KR20040058838A - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 셀갭의 조정을 통해 각 픽셀의 색특성과 휘도를 보상할 수 있는 방법을 제시하고 있다.
이는 서로 이격되고 대향하며 적(R), 녹(G), 청(B)영역이 각 대향면에 구성되어 있는 제1 및 제2 기판과; 상기 제2기판과 대향하는 제1기판의 내면에 형성되며 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터를 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되는 공통전극과; 상기 제1기판과 대향하는 제2기판의 내면에 형상되는 어레이부와; 상기 어레이부 상부에 형성되고 적(R), 녹(G), 청(B) 영역별로 서로 다른 두께를 갖는 보호막과; 상기 보호막 상부에 형성되는 화소전극을 포함하는 액정표시장치에 있어서, 상기 보호막의 두께를 조절하여 상기 컬러필터와 하부기판과의 거리인 셀갭을 조절하는 것을 특징으로 한다.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{LCD and the structure}
본 발명은 반사형 액정표시장치에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 콜레스테릭 액정 컬러필터(Cholesteric Liquid Crystal Color Filter : CLC C/F)를 이용한ECB모드 액정표시장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치로는 색 재현성이 우수하고 박형인 박막 트랜지스터형 액정 표시소자(Thin film transistor-liquid crystal display ; 이하 액정표시장치로 약칭함)가 주류를 이루고 있다.
일반적인 액정표시장치는 하부 기판이라 불리는 박막 트랜지스터 어레이 기판(TFT array substrate)과 상부 기판이라고 불리는 컬러필터 기판(color filter substrate) 등으로 구성된다.
이러한 액정표시장치에서는 상기 하부 기판의 하부에 위치한 백라이트를 광원으로 사용한다.
그러나, 이 백라이트에서 생성된 빛은 액정표시장치의 각 셀을 통과하면서 실제로 화면상으로는 7% 정도만 투과된다.
그러므로, 고휘도의 액정표시장치를 제공하기 위해서는 백라이트를 더욱 밝게 해야 하므로, 전력소모량이 커지게 된다.
그래서, 충분한 백라이트의 전원 공급용으로 무게가 많이 나가는 배터리(battery)를 사용해왔으나, 이 또한 사용시간에 제한이 있다.
상술한 문제점을 해결하기 위해 최근에 백라이트광을 사용하지 않는 반사형 액정표시장치가 연구/개발되었다.
이 반사형 액정표시장치는 외부광을 이용하여 동작하므로, 백라이트가 소모하는 전력량을 대폭 감소하는 효과가 있기 때문에 장시간 휴대상태에서 사용이 가능하여 전자수첩이나 PDA(Personal Digital Assistant) 등의 휴대용 표시소자로 이용되고 있다.
이러한 반사형 액정표시장치에서는, 기존 투과형 액정표시장치에서 투명전극으로 형성된 화소부가 불투명의 반사특성이 있는 반사판 또는 반사전극으로 되어 있다.
그러나, 이러한 반사형 액정표시장치는 외부광을 이용하므로, 휘도가 상당히 떨어지는 문제점이 발생한다.
상기와 같이 휘도가 떨어지는 문제는 이 반사형 액정표시장치의 특성상, 외부광이 상기 컬러필터 기판을 통과하고 이어 상기 하부기판에 위치하는 반사전극에 의해 반사된 후, 다시 컬러필터 기판을 투과해서 화상으로 표현되는 방식으로, 이 컬러필터를 2번 통과하면서 빛의 투과율이 떨어져 휘도가 낮아지게 된다.
일반적으로 컬러필터의 두께는 투과율과는 반비례하고, 색순도와는 비례관계를 가지고 있어, 상기와 같이 휘도가 떨어지는 문제점을 해결하기 위해서는 이 컬러필터의 두께를 얇게 하여 투과율을 높이고 색순도를 낮추는 방법이 있으나, 컬러필터로 이용되는 레진의 특성상 일정한 컬러필터를 일정두께 이하로 제조하는데는 한계가 있다.
