KR20040015192A - 파면 수차 측정 시스템에서의 디포커스 및 난시 교정 방법및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 수차(aberration) 측정 시스템에서 사용하기 위한 디포커스(defocus) 및 난시(astigmatism) 보정 방법 및 장치를 제공한다. 상기 장치는 한쌍의 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고 파면을 통과하는 상기 렌즈들 사이의 광학적인 거리를 변경시키기 위한 반사기를 포함하고, 그에 따라 상기 파면에서의 디포커스가 보정되고, 굴곡된 파면으로부터 곡률을 추가 및 제거하기 위한 원통형 미러를 또한 포함하며, 그에 따라 상기 파면에서의 난시가 보정된다. 상기 방법은 제 1 경로상의 제 1 렌즈를 통해 디포커스를 갖는 파면을 통과시키는 단계, 상기 제 1 경로로부터의 상기 파면을 제 2 경로에 대해 반사시키는 단계, 상기 제 2 경로로부터의 상기 파면을 제 3 경로에 대해 반사시키는 단계, 및 디포커스 보정된 파면으로서 제 2 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계를 포함하고, 또한 파면에서의 난시를 보정하기 위해 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계와 상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 상기 파면에 대해 및 서로에 대해 배향시키는 단계를 포함한다.
Description
인간의 안구는 안구 내부의 망막상에 이미지를 나타내는 광선을 집중시키기 위해 몇가지 렌즈 요소를 사용하는 광학 시스템이다. 상기 망막에 생성된 이미지의 선명도(sharpness)는 상기 안구의 시력을 결정하는 요인이다. 그러나, 상기 렌즈 내부의 결함들과 상기 안구 내부의 다른 성분 및 물질은 상기 광선을 소망의 경로로부터 이탈시킬 수 있다. 수차로서 인용되는 상기 편향에 의해, 이미지의 흐려짐이나 시력 감퇴가 초래된다. 그러므로, 수차 측정 방법 및 장치는 상기 문제점들을 교정하는데 도움이 된다.
상기 안구에 의애 도입되는 수차를 검출하는 한가지 방법은 상기 안구로부터 나오는 광선의 수차를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 망막상의 한 지점에 대해 상기 안구 내로 배향되는 광의 빔은 상기 안구를 벗어나 파면으로서 반사되거나 산란되며, 수차를 포함하는 상기 파면은 안구에 의해 도입된다. 상기 파면의 이산 부위들(즉, 샘플)의 전파 방향을 결정함으로써, 상기 안구에 의해 도입된 수차가 결정 및 교정될 수 있다.
파면 형성의 일반적인 도면은 도 1에 도시된다. 도 1은 안구(16)의 망막(14)으로부터 레이저 빔(12)을 반사함으로써 형성되는 파면(10)의 개요도이다. 상기 레이저 빔(12)은 상기 망막(14)상의 소형 스폿(18)에 집점된다. 확산 반사기로서 작용하는 망막(14)은 레이저 빔(12)을 반사하여 점광원 파면(10)을 형성한다. 이상적으로, 상기 파면(10)은 평면 파면(20)으로 대표된다. 그러나, 상기 파면(10)으로서 상기 안구(16)에 의해 도입되는 수차가 상기 안구(16) 외부로 통과하면 수차를 포함하는 파면(20A)으로 도시되는 바와 같은 불완전한 파면이 초래된다. 상기 파면(10)은 디포커스(초점 흐려짐), 난시, 구면 수차, 코마(coma), 다른 불균일을 초래하는 수차를 나타낸다. 이러한 수차를 측정 및 교정하면, 상기 안구(16)의 완전한 잠재능력, 즉 시력 한도에 근접하게 된다.
도 2는 도 1에 도시된 바와 같은 파면(10)을 측정하기 위한 종래의 장치를 도시하는 도면이다. 상기 수차를 측정함으로써, 시력을 개선하기 위해 교정 렌즈가 제조될 수 있거나, 교정 절차가 수행된다. 도 2에서, 레이저(22)는 빔 스플리터(24)에 의해 상기 안구(16)로 안내되는 레이저 빔(12)을 발생시킨다. 상기 레이저 빔(12)은 상기 안구(16)의 망막(14)상에 스폿(18)을 형성한다. 상기 망막(14)은 상기 스폿(18)으로부터 광을 반사하여, 상기 광이 상기 렌즈를 통해 및 상기 안구(16) 내부의 다른 성분 및 물질을 통해 통과될 때 수차 형성되는 점광원파면(10)을 생성한다. 그후, 상기 파면(10)은 제 1 렌즈(11) 및 제 2 렌즈(13)를 통과하여, 상기 파면(10)이 시준되도록 상기 파면(10)을 집점시킨다. 그후, 상기 파면(10)은 상기 빔 스플리터(24)를 통해 파면 센서(26)를 향해 통과한다. 상기 파면 센서(26)에 의해 검출된 정보는 프로세서(27)에 의해 처리되어 상기 파면(10)의 수차를 결정한다.
도 3은 상기 파면 센서(26)상에 투영하기 위한 편평한 파면을 생성하기 위해 상기 파면(10)을 집점시키는 것을 도시한다. 상기 파면(10)이 발산하는 광을 포함하면, 상기 파면(10)을 구성하는 광선은 상기 시스템 내부에 더이상 포함되지 않을 때까지 발산을 지속하고, 그에 따라 유용한 파면(10) 정보를 잃게 된다. 이는 특히, 디포커스 정도가 큰 안구(16)에 대해서 문제가 된다. 도 3에서, 발산하는 광선을 포함하는 굴곡 파면(10A)은 상기 제 1 렌즈(11)를 통해 통과하여, 교차 지점(15)에 수렴된 후 상기 제 2 렌즈(13)를 통과한다. 상기 교차 지점(15)이 상기 제 2 렌즈(13) 이전에 임의의 초점 거리에서 발생하면, 최종 파면(10B)은 시준(즉, 편평)된다. 상이한 디포커스 정도에 대해서, 상기 렌즈들(11, 13)은 렌즈(13)의 초점 거리를 상기 교차 지점(15)과 일치시키기 위해 서로에 대해 이동될 수 있다. 불행히도, 다량의 디포커스를 갖는 안구(16)에 대해서는, 상기 렌즈들(11, 13)은 서로로부터 상대적으로 큰 거리로 이동될 필요가 있으며, 이는 공간이 제한될 경우에는 문제시될 수도 있다, 또한, 도 3의 디포커스 메카니즘은 하나의 축선을 따르는 광이 다른 축선을 따르는 광보다 신속하게 수렴/발산하는 난시와 같은 안구의 수차를 교정할 수 없다. 상기 렌즈들(11, 13)은 모든 축선을 따라 동일하게 광을 수렴또는 발산하기 때문에, 이러한 배치구조는 난시를 보정할 수 없다.
