KR20040069271A

KR20040069271A - 일면이 무광택인 이축배향 폴리에스테르 필름, 그제조방법 및 용도

Info

Publication number: KR20040069271A
Application number: KR1020040004785A
Authority: KR
Inventors: 콘라드매트히아스; 페이퍼헤르버트; 힐커트고트프리드
Original assignee: 미쓰비시 폴리에스테르 필름 지엠비에치
Priority date: 2003-01-28
Filing date: 2004-01-26
Publication date: 2004-08-05
Also published as: EP1442875B1; JP2004230893A; DE502004004780D1; US7128968B2; DE10303144A1; US20040151897A1; EP1442875A1

Abstract

본 발명의 이축배향 폴리에스테르 필름은 적어도 하나 이상의 폴리에스테르 함유 기저층(B), 및 적어도 하나 이상의 무광택 외층(A)로 이루어지며, 상기 외층(A)는 평균 직경이 2∼10㎛이고 SPAN98 ≤ 2 인 입자, 특히 SiO₂를 함유하며 또한 이소프탈산을 갖는 폴리에스테르를 함유한다. 상기 필름은 또한 외층(A)의 낮은 불투명도, 높은 투명도, 낮은 광택 및 고속 처리 능력을 특징으로 하고, 따라서 유연성 포장 필름으로서 고속 주행 포장 기계에서의 사용에 적합하다.

Description

일면이 무광택인 이축배향 폴리에스테르 필름, 그 제조방법 및 용도 {Biaxially Oriented Polyester Film which is matt on one side, Process for Its Production and Its Use}

본 발명은 적어도 일면이 무광택으로 되고, 적어도 하나 이상의 기저층(B), 기 기저층(B)에 도포되는 적어도 하나 이상의 무광택 외층(A)으로 구성된 공압출 이축배향 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. 또한 본 발명은 필름의 제조방법 및 그 용도에 관한 것이다.

포장업계에서는 투명한 고 광택 플라스틱 필름, 예를 들어 이축배향 폴리프로필렌 필름 또는 이축배향 폴리에스테르 필름에 대한 요구가 크다. 또 적어도 한 층은 고 광택이 아니지만 무광택 외양을 가지고 있기 때문에, 특히 매력적인 포장과 상업적으로 효과적인 외양을 제공하는 투명 필름에 대한 수요가 증가하고 있다.

특히 적어도 하나 이상의 무광택 면을 갖는 폴리에스테르 필름은 커피, 차, 수프 또는 소정 약품의 겉포장에 사용된다. 또한 무광택 면은 상업적으로 효과적인 외양뿐만 아니라 반사되지 않는 면을 제공한다.

EP-A-0 347 646호에 함량이 0.5∼50%이고, 직경이 외층(A)의 층두께에 비례하는 충진재를 함유하는 적어도 하나 이상의 외층(A)를 갖는 이축배향 폴리에스테르 필름에 대해 기재되어 있다. 또한 상기 외층(A)는 일정한 두께 및 라만스펙트로스코피에 의해 측정되는 일정한 결정도를 갖는다. 상기 외층(A)의 형상(topography)으로 인해 이 필름이 자기녹음테이프에 특히 적합하다. 이 문헌에는 외층(A)의 광택에 관하여 어떠한 정보도 기재되어 있지 않다. EP-A-0 347 646호(실시예 1)에 따라 제조된 필름은 소정의 무광택면을 갖지 않는다.

EP-A-0 053 498호에 투명 기저층(B) 및 이 층의 적어도 한 면에 도포된 무광택 외양의 다른 층(A)로 구성된 다층 이축배향 폴리에스테르 필름에 대해 기재되어 있다. 무광택 외양의 층은 실질적으로 폴리에틸렌 테레프탈레이트 공중합체로 구성되며, 상기 공중합체는

H(-OCH₂CH₂-)_nOH,

H(-OCH₂-CH₂-)_n-1O-C₆H₄-O-(CH₂-CH₂O-)_n-1H, 또는

H(-OCH₂-CH₂-)_n-1O-C₆H₄-X-C₆H₄-O-(CH₂-CH₂O-)_n-1H 유니트

(식중, n은 2∼140의 정수, X는 -CH₂-, -C(CH₃)₂- 또는 -SO₂-이다)를 함유하며, 평균직경이 0.3∼20㎛인 비활성 무기입자가 무광택 외양의 층을 기준으로3∼40% 함유한다. 이 필름은 높은 무광택도(광택 15 이하)를 가지며, 어떠한 적용에서도 수용될 수 있는 투명도(60% 이상)를 갖는다. 이 필름의 단점은 ABA 구조인 경우 인쇄할 수 없으며, AB 구조인 경우는 고속기계에서 가공할 수 없다는 것이다. 또한 너무 불투명해서 제품으로 부적합하다.

종래기술에 유백색 외양의 무광택 이축배향 폴리에스테르 필름에 대해 기재되어 있다.

DE-A 23 53 347호에 단층 또는 다층 유백색 폴리에스테르 필름의 제조방법에 대해 기재되어 있으며, 이 방법은 선형 폴리에스테르 입자와, 에틸렌 또는 프로필렌 단일 중합체 또는 공중합체 3∼27중량%의 혼합물을 제조하는 단계; 상기 혼합물을 필름으로 압출하는 단계; 필름을 담금질하고 서로 직각 방향으로 연신하여 이축배향시키는 단계; 및 필름을 열경화시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 필름의 제조 중에 발생하는 분쇄물(실질적으로 폴리에스테르 원료와 에틸렌 공중합체 또는 프로필렌 공중합체와의 혼합물)을 재사용할 경우 필름이 황화되기 때문에 필름제조중에 재사용할 수 없다는 단점이 있다. 이로 인해 공정이 비경제적이 되고, 분쇄물로 제조된 황색 필름은 시장에서 호평을 받을 수 없게 된다. 폴리에스테르 내의 공중합체의 농도를 증가시키면 필름은 그 유백색 특징이 손상되고 불투명도가 높은 백색으로 된다.