상술한 문제점을 개선하기 위하여, 빛을 선택적으로 반사 또는 투과하는 특성을 가지는 콜레스테릭 액정(이하, CLC로 약칭함)을 이용한 액정표시장치가 연구/개발되었다.
일반적으로 액정분자는 구조와 조성에 따라 액정상을 띠게 된다. 액정상은 온도와 농도에 영향을 받는다. 지금까지 많이 연구되고 응용된 액정 또는 액정상은, 액정분자들이 일정한 방향으로 정렬된 규칙성을 갖는 네마틱(Nematic) 액정이다. 이 네마틱 액정은 특히 현재 상용화된 액정디스플레이(LCD;Liquid Crystal Display)에 적용되고 있다.
상기 CLC는, 액정의 분자축이 비틀어진 경우나 반사된 분자의 상이 원래의 상과 다른 카이랄(chiral) 특성을 띠는 분자와 네마틱 액정을 혼합하여 네마틱 액정의 디렉터(director)가 비틀어진 배열 상태를 가지는 액정을 뜻한다.
일반적으로, 네마틱 액정상은 액정 분자들이 일정 방향으로 정렬된 규칙성을 갖는다. 이에 비해 CLC는 층의 구조를 갖는데 각 층에서 액정들은 일반 네마틱의 규칙성을 보인다. 하지만 층간 액정의 배열은 한 방향으로 회전하게 되고 이 회전에 의해 층간의 반사율에 차이가 생기게 된다. 이러한 반사율의 차이는 빛의 반사와 간섭에 의해 색상을 보여 줄 수 있다.
상기 CLC의 액정 분자들의 회전은 일종의 나선(螺旋)구조로 볼 수 있다. 이러한 나선 구조에서 나타나는 두 가지 구조의 특징은 나선의 회전 방향과 나선의 반복 주기인 피치(pitch)이다. 피치는 액정층이 다시 동일한 배열로 돌아올 때까지의 거리로 이해할 수 있고 이 피치가 CLC의 색상을 결정하는 변수이다.
즉, 반사되는 중심파장은 상기에 기술한 피치와 CLC 액정의 평균굴절률의 함수(λ= n(avg)·pitch)이다. (n(avg) ; 평균굴절률)
예를 들어, 평균굴절률이 1.5인 CLC 액정의 피치가 430nm인 경우에 중심반사 파장은 대략 650nm가 되어 적색을 띠게 된다. 그외에 녹색과 청색에 대해서는 적합한 CLC 액정의 피치를 줌으로써 구현할 수 있다.
CLC의 구조에서 또 다른 중요 특징은 CLC 나선의 회전방향이다. 이는 CLC의 반사특성에 있어 편광(偏光)을 형성시킬 수 있는 중요한 요인이 된다. 즉 CLC의 나선구조가 우선(右旋) 혹은 좌선(左旋) 여부에 따라 반사되는 빛의 원 편광(圓偏光)의 방향이 결정된다. 우선 CLC는 해당 피치의 우원 편광을 반사하게 된다. 일상의 빛은 우원 혹은 좌원 편광의 합으로 생각할 수 있고 CLC를 이용하는 경우 그 구조에 따라 일정 성분의 원 편광을 분리할 수 있다. 현재 사용되는 LCD에서 빛의 편광특성(선 편광)이 이용되는 점을 착안한다면, 이러한 CLC를 이용하면 일반적인 안료 또는 염료를 이용한 컬러필터에 비해 광의 활용도를 대폭 개선하여 소비전력을 효과적으로 낮출 수 있다.
상기와 같이 설명한 CLC 소자 중 포토크롬(PhotoChromic) CLC를 이용하여 형성한 컬러필터를 이용하는 액정표시장치에서는, 원하는 색에 해당되는 파장대로 피치를 조절하여 CLC에 통과시켜 형성하는 R, G, B에 해당하는 CLC C/F(컬러필터)를 생성한다.