통상적인 파면 센서(26)는 이미징 장치(32)를 갖는 아버로스코프(28; aberroscope)(도 4 참조) 또는 하트만-샤크 렌즐릿 어레이(30; Hartman-Shack lenslet array)를 포함한다. 상기 아버로스코프(28) 및 상기 하트만-샤크 렌즐릿 어레이(30)는 각각 파면이 그들을 통해 통과할 때 스폿들의 어레이를 생성한다. 상기 이미징 장치(32)는 상기 아버로스코프(28) 또는 상기 하트만-샤크 센서(30)에 의해 발생된 스폿들을 포착하기 위한 이미징 평면(34)을 포함한다. 일반적으로, 상기 이미징 장치(32)는 전하 결합 소자(CCD; charge coupled device) 카메라이다.
상기 파면 센서(26)는 상기 아버로스코프(28) 또는 상기 하트만-샤크 센서(30)를 통해 상기 파면(10)을 통과시킴으로써 상기 파면(10)을 샘플링하고, 그에 따라 상기 이미징 평면(34)에 스폿들의 어레이가 초래된다. 상기 이미징 평면(34)상의 각각의 스폿은 상기 수차가 보다 높은 정밀도로 결정될 수 있도록 하는 보다 작은 부위들을 갖는 상기 파면(10)의 부위를 나타낸다. 이상적인 안구의 파면에 대응하는 스폿들의 기준 어레이에 대해서 상기 파면(10)에 의해 상기 이미징 평면(34)상에 생성된 스폿들의 어레이를 비교함으로써, 상기 안구(16)에 의해 도입된 수차들이 계산될 수 있다.
하트만-샤크 시스템의 일예는 본원에 참조에 의해 합체되며 1999년 7월 2일자로 출원된 발명의 명칭이 Method and Apparatus for Improving Vision and the Resolution of Retinal Images인 윌리엄스 등에 의한 미국특허 6,095,651호에 개시되어 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 장치에서의 수차의 해상도는 아버로스코프 센서 내의 하위-구멍 공간(36) 및 하위-구멍 크기(38)에 의해 제한되고(도 4 참조), 하트만-샤크 센서 내의 렌즐릿 하위-구멍 크기(40) 및 초점 거리에 의해 제한된다(도 5 참조). 또한, 과도한 디포커스 또는 난시로 인한 큰 수차들은 결과적으로 겹쳐(foldover)질 수 있다. 겹침은 예를 들어 상기 이미징 평면(34)상의 둘 이상의 스폿(42A, 42B, 42C)이 중첩될 때 아버로스코프 센서에서 발생하며, 따라서 인접하는 하위-구멍 스폿 사이에 혼동을 야기한다. 마찬가지로, 겹침은 이미징 평면(34)상의 둘 이상의 스폿(44A, 44B, 44C, 44D)이 중첩될 때 하트만-샤크 센서들에서 발생한다. 통상적인 시스템들은 어느 정도의 디포커스 및 난시를 수용하도록 설계되지만, 이들 시스템은 큰 난시 및/또는 디포커스를 갖는 개인들의 디포커스 및 난시를 다룰 수 없다.
겹침은, 지나치게 작은 하위-구멍 공간(36), 하위-구멍 크기(38), 또는 렌즐릿(lenslet:소형렌즈) 크기, 고도 난시(예를 들면, 큰 디포커스 및/또는 수차), 또는 이들의 조합으로부터 비롯될 수 있다. 그러므로, 아버로스코프 센서에서의 하위-구멍 공간(36) 및 하위-구멍 크기(38)(도 4)와, 하트만-샤크 센서에서의 렌즐릿 하위-구멍 공간(40) 및 초점 거리(도 5)는 큰 수차들의 측정을 가능하게 하는 한편 양호한 공간 해상도를 달성하도록 선정되어야 한다. 따라서, 고도의 수차를 측정하기 위한 능력은 공간 해상도 및/또는 동적 범위를 희생함으로써 얻어지며 그 반대도 가능하다.
아버로스코프 및 하트만-샤크 접근법에 의해 부과되는 구속조건들은, 고도의디포커스 및 난시를 나타내는 것들과 같은, 광범위한 수차를 갖는 파면들을 측정하기 위한 이들 시스템의 효율을 제한한다. 이러한 제한들은 기존의 광학 시스템들이 완전한 잠재능력을 달성하는 것을 방해한다.
본 발명은 일반적으로 광학 기기에 관한 것으로서, 특히 파면 수차(wavefront aberration) 측정 시스템에서의 디포커스(defocus) 및 난시(astigmatism) 교정 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 특히, 안과 분야에서 디포커스 및 난시 교정에 유용하지만, 그것에 제한되는 것은 아니다.
도 1은 안구의 망막에 의해 반사되는 레이저 빔에 의해 생성되는 웨이브의 도시도.
도 2는 안구에 의해 유도되는 수차를 측정하기 위한 종래 장치의 도시도.
도 3은 종래의 디포커스 보정 장치의 일부분의 도시도.
도 4는 종래의 수차 측정 장치에 사용하기 위한 아버로스코프 시스템의 도시도.
도 5는 종래의 수차 측정 장치에 사용하기 위한 하트만-샤크 렌즐릿 어레이 시스템의 도시도.
도 6은 본 발명에 따른 광학 시스템에 의해 유도되는 파면에서의 수차를 측정하기 위한 장치의 도시도.
도 7은 본 발명에 따른 도 6의 장치에 사용하기 위한, 파면으로부터 디포커스 성분을 제거하기 위한 디포커스 보정 장치의 도시도.
도 8a는 무난시 파면의 도시도.
도 8b는 난시 파면의 도시도.
도 9는 본 발명에 따른 도 6의 장치에 사용하기 위한, 파면으로부터 난시 성분을 제거하기 위한 난시 보정 장치의 도시도.
도 10a는 본 발명에 사용하기 위한 오목 원통형 렌즈의 사시도.
도 10b는 본 발명에 사용하기 위한 볼록 원통형 렌즈의 사시도.
