on the first vacuum chuck. Parallel slits are formed.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블은 각각 상기 제 1 및, 제 2 진공척의 가장자리만을 지지하며, 각각에 관통부가 형성되어 워터 제트가 하방향으로 배출될 수 있다.According to another feature of the present invention, the first and second chuck tables support only the edges of the first and second vacuum chucks, respectively, and penetrating portions are formed in each so that the water jet can be discharged downward. .

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 워터 제트 노즐 장치에는 복수개의 노즐이 구비되며, 고정된 하나의 기준 노즐을 제외하고 서로에 대한 간격이 조절 가능하다.According to another feature of the invention, the water jet nozzle apparatus is provided with a plurality of nozzles, the distance to each other can be adjusted except one fixed reference nozzle.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 워터 제트 노즐 장치에 구비되는 각 노즐의 단부에는, 내측에 유로가 형성되고 가장자리에 배출구가 형성된 덮개, 상기 덮개의 가장자리로부터 연장되는 브러쉬 및, 상기 유로에 연결된 물 공급용 호스가 구비되며, 상기 유로를 통해 공급되는 물이 상기 브러쉬 사이에서 물의 커튼(curtain)을 형성한다.According to another feature of the invention, the end of each nozzle provided in the water jet nozzle device, the cover is formed on the inside and the discharge port is formed on the edge, the brush extending from the edge of the cover, and the water connected to the flow path A supply hose is provided, and water supplied through the flow path forms a curtain of water between the brushes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 덮개에 형성된 배출구는 다수의 분배공의 형상을 가진다.According to another feature of the invention, the outlet formed in the cover has the shape of a plurality of distribution holes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 덮개에 형성된 배출구는 슬릿의 형상을 가진다.According to another feature of the invention, the outlet formed in the cover has the shape of a slit.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블에는 상기 워터 제트에 의한 하중 또는 진동의 변화를 감지할 수 있는 센서가 내장된다.According to another feature of the invention, the first and the second chuck table has a sensor that can detect a change in the load or vibration caused by the water jet.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제 1 및, 제 2 의 진공 척에는 상기 워터 제트에 의한 하중 또는 진동의 변화를 감지할 수 있는 센서가 내장된다.According to another feature of the invention, the first and the second vacuum chuck has a sensor that can detect a change in the load or vibration caused by the water jet.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 센서는 하중 검지 센서 또는 가속도계이다.According to another feature of the invention, the sensor is a load detection sensor or an accelerometer.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 상부 탱크의 상부면에는 물 유입 슬릿을 그 사이에 형성하는 경사면이 구비되고, 상기 물 유입 슬릿은 상기 워터 제트노즐 장치의 직하부에 위치한다.According to another feature of the invention, the upper surface of the upper tank is provided with an inclined surface to form a water inlet slit therebetween, the water inlet slit is located directly below the water jet nozzle apparatus.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 상부 탱크에 형성된 물 유입 슬릿을 형성하는 경사면의 단부로부터 브러쉬가 연장된다.According to another feature of the invention, the brush extends from an end of the inclined surface forming the water inlet slit formed in the upper tank.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 제 1 방향으로 평행한 다수의 관통 슬릿을 구비하는 제 1 진공 척에 피절단물인 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체를 진공 흡착시키는 단계; 상기 제 1 진공 척상의 피절단물을 비젼 장치를 통해 촬상함으로써 제 1 의 위치 정보를 획득하는 단계; 상기 피절단물의 제 1 의 위치 정보를 미리 입력된 기준 정보와 비교함으로써 평면 좌표계상에서의 상기 제 1 진공 척의 위치 오차를 보정하는 단계; 워터 제트 노즐 장치로부터 분사되는 워터 제트를 상기 제 1 진공 척에 형성된 관통 슬릿을 따라 분사함으로써 제 1 진공 척상의 피절단물을 절단하는 제 1 절단 단계; 상기 제 2 진공 척상의 일부 절단된 피절단물을 상기 제 1 방향에 직각인, 평행한 다수의 관통 슬릿을 구비하는 제 2 진공 척상으로 이동시키는 단계; 상기 제 2 진공 척상의 피절단물을 비젼 장치를 통해 촬상함으로써 제 2 위치 정보를 획득하는 단계; 상기 피절단물의 제 2 의 위치 정보를 미리 입력된 기준 정보와 비교함으로써 평면 좌표계상에서의 상기 제 2 진공 척의 위치 오차를 보정하는 단계; 및, 워터 제트 노즐 장치로부터 분사되는 워터 제트를 상기 제 2 진공 척에 형성된 관통 슬릿을 따라 분사함으로써 제 2 진공 척상의 피절단물을 절단하는 제 2 절단 단계;를 구비하는 반도체 팩키지의 절단 방법이 제공된다.According to another feature of the invention, the step of vacuum-adsorbing a resin molded aggregate of the semiconductor package to be cut to a first vacuum chuck having a plurality of through slits parallel to the first direction; Acquiring first positional information by imaging the cut object on the first vacuum chuck through a vision device; Correcting a position error of the first vacuum chuck on a plane coordinate system by comparing first position information of the cut object with previously input reference information; A first cutting step of cutting the cutting object on the first vacuum chuck by spraying the water jet sprayed from the water jet nozzle apparatus along the through slit formed in the first vacuum chuck; Moving the partially cut workpiece on the second vacuum chuck onto a second vacuum chuck having a plurality of parallel through slits perpendicular to the first direction; Acquiring second position information by imaging the cut object on the second vacuum chuck through a vision device; Correcting a position error of the second vacuum chuck on a plane coordinate system by comparing the second position information of the cut object with previously input reference information; And a second cutting step of cutting the cut object on the second vacuum chuck by spraying the water jet sprayed from the water jet nozzle apparatus along the through slit formed in the second vacuum chuck. Is provided.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제 1 및, 제 2 절단 단계에서 상기 워터 제트에 의해서 가해지는 하중 또는 진동을 센서를 통하여 검지함으로써, 검지된신호가 쓰레숄드 레벨을 초과할 경우 경보를 발생시키도록 한다.According to another feature of the invention, by detecting the load or vibration applied by the water jet in the first and second cutting step through the sensor, an alarm is generated when the detected signal exceeds the threshold level. To do that.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제 1 및, 제 2 위치 정보를 획득하는 단계는 상기 피절단물의 소정 위치에 형성된 정렬 마크를 인식함으로써 이루어진다.According to another feature of the invention, the step of acquiring the first and second position information is made by recognizing an alignment mark formed at a predetermined position of the cut object.

이하 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment shown in the accompanying drawings.

도 1 에 도시된 것은 본 발명에 따른 반도체 팩키지 절단 장치의 전체적인 사시도이다.1 is an overall perspective view of a semiconductor package cutting device according to the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 팩키지 절단 장치는 X 축 방향으로 왕복 이송 가능한 X 축 이송 테이블(11)과; 상기 X 축 이송 테이블(11)상에 회전 가능하게 설치된 제 1 의 척 테이블(16) 및, 제 2 의 척 테이블(17)과; 상기 제 1 의 척 테이블(16)을 회전 구동하도록 상기 X 축 이송 테이블(11)에 설치된 제 1 의 회전 구동부(22) 및, 상기 제 2 의 척 테이블(23)을 회전 구동하도록 상기 X 축 이송 테이블(11)에 설치된 제 2 회전 구동부(23)와; 상기 제 1 의 척 테이블(16)에 설치되어 피절단물을 진공 흡착하는 제 1 진공 척(25a, 도 2a) 및, 상기 제 2 의 척 테이블(17)에 설치되어 피절단물을 진공 흡착하는 제 2 진공 척(25b, 도 2b)과; 상기 제 1 진공 척(25a) 또는 상기 제 2 진공 척(25b)상에 진공 흡착된 피절단물에 워터 제트(water jet)를 분사시키는 워터 제트 노즐 장치(20)와, 상기 워터 제트 노즐 장치(20)를 Y 축 방향으로 왕복 이송시킬 수 있는 제 1 의 Y 축 장치(12)와, 상기 제 1 의 Y 축 장치(12)의 일측에 승강 가능하게 설치된 비젼 장치(19)와, 상기 제 1 의 Y 축 장치(12)를 승강시킬 수 있도록 제 1 의 Y 축 장치(12)에 설치된 제 1 의 Z 축 장치(14)와, 상기 제 1 진공 척(25a)과 제 2 진공 척(25b) 사이에서 피절단물을 진공 흡착하여 상호 교환시킬 수 있는 픽업 플레이트(18)와, 상기 픽업 플레이트(18)를 Y 축 방향으로 왕복 이송시킬 수 있는 제 2 의 Y 축 장치(13)와, 상기 제 2 의 Y 축 장치(13)를 승강시킬 수 있는 제 2 의 Z 축 장치(15)와, 상기 비젼 장치(19)를 승강시키도록 상기 제 1 Y 축 장치의 일측에 고정된 제 3 의 Z 축 장치(13)와, 상기 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사된 워터 제트를 수용하는 상하부 탱크가 내장된 상부 탱크 내장 프레임(1) 및, 하부 탱크 내장 프레임(2)을 구비한다.Referring to the drawings, a semiconductor package cutting device according to the present invention includes an X-axis transfer table 11 capable of reciprocating in the X-axis direction; A first chuck table (16) and a second chuck table (17) rotatably mounted on the X-axis feed table (11); The first X-axis feeder to rotate the first chuck table 16 and the second chuck table 23 to the second chuck table 23 so as to rotationally drive the first chuck table 16. A second rotary drive unit 23 provided on the table 11; A first vacuum chuck 25a (FIG. 2A) installed on the first chuck table 16 to vacuum-adsorb the to-be-cut object, and a second vacuum chuck table 17 mounted on the second chuck table 17 to vacuum-adsorb the to-be-cut object A second vacuum chuck 25b (FIG. 2B); A water jet nozzle apparatus 20 for injecting a water jet onto the to-be-cut object to be vacuum-adsorbed onto the first vacuum chuck 25a or the second vacuum chuck 25b, and the water jet nozzle apparatus ( A first Y-axis device 12 capable of reciprocating the 20 in the Y-axis direction, a vision device 19 provided on one side of the first Y-axis device 12 in a liftable manner, and the first A first Z-axis device 14 provided in the first Y-axis device 12, the first vacuum chuck 25a, and the second vacuum chuck 25b to lift and lower the Y-axis device 12 of the device. A pick-up plate 18 capable of vacuum-suctioning and exchanging the to-be-cut objects between them, a second Y-axis device 13 capable of reciprocating the pick-up plate 18 in the Y-axis direction, and the first A second Z-axis device 15 capable of lifting and lowering the second Y-axis device 13, and one side of the first Y-axis device to lift and lower the vision device 19. The upper tank inner frame (1) and the lower tank inner frame (2) in which the third Z-axis apparatus (13), the upper and lower tanks for receiving the water jets ejected from the water jet nozzle apparatus (20), are incorporated. Equipped.