상기와 같은 CLC C/F는 B(청)-CLC를 코팅한 후 자외선(UV)을 조사하여 G(녹), R(적) CLC C/F를 생성하는데 상기 자외선 조사 이후에 각 CLC C/F의 두께가 달라지게 되어 도 1과 같은 구조를 가지게 된다.
도 1은 R,G,B 각각의 색깔별로 셀갭(Cell gap : d)이 다르게 형성된 액정표시장치의 CLC 컬러필터 구조를 도시한 도면으로서, 대향하는 두 장의 투명기판(21,22) 사이에 배향막(23,24)을 사이에 두고 스페이서(25)에 의해서 액정(26)이 소정의 갭을 유지하면서 밀봉된 상태로 주입되어 있으며,컬러필터(27)(R,G,B)의 두께가 각각 서로 다른 구조이다.
그러나 상기와 같이 셀갭이 일정하지 않을 경우, 그 부분을 통과하는 빛의 투과도가 달라져 공간적으로 불균일한 밝기를 나타내는 균일성(uniformity) 불량을 나타내게 되며, 또한 상기 셀갭을 모두 일정하게 유지한다고 할 때는 컬러 밸런스의 문제가 발생하게 된다.
다음은 이 문제에 대해서 보다 자세하게 설명한다.
AFLC모드, ECB모드 또는 IPS모드는 원리적으로 동일하게 빛의 복굴절 특성을 사용한다고 하여 복굴절 모드라고 명명하는데, 이러한 모드에서의 광투과율(T)은 기본적으로 T=Sin2(2θ)*Sin2(δ/2)(단, θ는 입사광 쪽의 편광판 투과축과 액정방향 사이의 각도, δ(위상차)=2πd*Δneff/λ, d는 셀갭, Δneff는 유효 굴절율, λ는 빛의 파장)로 표현될 수 있다.
여기서 살펴보면 투과율(T)은 셀갭(d)과 빛의 파장(λ), 및 매질에 관한 함수임을 알 수 있고, 같은 셀갭(d)일 때 전압인가에 따른 R,G,B 색의 투과율 특성을 고찰해 보면 R,G,B 각 화소별로 투과되는 파장이 다름에 따라 상기 광투과율 T=Sin2(2θ)*Sin2(δ/2)에서 보듯이, 같은 액정 배열에서도 위상차가 달라지고 결과적으로 중간계조(또는 그레이)에서의 투과율 차이를 보이게 됨에 따라 색 밸런스가 깨지는 문제가 발생한다. 또한, 최대 투과율이 만들어지는 전압도 R,G,B 각 화소별로 다르게 됨에 따라 최적의 백색광을 만들기가 어렵다.
상기와 같은 문제점을 가지는 컬러필터와 셀갭간의 문제에 있어서, CLC 컬러필터를 이용하여 ECB모드로 셀을 제작할 경우(액정의 유효 굴절율을 0.1 이라 가정하면), 적(R)-픽셀의 셀갭이 약 3.3 ㎛로 가장 크고 청(B)-픽셀의 셀갭이 약 2.0 ㎛정도로 가장 작아야 하는데 상기한 도시에서는 이러한 상황과 반대가 된다. 따라서, 각 픽셀에서 투과되는 광효율이 떨어지게 되고 이는 색특성과 투과율이 저하되는 원인이 된다.
본 발명은 상기와 같이, CLC 컬러필터를 이용해 ECB모드의 액정표시장치를 제조하는데 있어서 상기 각각의 CLC 컬러필터와 셀갭 사이의 문제점으로 발생되는 광효율의 저하를 개선하기 위한 셀갭보상방법을 제시한다.
아울러 상기 셀갭의 보상을 통한 액정표시장치의 구조와 그 제조방법을 제시한다.