미국특허 제3,154,461호에 열가소성수지(예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리프로필렌)의 이축배향 필름이 청구범위에 기재되어 있으며,상기 필름은 무광택 면을 가지며, 크기 0.3∼20㎛, 농도 1∼25%의 비압축성 입자(예를 들어, 탄산칼슘, 이산화실리콘)를 함유한다.

따라서 본 발명은 종래의 필름이 갖는 단점이 없으며, 적어도 한 면에 무광택 면이 있고, 무광택도가 높으며, 동시에 불투명도가 낮고, 특히 용적 불투명도가 낮으며, 투명도가 우수하고, 생산성 및 가공성이 매우 우수한 이축배향 폴리에스테르 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 필름은 고속 가공기계에서 처리될 수 있어야 한다. 또한 필름 제조시에 발생하는 절단물을 필름의 물리적 또는 광학적 특성에 어떠한 심각한 부작용도 초래하지 않으면서 필름의 제조 과중중에 발생하는 절단 물질(Offcut material)을 필름 분쇄물로서 재사용할 수 있어야 한다.

도 1는 d₅₀값을 측정하기 위한 (상대)누적 입자크기 분포곡선,

도 2는 d₉₈값 및 d₁₀값을 측정하기 위한 (상대)누적 입자크기 분포곡선.

본 발명에 의하면, 상기 목적은 적어도 하나 이상의 기저층(B) 및 적어도 하나 이상의 무광택 외층(A)을 갖는 이축배향 폴리에스테르 필름에 의해 달성되며, 상기 외층(A)는 평균 입자 직경(d₅₀)이 2∼10㎛이고, 2이하(≤2)의 SPAN98을 갖는 입자들을 함유하며, 또한 상기 외층(A)는 바람직하게는 이 층의 폴리에스테르 내의 산(acid)의 총 중량을 기초로 이소프탈산 유니트를 4∼30몰%로 함유하는 폴리에스테르로 구성된다.

무광택 외층(A) 내에는 상기 입자가 10,000∼70,000ppm 함유된다.

본 발명에 의하면, 본 필름은 기저층(B) 및 무광택 외층(A)로 구성된 적어도 2개 이상의 층을 갖는다. 본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 본 필름은 층(B=기저층)의 일면에 본 발명의 외층(A), 및 층(B)의 타면상에 또다른 층(C)로 구성된 3층 구조를 갖는다. 이 경우, 두 층(A 및 C)는 외층(A 및 C)를 형성한다.

필름의 기저층(B)는 이 층의 전체 중량을 기준으로 적어도 80중량% 이상, 바람직하게는 90중량% 이상의 열가소성 폴리에스테르를 함유한다. 본 목적에 적합한 폴리에스테르는 에틸렌글리콜 및 테레프탈산으로 제조된 폴리에스테르(폴리에틸렌 테레프탈레이트, PET); 에틸렌글리콜 및 나프탈렌-2,6-디카르복시산으로 제조된 폴리에스테르(폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, PEN); 1,4-비스히드록시메틸시클로헥산 및 테레프탈산으로 제조된 폴리에스테르(폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트, PCDT); 또는 에틸렌글리콜, 나프탈렌-2,6-디카르복시산 및 비페닐-4,4'-디카르복시산으로 제조된 폴리에스테르(폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 비벤조에이트, PENBB)를 들 수 있다. 특히 바람직한 것은 에틸렌글리콜 유니트와 테레프탈산 유니트, 또는 에틸렌글리콜 유니트와 나프탈렌-2,6-디카르복시산 유니트를 적어도 90몰% 이상, 바람직하게는 적어도 95몰% 이상 포함하는 폴리에스테르이다. 특히 바람직한 실시예에 있어서, 본 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 단일중합체로 구성된다. 나머지 단량체 유니트는 각각 다른 지방족, 시클로지방족 또는 방향족 디올, 및 디카르복시산으로부터 유래된다. 또한 열가소성 폴리에스테르 80중량% 또는 90중량%에, 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 또는 글리콜개질 PET가 20중량%, 바람직하게는 10중량% 존재할 수도 있다.

적합한 다른 지방족 디올로는 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 지방족글리콜, 화학식 HO-(CH₂)n-OH (식중, n은 3∼6의 정수, 특히 프로판-1,3-디올, 부탄-1,4-디올, 펜탄-1,5-디올 및 헥산-1,6-디올)의 지방족 글리콜, 또는 탄소원자 6개 이하의 분지 지방족 글리콜을 들 수 있다. 지환족 디올중에서는, 시클로헥산디올(특히, 시클로헥산-1,4-디올)을 들 수 있다. 다른 적합한 방향족 디올로는 화학식 HO-C₆H₄-X-C₆H₄-OH (식중, X는 -CH₂-, -C(CH₃)₂-, -C(CF₃)₂-, -O-, -S- 또는 -SO₂-)인 것을 들 수 있다. 이들 중에서, 화학식이 HO-C₆H₄-C₆H₄-OH인 비스페놀이 가장 적합하다.

다른 방향족 디카르복시산으로는 벤젠디카르복시산, 나프탈렌디카르복시산(예를 들어, 나프탈렌-1,4-디카르복시산 또는 나프탈렌-1,6-디카르복시산), 비페닐-x,x'-디카르복시산(특히, 비페닐-4,4'-디카르복시산), 디페닐아세틸렌-x,x'-디카르복시산(특히, 디페닐아세틸렌-4,4'-디카르복시산) 또는 스틸벤-x,x'-디카르복시산이 바람직하다. 지환족 디카르복시산 중에서는 시클로헥산디카르복시산(특히, 시클로헥산-1,4-디카르복시산)을 들 수 있다. 지방족 디카르복시산 중에서는 알칸부분이 직쇄 또는 분지쇄일 수 있는 C₃∼C₁₉알칸디올산이 가장 적합하다.

폴리에스테르는 공지의 에스테르교환반응에 의해 제조할 수도 있다. 여기에서 시작물질은 디카르복실에스테르 및 디올이며, 이들을 아연, 칼슘, 리튬, 마그네슘 및 망간염 등의 통상의 에스테르교환 촉매하에 반응시킨다. 그 후, 중간물질을 삼산화안티몬이나 티탄염과 같은 공지의 중축합 촉매하에 중축합시킨다. 또 중축합 촉매하에 직접 에스테르화 반응을 하는 것과 동일한 효과를 얻을 수 있다. 이 반응은 디카르복시산과 디올로부터 직접 시작한다.

