KR20040010766A - N-포스포노메틸글리신의 제조 방법 - Google Patents
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- XDDAORKBJWWYJS-UHFFFAOYSA-N glyphosate Chemical compound OC(=O)CNCP(O)(O)=O XDDAORKBJWWYJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 50
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 47
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 47
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- OYWRDHBGMCXGFY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazinane Chemical class C1CNNNC1 OYWRDHBGMCXGFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 12
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 9
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 7
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-chlorophenyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylbutane-1,4-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C(=O)C=1C=CC(Cl)=CC=1)CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QQGWRQWHTZLGKS-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl benzoate Chemical compound OP(O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 QQGWRQWHTZLGKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 hexahydrotriazine compound Chemical class 0.000 abstract description 38
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 abstract 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 13
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 6
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005904 alkaline hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical class [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-(4-cyanophenyl)propanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=C(C#N)C=C1 KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMMIQCVDHHYGG-UHFFFAOYSA-N Cl.OP(O)(O)=O Chemical class Cl.OP(O)(O)=O BYMMIQCVDHHYGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005562 Glyphosate Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 238000007059 Strecker synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 229940090948 ammonium benzoate Drugs 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 239000012455 biphasic mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005661 deetherification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010931 ester hydrolysis Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940097068 glyphosate Drugs 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910001504 inorganic chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethylamine Chemical compound CCN(C)C DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- LEVJVKGPFAQPOI-UHFFFAOYSA-N phenylmethanone Chemical compound O=[C]C1=CC=CC=C1 LEVJVKGPFAQPOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- 150000003017 phosphorus Chemical class 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4071—Esters thereof the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/409—Compounds containing the structure P(=X)-X-acyl, P(=X) -X-heteroatom, P(=X)-X-CN (X = O, S, Se)
- C07F9/4093—Compounds containing the structure P(=X)-X-C(=X)- (X = O, S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
- C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
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Abstract
본 발명은 헥사히드로트리아진 화합물과 트리아실 포스파이트를 유기 용매 중에서 반응시키고, 미리 수성상으로 추출하고 유기상으로부터 분리한 후 수득한 포스포노 화합물을 가수분해시킴으로써 N-포스포노메틸글리신을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 상기 방법은 가수분해 동안 유기 용매의 분해를 방지한다.
Description
본 발명은 헥사히드로트리아진 화합물과 트리아실 포스파이트를 유기 용매 중에서 반응시키고, 미리 수성상으로 추출하고 유기상으로부터 분리한 후 수득한 포스포노 화합물을 가수분해시킴으로써 N-포스포노메틸글리신을 제조하는 방법에 관한 것이다.
N-포스포노메틸글리신(글리포세이트)은 종합 제초제로서 널리 이용된다. 포스포노메틸글리신을 제조하기 위한 수많은 방법들이 공지되어 있다. 한 가능한 방법은 헥사히드로트리아진 유도체와 인 에스테르를 반응시키는 것이다. 즉, US 4,181,800호에는 하기 화학식 5의 헥사히드로트리아진의 제조 방법이 기재되어 있고, US 4,053,505호에는 이들 헥사히드로트리아진과 인 디에스테르를 반응시킨 후, 수득한 생성물을 가수분해시킴으로써 포스포노메틸글리신을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 모노포스폰화 생성물에 대한 수율 및 선택률 둘다 개선될 수 있다는 것이 밝혀졌다. 그러나, 인 디에스테르는 매우 고가이다.
EP-A-104 775호(US 4,425,284호, US 4,482,504호 및 US 4,535,181호에 대응)에는 하기 반응식에 따라 상기 헥사히드로트리아진과 아실 할로겐화물을 반응시킨 후, 인 트리에스테르로 포스폰화시키고 가수분해시켜, 포스포노메틸글리신을 수득하는 방법이 기재되어 있다.
<반응식>
이 방법으로, 실제로 비교적 양호한 수율로 포스포노메틸글리신을 수득할 수 있지만, 고가의 인 에스테르뿐 아니라 염화카르보닐도 사용해야 한다. 또한, 염화카르보닐은 기껏해야 유리산의 형태로만 회수된 다음, 별도의 단계에서 산 염화물로 재전환될 수 있는데, 이는 공정 비용을 상당히 증가시킨다. 또한, 인산을 에스테르화시키기 위해 사용되는 모든 알코올은 반응 동안 독성학적으로 허용불가능한 상응하는 알킬 클로라이드를 동량으로 형성하기 때문에 재순환시킬 수 없다.