도 1은 종래의 액정표시장치에서 CLC C/F의 형성에 의한 셀갭의 차이를 설명하기 위한 도면
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 일 픽셀 단면을 도시한 도면
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조를 위한 공정을 도시한 흐름도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
21, 22 : 투명기판 26 : 액정
1R,1G,1B : 서브픽셀 어레이부 2R,2G,2B : 컬러필터
30R,30G,30b : 보호막
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 서로 이격되고 대향하며 적(R), 녹(G), 청(B)영역이 각 대향면에 구성되어 있는 제1 및 제2 기판과; 상기 제2기판과 대향하는 제1기판의 내면에 형성되며 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터를 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되는 공통전극과; 상기 제1기판과 대향하는 제2기판의 내면에 형상되는 어레이부와; 상기 어레이부 상부에 형성되고 적(R), 녹(G), 청(B) 영역별로 서로 다른 두께를 갖는 보호막과; 상기 보호막상부에 형성되는 화소전극을 포함하는 액정표시장치를 제시한다.
여기서 상기 보호막의 두께는 적(R), 녹(G), 청(B) 순으로 두꺼워지는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 컬러필터는 콜레스테릭 액정(CLC)인 것을 특징으로 하고, 아울러 상기 CLC 컬러필터는 그 두께가 적(R), 녹(G), 청(B) 순으로 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 구성의 본 발명에 따른 액정표시장치에서, 상기 제2기판에 박막트랜지스터와 보호막을 형성하는 단계와; 상기 보호막 자체에 포토레지스트(PR) 성분을 포함하고 있는 경우, 상기 각 컬러필터에 대향되는 보호막에 대한 마스크를 설계하는 단계와; 상기 마스크를 이용해 각 색요소에 대향되는 보호막을 노광하여 식각하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법을 제안한다. 여기서 상기 마스크는 그레이(Gray) 영역을 포함하는 마스크인 것을 특징으로 한다.
또한 상기와 같은 구성의 본 발명에 따른 액정표시장치에서, 상기 제2기판에 박막트랜지스터와 보호막을 형성하는 단계와; 상기 보호막 자체에 포토레지스트(PR) 성분을 포함하고 있지 않은 경우, 상기 보호막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계와; 마스크를 이용해 적(R) 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거하는 단계와; 상기 포토레지스트가 제거된 적(R) 컬러필터에 대향되는 부분의 보호막을 식각하는 단계와; 상기 보호막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계와; 마스크를 이용해 적(R) 및 녹(G) 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거하는 단계와; 상기 포토레지스트가 제거된 적(R) 및녹(G) 컬러필터에 대향되는 부분의 보호막을 식각하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법을 제안한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 때해 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 일 픽셀 단면을 도시한 도면으로서, 투명기판(21) 상에 형성된 R,G,B 각 서브픽셀어레이부(1R)(1G)(1B)와 액정(26)을 사이에 두고 대응되는 ECB모드 액정표시장치에서의 적, 녹, 청 CLC 컬러필터(2R)(2G)(2B)와 배향막(24)이 형성된 상부 투명기판(22)을 도시하고 있다. 상기 제2기판상의 배향막은 본 발명에 대한 설명의 편의를 위해 도시하지 않았다. 상기 각 서브픽셀(1R)(1G)(1B)은 TFT어레이 부분으로서 상부에 보호막(30R)(30G)(30B)이 형성되고 화소전극(미도시)이 상기 보호막 상부에 위치하는 바, 보다 명료한 설명을 위해 화소전극과 공통전극은 도시하지 않는다.
상기 각 색요소의 컬러필터는 TFT어레이가 형성되는 제2기판의 각 서브픽셀, 즉, (1R), (1G), (1B) 상에 대응되어 위치하며 콜레스테릭 액정(CLC)을 이용하여 컬러필터를 형성하였기 때문에 적(R)-컬러필터(2R)의 두께가 가장 두껍다.
상기와 같은 구조에서 상기 제2기판에 형성되는 TFT어레이는 각 서브픽셀 어레이부(1R)(1G)(1B)의 상부에 코팅되는 보호막(30R)(30G)(30B)의 두께가 다르게 형성되어 있는 바, 이는 상기 각 서브픽셀과 대향되는 컬러필터와의 셀갭 조절을 위한 것이다.