공압출에 의해 기저층(B)에 도포된 무광택 외층(A)는 대부분 폴리에스테르로 구성되어 있다. 본 발명에 의하면, 무광택 외층(A)는 이 층 내의 폴리에스테르의 산(acid)의 전체 양을 기준으로 이소프탈산 4∼30몰%, 바람직하게는 6∼28몰%, 보다 바람직하게는 8∼26몰%를 함유한다. 나머지 단량체 유니트는, 기저층에서 밝힌 바와 같이, 기저층 내에서 발생할 수 있는 다른 지방족, 지환족 또는 방향족 디카르복시산 또는 디올로부터 유래된다. 따라서 기저층(B)에 바람직한 폴리에스테르는 적당한 개질후에 외층(A)에도 적합하다.

외층(A)용 원료는 각 단량체를 공중합한 혼합물 또는 배합물, 또는 각기 다른 중합체의 마스터배치로 제조할 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 무광택 외층(A)는 테레프탈레이트 유니트와 이소프탈레이트 유니트 및 에틸렌글리콜 유니트로 구성된 공중합체를 함유한다. 이 공중합체 내에서의 테레프탈레이트 유니트의 비율은 산의 전체 양을 기준으로 70∼96몰%이고, 이소프탈레이트 유니트의 비율은 30∼4몰%이다. 바람직한 실시예에서 테레프탈레이트 유니트의 비율은 산의 전체 양을 기준으로 72∼94몰%이고, 이소프탈레이트 유니트의 비율은 28∼6몰%이다. 보다 바람직한 실시예에서 테레프탈레이트 유니트의 비율은 산의 전체 양을 기준으로 74∼92몰%이고, 이소프탈레이트 유니트의 비율은 26∼8몰%이다.

원칙적으로, 상기 외층(A)에 존재하는 중합체의 잔량부에 사용되는 중합체는 기저층(B)에 대해 기재한 것과 같을 수도 있다.

상기한 외층(A)용 원료를 사용함으로써 필름은 불투명도가 낮고, 특히 용적불투명도가 낮게 되는 것으로 밝혀졌다.

소정의 무광택/무광택도를 얻기 위해서, 외층(A)는 다음과 같은 특징을 갖는 입자계를 추가로 함유한다.

a) 본 발명에 의하면, 무광택 외층(A)는 평균직경 d₅₀이 2.0∼10㎛인 입자(= 항블록킹제)를 함유한다. 평균직경 d₅₀이 2.2∼9㎛, 바람직하게는 2.4∼8㎛, 보다 바람직하게는 2.6∼7㎛인 입자를 사용하는 것이 유리한 것으로 판명되었다. 직경이 2.0㎛ 이하인 입자를 사용하는 경우 (상응하는 농도에서) 불투명도가 증가한다. 직경이 10㎛ 이상인 입자는 여과문제를 야기시킨다.

b) 본 발명에 의하면, 외층(A)는 입자의 직경이 SPAN98 ≤2.0인 편차를 갖는 입자를 함유한다(SPAN98의 시험방법 참조). SPAN98은 ≤1.9가 바람직하며, ≤1.8이 보다 바람직하다. 반면, 필름의 외층(A)가 직경의 SPAN98이 2.0 이상인 입자를 함유하면 외층(A)의 광택이 높아져서 바람직하지 않다.

c) 본 발명에 의하면, 외층(A)의 입자 농도는 이 층의 전체 중량을 기준으로 10,000∼70,000ppm (10,000ppm= 1중량%)이다. 바람직한 입자의 농도는 15,000∼65,000ppm이고, 보다 바람직하게는 20,000∼60,000ppm이다. 반면, 필름의 외층(A)의 입자의 농도가 10,000ppm 미만이면 무광택 필름으로서 사용하기가 적합하지 않다. 또 필름의 외층(A)의 입자의 농도가 70,000ppm 이상이면 일부 조건하에서의 필름의 불투명도가 너무 커진다.

전형적인 입자계로는 탄산칼슘, 비정질 실리카, 활석, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산바륨, 인산리튬, 인산칼슘, 인산마그네슘, 산화알루미늄, 불화리튬, 사용된 디카르복시산의 칼슘, 바륨, 아연 또는 망간염, 카아본블랙, 이산화티탄, 카올린, 또는 폴리스틸렌입자 혹은 아크릴레이트입자와 같은 가교결합된 중합체 입자 등의 무기 및/또는 유기 입자를 들 수 있다.

또한 입자계는 2종 이상의 다른 입자계의 혼합물, 또는 조성은 같으나 입자크기가 다른 입자계의 혼합물 중에서 선택할 수 있다. 이 입자들은 중축합시 글리콜 분산으로서 또는 압출시 마스터배치 방식으로 필름의 각 층의 중합체에 각각 유용한 농도로 첨가될 수 있다.

입자는 합성에 의해 콜로이드 형태로 제조된 무정형 SiO₂가 바람직하다. 이들 입자는 중합체 매트릭스에 아주 잘 결합되며, 기포(공동)가 거의 생성되지 않는다. 기포는 이축배향공정시에 입자에 발생되며, 일반적으로 불투명도의 원인이 되기 때문에 본 발명에는 전혀 적합하지 않다. SiO₂입자(또는 실리카겔으로 또한 알려져 있다)를 (합성)제조하기 위해서는 황산과 규산나트륨을 서로 조절된 조건하에서 혼합하여 히드로솔을 형성한다. 이것으로 최종적으로 거칠고 투명한 투광택 히드로겔이 만들어 진다. 부산물로서 생성된 황산나트륨을 세정하여 제거한 후, 건조 및 다른 공정을 진행할 수 있다. 중요한 물리적 인자, 즉 기포의 부피, 기포의 크기, 수득된 실리카겔의 표면 치수는 수세용 물의 pH와 건조조건을 조절하여 변경시킬 수도 있다. 소정의 입자크기(예를 들어, d₅₀값)와 소정의 입자크기분포(예를 들어, SPAN98)는 실리카겔을 (예를 들어, 기계적 또는 수력학적으로) 적절히 글라인딩함으로써 얻어진다. 이들 입자의 제조회사로서 Grace(미국), Fuji(일본), Degussa(독일) 및 Ineos(영국)를 들 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 무광택 외층(A)는 다음과 같이 특징이 있다.