US 4,428,888호(EP-A-149 294호에 대응)에는 상기한 헥사히드로트리아진과 인산 염화물을 무수 강산, 예를 들어 염화수소, 및 C1-C6-카르복실산 , 예를 들어아세트산의 존재하에 반응시키는 것이 기재되어 있다. 이 방법으로는, 수많은 미지의 부산물이 생성되고, 이들 부산물은 포스포노메틸글리신의 수율을 감소시키고, 생성물의 복잡한 정제를 필요하게 한다.
US 4,442,044호에는 화학식 5의 헥사히드로트리아진과 인 트리에스테르를 반응시켜 제초제로 사용되는 상응하는 포스포네이트 화합물을 수득하는 것이 기재되어 있다.
DD-A-141 929호 및 DD-A-118 435호에는 상기 헥사히드로트리아진의 알칼리 금속염(R = 예를 들어 Na)과 인 디에스테르의 반응이 기재되어 있다. 그러나, 알칼리 금속염의 난용성 때문에 전환율은 낮다.
US 5,053,529호에는 상기 헥사히드로트리아진과 인 트리에스테르를 사염화티탄의 존재하에 반응시킨 후, 수득한 생성물을 가수분해시킴으로써 포스포노메틸글리신을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 사염화티탄을 이용함으로써 제조 비용이 상당히 증가된다. 또한, 포스포노메틸글리신의 수율은 만족스럽지 않다.
US 4,454,063호, US 4,487,724호 및 US 4,429,124호에는 화학식의 화합물(식 중, R1및 R2는 방향족기 또는 지방족기임)과 RCOX(X = Cl, Br, I)를 반응시켜 화학식의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 금속 시안화물과 반응시키고 수득한 생성물을 가수분해시킴으로써 포스포노메틸글리신을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 이 방법의 단점은 산 염화물의 이용과 관련하여 상기 언급한 것과 같다.
다른 가능한 합성법은 하기 화학식 6의 시아노메틸-치환된 헥사히드로트리아진으로부터 출발하는 것으로 기재되어 있다.
US 3,923,877호 및 US 4,008,296호에는 염화수소, 루이스산, 염화카르보닐 또는 카르복실산 무수물과 같은 산 촉매의 존재하에 상기 헥사히드로트리아진 유도체와 디알킬 포스포네이트를 반응시켜 하기 화학식 9의 화합물을 수득하는 방법이 개시되어 있다.
후속적인 가수분해를 통해 포스포노메틸글리신을 수득하는데, 디포스포노메틸화 생성물이 8 내지 10% 형성된다.
US 4,067,719호 및 US 4,083,898호, US 4,089,671호 및 DE-A-2751631호에는 촉매없이 시아노메틸-치환된 헥사히드로트리아진과 디아릴 포스포네이트를 반응시켜 R"가 아릴인 화합물 9를 수득하는 방법이 기재되어 있다. 이 방법은 카르복실-치환된 헥사히드로트리아진 5의 이용에 대해 상기 기재한 것과 동일한 단점을 갖는다.
EP-A-097 522호(US 4,476,063호 및 US 4,534,902호에 대응)에는 하기 반응식에 따라 헥사히드로트리아진 6과 아실 할로겐화물을 반응시켜 화합물 10을 수득한 다음, 인 트리에스테르 또는 디에스테르로 포스폰화시켜 화합물 11을 수득하고, 마지막으로 가수분해시켜 포스포노메틸글리신을 수득하는 방법이 기재되어 있다.
<반응식>
여기에서도, 카르복실-치환된 헥사히드로트리아진 유도체를 사용한 방법과 동일한 단점이 관찰된다.
마지막으로, US 4,415,503호에는 US 4,428,888호에 기재된 방법과 유사하게 시아노메틸-치환된 헥사히드로트리아진을 반응시키는 것이 기재되어 있다. 이 경우에는, 부산물의 형성이 증가된 것이 관찰된다.
EP 164 923 A호에는 화학식 11의 화합물의 개선된 가수분해법이 기재되어 있다.
DE 199 62 601호에는
a) 화학식 II의 헥사히드로트리아진 유도체와 화학식 III의 트리아실 포스파이트를 반응시켜 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계, 및
b) 화학식 I의 화합물을 가수분해시키고, X가 CH2OY인 경우에는 산화시키는 단계를 포함하는 N-포스포노메틸글리신의 제조 방법이 기재되어 있다.