도면 번호 25 로 표시된 것은 제 1 척 테이블(16) 또는 제 2 척 테이블(17)상에 설치될 수 있는 진공 척을 나타낸 것이며, 상기 진공 척(25)에 형성된 공간 의 내측에는 피절단물(26)이 배치된다. 피절단물(26)은 예를 들면 리이드 프레임 스트립상에 복수개의 반도체 팩키지를 장착하여 단일체로서 수지 몰딩된 것일 수 있다.Reference numeral 25 denotes a vacuum chuck that can be installed on the first chuck table 16 or the second chuck table 17, and the cut object 26 is formed inside the space formed in the vacuum chuck 25. ) Is placed. The cut object 26 may be, for example, resin molded as a single body by mounting a plurality of semiconductor packages on a lead frame strip.

워터 제트 노즐 장치(20)는 도면에 도시된 예에서 4 개의 노즐로 이루어진 것을 알 수 있다. 워터 제트 노즐 장치(20)는 제 1 의 Y 축 장치(12)에 의해서 Y 축 방향으로 이송 가능하며, 제 1 의 Y 축 장치(12)의 일측에 배치된 제 1 의 Z 축 장치(14)에 의해서 수직 방향으로 승강 가능하다. 워터 제트 노즐 장치(20)의 Y 축 방향 이송은 피절단물인 반도체 팩키지의 집합체를 Y 축 방향으로 절단시키는 작업이 가능하게 한다. 워터 제트 노즐 장치(20)에 의해서 절단 작업이 수행될때는 제1 의 Z 축 장치(14)에 의해서 워터 제트 노즐 장치(20)가 하강하게 되며, 그렇지 않을때는 상승한다. 제 1 의 Z 축 장치(14)는 공지된 바와 같이 예를 들면 승강 실린더, 또는 모터와 볼스크류로 이루어지는 메카니즘에 의해서 구현될 수 있다. 또한 워터 제트 노즐 장치(20)에 구비된 개별 노즐 사이의 간격들도 제어 가능하게 설치될 수 있다. 이때 다수의 노즐들중 하나는 기준 노즐로서 제 1 의 Y 축(12)에 대하여 고정된 상태이며, 나머지의 다른 노즐들은 서로에 대한 간격을 조절할 수 있도록 이동 가능하게 설치된다.It can be seen that the water jet nozzle apparatus 20 consists of four nozzles in the example shown in the figure. The water jet nozzle device 20 is transferable in the Y axis direction by the first Y axis device 12, and the first Z axis device 14 disposed on one side of the first Y axis device 12. It can move up and down in the vertical direction. The Y-axis conveyance of the water jet nozzle apparatus 20 enables the operation | work which cut | disconnects the aggregate | assembly of the to-be-processed semiconductor package to a Y-axis direction. When the cutting operation is performed by the water jet nozzle apparatus 20, the water jet nozzle apparatus 20 is lowered by the first Z-axis apparatus 14, otherwise it is raised. The first Z-axis device 14 can be implemented, for example, by a lifting cylinder, or a mechanism consisting of a motor and a ball screw, as is known. In addition, the distances between the individual nozzles provided in the water jet nozzle apparatus 20 may be installed to be controllable. At this time, one of the plurality of nozzles is fixed with respect to the first Y axis 12 as a reference nozzle, and the other nozzles are movably installed to adjust the distance to each other.

워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사되는 워터 제트는 수지 몰딩된 단위 반도체 팩키지의 집합체를 상호 분리된 단위 반도체 팩키지로 절단할 수 있다. 즉, 물과 미세 연마제를 혼합시킨 것을 고압으로 분사함으로써 수지 몰딩된 반도체 팩키지의 집합체를 절단하는 것이다.The water jet ejected from the water jet nozzle apparatus 20 can cut the aggregate of the resin molded unit semiconductor packages into unit semiconductor packages separated from each other. That is, the aggregate of the resin-molded semiconductor package is cut | disconnected by spraying the mixture of water and a fine abrasive at high pressure.

X 축 이송 테이블(11)은 제 1 척 테이블(16)과 제 2 척 테이블(17)이 그 상부에 설치되며, 상부 탱크 내장 프레임(1)의 위에서 X 축 방향으로 이동 가능하게 설치된다. X 축 이송 테이블(11)의 이송은 당해 기술 분야에서 공지된 바와 같은 방식으로 다양하게 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상부 탱크 내장 프레임(1)의 상부에 레일 가이드를 설치하고, 볼 스크류와 구동 모터를 이용하여 이송시킬 수 있다. 다른 예에서는 구동 모터에 의해 주행하는 벨트와 풀리를 이용하여 X 축 이송 테이블(11)을 임의의 위치로 이송할 수 있다.As for the X-axis feed table 11, the 1st chuck table 16 and the 2nd chuck table 17 are installed in the upper part, and it is installed so that a movement to an X-axis direction is possible from the upper tank built-in frame 1. As shown in FIG. The transfer of the X-axis transfer table 11 can vary in a manner as is known in the art. For example, a rail guide can be provided in the upper part of the upper tank built-in frame 1, and can be transferred using a ball screw and a drive motor. In another example, the X-axis transfer table 11 can be moved to an arbitrary position by using a belt and a pulley running by the drive motor.

X 축 이송 테이블(11)상에는 제 1 척 테이블(16)과 제 2 척 테이블(17)이 회전 가능하게 설치된다. 제 1 척 테이블(16)과 제 2 척 테이블(17)의 회전은 그 위에 배치된 제 1 진공 척(25a) 또는 제 2 진공 척(25b)의 정렬을 위해서 이루어진다. 제 1 척 테이블(16)의 회전 구동은 X 축 이송 테이블(11)의 일측에 설치된 제 1 회전 구동부(22)에 의해서 이루어지고, 제 2 척 테이블(17)의 회전 구동은 X 축 이송 테이블(11)의 일측에 설치된 제 2 회전 구동부(23)에 의해서 이루어질 수 있다. 제 1 및, 제 2 척 테이블(16,17)의 회전 구동 방식은 다양한 방식으로 이루어질 수 있다.The first chuck table 16 and the second chuck table 17 are rotatably provided on the X-axis feed table 11. The rotation of the first chuck table 16 and the second chuck table 17 is made for the alignment of the first vacuum chuck 25a or the second vacuum chuck 25b disposed thereon. The rotational drive of the first chuck table 16 is made by the first rotational drive part 22 provided on one side of the X-axis feed table 11, and the rotational drive of the second chuck table 17 is performed by the X-axis feed table ( It may be made by the second rotary drive unit 23 installed on one side of 11). Rotation driving methods of the first and second chuck tables 16 and 17 may be made in various ways.