본 발명은 안구 수차를 측정하기 위한 안과용 시스템에서 사용하기 위해 파면에서의 디포커스 및 난시를 보정하는 방법 및 장치를 제공한다. 디포커스 및 난시의 적어도 일부를 보정함으로써, 본 발명의 상기 방법 및 장치는 파면에서의 넓은 범위의 수차를 보다 높은 정밀도로 측정할 수 있다.
파면을 집점하기 위해 물리적인 거리로 분리된 제 1 및 제 2 광학 렌즈를 갖는 안구 수차를 측정하기 위한 안과용 시스템에서, 본 발명은 상기 두개의 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고 상기 두개의 렌즈들 사이의 광학적인 거리를 조절하는 방법을 포함한다. 본 발명의 상기 방법은 제 1 광로에서 상기 제 1 광학 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계, 상기 제 1 광로로부터의 상기 파면을 상기 제 1 광로와는 다른 제 2 광로에 대해 반사시키는 단계, 상기 제 1 및 제 2 광로와는 다른 제 3 광로에 대해 상기 파면을 반사시키는 단계, 및 상기 제 2 광학 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계를 포함한다. 또한, 상기 방법은 상기 제 3 광로에 대해 반사된 후에 및 상기 제 2 광학 렌즈를 통해 통과되기 전에 상기 파면을 제 4 광로에 대해 반사시키는 단계를 포함할 수 있다. 상기 반사에 의해, 상기 제 1 및 제 2 광학 렌즈 사이의 광학 거리 및 그에 따른 디포커스 보정이 상기 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고도 변경될 수 있다. 또한, 상기 반사에 의해, 임의 성분의 증분 변화로 인해, 상기 렌즈들 사이의 상기 광학적인 거리의 증분이 보다 크게 변화되고, 그에 따라 보다 작은 물리적인 면적에서 보다 큰 범위의 디포커스 보정이 수행될 수 있다.
본 발명의 다른 방법은 파면으로부터 난시를 제거하기 위해 원통형 렌즈 조립체를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 제 1 원통형 렌즈 및 제 2 원통형 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계, 상기 원통형 렌즈의 난시 보정 위치가 상기 파면의 이등분 위치와 직렬로 되도록 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈를 배향시키는 단계, 및 상기 파면에서의 난시를 보정하도록, 상기 원통형 렌즈들의 난시 보정 배율을 조절하기 위해 상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 서로에 대해 배향시키는 단계를 포함한다.
한쌍의 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고도 상기 렌드들 사이에서 파면에 의해 이행되는 광학 거리를 변경시키기 위한 본 발명의 장치는 제 1 광로를 따라 상기 제 1 렌즈로부터 수용된 상기 파면을 제 2 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 1 반사기, 상기 제 2 광로로부터의 상기 파면을 제 3 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 2 반사기, 및 상기 제 3 광로로부터의 상기 파면을 상기 제 2 광학 렌즈를 통해 통과하는 제 4 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 3 반사기를 포함한다.
난시를 보정하기 위한 본 발명의 장치는 제 1 원통형 굴절을 파면에 도입시키기 위한 제 1 원통형 렌즈와, 제 2 원통형 굴절을 상기 파면에 도입시키기 위한 제 2 원통형 렌즈와, 상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 회전가능하게 장착하기 위한 지지체를 포함하고, 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈는 상기 파면에 대한 및 서로에 대해 회전할 수 있으며, 그에 따라 상기 파면 내의 난시는 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈의 상기 파면에 대한 및 서로에 대한 배향을 조절함으로써 보정된다.
도 6에는 본 발명에 따른 안구(16)의 수차를 측정하기 위한 파면 측정 장치(100)의 적합한 실시예가 도시되어 있다. 일반적으로, 빔(12)은 레이저(22)에 의해 발생되어 빔 스플리터(24)에 의해 안구(16)로 지향된다. 빔(12)의 직경이 작으므로, 빔(12)상의 레이저(22)와 안구(16) 사이에서 광학 성분의 효율을 최소화한다. 파면(10)은 안구(16)에 의해 파면(10)에 도입된 수차의 측정을 위해 안구로부터 파면 센서(26)를 향해 반사된다.
파면(10)이 비교적 다량의 디포커스 또는 난시를 포함하는 경우에는, 파면(10)의 일부는 파면 센서(26)에 도달하지 않거나, 또는 파면 센서(26)에 의한 측정 범위 외측에 있을 것이다. 따라서, 파면(10)은 파면(10)내에서 각각 비교적 많은 디포커스와 난시를 보정하기 위해 새로운 디포커스 보정 장치(102)를 통과하고 새로운 난시 보정 장치(104)를 통과한다.
디포커스 보정 장치(102)는 디포커스 보정 성분을 파면(10)에 부가하고, 난시 보정 장치(104)는 난시 보정 성분을 파면(10)에 부가한다. 디포커스와 난시 보정 이후에 파면(10)내에 남아있는 수차는 파면 센서(26)에 의해 검출된다. 그런 다음, 프로세서(27)는 파면 센서(26)로부터 얻어진 정보와, 디포커스 보정 장치(102)에 의해 부가된 디포커스 보정 성분, 및 난시 보정 디바이스(104)에 의해 부가된난사 성분에 의거하여 파면(10)의 수차를 결정한다.
파면 센서(26)에 의한 측정전에 디포커스와 난시를 보정함으로써, 파면 센서(26)는 남아있는 수차를 더 정밀하게 검출하기 위해 형성될 수 있다. 또한, 파면 측정 장치(100)는 미리 파면 센서 범위 밖에 있는 디포커스와 난시 수차가 파면(10)의 수차의 결정으로 분해되는 이들 장치의 보정 성분을 디포커스 보정 장치(102)와 난시 보정 장치(104)로 보정하기 때문에 수차의 보다 넓은 범위를 검출할 수 있다.
본 발명에 있어서, 빔(12)과 파면(10)의 발생, 및 프로세서(27)에 의한 파면(10)의 수차 결정은 본 기술 분야에 공지되어 있다. 또한, 파면(10)의 수차를 결정할 시에 디포커스 보정 성분과 난시 보정 성분에서 인자에 대한 프로세서(27)의 변경은 본 기술 분야의 당업자들에 의해 명백하게 나타날 것이다. 본 발명의 디포커스 보정과 난시 보정이 하기에 더 상세히 설명된다.