상기 식들에서,
X는 CN, COOZ, CONR1R2또는 CH2OY이고,
Y는 H, 또는 H와 용이하게 교환가능한 라디칼이고,
Z는 H, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이고,
R1및 R2는 동일하거나 상이할 수 있으며, H 또는 C1-C4-알킬이고,
R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이다.
상기 방법의 단계 (a)는 불활성 유기 용매 중에서, 특히 바람직하게는 예를 들어 1,2-디클로로에탄과 같은 할로겐화된 용매 중에서 수행된다. 단계 (b)에 따른 가수분해(에스테르 가수분해)는 알칼리성, 중성 또는 산성 조건하에서 수행될 수 있다.
가수분해 후, N-포스포노메틸글리신은 수용액 중에 존재하는 것이 바람직할 것이다. 단계 (a)에서 사용된 용매는 가수분해 전 또는 후에 분리 제거되어야 한다. 상기 용매가 가수분해 동안 존재한다면, 특히 비용의 최소화의 이유 때문에 소모되거나 분해되지 않아야 한다. 따라서, 하나의 변법으로, 단계 (a)에서 사용된 용매를 가수분해 전에, 즉 단계 (b) 전에 부분적으로 또는 완전히 증류 제거하고 잔여물을 가수분해시킨다. 추가의 바람직한 변법에 따라, 가수분해를 수성상/유기상의 2상계에서 수행한다. 가수분해시킨 후, 2개의 상을 분리하고 후처리한다. N-포스포노메틸글리신은 수성상에 존재한다.
용매를 증류 제거한다면, 이 방법에 필요한 에너지는 매우 높다. 따라서, 가수분해 후 상분리로 제거하는 것이 더 경제적이다. 그러나, 사용된 용매가 염소화된 탄화수소, 예를 들어 1,2-디클로로에탄일 경우에는, 가수분해 조건하에 용매의 안정성이 제한된다.
가수분해 조건하에 염소화된 탄화수소의 불충분한 안정성은 오래전부터 공지되어 왔다. 따라서, 예를 들어 문헌[H. Bahr and H. Zieler, Angew. Chem. 43(1930), 286]에는 150℃ 초과의 온도에서 디클로로에탄을 에틸렌 글리콜로 현저하게 전환시키는 것이 기재되어 있다. DE 537 448호에는 120℃ 초과의 온도에서 물을 사용하여 디클로로에탄을 글리콜로 가수분해시키고, 생성된 염산의 농도를 4% 미만으로 유지시키는 것이 개시되어 있다. DE 540 513호에는 알칼리 금속 수산화물 수용액의 존재하에 80 내지 100℃에서 가수분해시킴으로써 시아노히드린으로부터 글리콜을 제조하는 방법이 기재되어 있다.
주어진 예들로부터, 특히 중성 또는 알칼리성 가수분해 조건이 이용될 경우, 용매가 분해될 것이라는 것을 추론할 수 있다. 그러나, 출발 물질의 비용에 대한 관점에서, N-포스포노메틸글리신의 모노암모늄염을 생성하는 경우에는 중성 가수분해 조건이 특히 바람직하며, N-포스포노메틸글리신의 모노나트륨염을 생성하는 경우에는 예를 들어 수산화나트륨 수용액을 사용하는 것과 같은 알칼리성 가수분해 조건이 특히 바람직하다. 둘다 물에 쉽게 용해되며, N-포스포노메틸글리신을 등량의 산만을 첨가함으로써 이들의 용액으로부터 침전시킬 수 있다. 따라서, N-포스포노메틸글리신 1몰 당 염 1몰 만이 생성된다. 산 가수분해법은 과량의 산을 필요로 하는데, 그 결과 다량의 염이 함유된 폐수가 생성되고, 출발 물질의 비용도 커진다. 반면에, 용매가 분해되는 경향 때문에, 중성 및 알칼리성 가수분해는 온건한 조건하에 수행되어야 하며, 상당히 장기간의 반응시간을 초래한다.
