KR20040039402A - 염화 암모늄 및 황산 암모늄에 의한 오염 및 부식을방지하는 방법 - Google Patents

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Abstract

콜린 또는 그것의 유도체를 첨가제로서 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 염화 암모늄 및 황산 암모늄을 원인으로 하는 오염 및 부식을 방지하는 방법.

Description

염화 암모늄 및 황산 암모늄에 의한 오염 및 부식을 방지하는 방법{METHOD FOR PREVENTING FOULING AND CORROSION CAUSED BY AMMONIUM CHLORIDE AND AMMONIUM SULPHATES}
문헌이나 현장 연구로부터 염화 암모늄 및 황산 암모늄은 가스로서, 고체로서 또는 용액에서 부식성이라는 것은 알려져 있다. 염화 암모늄은 산성이고, 금속 이온과 착화물을 형성하며, 부식성의 염소 이온을 포함한다. 황산 암모늄은 산성이고, 금속 이온과 착화물을 형성한다. 따라서, 염화 암모늄 및 황산 암모늄이 공정 그 자체를 통해 발생되거나 또는 공급 원료와 다른 유닛으로부터 도입되는 정제 공정에서 부식 방지는 중요한 관심사 중의 하나이다. 몇가지 형태의 부식이 관찰되었다.
본 발명은 원유 정제 공정에서 특별하게 형성되거나 존재하는 염화 암모늄 및 황산 암모늄에 의한 오염 및 부식을 방지하기 위한 방법에 관한 것이다.
첨부된 도면에서 보여지는, 연속적인 재생 촉매를 갖는 공장형 촉매 재생기는 암모니아와 염소의 다양한 수준에서 첨가제의 성능을 시험하는 데 사용된다. 도면에서 보는 바와 같이, 이 재생기는 주로 연속하여 장착된 반응기(1), 에어핀 냉각기(2), 분리기(3) 및 안정화기(4)를 포함한다.
부식의 양은 예컨대, NH4Cl 농도, pH, 및 온도에 상당히 의존한다. 철, 알루미늄, 납, 스테인레스 스틸, 또는 비철 금속류로 만든 장비는 특히 응력 부식 균열(stress corrosion cracking)이 되는 경향이 있다.
고체 염화 암모늄은 비중 d4 20이 1.530이다. 그것의 평균 비열 Cp는 298 내지 372oK에서 1.63 kJ/kg이다.
염화 암모늄은 두개의 변형체를 갖는다. 둘 사이의 전환은 457.6oK (184.5 ℃) 에서 가역적이다:
α-NH4Cl (입방체, CsCl형) ↔ β-NH4Cl (입방체, NaCl형) ↔ ΔH = +4.3 kJ/mole.
α변형체는 실온에서 안정하다. β-NH4Cl은 793.2oK 3.45 MPa하에서 용융한다; 그것은 대기압에서 승화한다. 사실, NH4Cl은 저온에서 상당히 휘발성이고, NH3및 HCl로 분해된다:
온도,oK 523.2 543.2 563.2 583.2 603.2 611.2
압력, kPa 6.6 13.0 24.7 45.5 81.4 101.3
물에서 NH4Cl의 용해도는 온도에 따라 증가한다:
온도,oK 273.2 293.2 313.2 333.2 353.2 373.2 389.2
농도, 중량% 22.9 27.2 31.5 35.6 39.7 43.6 46.6
포화된 NH4Cl용액의 분압은 NH4Cl이 약하게 흡습성임을 보여준다:
온도,oK 283.2 293.2 303.2 313.2 323.2 389.2
압력, kPa 1.0 1.9 3.3 5.4 8.8 101.3
황산 암모늄 및, 특별히 중황산 암모늄 역시 상기 언급한 정제 공정에서 오염제 및 부식제로서 침전한다는 사실은 덜 알려져 있다.