(1) 필름의 무광택 면의 조도(R_a)는 150∼1,000nm, 바람직하게는 175∼950nm, 보다 바람직하게는 200∼900nm이다. 조도값이 150nm 이하이면 필름의 무광택도에 악영향을 미치게 되고, 1000nm 이상이면 필름의 광학특성에 손상을 끼친다.

(2) 표면 가스유동 측정값은 0.1∼50초, 바람직하게는 1∼45초이다. 측정값이 50 이상이면 필름의 무광택도에 악영향을 미친다.

(3) 필름의 무광택 면의 마찰계수(COF)는 0.5 미만, 바람직하게는 0.45 미만, 보다 바람직하게는 0.4 미만이다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 본 발명에 따른 필름의 평면 배향성(△p)은 0.170 이상, 바람직하게는 0.168 이상, 보다 바람직하게는 0.166 이상이다.

기저층(B)는 안정화제 및/또는 입자(= 충진재) 등의 통상의 첨가제를 포함할 수도 있다. 통상적인 안정화제로는 인산 또는 인에스테르 등의 인산화합물이 바람직하다.

기저층(B)의 통형적인 입자(충진재)는 탄산칼슘, 비정질 실리카, 활석, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 황산바륨, 인산리튬, 인산칼슘, 인산마그네슘, 산화알루미늄, 불화리튬, 사용된 디카르복시산의 칼슘, 바륨, 아연 또는 망간염, 카아본블랙, 이산화티탄, 카올린, 또는 폴리스틸렌입자 혹은 아크릴레이트입자와 같은 가교결합된 중합체 입자 등의 무기 및/또는 유기 입자를 들 수 있다.

특히 바람직한 실시예에서, 기저층은 안료를 함유하지 않거나, 또는 분쇄물을 통해 도입된 안료만 함유한다. 그 결과, 필름은 매우 낮은 불투명도를 갖는다.

본 발명에 의하면, 본 필름은 열적층 요건에 적합한 특정 수축율을 갖는다는 특징이 있다. 본 발명에 의하면, 본 필름은 다음과 같은 특징이 있다.

a) 횡반향 수축율 S_T는 1.0∼2.3%, 바람직하게는 1.2∼2.2%, 보다 바람직하게는 1.4∼2.1%이다.

b) 전체 온도범위내에서의 본 필름의 횡방향 선팽창율 TMA는 0.20% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.16% 이하이다.

바람직한 사용형태에 있어서, 본 필름은 기저층(B) 및 기저층의 양면에 도포된 외층(A 및 C)로 구성된 3층으로 되어 있으며, (A) 및 (C)는 같거나 다를 수 있다. 외층(C)는 기저층(B)용 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 특히 층(C)는 필름의 가공성을 개선하기 위해서 상기한 충진재(입자)를 함유하는 것이 바람직하다.

기저층(B)와 외층 (A) 및/또는 (C) 사이에는 선택적으로 하나 이상의 중간층을 배치할 수 있다. 이들 층은 기저층(B)에 대해 언급한 중합체로 구성될 수도 있다. 특히 바람직한 실시예에서, 중간층은 기저층(B)에 사용된 중합체로 구성된다.또한 중간층에는 이하에 기술하는 종래의 첨가제를 함유할 수도 있다. 중간층의 두께는 일반적으로 0.3㎛ 이상, 바람직하게는 0.5∼15㎛, 보다 바람직하게는 1.0∼10㎛, 특히 바람직하게는 1.0∼5㎛이다.

본 발명에 의한 3층 구조의 필름에 있어서, 외층(A) 및 (C)의 두께는 일반적으로 0.1∼5.0㎛, 바람직하게는 0.3∼4.5㎛, 보다 바람직하게는 0.5∼4.0㎛이고, 무광택 외층(A) 및 (C)의 두께는 같거나 다를 수도 있다.

본 발명에 의한 폴리에스테르 필름의 총두께는 광범위한 범위 내에서 다양하게 할 수 있으나, 바람직하게는 3∼350㎛, 보다 바람직하게는 4∼300㎛, 특히 바람직하게는 5∼250㎛이고, 기저층(B)는 총두께의 5∼97%로 구성되는 것이 바람직하다.

본 발명에 의한 필름은 특히 필름 (A)면의 광택이 낮고, 불투명도가 비교적 낮으며, 투명도가 높다. 또한 우수한 권취성 및 가공성을 갖는다.

필름 필름 (A)면의 광택은 70 미만이 바람직하다. 바람직한 실시예에서 상기 면의 광택은 60 미만이고, 보다 바람직한 실시예에서는 50 미만이다. 따라서 이 필름면은 상업적으로 특히 효과적인 특징을 갖기 때문에 포장 외면으로서 특히 적합하다.

본 필름의 불투명도는 45% 미만이 바람직하다. 바람직한 실시예에서, 본 필름의 불투명도는 40% 미만, 보다 바람직한 실시예에서는 35% 미만이다. 본 필름의 투명도는 80% 이상이 바람직하다. 바람직한 실시예에서, 본 필름의 투명도는 84% 이상, 보다 바람직한 실시예에서는 88% 이상이다. 필름의 비교적 낮은 불투명도 및고 투명도(무광택 단일 필름에 비해, 비교예 참조)로 인해 본 발명의 필름에 전사인쇄 등의 인쇄를 할 수 있으며, 인쇄 선명도가 매우 우수하다.

본 필름의 용적 불투명도는 15% 미만이 바람직하다. 바람직한 실시예에서, 본 필름의 용적 불투명도는 10% 미만, 보다 바람직한 실시예에서는 5% 미만이다.

또 본 발명은 문헌에 공지된 압출법에 의해 본 발명의 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법을 제공한다.