상기 도시에서 dR'와, dG', dB'는 그 거리가 각 색요소의 컬러필터를 투과하는광의 투과율을 최대로 높이기 위해, dR'> dG'> dB' 순으로 컬러필터와 제2기판과의 거리를 형성하고 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 액정표시장치에서 상기 dR'는 CLC 액정의 유효굴절율을 0.1이라 가정할 때 약 3㎛ 이고, 상기 dG'는 약 2.75 ㎛, 상기 dB'는 약 2.5 ㎛ 정도인 것이 바람직하다.
이하 상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법에 대해 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조를 위한 공정을 도시한 흐름도이다.
상기 도2와 같이 투명기판 상에 적, 녹, 청 색요소의 컬러필터(2R)(2G)(2B)가 형성되어 있는 제1기판과, 투명기판(21) 상에 박막트랜지스터가 형성되고 상기 박막트랜지스터 상부에 보호막(30R)(30G)(30B)과 화소전극(미도시)이 형성되어 있는 제2기판이 서로 대향되어 배치되고, 상기 제1기판과 제2기판 사이에 액정이 주입되고 밀봉되어 이루어지는 액정표시장치에서, 상기 제2기판의 제조공정 중 상기 보호막의 코팅 공정까지 진행된 이후에 수행되는 공정을 설명한다.
먼저 상기 보호막 자체가 포토레지스트(PR)와 같은 감광성물질인 경우에는(S10), 상기 각 컬러필터(2R)(2G)(2B)에 대향되는 보호막(30R)(30G)(30B)에 대한 마스크를 설계한다.(S11) 이때 상기 마스크는 그레이 마스크가 포함된 마스크인 것이 바람직하다.
상기 설계된 마스크를 이용해 각 색요소에 대향되는 보호막을 노광하여 식각하는데, 이때 상기 각 색요소의 셀갭 조절을 위해 상기 각 컬러필터에 대향되는 서브픽셀 보호막으로의 노광양을 조절하는 것은 당연하다.(S12)
다음으로 상기 보호막 자체에 포토레지스트(PR)와 같은 감광성물질을 포함하고 있지 않은 경우에는(S20), 상기 보호막 상에 포토레지스트(PR)를 도포하고(S21), 마스크를 이용해 적(R) 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거한다.(S22)
다음으로 상기 포토레지스트(PR)가 제거된 적(R)-서브픽셀어레이부(1R)의 보호막(30R)을 식각한다.(S23) 상기 식각방법은 특히 정해지지 않고 종래의 다양한 식각방법을 이용할 수 있다.
상기 적(R)-서브픽셀어레이부(1R)의 보호막(30R)이 소정부분 식각되어 제거되고 나면, 상기 보호막 상에 다시 포토레지스트를 도포한다.(S24)
다음으로 다시 마스크를 이용해 적(R)-서브픽셀어레이부(1R) 및 녹(G)-픽셀(1G) 상의 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거한다.(S25)
상기 포토레지스트(PR)가 제거된 적(R)-서브픽셀어레이부(1R) 및 녹(G)-서브픽셀어레이부(1G)의 보호막(30R)(30G)을 동시에 식각한다.(S26)
상기와 같이 설명한 방법은 적(R)-서브픽셀어레이부(1R)의 보호막(30R)이 1차제거를 수행하고 또한 상기 녹(G)-서브픽셀어레이부(1G)의 보호막(30G) 제거시에 다시 한번 2차제거를 수행하는 단계적인 방법을 설명하고 있다.
상기와 같이 설명한 본 발명에 따른 액정표시장치와 그 제조방법은 보호막의 두께를 조절하는 방법으로 셀갭조절을 통한 광투과율개선 및 색특성 보상을 수행할 수 있는 장점이 있다.