도 2a 및, 도 2b 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 제 1 진공 척과 제 2 진공 척에 대한 개략적인 사시도이다. 또한 도 2c 에 도시된 것은 절단된 상태의 반도체 팩지를 개략적으로 도시한 것이다.2A and 2B are schematic perspective views of the first and second vacuum chucks shown in FIG. 1. 2C schematically illustrates the semiconductor package in a cut state.

도 2a 를 참조하면, 제 1 진공 척(25a)에 형성되어 있는, 상부가 개방된 직육면체 공간(28)의 내측 저면에는 복수개의 X 축 방향 슬릿(28a)이 형성된다. 또한 진공 흡입구(28b)가 공간(28)의 내측 저면에 같이 형성된다. 또한 도 2b 를 참조하면, 제 2 진공 척(25b)에 형성되어 있는, 상부가 개방된 직육면체 공간(29)의 내측 저면에는 복수개의 Y 축 방향 슬릿(29a)형성된다. 또한 진공 흡입구(29b)가 내측 저면에 같이 형성된다. 상기 각 슬릿(28a,29a)들은 진공 척(28,29)을 관통하도록 형성되며, 이후에 설명되는 바로서, 워터 제트가 슬릿(28a,29a)을 통해 하부로 배출될 수 있게 하는 통로의 역할을 한다.Referring to FIG. 2A, a plurality of X-axis slit 28a is formed on the inner bottom surface of the rectangular parallelepiped space 28 formed in the first vacuum chuck 25a. A vacuum suction port 28b is also formed on the inner bottom of the space 28. 2B, a plurality of Y-axis slits 29a are formed on the inner bottom surface of the rectangular parallelepiped space 29 formed in the second vacuum chuck 25b. In addition, the vacuum suction port 29b is formed on the inner bottom face as well. Each of the slits 28a, 29a is formed to penetrate the vacuum chucks 28, 29, and as described later, serves as a passage through which the water jet can be discharged downward through the slits 28a, 29a. Do it.

상기 진공 척(25a,25b)들에 형성된 공간(28,29)의 내측에 단일체로 형성된 반도체 팩키지의 수지 몰딩이 안착된다. 이때 진공 흡입구(28b,29b)를 통해 제공되는 진공은 수지 몰딩의 단일체 또는 단일체를 절단한 이후의 단위 반도체 팩키지를제 1 및, 제 2 진공 척(25a,25b)의 공간(28,29)내에 유지시키는 역할을 하게 된다.The resin molding of the semiconductor package formed as a single body is mounted inside the spaces 28 and 29 formed in the vacuum chucks 25a and 25b. At this time, the vacuum provided through the vacuum suction ports 28b and 29b is stored in the spaces 28 and 29 of the first and second vacuum chucks 25a and 25b after the unitary or single unit of the resin molding is cut off. It will play a role.

한편, 도 1 에 도시된 X 축 이송 테이블(11)이 이송됨으로써 상기 진공 척(25a,25b)들의 어느 하나가 워터 제트 노즐 장치(20)의 하부에 배치될때, 상기 진공 척(25a,25b)들에 형성된 슬릿(28a,29a)들중 하나와 워터 제트 노즐 장치(20)는 수직 방향으로 상호 정렬됨으로써 절단 작업이 이루어질 수 있게 된다. 즉, 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사된 워터 제트는 피절단물(26)을 절단한 이후에 슬릿(28a,29b)를 통해 하부로 배출될 수 있도록 정렬되는 것이다.On the other hand, when any one of the vacuum chucks 25a and 25b is disposed under the water jet nozzle apparatus 20 by transferring the X-axis transfer table 11 shown in FIG. 1, the vacuum chucks 25a and 25b are provided. One of the slits 28a and 29a formed in the field and the water jet nozzle apparatus 20 are aligned with each other in the vertical direction so that a cutting operation can be performed. That is, the water jets injected from the water jet nozzle apparatus 20 are arranged to be discharged downward through the slits 28a and 29b after cutting the cutting object 26.

이때, 도 2a 에 도시된 제 1 진공 척(25a)에는 X 방향으로 슬릿(28a)이 형성되어 있고, 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치(20)에는 Y 방향으로 다수의 노즐들이 배치되어 있으므로, X 축 이송 테이블(11)이 이송하게 되면 워터 제트는 X 축 슬릿(28a)을 따라가면서 절단 작업을 할 수 있게 된다. 또한, 도 2b 에 도시된 제 2 진공 척(25b)에는 Y 방향으로 슬릿(29a)이 형성되어 있으므로, 워터 제트 노즐 장치(20)는 제 1 의 Y 축 장치(12)에 의해서 Y 축 방향으로 이동함으로써 Y 축 슬릿(29a)을 따라가면서 절단 작업을 할 수 있다.In this case, since the slit 28a is formed in the first vacuum chuck 25a shown in FIG. 2A in the X direction, and the plurality of nozzles are disposed in the Y direction in the water jet nozzle apparatus 20 shown in FIG. 1. When the X-axis feed table 11 is transferred, the water jet can cut along the X-axis slit 28a. Moreover, since the slit 29a is formed in the Y direction in the 2nd vacuum chuck 25b shown in FIG. 2B, the water jet nozzle apparatus 20 is carried out in the Y-axis direction by the 1st Y-axis apparatus 12. As shown in FIG. By moving, cutting can be performed, following the Y-axis slit 29a.

상기 제 1 진공 척(25a)에서의 절단 작업이 완료되면 수지 몰딩된 반도체 팩키지의 단일체는 도 2c 에서 x-x 로 표시된 방향에서만 절단될 것이다. 이와 같이 x-x 방향에서만 절단된 수지 몰딩을 다시 제 2 진공 척(25b)으로 이동시켜서 절단 작업을 수행하면 y-y 방향에서도 절단 작업이 이루어질 수 있다. 최종적으로 절단 작업이 완료되면 도 2c 에서 알 수 있는 바와 같이 수지 몰딩된 단도체 팩키지의 집합체는 단위 반도체 팩키지(26a)로 균일하게 절단된다.When the cutting operation in the first vacuum chuck 25a is completed, the monolith of the resin molded semiconductor package will be cut only in the direction indicated by x-x in FIG. 2C. As such, when the cutting operation is performed by moving the resin molding cut only in the x-x direction to the second vacuum chuck 25b, the cutting operation may be performed in the y-y direction. Finally, when the cutting operation is completed, as shown in FIG. 2C, the aggregate of the resin-molded monolayer package is uniformly cut into the unit semiconductor package 26a.

다시 도 1 을 참조하면, 상기 제 1 진공 테이블(16)상의 제 1 진공척(25a, 도 2a)과 제 2 진공 테이블(17)상의 제 2 진공척(25b, 도 2b) 사이에서 피절단물을 이동시키도록 픽업 플레이트(18)가 구비된 것을 알 수 있다. 픽업 플레이트(18)는 저면에 다수의 진공 흡입구(미도시)가 형성된 것으로서, 진공 흡입구를 통해 제공되는 진공 흡착력에 의해서 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체, 또는 일부 또는 전부 절단된 반도체 팩키지를 흡착할 수 있는 것이다. 픽업 플레이트(18)는 제 2 의 Y 축 장치(13)에 의해서 Y 축 방향에서 이동할 수 있으며, 제 2 의 Y 축 장치(13)를 승강시키도록 설치된 제 2 의 Z 축 장치에 의해서 수직 방향으로 승강될 수 있다.Referring again to FIG. 1, the cut object between the first vacuum chuck 25a (FIG. 2A) on the first vacuum table 16 and the second vacuum chuck 25b (FIG. 2B) on the second vacuum table 17. It can be seen that the pickup plate 18 is provided to move. The pickup plate 18 has a plurality of vacuum inlets (not shown) formed on the bottom thereof, and may absorb the resin-molded aggregate of the semiconductor package or the partially or completely cut semiconductor package by the vacuum suction force provided through the vacuum inlet. It is. The pick-up plate 18 is movable in the Y-axis direction by the second Y-axis device 13 and in the vertical direction by the second Z-axis device installed to lift the second Y-axis device 13. Can be elevated.