디포커스 보정(Defocus Compensation)
도 7에는 본 발명에 따른 적합한 디포커스 보정 장치(102)가 도시되어 있다. 디포커스 보정 장치(102)는 파면[파면 함유 디포커스가 굴곡 파면(10A)으로 도시됨]에서 디포커스를 보정하고 파면 센서(26)에 의한 측정으로(도 6) 디포커스 보정 파면[평평한 파면(10B)으로 도시됨]을 발생하는 제 1 및 제 2 렌즈들(120, 122)을 포함한다. 디포커스 보정 장치(102)는 파면내에 남아있는 디포커스가 파면 센서(26)에 의해 측정가능하도록 파면내에서 적어도 일부의 디포커스를 제거한다. 파면 센서는 남아있는 디포커스를 더 정밀하게 검출하기 위해 형성될 수 있다. 디포커스 보정 장치(102)에 의해 보정되는 디포커스와 파면 센서(26)에 의해 결정되는 디포커스의 양은 전체 디포커스로 인해 안구(16)(도 6)의 수차를 결정하기 위해 프로세서(27)에 의해 조합될 수 있다.
디포커스 보정 장치(102)의 제 1 렌즈(120)는 파면(10)(도 6)을 디포커싱하기 위한 구면 렌즈이다. 파면(10)은 제 1 광로(124A)를 따라 렌즈(120)를 통과한다. 렌즈(120)는 굴곡 파면(10A)의 발산광을 교차 지점(125)에 초점시킨다.
제 1 반사기(126A)는 제 1 광로(124A)로부터 제 1 광로(124A)와 다른 제 2 광로(124B)로 파면(10)을 반사한다. 적합한 실시예에서, 제 1 반사기(126A)는 프리즘(126)의 표면이다. 다른 반사기들은 미러로서 사용된다.
제 2 반사기(128)는 제 1 광로(124A) 및 제 2 광로(124B)와는 다른 제 3 광로(124C)로 파면(10)을 반사한다. 제 2 반사기(128)는 적합하게는 역반사기이다. 역반사기에서, 제 2 광로(124B)상의 파면과 같은 입사 빔은 역반사기에 대해 파면(10)의 배향과 무관하게 그 자체와 평행하나 전파(즉, 광로(124C))의 대향 방향으로 평행하게 반사될 것이다. 역반사기는 코너 큐브(corner cube) 또는 다른 공지된 역반사기이다. 다른 실시예는 포로(porro) 반사기 또는 적어도 두개의 반사면을 포함한다. 예를 들면, 반사기(128)는 제 2 반사면(128B), 즉 다른 미러를 향해 중간 광로를 따라 제 2 광로(124B)상의 파면(10)을 반사하기 위한 제 1 반사면(128A), 즉 미러를 포함한다. 그런 다음, 제 2 반사면(128B)은 제 3 광로(124C)를 따라 중간 광로에 수용된 파면을 반사한다. 적합한 실시예에서, 제 2 광로(124B)와 제 3 광로(124C)는 실질적으로 동일한 물리적 거리에 있다.
도시된 실시예에서, 제 3 반사기(126B)는 제 3 광로(124C)로부터 제 4 광로(124D)로 파면을 반사한다. 제 1 광로(124A)와 제 4 광로(124D)는 도시된 바와 같이 적합하게는 실질적으로 공동 직선이다. 여기서, 제 3 반사기(126B)는 제 1 반사기(126A)를 형성하는 프리즘(126)의 다른 표면으로서 형성된다. 대안적으로, 반사기(126A)와 반사기(126B)는 동일한 장치, 즉 프리즘(126)을 필요로 하지 않으나, 독립적인 반사면일 수 있다.
제 2 렌즈(122)는 파면(10)을 통과하는 제 4 광로(124D)를 따라 위치된다. 제 2 렌즈(122)의 초점이 교차점(125)과 동일하다면, 디포커스 보정 파면(10B)이 생성된다.
적합하지 않을 지라도 제 2 렌즈(122)가 제 3 광로(124C)를 따라 위치되는 것으로 고려된다. 제 2 렌즈(122)가 제 3 광로(124C)를 따라 직접적으로 파면을 수용하기 위해 위치되기 때문에, 제 3 반사기(126B)는 배제될 수 있다. 또한, 적합하지 않을 지라도, 제 1 렌즈(120)가 제 2 광로(124B)를 따라 위치되는 것이 또한 고려된다. 제 1 렌즈(120)가 파면을 제 2 광로(124B)를 따라 통과시키기 위해 위치되므로, 제 1 반사기(126A)는 배제될 수 있다.
제 1 및 제 2 렌즈들(120, 122)이 파면(10)을 초점하기 위해 물리적 거리 만큼 떨어져있는 반면에, 두개의 렌즈들(120, 122) 사이의 광학적 거리는 두개의 렌즈들(120, 122) 사이의 물리적 거리를 변경함 없이 조절된다. 이것은 디포커스 보정 장치(102)내에서 반사기(128)와 다른 반사기들(126A, 126B) 사이의 거리를 제 2 및 제 3 광로(124B, 124C)를 따라 변경함으로써 실행된다. 반사기(128)와 다른 반사기들(126A, 126B) 사이의 거리를 변경함으로써, 파면이 두개의 렌즈들(120, 122) 사이에서 이동해야 하는 광학적 거리는 렌즈들(120, 122)사이의 물리적 거리를 변경함 없이 변경된다. 더욱이, 반사기(128)에 의한 반사로 인해, 반사기(128)와 다른 반사기들(126A, 126B) 사이의 거리에서 증분적 변화는 렌즈들(120, 122) 사이의 광학적 거리에서의 변화를 2변의 증분적 변화로 초래한다. 반사기(128)와 제 1 및 제 2 반사기들(126A, 126B) 사이의 거리를 변화시키기 때문에 증분적 변화의 2배 만큼의 광학적 거리 변화는 제 2 광로(124B)에서의 증분적 변화와 제 3 광로에서의 증분적 변화로 초래된다. 이것은 제한된 영역에서 렌즈들(120, 122)을 위한 커다란 디포커스 보정 범위를 허용한다.
반사기(128)는 광로들중 일부의 길이를 변경하기 위해 디포커스 보정 장치(102)에서 다른 성분들[즉, 반사기(126A), 반사기(126B), 렌즈(120), 및 렌즈(122)]에 대해 적합하게 이동할 수 있다. 대안적인 실시예에서, 제 2 반사기(128)는 정지상태를 유지하는 반면에, 디포커스 보정 장치에서 다른 성분들은 광로 길이를 변경하기 위해 이동한다.