이 제조방법의 절차는 각 층(A),(B) 및 (C)에 상응하는 용융물을 평판 필름다이를 통과시켜 공압출하여 용융 필름으로 성형하고, 수득된 필름을 하나 또는 그 이상의 경화용 로울에서 인출한 후, 필름을 이축연신(배향)하고, 이축연신된 필름을 열경화시킨 다음, 필요한 경우 처리할 표면에 코로나 또는 필름처리를 한다.

이축연신(배향)은 일반적으로 연속적으로 수행하며, 먼저 길이방향(기계방향)으로 연신한 후, 횡방향(기계방향에 직각)으로 연신하는 순차 이축연신을 하는 것이 바람직하다.

일반적인 공압출에서와 같이, 먼저 각 층에 대한 중합체 또는 중합체 혼합물을 압출기에서 압축 용해하며, 중합체 또는 중합체 혼합물에는 미리 어떠한 첨가제를 첨가할 수도 있다. 이들 첨가제는 마스터배치 형태로 출발 중합체에 첨가하는 것이 바람직하다. 이후 용융물을 평판 필름다이(슬롯다이)를 통해 압출하고, 압출된 다층 용융물을 하나 또는 그 이상의 인출롤(take-off rolls)에서 인출하고, 그 과정에서 용융물이 냉각 및 경화되어 예비필름이 형성된다.

이축배향은 일반적으로 연속적으로 수행하고, 먼저 예비 필름을 길이방향(즉, 기계방향=MD)으로 연신한 후, 횡방향(즉, 기계방향에 직각=TD)으로 연신하는 것이 바람직하다. 이로써 중합체사슬이 공간상 배향된다. 길이방향의 연신은 소정의 연신율에 따라 서로 다른 속도로 회전하는 2개의 로울에 의해 행해질 수 있다. 횡방향 연신을 위해서는 필름의 양모서리를 클램프하여 승온하에 양측으로 끌어당기는 적절한 텐터프레임을 사용하는 것이 일반적이다.

연신온도는 비교적 넓은 범위에서 다양하게 할 수 있으며, 원하는 필름의 특성에 따라 좌우된다. 일반적으로 길이방향의 연신은 80∼130℃에서 수행하고, 횡방향 연신은 80∼150℃에서 수행한다. 길이방향의 연신율은 일반적으로 2.5:1∼6:1, 바람직하게는 3:1∼5.5:1이다. 횡방향 연신율은 일반적으로 3.0:1∼5.0:1, 바람직하게는 3.5:1∼4.5:1이다. 횡방향 연신 전에 필름의 한면 또는 양면을 공지의 방법으로 인라인코팅할 수 있다. 인라인코팅을 하면, 예를 들어 금속층, 또는 뒤에 도포될 프린트잉크의 부착력이 개선되고, 그외에 대전방지성 및 가공성이 개선된다.

무광택도(= 매우 낮은 광택)가 매우 우수하고, 투명도가 개선된 필름을 제조하기 위해서, 필름의 평면 배향성(△p)이 0.170 미만, 바람직하게는 0.168 미만, 보다 바람직하게는 0.166 미만인 것이 적합한 것으로 판명되었다. 평면배향성(△p)이 낮으면 다음과 같이 된다.

· 입자 주위의 기포형성 경향이 줄어든다.

· 표면의 조도가 증가하는 경향이 있다.

필름의 평면배향성(△p)에 영향을 미치는 주요변수는 길이방향 및 횡방향 연신에서의 매개변수, 및 사용원료의 SV값(표준점도)인 것으로 밝혀졌다. 가공 매개변수는 길이방향 및 횡빙향 연신율(λ_MD및 λ_TD), 길이방향 및 횡빙향 연신온도(T_MD및 T_TD)이다. 예를 들어, λ_MD= 4.8, λ_TD= 4.0, 길이방향 연신온도(T_MD) 80∼118℃, 횡방향 연신온도(T_TD) 80∼125℃에서 평면 배향성(△p)이 0.171인 경우, 길이방향 연신온도(T_MD)가 80∼125℃로 증가하고, 횡방향 연신온도(T_TD)가 80∼135℃로 증가하거나, 또는 길이방향 연신율 (λ_MD)이 4.3으로 감소하고, 횡방향 연신율(λ_TD)이 3.7로 감소하여 평면 배향성(△p)이 소정의 범위 내에 있게 된다. 이 온도는 길이방향 연신에서의 특정 로울온도 및 횡방향 연신에서 IR수단으로 측정한 필름온도에 관계가 있다.

이어서, 필름을 약 150∼250℃에서 0.1∼10초 동안 열경화한다. 이후, 통상의 방법으로 필름을 권취한다.

이축연신후에는 공지의 방법들 중 하나에 의해 필름의 한면 또는 양면에 코로나 또는 화염처리를 하는 것이 바람직하다. 그 처리강도는 표면장력이 약 45mN/m의 범위 내에 있도록 선택될 수 있다.

소정의 다른 특성을 얻기 위해서 필름을 코팅할 수도 있다. 통상의 코팅은 접착촉진 작용, 정전기방지 작용, 미끄러짐 개선 또는 릴리이스 작용을 갖는 코팅이다. 필름에 이들 추가 층들의 도포는 길이방향 연신공정 후, 횡방향 연신공정 전에 수성 분산액을 사용하여 인라인 코팅으로 필름에 도포할 수 있다.

본 발명의 필름은 우수한 광학특성, 즉 낮은 광택 및 고 투명성, 매우 우수한 권취특성 및 매우 우수한 가공특성을 갖는다.

또한 필름제조시에 발생하는 다량의 절단물을 필름의 물리적 특성, 특히 외양에 어떠한 심각한 부작용을 주지 않으면서 필름의 전체 중량의 20∼60중량%까지 압출공정에 재사용할 수 있다.

따라서 본 발명의 필름은 유연성 포장용에 매우 적합하고, 우수한 가공성은 특히 고속포장기계에 적합하다.

하기의 표 1에 본 발명의 가장 중요한 필름특성을 일괄하여 나타낸다.