본 발명의 목적은 경제적이고 생태학적인 관점 모두에서, 개선된 N-포스포노메틸글리신의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 유기 용매의 분해를 방지하고 생성물을 고순도로 수득하는 N-포스포노메틸글리신의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은
a) 화학식 II의 헥사히드로트리아진 유도체와 화학식 III의 트리아실 포스파이트를 유기 용매 중에서 반응시켜 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계,
b) 수득한 반응 혼합물을 물 또는 산의 수용액 또는 염기의 수용액으로 추출하는 단계,
c) 상을 분리시키는 단계, 및
d) 수성상에 함유된 생성물을 가수분해시키는 단계를 포함하는, N-포스포노메틸글리신의 제조 방법에 의해 상기 목적이 달성됨을 밝혀내었다.
<화학식 II>
<화학식 III>
P(OCOR3)3
<화학식 I>
상기 식들에서,
X는 CN, COOZ, CONR1R2또는 CH2OY이고,
Y는 H, 또는 H와 용이하게 교환가능한 라디칼이고,
Z는 H, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이고,
R1및 R2는 동일하거나 상이할 수 있으며, H 또는 C1-C4-알킬이고,
R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이다.
단계 (d) 후에, 수성상으로부터 N-포스포노메틸글리신이 수득된다.
수성상에 함유된 임의의 그밖의 유용하고(거나) 재순환가능한 성분도 수성상으로부터 제거하고, 적합한 경우, 공정으로 재순환시키는 것이 바람직하다.
화학식 II에서 X가 CH2OY인 경우에는, 가수분해 후에 수득된 생성물을 산화시킨다.
알킬은 바람직하게는 1 내지 8개의 탄소 원자, 특히 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬쇄이다. 알킬의 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-헥실, 2-에틸헥실 등이 있다.
아릴은 바람직하게는 페닐 및 나프틸이다.
X는 바람직하게는 CN 또는 COOZ이다.
Z는 바람직하게는 H, 알칼리 금속 또는 C1-C18-알킬이다.
Y가 H와 용이하게 교환가능한 라디칼인 경우, 이는 지방족 또는 방향족 아실 라디칼 또는 C1-C6-알킬기가 바람직하다. 지방족 아실 라디칼은 C1-C6-CO 라디칼이 바람직하고, 방향족 아실 라디칼은 벤조일 라디칼이 바람직하다.
R1및 R2는 H를 나타내는 것이 바람직하다.
R3은 상기 언급된 바와 같이 비치환 또는 치환될 수 있는 아릴 라디칼이 특히 바람직하다. 특히 적합한 R3은 페닐, p-톨릴 및 p-니트로페닐이다.
화학식 II의 화합물은 공지된 것이고, 공지된 방법으로 또는 공지된 방법과 유사한 방법으로 제조할 수 있으며, 예를 들어 본원의 도입부에 언급한 선행 문헌들을 참조한다. 예를 들어, 아민 X-CH2-NH2는 포름알데히드원, 예컨대 포르말린 수용액 또는 파라포름알데히드와 반응시킬 수 있는데, 예를 들어 1급 아민을 포르말린 수용액에 용해시킨다. 이어서, 목적하는 헥사히드로트리아진을 결정화 또는 수증발에 의해 수득할 수 있다. 이 과정은 전문이 본원의 참고문헌으로 인용된, US 4,181,800호에 대응하는 DE-A-2645085호에 기재되어 있다.
X가 CN인 화학식 II의 화합물은 스트렉커(Strecker) 합성법에 의해, 즉 암모니아, 히드로시안산 및 포름알데히드원을 반응시킴으로써 수득할 수 있다. 이 방법은 예를 들어 전문이 본원의 참고문헌으로 인용된 US 2,823,222호에 기재되어 있다.
화학식 III의 화합물은 여러 방법으로 제조할 수 있다. 첫번째 방법은 카르복실산 R3COOH의 염과 인 삼할로겐화물, 특히 삼염화인과 반응시키는 것이다. 사용된 카르복실산염은 바람직하게는 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염, 특히 나트륨염, 칼륨염 또는 칼슘염, 또는 암모늄염이다. 이 반응은 용매를 이용하지 않고 수행할 수 있으며, 수득한 반응 생성물은 단계 (a)에 바로 사용될 수 있다. 그러나, 이 방법은 불활성 유기 용매, 특히 에테르, 예컨대 디옥산, 테트라히드로푸란 등, 할로겐화 유기 용매, 특히 염소화 또는 불소화 유기 용매, 예컨대 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 1,2-디클로로프로판, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 클로로벤젠 또는 1,2-디클로로벤젠, 지방족 또는 방향족 탄화수소, 예컨대 n-옥탄, 톨루엔, 크실렌 또는 니트로벤젠 중에서 수행하는 것이 바람직하다. 이어서, 단계 (a)에서는 동일한 용매를 이용하는 것이 바람직하다. 염소화 탄화수소를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
반응 동안 형성된 염, 예를 들어 삼염화인과 해당 카르복실산의 나트륨염을사용한 경우 염화나트륨은 반응 후에 제거할 수 있다.