난시 보정(Astigmatism Compensation)
도 8a는 난시가 없는 안구에 의해 생성되는 파면 패턴을 도시한다. 동심원들은 안구가 모든 축선을 따라서 동일하게 빛을 수렴시키는 나타낸다. 난시가 없는 안구는 전체 안구에 대해 단일의 교정 배율[예를 들면, 디포커스(defocus)]을 갖는 바, 이는 단일의 디포커스 교정 배율을 갖는 렌즈에 의해 교정될 수 있다.
도 8b는 난시가 있는 안구에 의해 생성되는 파면 패턴을 도시한다. 동심 타원들은 안구가 하나의 축선, 예를 들면 X축선을 따라서는 보다 빠르게 빛을 수렴하고 다른 축선, 예를 들면 Y축선을 따라서는 덜 빠르게 빛을 수렴하는 것을 나타낸다. 난시가 있는 안구에서, 안구는 필수적으로 두 개의 배율을 가지며, 난시 배율은 이들 두 배율 사이의 차이를 나타낸다. 기술상의(descriptive) 목적으로, 두 배율 사이의 라인을 이등분(bisector) 위치(146)로 지칭하기로 한다. 상기 이등분 위치(146)는 안구의 두 배율 사이 중간에 놓여있다.
도 9는 파면(10)(도 6)에서의 난시를 보정하기 위한 양호한 난시 보정 장치(104)를 도시한다. 상기 난시 보정 장치(104)는 난시 파면(도 8b의 동심 타원들로 표시됨)을 균일 배율을 갖는 파면(도 8a의 동심 원들로 표시됨)으로 변환하는데 사용되고 있다. 상기 난시 보정 장치(104)는 파면에 대해 곡률을 선택적으로 추가 또는 제거하기 위해 지지체(141)상에 회전가능하게 장착되는 제 1 원통형 렌즈(140A) 및 제 2 원통형 렌즈(140B)를 갖는 원통형 렌즈 조립체를 구비한다. 도시된 난시 보정 장치(104)에서, 상기 원통형 렌즈(140A, 140B)들은 파면에 대해서 및 서로에 대해서 배향되도록, 그 각각이 제 1 회전 모터(142A) 및 제 2 회전 모터(142B)에 의해 지지체(141)상에 회전가능하게 장착된다. 상기 원통형 렌즈(140A, 140B)들을 파면(10)에 대해서 및 서로에 대해서 배향시킴으로써, 파면(10)내의 난시는 지나치게 많은 곡률을 갖는 영역들로부터는 곡률을 제거하고(예를 들면, 지나치게 많은 곡률을 갖는 축선을 따라서 빛을 발산함) 지나치게 적은 곡률을 갖는 영역들에는 곡률을 추가함(예를 들면, 지나치게 적은 곡률을 갖는 축선을 따라서 빛을 수렴시킴)으로써 보정될 수 있다.
난시 보정 장치(104)는 파면내의 잔여 난시가 파면 센서(26)에 의해서 측정될 수 있도록 파면내 난시의 적어도 일부를 제거한다. 상기 파면 센서는 이후 잔여 난시를 보다 정밀하게 검출하도록 구성될 수 있다. 난시 보정 장치(104)에 의해 보정되는 난시 및 파면 센서(26)에 의해 보정되는 난시의 양은 전체 난시로 인한 안구(16)(도 6)의 수차를 결정하기 위해 프로세서(processor)(27)에 의해 조합될 수 있다.
도시된 실시예에서의 제 1 원통형 렌즈(140A)는 발산 원통형 렌즈이다. 통상적으로, 발산 원통형 렌즈는 평오목한(plano-concave)(즉, 도 10A 에 도시되어 있듯이 한쪽은 편평하고 다른쪽은 오목한) 원통형 렌즈이다. 평오목 원통형 렌즈는 굴곡 축선, 예를 들면 X'축선(도 10A) 방향으로 빛을 발산시키며, 따라서 보다 많은 발산을 추가하고, 다른 축선, 예를 들면 Y'축선(도 10A) 방향으로는 빛에 영향을 주지 않는다. 상기 제 1 원통형 렌즈(140A)는 보다 곡선적인 예를 들면 X축선(도 8B)을 따르는 파면(10) 영역들로부터 곡률을 제거하는데 사용된다. 통상적으로, 평오목 원통형 렌즈의 편평면은 파면(10)을 수용하고 그 곡면은 파면(10)을 통과시킨다.
도시된 실시예에서의 제 2 원통형 렌즈(140A)는 평볼록한(plano-convex)(즉, 도 10B에서와 같이 한쪽은 편평하고 다른쪽은 볼록한) 원통형 렌즈이다. 평볼록 원통형 렌즈는 하나의 축선, 예를 들면 X"축선(도 10B) 방향으로 빛을 수렴시키며, 따라서 보다 많은 수렴을 추가하고, 다른 축선, 예를 들면 Y"축선(도 10B) 방향으로는 빛에 영향을 주지 않는다. 상기 평볼록 원통형 렌즈는 이를 통과하는 빛이 굴곡 축선을 따라서 수렴하게 한다. 상기 제 2 원통형 렌즈(140B)는 덜 곡선적인 예를 들면 Y축선(도 8B)을 따르는 파면(10) 영역들에 곡률을 추가하는데 사용된다. 통상적으로, 평볼록 원통형 렌즈의 곡면은 파면(10)을 수용하고 그 편평면은 파면(10)을 통과시킨다.
회전 모터(142A, 142B)들은 그 각각의 원통형 렌즈(140A, 140B)를 파면(10)(도 6)의 광축선(144) 주위로 회전시키기 위해 각각 원통형 렌즈(140A, 140B)와 작동적으로 연관되어 있다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 회전 모터들은 쉽게 구할 수 있으며, 적절한 회전 모터를 선정하여 이를 원통형 렌즈(140A, 140B)에 연결하는 것은 당업자에게 있어 명백하다.
원통형 렌즈(140A, 140B)를 파면(10)에 대해 회전시킴으로써, 난시 보정 장치(104)의 난시 보정부는 파면의 이등분 위치(146)(도 8B)과 정렬될 수 있다. 난시 보정 위치는 제 1 원통형 렌즈의 편평 축선, 예를 들면 Y'축선과 제 2 원통형 렌즈의 편평 축선, 예를 들면 Y"축선 사이의 중간 위치이다.