제 1 의 Y 축 장치부(12)의 일측에는 제 3 의 Z 축 장치(27)가 고정되어 있으며, 상기 제 3 의 Z 축 장치(27)에 의해서 승강 가능한 비젼 장치(19)가 설치되어 있다. 제 3 의 Z 축 장치(27)는 예를 들면 승강 실린더를 이용한 것으로서, 당해 기술 분야에 공지된 것이다. 비젼 장치(19)는 예를 들면 촬상 카메라로서, 상기 비젼 장치(19)에 의해서 제 1 및, 제 2 진공 척(25a,25b)상에 배치된 피절단물(26)의 위치 상태를 검출할 수 있다. 즉, X 축 이송 테이블(11)이 이동함으로써 피절단물(26)이 비젼 장치(19)의 직하부에 도달하면, 비젼 장치(19)는 제 3 의 Z 축 장치(27)에 의해서 하강하여 피절단물(26)의 위치 정보를 검출할 수 있는 것이다. 비젼 장치(19)에 의해서 검출된 피절단물(26)의 위치 정보에 따라서, 제 1 및, 제 2 척 테이블(16,17)을 회전시키거나, 또는 X 축 이송 테이블(11)을 X 축 방향으로 이송시키거나, 또는 워터 제트 노즐 장치(20)를 Y 축 방향으로 이송시킴으로써 각도 좌표계상의 정렬 및, 평면 좌표 좌표계상의 정렬이 이루어질 수 있다. 이러한 정렬 작업은 상기 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분출되는 워터 제트가 절단물의 정확한 위치를 절단한 이후에 제 1 및, 제 2 진공 척(25a,25b)에 형성된 슬릿(28a,29a)을 통해 하부로 배출될 수 있도록 하기 위한 것이다.A third Z-axis device 27 is fixed to one side of the first Y-axis device part 12, and a vision device 19 that can be lifted and lowered by the third Z-axis device 27 is provided. . The third Z-axis device 27 uses a lifting cylinder, for example, and is known in the art. The vision device 19 is, for example, an imaging camera, which detects the position of the cut object 26 disposed on the first and second vacuum chucks 25a and 25b by the vision device 19. Can be. That is, when the to-be-cut object 26 reaches the direct part of the vision apparatus 19 by moving the X-axis feed table 11, the vision apparatus 19 will descend by the 3rd Z-axis apparatus 27, The positional information of the cutting object 26 can be detected. According to the positional information of the cutting object 26 detected by the vision apparatus 19, the 1st and 2nd chuck tables 16 and 17 are rotated, or the X-axis feed table 11 is moved to the X-axis. Direction, or by transferring the water jet nozzle apparatus 20 in the Y-axis direction, alignment on the angular coordinate system and alignment on the plane coordinate coordinate system can be achieved. This alignment operation is carried out through the slits 28a and 29a formed in the first and second vacuum chucks 25a and 25b after the water jet ejected from the water jet nozzle apparatus 20 cuts the correct position of the cut. It is intended to be discharged to the bottom.

도 3 에 도시된 것은 제 1 및, 제 2 의 척 테이블의 회전 메카니즘을 개략적으로 도시한 설명도이다.3 is an explanatory view schematically showing the rotation mechanism of the first and second chuck tables.

도면을 참조하면, 척 테이블(16,17)의 일측에는 회전축(31)이 형성되고, 척 테이블(16,17)의 일면에는 곡면상에 형성된 기어(32)가 형성된다. 상기 기어(32)에는 회전축(34)을 중심으로 회전하는 다른 기어(33)가 맞물린다. 도시되지 않은 구동 모터를 이용하여 상기 기어(33)를 회전시키면, 그에 따라서 척 테이블(16,17)은 회전축(31)을 중심으로 회전할 수 있다.Referring to the drawings, the rotation shaft 31 is formed on one side of the chuck tables 16, 17, and the gear 32 formed on the curved surface is formed on one surface of the chuck tables 16, 17. The gear 32 is engaged with another gear 33 which rotates about the rotation shaft 34. When the gear 33 is rotated using a drive motor (not shown), the chuck tables 16 and 17 may rotate about the rotation shaft 31.

한편, 척 테이블(16,17)의 내측은 완전히 관통부(35)으로 형성됨으로써, 워터 제트가 공간(35)을 통해서 하부로 배출될 수 있도록 되어 있다. 즉, 척 테이블(16,17)은 단지 진공 척(25a,25b)의 가장자리만을 지지하게 되며, 다른 부분에 있어서는 관통부(35)가 형성되어 그것을 통한 워터 제트가 척 테이블(16,17)에 영향을 주지 않으면서 하방향으로 배출될 수 있다.On the other hand, the inner sides of the chuck tables 16 and 17 are completely formed through the penetrating portion 35, so that the water jet can be discharged downward through the space 35. That is, the chuck tables 16 and 17 support only the edges of the vacuum chucks 25a and 25b, and in other parts, the penetrating portion 35 is formed so that water jets through the chuck tables 16 and 17 are applied to the chuck tables 16 and 17. It can be discharged downwards without affecting.

도 3 에 도시된 것은 척 테이블의 회전 메카니즘에 대한 일례에 불과하며, 이와 다른 방식으로 척 테이블(16,17)을 회전시킬 수 있다는 점은 명백하다.3 is merely an example of the rotation mechanism of the chuck table, and it is apparent that the chuck tables 16 and 17 can be rotated in other ways.

도 4 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치(20)에 구비되는 개별의 노즐에 대한 개략적인 구성도이다.4 is a schematic configuration diagram of individual nozzles provided in the water jet nozzle apparatus 20 shown in FIG. 1.

도면을 참조하면, 노즐(20a)의 하단부에는 워터 제트가 피절단물(26)을 절단시에 비산되는 물방울(45)들을 방지하기 위한 수단이 제공된다. 그러한 물방울 방지 수단은 물 공급 유로(43)가 형성된 원형의 덮개(42)와, 상기 덮개(42)의 가장자리에 설치된 브러시(44)를 구비한다. 브러시(44)는 원형 덮개(42)의 가장자리에 조밀하게 설치됨으로써, 전체적으로 덮개(42)와 브러시(44)에 의해서 둘러싸인 절두 원추 형상의 내측 공간을 형성하게 된다. 원형 덮개(42)의 상부에는 물 공급 호스(41)가 연결되어 있다. 물 공급 호스(41)를 통해 공급되는 물은 유로(43)를 따라서 덮개(42)의 원형 가장자리를 따라 배출되며, 따라서 브러시(44)를 타고 흘러내리게 된다. 조밀하게 설치된 브러시(44) 사이로 물이 흘러내리게 되면 물의 커튼(curtain)이 형성되며, 따라서 워터 제트(36)가 피절단물(26)의 표면에 충돌한 후에 비산하는 물방울(45) 및, 연마제등은 브러시(44)와 물로 이루어지는 커튼에 의해서 차단될 수 있는 것이다.Referring to the drawings, the lower end of the nozzle 20a is provided with means for preventing water droplets 45, which are jetted off when the water jet cuts the object 26. FIG. Such water droplet preventing means includes a circular lid 42 having a water supply passage 43 formed therein, and a brush 44 provided at an edge of the lid 42. The brush 44 is densely installed at the edge of the circular lid 42, thereby forming an inner space of a truncated cone shape surrounded by the lid 42 and the brush 44 as a whole. The water supply hose 41 is connected to the upper part of the circular lid 42. Water supplied through the water supply hose 41 is discharged along the circular edge of the cover 42 along the flow path 43 and thus flows down the brush 44. When water flows down between the densely installed brushes 44, a curtain of water is formed, and thus water droplets 45 and abrasives which fly after the water jet 36 has collided with the surface of the cutting object 26 are formed. The back can be blocked by a curtain made of brush 44 and water.

도 5a 및, 도 5b 에 도시된 것은 도 4 에서 A-A 로 표시된 선을 따라서 절단된 단면도이다.5A and 5B are cross-sectional views taken along the line A-A in FIG. 4.

도 5a 를 참조하면, 덮개(42)의 가장자리에는 물을 배출시키는 분배공(47)이 원형의 구멍으로서 다수 형성된 것을 알 수 있다. 이와는 달리, 도 5b 에 도시된 예에서는 덮개(42)의 가장자리에 분배 슬릿(48)이 원호형으로 형성된 것을 알 수 있다. 도 4 에 도시된 물 공급 호스(41)로부터 유입된 물은 유로(43)를 지나서 상기 분배공(47) 또는 분배 슬릿(48)을 통해서 배출될 수 있으며, 그렇게 배출된 물은 브러시(44)를 따라 흘러내림으로써 물 커튼을 형성하게 되는 것이다.Referring to FIG. 5A, it can be seen that a plurality of distribution holes 47 for discharging water are formed at the edges of the cover 42 as circular holes. Alternatively, in the example shown in FIG. 5B, it can be seen that the dispensing slit 48 is formed in an arc shape at the edge of the lid 42. Water introduced from the water supply hose 41 shown in FIG. 4 may be discharged through the distribution hole 47 or the distribution slit 48 past the flow path 43, and the discharged water may be discharged from the brush 44. By flowing along the water curtain will form.

도 6 에 도시된 것은 도 1 에서 상부 탱크 내장 프레임(2)과 하부 탱크 내장 프레임(2)내에 설치되는 상부 탱크 및, 하부 탱크에 대한 개략적인 사시도이다.6 is a schematic perspective view of the upper tank and the lower tank installed in the upper tank inner frame 2 and the lower tank inner frame 2 in FIG. 1.