	본 발명의 범위	바람직한 범위	보다 바람직한 범위	단위	시험 방법
외층(A)
외층의 두께	> 0.1	0.3∼4.5	0.5∼4	㎛
입자 직경(d₅₀)	2.0∼10	2.2∼9	2.4∼8	㎛	상기 언급된대로
SPAN98 분포	≤2.0	≤1.9	≤1.8		상기 언급된대로
충진재 농도	10,000∼70,000	15,000∼65,000	20,000∼60,000	ppm
중합체의 이소프탈레이트 함량	4∼30	6∼28	8∼26	몰%
평균 조도(R_a)	150∼1,000	175∼950	200∼900	nm	DIN 4768, 0.25mm 컷오프
COF(A/A)	< 0.5	< 0.45	< 0.40		DIN 53375
광택, 입사각 60°	< 70	< 60	< 50		DIN 67530
표면가스유량의 측정범위	1∼50	1∼45	1∼40	초	상기 언급된대로
필름 특성
불투명도	< 45	< 40	< 35	%	ASTM D 1003-52
투명도	> 80	> 84	> 88		상기 언급된대로
체적 불투명도	< 15	< 10	< 5	%	상기 언급된대로
평면배향성(△p)	> 0.170	< 0.168	< 0.166	-	상기 언급된대로

하기의 시험방법을 이용하여 본 발명의 목적에 따른 원료 및 필름을 특정하였다.

DIN = Deutsches Institute fur Normung (독일 공업품 표준 규격)

ASTM = American Society for Testing and Materials (미국 재료 시험 협회)

SV (표준점도)

표준점도 SV(DCA)는 DIN 53726에 의한 방법에 따라 디클로로아세트산 중에서 측정하였다. 고유점도(IV)는 표준점도로부터 다음과 같이 계산하였다.

IV(DCA)= 6.907ㆍ10^-4SV(DCA) + 0.063096

표면장력(Surface Tension)

표면장력은 잉크법(DIN 53 364)과 같은 공지된 방법으로 측정하였다.

불투명도(Opacity)

불투명도는 4°핀홀 다이아프램 대신에 1°슬롯 다이아프램을 사용한 것 외에는 ASTM-D 1003-52에 기초한 휼즈(Holz)에 따라 측정하였다.

체적 불투명도(Volume opacity)

체적 불투명도의 측정을 위하여 필름 샘플을 프레임으로 조오하고 담금액을 갖는 큐벳(cuvette)에 담금질하였다. 상기 필름 샘플의 양면을 상기 담금액으로 완전히 적셨다. 상기 담금액은 굴절지수가 1.50∼1.65 이어야만 하고, 여기서는 1.516의 굴절지수를 갖는 독일 Merck사의 담금 오일을 사용하였따. 필름 샘플을 갖는 큐벳을 불투명도 측정 기구인 빔패스(beam path)에 주입하였다. 상기 불투명도 값이 측정되었고 필름 샘플을 갖지 않고 상기 용액이 채워진 큐벳의 값을 0(제로)값으로서 제하였다. 얻어진 값은 체적 불투명도 값과 동일하다.

광택(Gloss)

광택은 DIN 67 530에 따라 측정하였다. 반사율은 필름표면의 광학값으로 측정하였다. 표준 ASTM-D523-78 및 ISO 2813을 기초로 입사각을 20°또는 60°에 고정하였다. 광빔은 설정된 입사각으로 평평한 검사 표면을 때린 후에 반사 및/또는 산란한다. 전기적 변수의 비율이 현시되어 광전자 검출기를 때리는 광선을 나타낸다. 측정된 값은 치수가 없으며 입사각과 함께 나타내어야 한다.

표면가스유동시간(Surface gas flow time)

시험방식은 필름의 한면과 민활한 실리콘웨이퍼 시이트 사이의 공기유동에 의한다. 공기는 대기로부터 평가면으로 유동하고, 필름과 실리콘웨이퍼 시이트 사이의 계면은 유동저항으로서 기능을 한다.

둥근 필름샘플을, 그 중앙에 리시버에 연결되는 홀을 갖는 실리콘웨이퍼 시이트위에 놓는다. 리시버를 압력 0.1mbar 이하에서 평가한다. 리시버에서 56mbar로 압력을 상승시키기 위해 공기에 의해 얻어지는 초단위의 시간을 측정하였다.

시험조건:

시험영역 45.1㎠

적용 중량 1276g

공기온도 23℃

상대습도 50%RH

총 가스량 1.2㎤

압력차 56mbar

조도(Roughness)

필름의 조도(Ra)는 0.25mm 컷오프로 DIN 4768에서 측정하였다. 측정값은 유리판상이 아닌 환(ring)의 영향을 받았다. 상기 환상법(ring method)에서, 상기 필름은 양면 둘다 제3면에 닿지 않도록 환으로 조오되었다.

평면배향성(△p) 측정

평면배향성은 독일 Kruss Optronic사의 아베(Abbe) 굴절계로 굴절률을 측정함으로써 구한다. 상기평면 배향성은 항상 필름 중 광택이 더욱 큰 면에서 측정한다. 굴절율의 측정은 EP-A-0 952 176의 10페이지에서 상세하게 이미 설명되었다. 따라서 본 명세서에서는 참조문헌을 명시한다. 상기 배향성 값은 다음의 식에 의해 굴절율로부터 계산된다.

△n = n_MD- n_TD

△p = (n_MD+ n_TD)/2 - n_Z

n_av= (n_MD+ n_TD+ n_Z)/3

평균 직경(d ₅₀ )의 측정

평균 입자 직경(d₅₀)은 레이저 주사법에 의한 영국, Malvern Instrument사의 Master Sizer(다른 측정 장치로는 Horiba LA 500 또는 Helos(독일, Sympathec사 제조)를 들 수 있으며, 같은 측정방식을 사용)에 의해 측정하였다. 시험을 위해서,샘플을 물이 채워진 큐벳에 주입하고, 이것을 시험 장치에 놓는다. 레이저는 상기 분산을 주사하하고 눈금선과 비교하여 입자 크기 분포를 결정한다. 상기 입자 크기 분포는 2개의 매개변수, 평균 값(d₅₀, =평균값의 위치 측정)과 SPAN98로 알려진 분포도(입자 크기의 분포 측정)에 의해 특징지워진다. 측정 절차는 자동으로 행해지며 d₅₀값의 수학 계산을 포함한다. 여기에서, (상대)누적 입자크기 분포곡선으로부터 정의되는 것과 같이 d₅₀값을 측정한다; 50% 세로좌표와 누적곡선의 교차점으로 가로축상의 소정의 d₅₀값을 직접 구한다.[평균점으로도 언급, 예를 들면 도1,φ(d)=입자들의 (상대)합]

SPAN 98의 측정

분포 정도, SPAN 98을 측정하는데 사용되는 시험 장치는 평균직경 d₅₀의 측정에 대해 상기에서 설명한 것과 동일한 것으로 하였다. SPAN 98은 다음과 같이 정의된다.