난시 보정 배율은 원통형 렌즈(140A, 140B)들을 서로에 대해 회전시킴으로써 설정된다. 난시 보정 배율은 원통형 렌즈(140A, 140B)들의 편평 축선들이 상호 수직할 때 최대가 되며, 평행할 때 최소가 된다. 이들 원통형 렌즈(140A, 140B)는, 서로 반대되는 사인의 매칭되는 배율을 갖게 되면, 그 편평 축선들이 평행할 때 파면(10)에 아무런 영향을 주지 않는다.
사용시에, 도시된 실시예의 난시 보정 장치(104)는 광축선(144)을 따라서 파면(10)을 수용한다. 상기 파면(10)은 제 1 원통형 렌즈(140A)와 제 2 원통형렌즈(140B)를 통과한다. 초기에, 원통형 렌즈(140A, 140B)의 편평 축선들은 그 각각의 회전 모터(142A, 142B)에 의해 파면의 이등분 위치(146)와 정렬된다. 상기 편평 축선은 파면(10)에 아무런 난시 보정을 추가하지 않도록 상호 정렬된다. 상기 모터(142A, 142B)는 이후, 파면(10)에 난시 보정을 추가하기 위해, 원통형 렌즈(140A, 140B)의 편평 축선을 이등분 위치(146)로부터 반대방향으로 동일 양만큼 회전시킨다. 상기 난시 보정 위치와 난시 보정 배율은 파면 보정 장치(100)의 프로세서(27)에 의해 파면(10)의 수차를 결정짓도록 팩터링될 것이다.
예시적인 실시예로서, 상기 이등분 위치(146)가 45도에 있으면(도 8B), 원통형 렌즈(140A, 140B)의 편평 축선들[즉, 도 10A에 도시된 평오목 렌즈(140A)에서의 Y'축선 및 도 10B에 도시된 평볼록 렌즈(140B)에서의 Y"축선]은 초기에 45도로 설정될 것이며, 이후 제 1 원통형 렌즈(140A)는 60도로 회전되고 제 2 원통형 렌즈(140B)는 30도로 회전되어 난시 보정을 추가한다. 본 예에서 최대 난시 보정을 추가하기 위해, 제 1 원통형 렌즈(140A)는 90도 회전되고 제 2 원통형 렌즈(140B)는 0도 회전되며, 따라서 제 1 및 제 2 원통형 렌즈(140A, 140B)의 편평 축선들은 상호 수직하게 될 것이다.
예시적인 목적으로, 본 발명은 사람의 안구에 의해 유도되는 파면 수차들을 측정하는 측면에서 기술되었다. 그러나, 당업자에게 있어 명백한 것은, 본 발명은 다른 광학 시스템, 예를 들면 안경, 망원경, 쌍안경, 단안경, 콘택트 렌즈, 비인간(non-human)의 안구, 또는 이들 시스템의 조합에 의해 생성되는 수차들을 측정하는데 사용될 수 있다는 것이다.
이상에서 본 발명의 몇가지 특정한 실시예들을 기술하였으나, 다양한 수정예, 변경예 및 개선예들이 가능함은 당업자에게 있어 명백할 것이다. 예를 들어, 대체예에서는, 제 1 원통형 렌즈(140A)가 수렴형 렌즈이고 제 2 원통형 렌즈(140B)가 발산형 렌즈이며, 평오목/평볼록 렌즈들의 편평면들이 서로 대면하고 있으며, 난시 보정을 미세하게 조절하기 위해 추가 렌즈들이 사용되고, 이들 렌즈는 먼저 서로에 대해서 배향되고 이어서 파면(10)에 대해서 배향되며, 상기 렌즈들은 거의 동시에 그 자신에 대해서 및 서로에 대해서 배향된다. 본원의 기재 내용에 의해 명백한 그러한 수정예, 변경예 및 개선예들은 본원에 기술되지 않았지만 본 기재내용의 일부인 것으로 이해되어야 하며 본 발명의 정신 및 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 상기 내용은 예시적일 뿐이며, 한정적이지 않다. 본 발명은 하기 청구범위 및 그 등가물에 의해서만 한정된다.
Claims (32)
- 파면(wavefront)을 집점하기 위해 물리적인 거리로 분리된 제 1 및 제 2 광학 렌즈를 갖는 안구 수차(eye aberrations)를 측정하기 위한 안과용 시스템에서, 상기 두개의 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고 상기 두개의 렌즈들 사이의 광학적인 거리를 조절하는 방법으로서,(a) 제 1 광로(optical path)에서 상기 제 1 광학 렌즈를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계,(b) 상기 제 1 광로로부터의 상기 파면을 상기 제 1 광로와는 다른 제 2 광로에 대해 반사시키는 단계,(c) 상기 파면을 상기 제 1 및 제 2 광로와는 다른 제 3 광로에 대해 반사시키는 단계, 및(d) 상기 파면을 상기 제 2 광학 렌즈를 통해 통과시키는 단계를 포함하는 광학 거리 조절 방법.
- 제 1 항에 있어서, (e) 상기 파면을 제 4 광로에 대해 반사시키는 단계를 부가로 포함하고,상기 단계는 상기 (c) 단계 이후 및 상기 (d) 단계 이전에 수행되는 광학 거리 조절 방법.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 광로 및 상기 제 4 광로는 실질적으로 동일직선으로 이루어지는 광학 거리 조절 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (e) 단계는 단일의 반사 장치에 의해 수행되는 광학 거리 조절 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 단일의 반사 장치는 프리즘인 광학 거리 조절 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 제 2 및 제 3 광로는 실질적으로 동일한 물리적인 거리로 이루어지는 광학 거리 조절 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계는 단일의 반사 장치에 의해 수행되는 광학 거리 조절 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 광로와 상기 제 3 광로의 물리적인 거리는 조절될 수 있는 광학 거리 조절 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 광로와 상기 제 3 광로의 물리적인 거리는 상기 단일의 반사 장치를 이동시킴으로써 조절될 수 있는 광학 거리 조절 방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 단일의 반사 장치는 역반사 장치(retroreflector)인 광학 거리 조절 방법.