도면을 참조하면, 상부 탱크(69)와 하부 탱크(68)는 상호 연결된 상태로 제작된다. 상부 탱크(69)의 상부면은 물 유입 슬릿(61)을 제외하고는 모두 폐쇄되어 있다. 상부 탱크(69)는 물 유입 슬릿(61)이 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치(20)의 직하부에 위치하도록 배치된다. 따라서 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사된 워터 제트는 피절단물(26)을 절단한 후에, 제 1 또는, 제 2 진공 척(25a,25b)에 형성된 슬릿(28a,29a)과, 제 1 또는 제 2 척 테이블(16,17)에 형성된 관통부(35)를 통해서 하부로 배출된다. 워터 제트는 물 유입 슬릿(61)을 통해서 상부 탱크(69)로 들어간 이후에는 튀어오른다 할지라도 상부면이 폐쇄되어 있으므로 외부로 비산하지 않는다.Referring to the drawings, the upper tank 69 and the lower tank 68 are manufactured in an interconnected state. The upper surface of the upper tank 69 is closed except for the water inlet slit 61. The upper tank 69 is arranged so that the water inlet slit 61 is located directly under the water jet nozzle apparatus 20 shown in FIG. Therefore, after the water jet injected from the water jet nozzle apparatus 20 cuts the to-be-cut object 26, the slit 28a, 29a formed in the 1st or 2nd vacuum chuck 25a, 25b, and the 1st Or it is discharged downward through the through portion 35 formed in the second chuck table (16, 17). The water jet does not fly to the outside because the top surface is closed even though it may bounce after entering the upper tank 69 through the water inlet slit 61.

한편, 물 유입 슬릿(61)은 경사면(66)에 의해서 형성된다. 경사면(66)이 형성됨으로써, 슬릿(61)으로 유입되기 전에 비산된 물은 경사면(66)을 타고서 상부 탱크(69)의 안으로 유입될 수 있다.On the other hand, the water inflow slit 61 is formed by the inclined surface 66. As the inclined surface 66 is formed, water scattered before entering the slit 61 may be introduced into the upper tank 69 on the inclined surface 66.

상부 탱크(69)의 일측에는 물 공급부(65)가 있는데, 이것은 하부 탱크(68)에 물을 공급하기 위한 것이다. 하부 탱크(68)에 물을 미리 소정의 수위까지 채워넣음으로써, 워터 제트에 의한 충격을 완화시킬 수 있다. 또한 상부 탱크(69)의 일측에는 공기 및 먼지 흡입구(62)가 형성되는데, 이것은 외부의 공기나 작업 과정에서 발생하는 먼지등을 흡입하기 위한 것이다. 하부 탱크(68)의 하부 일측에는 드레인(64)이 형성되어서 내측에 담긴 물과 연마제를 완전히 배출시킬때드레인(64)을 개방하게 된다. 이와는 달리 하부 탱크(68)의 상부에 형성된 필터 드레인(63)은 필터를 이용하여 분리된 연마제를 재활용하기 위한 것이다. 하부 탱크(68)의 내측에 설치된 필터를 이용하여 분리된 연마제는 필터 드레인(63)을 통하여 배출됨으로써 재활용될 수 있다.On one side of the upper tank 69 is a water supply 65, which is for supplying water to the lower tank (68). By filling the lower tank 68 with water to a predetermined level in advance, the impact by the water jet can be alleviated. In addition, one side of the upper tank 69 is formed with air and dust inlet 62, which is for sucking the outside air or dust generated in the working process. A drain 64 is formed at one lower side of the lower tank 68 to open the drain 64 when completely draining the water and the abrasive contained therein. Alternatively, the filter drain 63 formed on the upper portion of the lower tank 68 is for recycling the separated abrasive using a filter. The abrasive separated using the filter installed inside the lower tank 68 may be recycled by being discharged through the filter drain 63.

도 7 에 도시된 것은 상부 탱크의 단면도를 개략적으로 도시한 것이다.Shown in FIG. 7 schematically shows a cross-sectional view of the upper tank.

도면을 참조하면, 물 유입 슬릿(61)이 형성된 경사면(56)의 단부에 브러시(71)가 형성된다. 이러한 브러시(71)는 일단 탱크의 내부로 유입된 워터 제트가 외부로 튀어 나가는 것을 방지하는 역할을 한다.Referring to the drawings, a brush 71 is formed at the end of the inclined surface 56 in which the water inflow slit 61 is formed. The brush 71 serves to prevent the water jet once introduced into the tank from popping out.

도 8 에 도시된 것은 도 1 에 도시된 워터 제트 노즐 장치, 비젼 장치 및, X 축 이송 테이블상에 놓인 피절단물을 개략적으로 도시한 설명도이다.FIG. 8 is an explanatory view schematically showing the water jet nozzle device, the vision device, and the cut object placed on the X-axis transfer table shown in FIG.

도면을 참조하면, 워터 제트 노즐 장치(20)와 비젼 장치(19)는 항상 일정한 거리를 유지하여야 하는데, 이는 도 1 을 참조하여 설명된 바와 같이 제 1 의 Y 축 장치(12)의 측면에 워터 제트 노즐 장치(20)와 비젼 장치(19)가 각각 설치됨으로써 항상 일정한 거리를 유지하게 된다.Referring to the drawings, the water jet nozzle apparatus 20 and the vision apparatus 19 must always maintain a constant distance, which is the water on the side of the first Y-axis apparatus 12 as described with reference to FIG. The jet nozzle apparatus 20 and the vision apparatus 19 are respectively provided so as to maintain a constant distance at all times.

X 축 이송 테이블(11)이 워터 제트 노즐 장치(20)나 비젼 장치(19)의 직하부가 아닌 위치에서, 핸들러나 또는 수동으로 X 축 이송 테이블(11)의 진공 척(25a,25b)상에 피절단물을 배치시킨다. 다음에, 피절단물(26)은 X 축 방향으로 이송되어, 우선 비젼 장치(19)의 직하부로 이동하여 촬상 작업을 하게 된다. 비젼 장치(19)의 촬상 작업으로 얻은 위치 정보는 제어부(미도시)의 메모리에 기억시킨다. 제어부에서는 메모리에 입력된 피절단물(26)의 위치 정보를 기준 정보와 비교함으로써 피절단물(26)의 위치를 정렬할 수 있게 한다. 즉, 미리 입력된 피절단물(26)의 기준 위치와 촬상 위치 사이의 오차를 계산해냄으로써, 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사되는 워터 제트가 지나가는 궤적이 진공 척(25a,25b)에서 허용하는 절단 폭의 범위내에 들어있는지의 여부를 판단하는 것이다. 상기한 범위내에 들어갔을 경우에는 다음 단계로 진행하게 되며, 만일 허용 범위내에 들어가지 않았다면 비상 신호를 내보내거나 또는 허용 범위내에 들어올때까지 보정 작업을 계속하게 된다.The X-axis feed table 11 is not directly underneath the water jet nozzle apparatus 20 or the vision apparatus 19, or on the vacuum chucks 25a, 25b of the X-axis feed table 11 manually or by a handler. Place the cuttings. Next, the to-be-cut material 26 is conveyed in the X-axis direction, first, to move directly under the vision device 19 to perform the imaging operation. The positional information obtained by the imaging operation of the vision apparatus 19 is stored in the memory of a control part (not shown). The controller compares the positional information of the to-be-cut object 26 input to the memory with the reference information to align the position of the to-be-cut object 26. That is, by calculating the error between the reference position and the imaging position of the cut object 26 previously input, the trajectory through which the water jet injected from the water jet nozzle apparatus 20 passes is allowed to be allowed by the vacuum chucks 25a and 25b. It is determined whether or not it is within the cutting width. If it is within the above-mentioned range, it proceeds to the next step. If it is not within the allowable range, the emergency signal is sent or the correction work is continued until it is within the allowable range.

오차의 보정은 도 1 에 도시된 제 1 또는 제 2 회전 구동부(22,23)를 작동시켜서, 제 1 또는 제 2 의 척 테이블(16,17)을 회전시킴으로써 회전 좌표계상의 각도 보정을 수행하고, X 축 이송 테이블(11)의 이송 및, 제 1 의 Y 축 장치(12)에 의한 워턴 제트 노즐 장치(20)의 Y 축 방향 이송을 수행함으로써 직각 좌표상의 보정을 수행한다.Correction of the error is performed by operating the first or second rotary drive units 22 and 23 shown in FIG. 1 to perform angle correction on the rotation coordinate system by rotating the first or second chuck tables 16 and 17, Correction on Cartesian coordinates is performed by carrying out the feeding of the X-axis feeding table 11 and the Y-axis feeding of the warton jet nozzle apparatus 20 by the first Y-axis apparatus 12.