황산 암모늄은 암모니아를 배출하고 중황산을 남기면서 분해되지 않고서는 대기압에서 용융될 수 없다. 그러나, 순수한, 무수 황산 암모늄의 암모니아 증기압은 80 ℃까지 0이다. 300 ℃ 이상에서는, 분해되어 암모니아 외에도 N2, SO2, SO3, 및 H20를 방출한다.
염은 수화물을 형성하지 않는다. 황산 암모늄의 용해도는 암모니아 첨가에 의해 확실하게 감소한다: 10 ℃에서, 물 100 g 중 (NH4)2SO4의 용해도는 73 g으로부터, 거의 직선적으로, 24.5 % 수성 암모니아액 100 g 중 18 g으로 감소한다.
원유 정제 공정에서 오염 및 부식 현상, 예컨대, 습식-처리, 수소첨가분해 (hydrocracking), 촉매적 재생성, 촉매 분해 등-이러한 공정에 한정하지는 않음-이 조작자의 중요한 관심사이다. 통상적인 전환 정제는 장비의 유지 및 재생에 많은 비용이 들고, 따라서 유닛의 비가동 시간이 생산 및 이익에 실질적인 손실을 차지한다.
염화 암모늄 오염에 노출된 장비는 응력 부식 균열을 방지하기 위해 알칼리 용액으로 철저하게 세척되어야 한다. 암모늄 중황산은 염화 암모늄에 비해, 고온에서 침착되므로, 물세척만으로는 제거하기가 더 어렵다.
통상적으로 오염 및 부식되는 부위는 예컨대, 반응기 및 증류 칼럼으로부터 연료-주입 교환기, 반응기 공급원료로 수소 함유 염화 암모늄을 운반하는 재순환가스 압축기, 안정화기, 재탕기 및 상부(overhead) 구간 등이 있으나 이것만으로 한정하지는 않는다.
본 발명은 염화 암모늄 및 황산 암모늄에 의해 유발된 오염 및 부식을 방지하기 위한 방법 제공을 목적으로 한다.
본 발명에 따라 콜린 또는 그것의 유도체, 더 특이적으로는 다음의 일반식 중 하나의 유도체를 첨가제로서 주입하는 것에 의해 이러한 목적은 달성된다:
(CH3)3N+-CH2CH2-0-,
(CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-H, 및
(CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-R, 여기서 R은 C1-C20의 알킬이다.
콜린 염기로 알려진 콜린은, 강력한 유기 염기 액체이다: 일반식 [(CH3)3N+-CH2CH2-OH]-0H-인 트리메틸(2-히드록시에틸)암모늄히드록시드이다. 그것은 일반적으로 유리염기로서가 아니라, 콜린 히드록시드, 콜린 클로리드, 콜린 히드로젠 타르트레이트, 트리콜린 시트레이트와 같은 염 또는 유도체의 형태로 반응하며 그것들은 상업적으로 구입가능하고 의약적 응용물 및 영양제로 사용된다.
공정의 흐름에 첨가제를 주입함으로써, 염화 암모늄 및 황산 암모늄은 놀랍게도 액체이고 중성이며 염화 암모늄 및 황산 암모늄에 의한 오염 및 부식으로부터 여러 가지의 공정을 자유롭게 하는 비부식성 및 비침착 성분으로 전환된다.
부식 방지를 위해 아민류를 첨가하는 것은 알려져 있으나, 이런 아민류는 끈끈하거나 (페이스트 형성) 또는 고상으로 남는 염을 형성하고, 그것이 물에 녹아 산성 pH ( < 7.0)을 나타낸다.
또한 놀랍게도, 첨가제와 함께 형성된 염소 염은 스트리핑 또는 가스 재순환에 의한 공정 기류로부터 제거될 수 있는 휘발성 염소이다.
본 방법은 특히 원유 정제 공정에서 유용하다.
촉매적 재생기라고 불리는 특별한 유닛에서, 휘발성으로 형성된 성분은 반응기에 수소 재순환 가스 기류를 통해 재순환될 수 있고, 그럼에 의해 재생기 촉매의 활성화에 사용되는 유기 염소의 양이 감소될 수 있다. 공장 규모에서는 유기 염소 생성물의 40% 이상 절약 효과가 나타난다.