Claims (7)

  1. 서로 이격되고 대향하며 적(R), 녹(G), 청(B)영역이 각 대향면에 구성되어 있는 제1 및 제2 기판과;
    상기 제2기판과 대향하는 제1기판의 내면에 형성되며 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터를 포함하는 컬러필터층과;
    상기 컬러필터층 상부에 형성되는 공통전극과;
    상기 제1기판과 대향하는 제2기판의 내면에 형상되는 어레이부와;
    상기 어레이부 상부에 형성되고 적(R), 녹(G), 청(B) 영역별로 서로 다른 두께를 갖는 보호막과;
    상기 보호막 상부에 형성되는 화소전극
    을 포함하는 액정표시장치
  2. 청구항 제 1 항에 있어서,
    상기 보호막의 두께는 적(R), 녹(G), 청(B) 순으로 두꺼워지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
  3. 청구항 제 1 항에 있어서,
    상기 컬러필터는 콜레스테릭 액정(CLC)을 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
  4. 청구항 제 1 항 내지 3 항에 있어서,
    상기 CLC 컬러필터는 그 두께가 적(R), 녹(G), 청(B) 순으로 작아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
  5. 서로 이격되고 대향하며 적(R), 녹(G), 청(B)영역이 각 대향면에 구성되어 있는 제1 및 제2 기판과; 상기 제2기판과 대향하는 제1기판의 내면에 형성되며 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터를 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되는 공통전극과; 상기 제1기판과 대향하는 제2기판의 내면에 형상되는 어레이부와; 상기 어레이부 상부에 형성되고 적(R), 녹(G), 청(B) 영역별로 서로 다른 두께를 갖는 보호막과; 상기 보호막 상부에 형성되는 화소전극을 포함하는 액정표시장치에서 상기 보호막의 두께를 조절하여 상기 컬러필터와 제2기판과의 거리를 조절하기 위한 방법으로,
    상기 제2기판에 박막트랜지스터와 보호막을 형성하는 단계와;
    상기 보호막 자체에 포토레지스트(PR) 성분을 포함하고 있는 경우, 상기 각 컬러필터에 대향되는 보호막에 대한 마스크를 설계하는 단계와;
    상기 마스크를 이용해 각 색요소에 대향되는 보호막을 노광하여 식각하는 단계
    를 포함하는 액정표시장치 제조방법
  6. 청구항 제 5 항에 있어서,
    상기 마스크는 그레이(Gray)영역이 포함된 마스크인 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법
  7. 서로 이격되고 대향하며 적(R), 녹(G), 청(B)영역이 각 대향면에 구성되어 있는 제1 및 제2 기판과; 상기 제2기판과 대향하는 제1기판의 내면에 형성되며 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러필터를 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되는 공통전극과; 상기 제1기판과 대향하는 제2기판의 내면에 형상되는 어레이부와; 상기 어레이부 상부에 형성되고 적(R), 녹(G), 청(B) 영역별로 서로 다른 두께를 갖는 보호막과; 상기 보호막 상부에 형성되는 화소전극을 포함하는 액정표시장치에서 상기 보호막의 두께를 조절하여 상기 컬러필터와 제2기판과의 거리를 조절하기 위한 방법으로,
    상기 제2기판에 박막트랜지스터와 보호막을 형성하는 단계와;
    상기 보호막 자체에 포토레지스트(PR) 성분을 포함하고 있지 않은 경우, 상기 보호막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계와;
    마스크를 이용해 적(R) 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거하는 단계와;
    상기 포토레지스트가 제거된 적(R) 컬러필터에 대향되는 부분의 보호막을 식각하는 단계와;
    상기 보호막 상에 포토레지스트를 도포하는 단계와;
    마스크를 이용해 적(R) 및 녹(G) 컬러필터에 대향되는 부분의 포토레지스트를 노광하여 제거하는 단계와;
    상기 포토레지스트가 제거된 적(R) 및 녹(G) 컬러필터에 대향되는 부분의 보호막을 식각하는 단계
    를 포함하는 액정표시장치 제조방법
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100943184B1 (ko) * 2008-03-25 2010-02-19 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 디스플레이 장치
KR101352111B1 (ko) * 2007-06-14 2014-01-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그의 제조방법
KR20170079634A (ko) * 2015-12-30 2017-07-10 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법

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