도 9 에 도시된 것은 피절단물의 평면도를 도시한 것이다.9 shows a plan view of the cutting object.

도면을 참조하면, 피절단물(26)은 예를 들면 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체로서, 각 단위 반도체 팩키지들이 매트릭스 형태로 정렬되어 있다. 이때, 모서리에 있는 각 단위 반도체 팩키지들(91,92,93,94)에는 일측에 정렬 마크를 가진다. 즉, A 로 표시된 원 안에 도시된 바와 같이, 단위 반도체 팩키지(94)의 일측에는 삼각형 형상을 가진 정렬 마크(95)가 형성되어 있으며, 이것은 위에서 설명된 비젼 장치(19)에 의해서 인식 가능한 것이다. 정렬 마크(95)는 모서리에 있는 단위 반도체 팩키지들의 측면뿐만 아니라, 필요에 따라서 임의로 피절단물(26)의 각 위치에 형성될 수 있으며, 비젼 장치는 다수의 정렬 마크(95)를 인식함으로써 피절단물(26)의 위치 정보를 획득할 수 있는 것이다.Referring to the drawings, the cut object 26 is, for example, a resin molded aggregate of a semiconductor package, in which each unit semiconductor package is arranged in a matrix form. At this time, each of the unit semiconductor packages 91, 92, 93, and 94 at the corners has an alignment mark on one side. That is, as shown in a circle denoted by A, an alignment mark 95 having a triangular shape is formed on one side of the unit semiconductor package 94, which is recognizable by the vision device 19 described above. The alignment mark 95 may be formed at each position of the cutting object 26 as well as on the sides of the unit semiconductor packages at the corners, and the vision device may be formed by recognizing a plurality of alignment marks 95. It is possible to obtain the position information of the cut 26.

한편, 워터 제트 노즐 장치(20)로부터 분사되는 워터 제트가 피절단물(26)이 아닌 다른 부분에 분사됨으로써 장비의 손상을 유발하거나 또는 물 및, 연마제가 다른 곳으로 비산하는 것을 방지하기 위해서, 센서를 설치하게 된다. 센서는 도 1 에 도시된 제 1 및, 제 2 의 척 테이블(16,17) 이나, 또는 도 2a 및, 도 2b 에 도시된 제 1 및, 제 2 의 진공 척(25a,25b)에 내장된다. 센서는 예를 들면 하중 감지용 레지스터(force sensing resistor) 또는 가속계(accelerometer)일 수 있다. 이러한 센서는 센서에 가해지는 하중이나 또는 진동에 의해서 척 테이블이나 진공 척에 워터 제트가 충돌하고 있는지 검지할 수 있다.On the other hand, the water jet sprayed from the water jet nozzle apparatus 20 is sprayed to a portion other than the cutting object 26 to cause damage to the equipment or to prevent water and abrasives from scattering to other places, The sensor will be installed. The sensor is embedded in the first and second chuck tables 16 and 17 shown in FIG. 1 or the first and second vacuum chucks 25a and 25b shown in FIGS. 2A and 2B. . The sensor can be, for example, a force sensing resistor or an accelerometer. Such a sensor can detect whether a water jet has collided with a chuck table or a vacuum chuck by a load or a vibration applied to the sensor.

즉, 워터 제트가 정상적으로 피절단물(26)을 절단하고 있는 동안에는 워터 제트가 피절단물(26)을 절단한 이후에, 제 1 및, 제 2 진공척(25a,25b)의 슬릿(28a,29a)을 통해서 척 테이블(16,17)의 관통부(35)를 지나며, 다시 상부 탱크(69)의 물 유입 슬릿(61)으로 유입된다. 따라서 장치에 가해지는 워터 제트의 압력은 상대적으로 적다. 이에 반하여, 워터 제트가 제 1 및, 제 2 진공척(25a,25b)의 슬릿(28a,29a)이 아닌 다른 부분을 가격할때에는 척 테이블(16,17)과 진공척(25a,25b)에 가해지는 압력이 증가된다. 센서는 이러한 압력의 증가를 진동이나 하중의 변화로 감지함으로써 경보를 발할 수 있게 한다.That is, while the water jet normally cuts the to-be-cut target 26, after the water jet cuts the to-be-cut target 26, the slits 28a of the first and second vacuum chucks 25a and 25b are formed. It passes through the through part 35 of the chuck tables 16 and 17 through 29a), and flows into the water inflow slit 61 of the upper tank 69 again. Therefore, the pressure of the water jet applied to the device is relatively small. On the contrary, when the water jet strikes a portion other than the slits 28a and 29a of the first and second vacuum chucks 25a and 25b, the water jets are applied to the chuck tables 16 and 17 and the vacuum chucks 25a and 25b. The pressure applied is increased. Sensors can alarm by detecting this increase in pressure as a change in vibration or load.

도 10 은 센서에서 발생되는 신호로 경보음을 발생시키는 과정을 순서도로 나타낸 것이며, 도 11 은 센서에서 검출되는 신호를 해석하기 위한 그래프를 나타내는 것이다.FIG. 10 is a flowchart illustrating a process of generating an alarm sound with a signal generated from a sensor, and FIG. 11 illustrates a graph for analyzing a signal detected by the sensor.

도 10 을 참조하면, 센서에서 신호를 검지하고(101), 검지된 신호를 증폭기에서 증폭하게 된다(101). 다음에 검출된 신호를 비교기에서 미리 지정한 쓰레숄드 레벨(threshold level)과 비교하여(103), 검출 신호가 쓰레숄드 레벨 이상이 될 경우에는 경보음 (또는 경보등)을 발생시키게 된다.Referring to FIG. 10, a signal is detected by a sensor (101), and the detected signal is amplified by an amplifier (101). Next, the detected signal is compared with a threshold level predetermined by the comparator (103), and when the detection signal is above the threshold level, an alarm sound (or an alarm) is generated.

도 11 에서는 신호 곡선(111)의 신호 레벨이 시간이 지남에 따라서 변화하는 것을 나타내는데, 신호 곡선(111)이 미리 지정된 쓰레숄드 레벨(115) 이상으로 상승하게 되면 비상 상황(112)이 된다. 이러한 비상 상황에서는 장치의 작동을 중지시키거나 작업자의 조치가 이루어져야 한다.11 shows that the signal level of the signal curve 111 changes over time. When the signal curve 111 rises above the predetermined threshold level 115, the emergency situation 112 becomes. In such an emergency, the device must be taken out of service or operator action must be taken.

도 12 에 도시된 것은 본 발명에 따른 장치에서 각 단계의 작업이 이루어지는 위치를 나타내는 사시도이다.Shown in Figure 12 is a perspective view showing the position at which the work of each step is performed in the device according to the invention.

도면을 참조하면, 피작업물은 도면 번호 121 로 표시된 위치에서 척 테이블(16,17)상의 진공 척상에 적재되거나, 또는 그로부터 이탈된다. 도면 번호 122 로 표시된 부분은 픽업 플레이트(18)의 직하부에 해당하며, 이러한 위치에서 픽업 플레이트(18)가 피절단물을 진공 흡착함으로써 제 1 척 테이블(16)과 제 2 척 테이블(17) 사이의 피절단물 교환이 이루어진다.Referring to the drawings, the workpiece is loaded onto or detached from the vacuum chucks on the chuck tables 16 and 17 at the positions indicated by reference numeral 121. The portion indicated by reference numeral 122 corresponds to the lower portion of the pick-up plate 18, in which the pick-up plate 18 vacuum-adsorbs the cutting object by the pick-up plate 18 and the second chuck table 17. The exchange of cuttings between the two takes place.

도면 번호 123 으로 표시된 부분은 비젼 장치(19)의 직하부이며, 이러한 위치에서 피절단물의 위치 정보가 획득될 수 있다. 또한 도면 번호 124 로 표시된 부분은 워터 제트 노즐 장치(20)의 직하부에 해당하며, 절단 작업이 이루어지는 곳이다. 도면 번호 125 로 표시된 부분은 다른 장비로 피절단물을 이전시키게 되는 위치이다.The portion indicated by reference numeral 123 is directly underneath the vision apparatus 19, and position information of the cut object can be obtained at this position. In addition, the part shown with the reference number 124 corresponds to the lower part of the water jet nozzle apparatus 20, and it is a place where a cutting operation is made. The part labeled 125 is where the workpiece is to be transferred to another piece of equipment.

이하, 본 발명에 따른 장치의 작동을 개략적으로 설명하기로 한다.The operation of the device according to the invention will now be described schematically.