SPAN 98 = d₉₈- d₁₀/ d₅₀

또한 (상대)누적 입자 크기 분포곡선은 d₉₈및 d₁₀을 측정하기 위한 근거로서 사용된다. 98% 세로좌표과 누적곡선의 교차점으로 가로축 사이의 소정의 d₉₈값을 직접 구하고, 10% 세로좌표와 누적곡선의 교차점으로 가로축 상의 소정의 d₁₀값을 직접 구한다(도2 참조). 투명도는 독일 Pausch Messtechnik사의 헤이즈 TC 혹은 미국Byk-Gardner사의 Hazegard-plus를 사용하여 HSTM D 1003-61에서 측정하였다.

본 발명을 하기의 실시예로 좀더 상세히 설명한다.

(실시예 1)

폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩(에스테르교환 촉매로서 망간(Mn)을 사용하는 에스테르교환 공정에 의해 제조, 중합체 내의 Mn 농도: 100ppm)을 150℃에서 건조하여 잔여수분이 100ppm 이하가 되도록 하고, 기저층(B)용 압출기에 공급하였다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩 및 충진제를 비무광택 외층(C)용 압출기에 공급하였다. 또한, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 칩(에스테르교환 촉매로서 망간(Mn)을 사용하는 에스테르교환 공정에 의해 제조, 중합체 내의 Mn 농도: 100ppm)을 150℃에서 건조하여 잔여수분이 100ppm 이하가 되도록 하고, 무광택 외층(A)용 압출기에 공급하였다.

공압출과 뒤이은, 길이방향 및 횡방향으로의 단계적 배향을 이용하여 ABC 구조를 가지며, 총 두께가 12㎛인 투명 3층 필름을 제조하였다. 상기 외층들의 두꼐는 각 1.2㎛이었다.

외층(A):

공중합 폴리에스테르(테레프탈산 90몰%, 이소프탈산 10몰% 및 에틸렌 글리콜 100몰%) 97중량% 및 d₅₀값이 3.4㎛이고, SPAN 98이 1.6인 실리카 입자(Sylysia? 430, Fuji사, 일본) 3중량%로 구성된 폴리에스테르 원료 100중량%.

기저층(B):

SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 4023(KoSa사, 독일) 100중량%.

외층(C):

SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 4023(KoSa사, 독일) 93.0중량%,

폴리에틸렌 테레프탈레이트 97.75중량% 및 Sylobloc? 44H(합성 SiO₂, Grace사, 미국) 1중량%의 마스터배치 7중량%, 및

Aerosil? TT 600(발열성 SiO₂, Degussa사, 독일)의 혼합물

각 공정단계의 제조조건은 다음과 같다.

압출: 온도 A층: 290℃

B층: 290℃

C층: 290℃

인출롤 온도: 25℃

길이방향 연신: 온도: 125℃

길이방향 연신율: 4.1

횡방향 연신: 온도: 130℃

횡방향 연신율: 3.9

열경화: 온도: 230℃

시간: 3초

상기 필름은 소정의 낮은 광택, 소정의 저 헤이즈, 소정의 낮은 체적 불투명도 및 소정의 높은 투명도를 갖는다. 또한 상기 필름은 인열없이 필름을 효과적으로 제조할 수 있으며, 소정의 가공 특성을 갖는다. 이와 같은 방법으로 제조된 필름의 구조와 특성을 표 2 및 표 3에 나타낸다.

(실시예 2)

실시예 1과 유사한 방법으로, 공압출을 사용하여 총 두께가 12㎛인 3층 필름을 제조하였다. 상기 외층(A)의 조성만 달리하였다.

외층(A):

공중합에스테르(테레프탈산 90몰%, 이소프탈산 10몰% 및 에틸렌 글리콜 100몰%) 95.5중량% 및 d₅₀값이 3.4㎛이고, SPAN 98이 1.6인 실리카 입자(Sylysia? 430, Fuji사, 일본) 4.5중량%로 구성된 폴리에스테르 원료 100중량%.

실시예 1과 비교하여, 필름의 광택이 현저히 저하되었다.

(실시예 3)

실시예 1과 비교하여, 상기 외층(A)의 구성만 달리하였다.

외층(A):

공중합 폴리에스테르(테레프탈산 80몰%, 이소프탈산 20몰% 및 에틸렌 글리콜 100몰%) 95.5중량% 및 d₅₀값이 3.4㎛이고, SPAN 98이 1.6인 실리카 입자(Sylysia? 430, Fuji사, 일본) 4.5중량%로 구성된 폴리에스테르 원료 100중량%.

실시예 2와 비교하여, 필름의 불투명도가 현저하게 저하되었고 사실상 변함없는 광택과 함께 필름의 투명도는 증가되었다.

(실시예 4)

실시예 3과 비교하여, 상기 외층(A)의 두께를 1.8㎛로 증가시켰다. 이는 필름의 불투명도 및 투명도에 심각한 변화를 주지 않고 광택이 감소되었다.

(실시예 5)

실시예 4와 비교하여, 상기 필름의 총 두께를 23㎛까지 증가시켰다. 본 필름의 불투명도 및 투명도는 총 두께가 12㎛인 필름의 것보다 약간 열화되었다.

(실시예 6)

실시예 1과 비교하여, 상기 외층(A)의 구성만 달리하였다.