- 제 2 항에 기재된 안과용 시스템에서의 난시(astigmatism) 교정 방법으로서,(a) 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 갖는 원통형 렌즈 조립체를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계,(b) 난시 보정 위치가 상기 파면의 이등분 위치와 직렬로 되도록 상기 원통형 렌즈 조립체를 배향시키는 단계, 및(c) 상기 원통형 렌즈 조립체의 난시 보정 배율을 조절하기 위해 상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 서로에 대해 배향시키는 단계를 포함하는 난시 교정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계는 개별적으로 수행되는 난시 교정 방법.
- 안구 수차를 측정하기 위한 안과용 시스템에서 파면으로부터 난시를 제거하는 방법으로서,(a) 제 1 축선을 갖는 제 1 원통형 렌즈와 제 2 축선을 갖는 제 2 원통형 렌즈를 포함하는 원통형 렌즈 조립체를 통해 상기 파면을 통과시키는 단계,(b) 상기 원통형 렌즈 조립체의 난시 보정 위치가 상기 파면의 이등분 위치와 직렬로 되도록 상기 제 1 원통형 렌즈의 상기 제 1 축선과 상기 제 2 원통형 렌즈의 상기 제 2 축선을 배향시키는 단계, 및(c) 상기 원통형 렌즈 조립체의 난시 보정 배율을 조절하기 위해 상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈를 서로에 대해 배향시키는 단계를 포함하는 난시 제거 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계는 실질적으로 동시에 수행되는 난시 제거 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계는 개별적으로 수행되는 난시 제거 방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 (c) 단계 전에 수행되는 난시 제거 방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 (c) 단계는 상기 (b) 단계 전에 수행되는 난시 제거 방법.
- 파면을 집점하기 위해 물리적인 거리로 분리된 제 1 및 제 2 광학 렌즈를 갖는 안구 수차를 측정하기 위한 안과용 시스템에서, 상기 두개의 렌즈들 사이의 물리적인 거리를 변경시키지 않고 상기 두개의 렌즈들 사이의 광학적인 거리를 조절하는 장치로서,제 1 광로를 따라 상기 제 1 렌즈로부터 수용된 상기 파면을 상기 제 1 광로와는 다른 제 2 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 1 반사기,상기 제 2 광로로부터의 상기 파면을 상기 제 1 및 상기 제 2 광로와는 다른 제 3 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 2 반사기, 및상기 제 3 광로로부터의 상기 파면을 상기 제 2 광학 렌즈를 통해 통과하는 제 4 광로에 대해 반사시키도록 위치되는 제 3 반사기를 포함하는 광학 거리 조절 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 제 1 광로 및 상기 제 4 광로는 실질적으로 동일 직선으로 이루어지는 광학 거리 조절 장치.
- 제 19 항에 있어서, 적어도 상기 제 1 반사기 및 상기 제 3 반사기는 단일의 반사 장치에 포함되는 광학 거리 조절 장치.
- 제 20 항에 있어서, 상기 단일의 반사 장치는 프리즘인 광학 거리 조절 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 제 2 반사기는 역반사 장치를 포함하는 광학 거리 조절 장치.
- 제 22 항에 있어서, 상기 역반사 장치는 코너 큐브(corner cube)인 광학 거리 조절 장치.
- 제 19 항에 있어서, 상기 제 2 광로와 상기 제 3 광로는 실질적으로 동일한 물리적인 거리로 이루어지는 광학 거리 조절 장치.
- 제 24 항에 있어서, 상기 제 2 광로와 상기 제 3 광로의 상기 물리적인 거리는 조절될 수 있는 광학 거리 조절 장치.
- 제 25 항에 있어서, 상기 제 2 광로와 상기 제 3 광로의 상기 물리적인 거리는 상기 역반사 장치를 이동시킴으로써 조절될 수 있는 광학 거리 조절 장치.
- 제 18 항에 기재된 안과용 시스템에서의 난시 교정 장치로서,제 1 원통형 굴절을 파면에 도입시키기 위해 상기 파면의 경로 내에 위치되는 제 1 원통형 렌즈와,제 2 원통형 굴절을 상기 파면에 도입시키기 위해 상기 파면의 상기 경로 내에 위치되는 제 2 원통형 렌즈를 포함하고,상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈는 상기 파면에 대해 및 서로에 대해 회전 가능하게 장착되며,상기 조절 가능한 렌즈 조립체의 난시 보정은 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈의 상기 파면에 대한 및 서로에 대한 배향에 의해 결정되는 난시 교정 장치.
- 제 27 항에 있어서, 상기 제 1 원통형 렌즈를 상기 파면에 대해 배향시키기 위해 상기 제 1 원통형 렌즈에 작동식으로 결합되는 제 1 회전 모터와,상기 제 2 원통형 렌즈를 상기 파면에 대해 배향시키기 위해 상기 제 2 원통형 렌즈에 작동식으로 결합되는 제 2 회전 모터를 부가로 포함하는 난시 교정 장치.
- 안구 수차를 측정하기 위한 안과용 시스템에서, 파면에서의 난시를 교정하기 위한 장치로서,제 1 원통형 굴절을 상기 파면에 도입시키기 위해 상기 파면의 경로 내에 위치되는 제 1 원통형 렌즈와,제 2 원통형 굴절을 상기 파면에 도입시키기 위해 상기 파면의 상기 경로 내에 위치되는 제 2 원통형 렌즈를 포함하고,상기 제 1 및 제 2 원통형 렌즈는 상기 파면에 대해 및 서로에 대해 회전 가능하게 장착되며,조절 가능한 렌즈 조립체의 난시 보정은 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈의 상기 파면에 대한 및 서로에 대한 배향에 의해 결정되는 난시 교정 장치.
- 제 29 항에 있어서, 상기 제 1 원통형 렌즈를 상기 파면에 대해 배향시키기 위해 상기 제 1 원통형 렌즈에 작동식으로 결합되는 제 1 회전 모터와,상기 제 2 원통형 렌즈를 상기 파면에 대해 배향시키기 위해 상기 제 2 원통형 렌즈에 작동식으로 결합되는 제 2 회전 모터를 부가로 포함하는 난시 교정 장치.
- 제 30 항에 있어서, 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈는 상기 장치의 상기 난시 보정 위치가 상기 파면의 이등분 위치와 직렬로 될 수 있도록 상기 파면에 대해 일치되게 배향되는 난시 교정 장치.