도 1 에 있어서, 피절단물(26)은 제 1 척 테이블(16)과 제 2 척 테이블(17)상에 배치된 제 1 및, 제 2 진공 척(25a,25b)들의 어느 하나에 진공 흡착됨으로써 배치된다. 이러한 적재 작업은 도 12 에서 121 로 표시된 위치에서 이루어진다. 설명의 편의를 위해서, 피절단물(26)이 제 1 진공 척(25a)에 먼저 흡착된다고 가정하기로 한다. 그러나 다른 예에서는 제 2 진공 척(25b)에 먼저 흡착될 수도 있다.In Fig. 1, the cutting object 26 is vacuum adsorbed to either one of the first and second vacuum chucks 25a and 25b disposed on the first chuck table 16 and the second chuck table 17. It is arranged by. This loading operation takes place at the position indicated by 121 in FIG. For convenience of explanation, it is assumed that the cutting object 26 is first adsorbed to the first vacuum chuck 25a. However, in another example, it may be adsorbed to the second vacuum chuck 25b first.

다음에 X 축 이송 테이블(11)이 피절단물(26)을 비젼 장치(19)의 직하부에 도달하도록 이송시켜서 촬상 작업이 가능하게 한다. 촬상 작업은 비젼 장치(19)가 제 3 의 Z 축 장치에 의해서 하강한 상태에서, X 축 이송 테이블(11)과 제 1 의 Y 축 장치(12)의 상호 작동에 의해서 비젼 장치(19)의 위치를 변경하면서 이루어질 수 있다.Next, the X-axis transfer table 11 transfers the to-be-cut object 26 so that it may reach directly underneath the vision apparatus 19, and imaging operation is attained. The imaging operation is performed by the operation of the X-axis feed table 11 and the first Y-axis device 12 in the state where the vision device 19 is lowered by the third Z-axis device. This can be done while changing location.

비젼 장치(19)로 피절단물(26)의 위치 정보를 획득한 이후에, 피절단물(26)은 워터 제트 노즐 장치(20)의 직하부로 이송된다. 이때, 제 1 회전 구동부(22,23)에 의해서 피절단물(26)의 각도 보정이 이루어지고, X 축 이송 테이블(11) 및, 제 1 의 Y 축 장치(12)에 의해서 직각 좌표계에서의 보정이 이루어진다. 다음에 워터 제트 노즐 장치(20)가 제 1 의 Z 축 장치(14)의 작동에 의해서 하강하여, 워터 제트를 분사하게 된다. 분사된 워터 제트는 피절단물(26)을 절단한 이후에, 진공 척(25a)에 형성된 X 축 방향 슬릿(28a)과 제 1 척 테이블(16)의 관통부(35)를 통해 하방향 배출된다.After obtaining the positional information of the cut object 26 with the vision device 19, the cut object 26 is transferred directly under the water jet nozzle apparatus 20. FIG. At this time, the angle correction of the to-be-cut object 26 is performed by the 1st rotation drive parts 22 and 23, and the X-axis feed table 11 and the 1st Y-axis apparatus 12 are carried out in a rectangular coordinate system. Calibration is made. Next, the water jet nozzle apparatus 20 descends by the operation of the first Z-axis apparatus 14 to inject the water jet. The jet of water jet is discharged downward through the through part 35 of the first chuck table 16 and the X-axis slit 28a formed in the vacuum chuck 25a after cutting the cutting object 26. do.

X 축 방향에서의 절단 작업은 피절단물(26)에 X 축 방향에서 평행한 다수의 절단면을 형성하도록 반복되어 진행된다. X 방향의 절단 작업이 완료되면, 피절단물(26)은 다시 픽업 플레이트(18)의 직하부에 도달하도록 이송된다. 픽업 플레이트(18)는 제 2 의 Z 축 장치(15)의 작동에 의해 하강하며, 이미 X 축 방향으로 절단되어 있는 피절단물(26)을 진공 흡착하게 된다. 이후에 픽업 플레이트(18)가 상승한다.The cutting operation in the X axis direction is repeated to form a plurality of cutting planes parallel to the X-axis direction in the cutting object 26. When the cutting operation in the X direction is completed, the cut object 26 is again conveyed to reach the lower portion of the pickup plate 18. The pick-up plate 18 is lowered by the operation of the second Z-axis device 15, and vacuum picks up the to-be-cut object 26 which has already been cut in the X-axis direction. The pickup plate 18 then rises.

픽업 플레이트(18)가 상승한 이후에는 X 축 이송 테이블(11)이 이송됨으로써 제 2 의 척 테이블(17)상에 배치된 제 2 의 진공 척(25b)이 픽업 플레이트(18)의 직하부에 도달하게 된다. 다음에 픽업 플레이트(18)가 하강하여 피절단물을 제 2 의 진공 척(25b)에 배치시킨다.After the pick-up plate 18 is raised, the X-axis transfer table 11 is transferred so that the second vacuum chuck 25b disposed on the second chuck table 17 reaches the lower portion of the pick-up plate 18. Done. Next, the pickup plate 18 is lowered to place the cut object on the second vacuum chuck 25b.

제 2 의 진공척(25b)상에 진공 흡착된 피절단물(26)은 다시 비젼 장치(19)의 직하부로 이송되어, 비젼 장치(19)에 의한 촬상 작업이 수행된다. 촬상 작업이 종료되면 피절단물(26)은 워터 제트 노즐 장치(20)의 직하부로 이송되어, Y 축 방향에서의 절단 작업이 이루어진다. Y 축 방향의 절단 작업이 이루어지기 이전에, 제 2 회전 구동부(23)에 의한 각도상의 보정 및, X 방향 이송 테이블(11)과 제 1 의 Y 축 장치(12)에 의한 직교 좌표계상의 보정이 이루어진다. Y 축 방향의 절단이 종료되면 제 2 진공척(25b)상에는 단위 반도체 팩키지들이 배치되어 있으며, 이들은 후공정을 위해서 다른 장치로 이전된다.The to-be-cut object 26 vacuum-adsorbed on the 2nd vacuum chuck 25b is again conveyed directly under the vision apparatus 19, and the imaging operation by the vision apparatus 19 is performed. When the imaging operation is completed, the to-be-cut object 26 is transferred directly under the water jet nozzle apparatus 20, and the cutting operation in the Y axis direction is performed. Before the cutting operation in the Y axis direction is performed, the correction of the angle on the second rotary drive unit 23 and the correction on the Cartesian coordinate system by the X-direction feed table 11 and the first Y axis device 12 are performed. Is done. When the cutting in the Y-axis direction is finished, the unit semiconductor packages are arranged on the second vacuum chuck 25b, and they are transferred to another device for later processing.

본 발명에 따른 반도체 팩키지의 절단 장치 및, 절단 방법은 워터 제트를 이용하여 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체를 절단하므로 절단시의 열 발생이 배제되며, 따라서 열에 의해 반도체 칩이 손상될 가능성이 없다는 장점이 있다. 또한 워터 제트에 의한 절단 작업시에 워터 제트의 일부가 비산되는 것을 효과적으로 방지할 수 있으므로, 청결하고 안정된 절단 작업을 수행할 수 있다. 더욱이, 워터 제트가 피절단물 이외의 부분을 가격할 경우를 대비하는 센서 수단을 구비함으로써 안전한 절단 작업이 수행될 수 있으며, 워터 제트가 기계에 미치는 진동이나 압력을 최소화시킬 수 있는 장점이 있다.The cutting device and the cutting method of the semiconductor package according to the present invention cut the resin-molded aggregate of the semiconductor package by using a water jet, thereby eliminating heat generation during cutting, and thus there is no possibility of damaging the semiconductor chip by heat. There is this. In addition, since a part of the water jet can be effectively prevented from scattering during the cutting operation by the water jet, a clean and stable cutting operation can be performed. Furthermore, by having a sensor means for preparing the case where the water jet strikes a portion other than the to-be-cut, safe cutting operation can be performed, and there is an advantage of minimizing vibration or pressure applied to the machine by the water jet.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예지적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, this is only illustrative, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (15)