외층(A):

공중합 폴리에스테르(테레프탈산 78몰%, 이소프탈산 22몰% 및 에틸렌 글리콜 100몰%) 95중량% 및 d₅₀값이 3.4㎛이고, SPAN 98이 1.6인 실리카 입자(Sylysia? 430, Fuji사, 일본) 5중량%로 구성된 폴리에스테르 원료 85중량%, 및

SV값이 800인 폴리에틸렌 테레프탈레이트 4023(KoSa사, 독일) 15중량%.

(비교예 1)

실시예 1과 비교하여, 외층(A)의 구성이 아래와 같은 필름이 제조되었다.

외층(A):

폴리에틸렌 테레프탈레이트 98몰% 및 d₅₀값이 3.4㎛인 실리카 입자2.0중량%로 이루어진 폴리에스테르 원료 100중량%.

상기 필름의 무광택성, 필름의 불투명도 및 투명도, 그리고 필름의 제고특성이 현저히 열화되었다.

표 2 및 표 3에 실험 결과를 편집하여 나타낸다.

실시예	필름두께(㎛)	필름구조	층두께(㎛)	층 내의 입자	층 내의 입자의 d₅₀값(㎛)	안료농도(ppm)	A층의 이소프탈레이트 함량
			A	B	C	A	B	C	A	C	A	C	몰%
E1	12	ABC	1.2	9.6	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	30,000	700 875	10
E2	12	ABC	1.2	9.6	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	45,000	700 875	10
E3	12	ABC	1.2	9.6	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	45,000	700 875	20
E4	12	ABC	1.8	9.0	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	45,000	700 875	20
E5	23	ABC	1.8	20.0	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	45,000	700 875	20
E6	12	ABC	1.2	9.6	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	42,500	700 875	18.7

CE1	12	ABC	1.2	9.6	1.2	Sylysia430	none	Sylobloc 44HAerosil TT 600	3.4	2.5 0.04	20,000	700 875	0

실시예	평균조도(R_a)	가스 유량의 측정	평면배향성(△p)	광택60°	광택20°	불투명도(%)	체적불투명도(%)	투명도(%)	제조특성
	A면	C면	A면	C면		A면	C면
E1	280	60	10	130	0.165	55	145	35	5.2	88	++
E2	320	60	9	130	0.165	44	140	38	8.1	86	++
E3	320	60	8	130	0.165	46	141	32	1.8	89	++
E4	320	60	8	130	0.165	42	138	34	2.0	87	++
E5	320	60	8	130	0.165	42	139	36	2.7	85	++
E6	320	60	7	130	0.165	42	139	36	2.7	85	++
CE1	210	60	15	130	0.165	70	160	62	26.5	79	-

필름의 권취성 및 가공특성에 대한 기호:

+++: 인열 없음, 낮은 제조비용

-: 약간의 인열, 필름 제조시 높은 제조 비용

본 발명에 의하면 우수한 광학특성, 즉 낮은 광택 및 고 투명성, 매우 우수한 권취특성 및 매우 우수한 가공특성을 갖는 필름이 제공된다. 본 필름은 필름제조시에 발생하는 다량의 절단물을 필름의 물리적 특성, 특히 외양에 어떠한 심각한 부작용을 주지 않으면서 필름의 전체 중량의 20∼60중량%까지 압출공정에 재사용할 수 있다. 따라서 본 발명의 필름은 유연성 포장용에 매우 적합하고, 우수한 가공성은 특히 고속포장기계에 적합하다.

Claims

외층(A)가 평균 입자 직경(d₅₀)이 2∼10㎛이고 SPAN98 값이 2이하인 입자를 함유하며 또한 상기 외층(A)가 이 층의 폴리에스테르의 산(acid)의 총 량을 기초로 이소프탈산 유니트를 4∼30몰% 함유하는 폴리에스테르로 구성되는 것을 특징으로 하는 적어도 하나 이상의 기저층(B)와 적어도 하나 이상의 무광택 외층(A)를 갖는 폴리에스테르 필름.
제1항에 있어서, 상기 외층(A)의 입자 함량이 이 층의 총 중량을 기초로 10,000∼70,000ppm 인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 입자의 직경(d₅₀)은 2.2∼9㎛, 바람직하게는 2.4∼8㎛인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외층(A)에 존재하는 폴리에스테르는 이소프탈산 유니트를 6∼28몰%, 바람직하게는 8∼26몰% 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외층(A)에 존재하는 입자는1.9이하, 바람직하게는 1.8이하인 SPAN98을 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외층(A)에 존재하는 입자는 유기 및/또는 무기 입자이고, 바람직하게는 SiO₂인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 외층(A)에 존재하는 폴리에스테르는 테레프탈레이트 유니트, 이소프탈레이트 유니트, 및 에틸렌 글리콜 유니트를 함유하는 공중합 폴리에스테르인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저층(B)는 열가소성 폴리에스테르가 적어도 80중량%, 바람직하게는 90중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저층(B)의 열가소성 폴리에스테르는 테레프탈산 유니트와 에틸렌 글리콜 유니트, 및/또는 나프탈렌-2,6-디카르복시산 유니트 및 에틸렌 글리콜 유니트를 함유하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트는 기저층(B)용 열가소성 폴리에스테르로서 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저층(B)는 외부 입자를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, ABC층 구조를 가지며, 외층인 (A) 및 (C)는 같거나 혹은 다른 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 0.170이하의 평면배향성(△p)를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 45% 미만의 불투명도를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 15% 미만의 체적 불투명도를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 80%이상의 투명도를 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 무광택 외층(a)는 70미만의 광택을 갖는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.
a) 공압출을 통해 다층 필름을 제조하고 용융 필름을 성형하여 편평한 용융 필름을 제조하는 단계,

b) 상기 필름을 이축으로 연신하는 단계, 및

c) 상기 연신된 필름을 열경화하는 단계를 포함하는 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항의 폴리에스테르 필름의 제조방법.
유연성 포장 필름, 특히 음식 혹은 다른 소비재품의 포장 필름으로서의 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항의 폴리에스테르 필름의 용도.
제19항에 있어서, 상기 포장 절차는 고속주행 포장 기계에서 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름의 용도.