- 제 30 항에 있어서, 상기 제 1 원통형 렌즈 및 상기 제 2 원통형 렌즈는 상기 난시 교정의 크기가 상기 파면 내의 난시를 상쇄시키도록 서로에 대해 배향되는 난시 교정 장치.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101334006B1 (ko) * | 2005-11-08 | 2013-11-27 | 테크노라스 게엠베하 옵탈몰로지쉐 시스템 | 눈 굴절 이상의 교정을 위한 시스템 및 방법 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6669341B2 (en) * | 2001-08-31 | 2003-12-30 | Metrologic Instruments, Inc. | Ophthalmic instrument having wavefront sensor with multiple imaging devices that simultaneously capture multiple images of an array of spots produced by a lenslet array |
| US7611244B2 (en) | 2003-11-20 | 2009-11-03 | Heidelberg Engineering Gmbh | Adaptive optics for compensating for optical aberrations in an imaging process |
| RU2268637C2 (ru) * | 2004-03-22 | 2006-01-27 | Андрей Викторович Ларичев | Аберрометр с системой тестирования остроты зрения (варианты), устройство и способ его настройки |
| CN1331437C (zh) * | 2004-08-03 | 2007-08-15 | 温州医学院附属第二医院 | 显微定量角膜检查镜 |
| DE102004037558A1 (de) * | 2004-08-03 | 2006-02-23 | Iroc Ag | System zur Wellenfrontmessung |
| US7726811B2 (en) * | 2006-02-14 | 2010-06-01 | Lai Shui T | Subjective wavefront refraction using continuously adjustable wave plates of Zernike function |
| WO2007095596A2 (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Lai Shui T | Subjective refraction method and device for correcting low and higher order aberrations |
| US7959284B2 (en) * | 2006-07-25 | 2011-06-14 | Lai Shui T | Method of making high precision optics having a wavefront profile |
| JP2008161406A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Topcon Corp | 眼科装置 |
| WO2009033111A2 (en) | 2007-09-06 | 2009-03-12 | Lensx Lasers, Inc. | Precise targeting of surgical photodisruption |
| US8480659B2 (en) | 2008-07-25 | 2013-07-09 | Lensar, Inc. | Method and system for removal and replacement of lens material from the lens of an eye |
| US8419721B2 (en) * | 2009-07-29 | 2013-04-16 | Alcon Lensx, Inc. | Optical system for ophthalmic surgical laser |
| US8267925B2 (en) * | 2009-07-29 | 2012-09-18 | Alcon Lensx, Inc. | Optical system for ophthalmic surgical laser |
| US8262647B2 (en) * | 2009-07-29 | 2012-09-11 | Alcon Lensx, Inc. | Optical system for ophthalmic surgical laser |
| US9504608B2 (en) | 2009-07-29 | 2016-11-29 | Alcon Lensx, Inc. | Optical system with movable lens for ophthalmic surgical laser |
| US8506559B2 (en) * | 2009-11-16 | 2013-08-13 | Alcon Lensx, Inc. | Variable stage optical system for ophthalmic surgical laser |
| DE102010024606B4 (de) * | 2010-06-22 | 2019-11-14 | Carl Zeiss Meditec Ag | Aberrometrisches Messsystem |
| US10182943B2 (en) | 2012-03-09 | 2019-01-22 | Alcon Lensx, Inc. | Adjustable pupil system for surgical laser systems |
| US8852177B2 (en) | 2012-03-09 | 2014-10-07 | Alcon Lensx, Inc. | Spatio-temporal beam modulator for surgical laser systems |
| JPWO2016056148A1 (ja) * | 2014-10-08 | 2017-08-24 | オリンパス株式会社 | 結像光学系、照明装置および観察装置 |
| CN104257346A (zh) * | 2014-10-21 | 2015-01-07 | 吉林大学 | 无视标人眼波前像差检测装置 |
| US9770362B2 (en) | 2014-12-23 | 2017-09-26 | Novartis Ag | Wavefront correction for ophthalmic surgical lasers |
| JP6523106B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2019-05-29 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡システム、顕微鏡システムの制御方法及び顕微鏡システムの制御プログラム |
| JP7094683B2 (ja) * | 2017-10-06 | 2022-07-04 | 住友電気工業株式会社 | 光受信モジュール |
| US10739552B2 (en) * | 2018-02-21 | 2020-08-11 | Panavision International, L.P. | Internally slotted cam for lens system |
| CN109924942B (zh) * | 2019-04-25 | 2024-04-05 | 南京博视医疗科技有限公司 | 一种基于线扫描成像系统的光学稳像方法及系统 |
| WO2021130567A1 (en) | 2019-12-23 | 2021-07-01 | Amo Development, Llc | Optical measurement systems and processes with fixation target having cylinder compensation |
| KR102345114B1 (ko) * | 2020-03-13 | 2021-12-30 | 삼성전기주식회사 | 카메라 모듈 |
| KR20220048525A (ko) * | 2020-10-12 | 2022-04-20 | 삼성전기주식회사 | 카메라 모듈 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3822932A (en) * | 1972-06-15 | 1974-07-09 | Humphrey Res Ass | Optometric apparatus and process having independent astigmatic and spherical inputs |
| US3969020A (en) * | 1973-12-28 | 1976-07-13 | Giles C. Clegg, Jr. | Automatic refraction apparatus and method |
| JPS56148337A (en) * | 1980-04-22 | 1981-11-17 | Olympus Optical Co | Eye bottom camera |
| JPH07502922A (ja) * | 1992-02-01 | 1995-03-30 | カンペーター，ベルント | 眼の遠近視および乱視の測定装置 |
| US5777719A (en) * | 1996-12-23 | 1998-07-07 | University Of Rochester | Method and apparatus for improving vision and the resolution of retinal images |
| US6042232A (en) * | 1999-01-21 | 2000-03-28 | Leica Microsystems Inc. | Automatic optometer evaluation method using data over a wide range of focusing positions |
| US6264328B1 (en) * | 1999-10-21 | 2001-07-24 | University Of Rochester | Wavefront sensor with off-axis illumination |
| CA2385909C (en) * | 1999-10-21 | 2010-05-04 | Technolas Gmbh Ophthalmologische Systeme | Customized corneal profiling |
| US6400513B1 (en) * | 2000-03-15 | 2002-06-04 | Quantum Devices, Inc. | Optical beam coupling of multiple wavelengths into an output channel using spatial wavefront segmentation |
-
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101334006B1 (ko) * | 2005-11-08 | 2013-11-27 | 테크노라스 게엠베하 옵탈몰로지쉐 시스템 | 눈 굴절 이상의 교정을 위한 시스템 및 방법 |
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