X 축 방향으로 왕복 이송 가능한 X 축 이송 테이블;An X axis feed table capable of reciprocating in the X axis direction; 상기 X 축 이송 테이블에 회전 가능하게 설치된 제 1 및, 제 2 척 테이블;First and second chuck tables rotatably mounted to the X axis transfer table; 상기 제 1 및, 제 2 척 테이블의 회전을 위해 상기 X 축 이송 테이블에 각각 설치된 제 1 및, 제 2 회전 구동부;First and second rotational driving units respectively installed on the X-axis transfer table for rotation of the first and second chuck tables; 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블에 설치되어 피절단물인 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체를 진공 흡착하는 제 1 및, 제 2 진공 척;First and second vacuum chucks installed on the first and second chuck tables to vacuum-adsorb a resin molded aggregate of a semiconductor package as a to-be-cut object; 상기 피절단물에 워터 제트(water jet)를 분사시키는 워터 제트 노즐 장치;A water jet nozzle device for spraying a water jet on the cutting object; 상기 워터 제트 노즐 장치를 Y 축 방향 이송시키는 제 1 의 Y 축 장치;A first Y axis device for feeding the water jet nozzle device in a Y axis direction; 상기 제 1 의 Y 축 장치를 승강시킬 수 있는 제 1 의 Z 축 장치;A first Z axis device capable of elevating the first Y axis device; 상기 제 1 또는 제 2 진공 척상의 피절단물을 흡착하여 승강시키는 픽업 플레이트;A pickup plate for absorbing and elevating the cutting object on the first or second vacuum chuck; 상기 픽업 플레이트를 Y 축 방향 이송시킬 수 있는 제 2 의 Y 축 장치;A second Y axis device capable of conveying the pickup plate in the Y axis direction; 상기 제 2 의 Y 축 장치를 승강시킬 수 있는 제 2 의 Z 축 장치;A second Z axis device capable of elevating the second Y axis device; 상기 제 1 의 Y 축 장치의 일측에 승강 가능하게 설치된 비젼 장치;A vision device mounted on one side of the first Y-axis device in a liftable manner; 상기 비젼 장치를 승강시키도록 상기 제 1 Y 축 장치의 일측에 고정된 제 3 의 Z 축 장치;A third Z-axis device fixed to one side of the first Y-axis device to lift and lower the vision device; 상기 워터 제트 노즐 장치로부터 분사된 워터 제트를 수용하는 상부 및, 하부 탱크;를 구비하는 반도체 팩키지의 절단 장치.And an upper tank and a lower tank for receiving the water jets ejected from the water jet nozzle apparatus. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 진공 척에는 그것을 관통하는 복수개의 평행한 슬릿이 형성되고, 상기 제 2 진공 척에는 그것을 관통하며 상기 제 1 진공 척상의 슬릿과 직교하는 방향에서 연장된 복수개의 평행한 슬릿이 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The first vacuum chuck is formed with a plurality of parallel slits penetrating it, and the second vacuum chuck is formed with a plurality of parallel slits penetrating it and extending in a direction orthogonal to the slit on the first vacuum chuck. A cutting device for semiconductor packages. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블은 각각 상기 제 1 및, 제 2 진공척의 가장자리만을 지지하며, 각각에 관통부가 형성되어 워터 제트가 하방향으로 배출될 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The first and second chuck tables support only the edges of the first and second vacuum chucks, respectively, and a through portion is formed in each of the semiconductor packages, wherein the water jet can be discharged downward. Device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 워터 제트 노즐 장치에는 복수개의 노즐이 구비되며, 고정된 하나의 기준 노즐을 제외하고 서로에 대한 간격이 조절 가능한 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The water jet nozzle apparatus is provided with a plurality of nozzles, the cutting device of the semiconductor package, characterized in that the distance to each other is adjustable except one fixed reference nozzle. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,The method according to claim 1 or 4, 상기 워터 제트 노즐 장치에 구비되는 각 노즐의 단부에는, 내측에 유로가 형성되고 가장자리에 배출구가 형성된 덮개, 상기 덮개의 가장자리로부터 연장되는 브러쉬 및, 상기 유로에 연결된 물 공급용 호스가 구비되며, 상기 유로를 통해 공급되는 물이 상기 브러쉬 사이에서 물의 커튼(curtain)을 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.An end portion of each nozzle provided in the water jet nozzle apparatus is provided with a cover having a flow path formed therein and a discharge port formed at an edge thereof, a brush extending from the edge of the cover, and a hose for water supply connected to the flow path. A device for cutting a semiconductor package, wherein water supplied through the flow path forms a curtain of water between the brushes. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 덮개에 형성된 배출구는 다수의 분배공의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The outlet formed in the cover has a shape of a plurality of distribution holes cutting device of the semiconductor package, characterized in that. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 덮개에 형성된 배출구는 슬릿의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The outlet formed in the cover has a slit-shaped cutting device of the semiconductor package, characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 및, 제 2 의 척 테이블에는 상기 워터 제트에 의한 하중 또는 진동의 변화를 감지할 수 있는 센서가 내장되는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The first and the second chuck table is a cutting device of a semiconductor package, characterized in that a sensor for detecting a change in load or vibration caused by the water jet is built-in. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 및, 제 2 의 진공 척에는 상기 워터 제트에 의한 하중 또는 진동의 변화를 감지할 수 있는 센서가 내장되는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The first and the second vacuum chuck is a cutting device of a semiconductor package, characterized in that a sensor for detecting a change in load or vibration caused by the water jet is built-in. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,The method according to claim 8 or 9, 상기 센서는 하중 검지 센서 또는 가속도계인 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.And said sensor is a load detecting sensor or an accelerometer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 탱크의 상부면에는 물 유입 슬릿을 그 사이에 형성하는 경사면이구비되고, 상기 물 유입 슬릿은 상기 워터 제트 노즐 장치의 직하부에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.The upper surface of the upper tank is provided with an inclined surface for forming a water inlet slit therebetween, the water inlet slit is a cutting device of a semiconductor package, characterized in that located directly under the water jet nozzle device. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 상부 탱크에 형성된 물 유입 슬릿을 형성하는 경사면의 단부로부터 브러쉬가 연장되는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 장치.And a brush extending from an end portion of an inclined surface forming a water inflow slit formed in the upper tank. 제 1 방향으로 평행한 다수의 관통 슬릿을 구비하는 제 1 진공 척에 피절단물인 반도체 팩키지의 수지 몰딩된 집합체를 진공 흡착시키는 단계;Vacuum adsorbing a resin molded aggregate of a semiconductor package as a cut object to a first vacuum chuck having a plurality of through slits parallel in a first direction; 상기 제 1 진공 척상의 피절단물을 비젼 장치를 통해 촬상함으로써 제 1 의 위치 정보를 획득하는 단계;Acquiring first positional information by imaging the cut object on the first vacuum chuck through a vision device; 상기 피절단물의 제 1 의 위치 정보를 미리 입력된 기준 정보와 비교함으로써 평면 좌표계상에서의 상기 제 1 진공 척의 위치 오차를 보정하는 단계;Correcting a position error of the first vacuum chuck on a plane coordinate system by comparing first position information of the cut object with previously input reference information; 워터 제트 노즐 장치로부터 분사되는 워터 제트를 상기 제 1 진공 척에 형성된 관통 슬릿을 따라 분사함으로써 제 1 진공 척상의 피절단물을 절단하는 제 1 절단 단계;A first cutting step of cutting the cutting object on the first vacuum chuck by spraying the water jet sprayed from the water jet nozzle apparatus along the through slit formed in the first vacuum chuck; 상기 제 2 진공 척상의 일부 절단된 피절단물을 상기 제 1 방향에 직각인, 평행한 다수의 관통 슬릿을 구비하는 제 2 진공 척상으로 이동시키는 단계;Moving the partially cut workpiece on the second vacuum chuck onto a second vacuum chuck having a plurality of parallel through slits perpendicular to the first direction; 상기 제 2 진공 척상의 피절단물을 비젼 장치를 통해 촬상함으로써 제 2 위치 정보를 획득하는 단계;Acquiring second position information by imaging the cut object on the second vacuum chuck through a vision device; 상기 피절단물의 제 2 의 위치 정보를 미리 입력된 기준 정보와 비교함으로써 평면 좌표계상에서의 상기 제 2 진공 척의 위치 오차를 보정하는 단계; 및,Correcting a position error of the second vacuum chuck on a plane coordinate system by comparing the second position information of the cut object with previously input reference information; And, 워터 제트 노즐 장치로부터 분사되는 워터 제트를 상기 제 2 진공 척에 형성된 관통 슬릿을 따라 분사함으로써 제 2 진공 척상의 피절단물을 절단하는 제 2 절단 단계;를 구비하는 반도체 팩키지의 절단 방법.And a second cutting step of cutting the cutting object on the second vacuum chuck by spraying the water jet sprayed from the water jet nozzle apparatus along the through slit formed in the second vacuum chuck. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제 1 및, 제 2 절단 단계에서 상기 워터 제트에 의해서 가해지는 하중 또는 진동을 센서를 통하여 검지함으로써, 검지된 신호가 쓰레숄드 레벨을 초과할 경우 경보를 발생시키도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 방법.The semiconductor package, characterized in that for detecting the load or vibration applied by the water jet in the first and second cutting step through the sensor to generate an alarm when the detected signal exceeds the threshold level. Cutting method. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제 1 및, 제 2 위치 정보를 획득하는 단계는 상기 피절단물의 소정 위치에 형성된 정렬 마크를 인식함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 팩키지의 절단 방법.And obtaining the first and second positional information by recognizing an alignment mark formed at a predetermined position of the cut object.
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