주입된 첨가제의 양은 존재하는 염소 또는 황산의 양에 대해, 바람직하게는 1 내지 5000 ppm으로 공급된다.
첨가제는 바람직하게는, 용매, 예컨대, 알콜, 바람직하게는 탄소 8개 이하를 갖는 지방족 알콜, 에테르, 방향족 또는 물에서 1 내지 65 중량%의 첨가제를 포함하는 용액으로 주입된다. 용액에서 콜린 유도체의 콜린 염기의 농도는 예컨대, 1 내지 65 중량%로 다양할 수 있다. 예컨대 치환되지 않은 히드록실아민 염과 같은 안정화제가 첨가될 수 있다.
첨가제는 염화 암모늄 및 황산 암모늄의 생성을 방지하기 위해 또는 염화 암모늄 및 황산 암모늄을 다른 성분으로 전환시키기 위해 일반적으로 염화 암모늄 및 황산 암모늄의 생성 또는 침착의 상류에 공급된다.
첨가제는 염화 암모늄 및 황산 암모늄을 다른 성분으로 전환시키기 위해 염화 암모늄 및 황산 암모늄의 생성 또는 침착의 하류에 공급될 수도 있으나, 공정상에서 특별한 위치로 그것의 공급 지점을 한정하는 것은 아니다.
다음의 실시예는 본발명을 설명한다:
공급원료는 원료 방출 교환기(5) 및 촉매적 재생기 퍼니스(6) 상부의 반응기(1)에 채워진다.
공급원료는 다양한 수준의 암모니아와 더불어 최종 끓는점 온도는 192 ℃인 통상적으로 전 범위의 중질 나프타로 구성되어 있다. 탄화수소에 대한 수소 몰비는 4.0이고, 배출 온도 510℃에서 작동되고, 반응기(1)의 압력은 9.8 bar이다.
사용된 촉매는 UOP로부터 구입한 R22이고 참고문헌 번호 7에서 보여지는 바와 같이 연속적으로 재순환된다. 유기 염소 촉매 활성기는 2 ppm 속도로 공급된다. 반응기(1)에서의 조건은 재생물의 RON (실험 옥탄가) 98을 유지하도록 관리되어야 한다.
분리기(3)로부터 나온 가스는 압축기(8)에서 압축되고 공급원료로 다시 보내진다. 분리기(4)로부터 나온 액체는 재생물 안정화기(4)로 공급된다. 가스는 에어핀 냉각기(9)에 연속하여 물 냉각기(10)에서 냉각되고 상부 저장기(11)에 수집된다. 남아있는 가스는 오프-가스(12)를 경유하여 빠져나가고, 액체는 안정화기(4)의 윗부분으로 환류에 의해 회수된다. 재생물은 안정화기(4)의 바닥으로부터 빠져나가고 안정화기 재탕 퍼니스(13)로 재순환된다.
공시험:
생성물분석 공급원료ppm 반응기출구재생물ppm 안정화기공급ppm 재순환가스ppm 안정화기오프가스ppm 안정화된재생물ppm
NH3 1.5
HCl 0.5
NH4Cl 2.5 1.3 0.3 <0.1 <0.1
RCl 2*
* 반응기로 유기 염소를 공급한 경우
분석/관찰 수소재순환에어핀 냉각기 안정화기상부에어핀 냉각기 안정화기상부물 냉각기 안정화기상부저장기
부식 속도 0.559 mmpy(22 mpy) 1.143 mmpy(45 mpy) 1.727 mmpy(68 mpy) 0.940 mmpy(37 mpy)
염 침착 O O O X
pH 포화된 물 2.7 2.3 1.7 3.5
시험 데이타 :
안정화제로서 히드록실아민 아세테이트 1%가 첨가된 것으로서, 메탄올에서 44 중량%의 트리메틸(2-히드록시에틸)암모늄 히드록시드 또는 콜린 용액을 4.5 ppm / 염소 ppm 중량흐름속도(mass flow-rate)의 투여속도로, 도면의 화살표(14)가 지시한대로, 원료 방출 교환기(5)의 앞에 반응기(1)가 있는 상태에서 재생물에 공급된다.
시험 데이타는 염화 암모늄에 의한 부식이 1.270 mmpy (millimeter per year = 5 mpy 또는 mills per year) 미만으로 감소될 수 있고, 염화 암모늄에 의한 오염은 완전히 제거될 수 있음을 보여준다.
또한 반응기에 공급된 RCl (유기 염소)의 양도 재순환 가스 기류에서 CH3Cl의 분석을 통해 설명된 대로 40%로 감소 될 수 있다.
생성물분석 공급원료ppm 반응기출구재생물ppm 안정화기공급ppm 재순환가스ppm 안정화기오프가스ppm 안정화된재생물ppm
NH3 1.5
HCl 0.5
NH4Cl 2.5 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
CH3Cl <0.1 1.1 <0.1 <0.1
RCl 2*
* 반응기로 유기 염소를 공급한 경우
분석/관찰 수소재순환에어핀 냉각기 안정화기상부에어핀 냉각기 안정화기상부물 냉각기 안정화기상부저장기
부식 속도 0.076 mmpy(3 mpy) 0.058 mmpy(2 mpy) 0.102 mmpy(4 mpy) 0.038 mmpy(1.5 mpy)
염 침착 X X X X
pH 포화된 물 6.3 7.6 7.0 7.1
첨가제는 광범위의 온도 및 압력하에서 적용될 수 있고, 일반적으로는 0.02 bara내지 200 bara사이 및 -10 ℃ 내지 +250 ℃ 사이이다.
다른 구체예에서, 첨가제는 일반식
(CH3)3N+-CH2CH2-0-,
(CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-H, 또는
(CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-R 인 콜린 유도체로서, 여기서 R은 C1-C20의 알킬이고, 예컨대, 콜린 히드로젠 타르트레이트, 콜린 디히드로젠 시트레이트, 트리콜린 시트레이트 또는 콜린 글루코네이트이다.
공급량은 일반적으로 암모니아 및 염산의 분석된 또는 계산된 농도를 통해, 또는 염화 암모늄 또는 황산 암모늄 승화의 이슬점 온도 계산에 의하여 결정된다. 공급량은 적게는 1 mg/L로부터 5000 mg/L까지이다.

Claims (9)

  1. 콜린 또는 그것의 유도체를 첨가제로서 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 것으로서, 염화 암모늄 및 황산 암모늄을 원인으로 하는 오염 및 부식을 방지하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 콜린 유도체는 다음의 일반식 중 하나로 첨가되는 것을 특징으로 하는 방법:
    (CH3)3N+-CH2CH2-0-,
    (CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-H, 및
    (CH3)3N+-CH2CH2-OH-0-R이고, 여기서 R은 C1-C20의 알킬이다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 첨가제에 의해 생성된 휘발성 성분은 스트리핑 또는 가스 재순환에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 하나의 항에 있어서, 원유 정제 공정에서 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 촉매적 재생기에서 사용되고, 첨가제에 의해 생성된 휘발성 성분은 수소 재순환 가스 기류를 통과하여 재순환되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 첨가제는 공정 압력 0.02 bara내지 200 bara사이 및 공정 온도 -10 ℃ 내지 +250 ℃ 사이로 오일 기류에 주입되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항중 어느 하나의 항에 있어서, 주입되는 첨가제의 양은 존재하는 염소 또는 황산의 양에 대해, 1 ppm 내지 5000 ppm 사이로 투여되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항 내지 제7항중 어느 하나의 항에 있어서, 주입되는 첨가제는 용매에 1 중량% 내지 65 중량%의 첨가제를 포함하는 용액으로서 주입되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 용액은 콜린 또는 콜린 유도체의 알콜, 에테르, 방향족 또는 물중의 용액인 것을 특징으로 하는 방법.
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