수득된 염이 염화암모늄 또는 또다른 암모늄 할로겐화물을 염일 경우에는, 강염기, 예를 들어 수산화나트륨 수용액을 이용하여 염의 수용액을 알칼리성(pH 11 내지 14)으로 만듦으로써, 암모니아를 회수하고, 이후 통상적인 방식으로 암모니아를 스트립핑할 수 있다. 이 방식으로 수득한 암모니아는 예를 들어 액상 또는 기상에서 증류시킴으로써 건조시킨 후, 또는 수용액으로서 재순환시킬 수 있고, 카르복실산의 암모늄염을 제조하기 위해 이용할 수 있다.
화학식 III의 화합물의 또다른 제조 방법은 아민의 존재하에 카르복실산 R3COOH를 인 삼할로겐화물과 반응시키는 것이다. 사용된 아민은 특히 지방족 또는 지환족 디- 또는 트리아민, 예컨대 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디메틸에틸아민 또는 디메틸시클로헥실아민 및 피리딘이다. 일반적으로, 상기 방법은 유기 용매 중에서 수행한다. 적합한 용매는 상기 첫번째 제조 방법에서 언급하였다. 디옥산, 1,2-디클로로프로판, 1,2-디클로로에탄, 니트로벤젠 또는 톨루엔이 바람직하게 사용된다. 용매를 이용하는 경우, 형성된 아민 히드로클로라이드는 침전되고, 이는 여과에 의해 제거할 수 있다. 아민 히드로클로라이드를 강염기, 예를 들어 수산화나트륨 수용액으로 처리하는 경우, 아민은 히드로클로라이드로부터 유리된다. 휘발성 아민은 증류 또는 추출에 의해 회수할 수 있다. 비휘발성 아민은 추출에 의해, 또는 아민을 유리시킬 때 2상 혼합물이 수득된 경우에는 상분리에 의해 회수할 수 있다. 고체 아민은 여과에 의해 회수할 수 있다. 회수된 아민은 적합한 경우 건조 후에 상기 공정으로 재순환시킬 수 있다.
화학식 III의 화합물의 또다른 제조 방법은 카르복실산 R3COOH와 인 삼할로겐화물, 특히 삼염화인을 염기의 첨가없이 반응시키는 것이다. 이 반응에서, 형성된 수소 할로겐화물은 반응 혼합물로부터 제거되어야 한다. 이는 통상적인 방식으로, 예를 들어 불활성 기체, 예컨대 질소에 통과시킴으로써 수행할 수 있다. 다음, 유리된 수소 할로겐화물은 산성 가수분해를 의도한다면, 단계 (b)에서 수용액 형태로 가수분해를 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 단계 (a)는 불활성 유기 용매 중에서 수행되며, 이는 수혼화성 용매일 수 있지만, 수불혼화성 용매가 바람직하다. 적합한 용매의 예로는 탄화수소, 예컨대 톨루엔 또는 크실렌, 에테르, 예컨대 테트라히드로푸란, 디옥산 또는 디부틸 에테르, 니트로벤젠 등이 있다. 상기 단계는 할로겐화 용매, 바람직하게는 염소화 및(또는) 불소화 지방족 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 1,2-디클로로프로판, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로에탄, 클로로벤젠 또는 1,2-디클로로벤젠 중에서 수행하는 것이 특히 바람직하다.
편리하게는 반응물은 실질적으로 화학량론적인 양으로 이용한다. 그러나, 예를 들어 하나의 또는 그밖의 반응물의 10% 이하의 과량으로도 사용할 수 있다. 일반적으로, 반응 온도는 -10 내지 140℃, 바람직하게는 실온 내지 100℃ 범위이다. 이러한 조건하에는 단지 짧은 반응 시간이 요구되며, 일반적으로 반응은 10 내지 30분 후에 실질적으로 완료된다.
단계 (a)에 따라 수득한 화학식 I의 화합물은 N-포스포노메틸글리신을 제조하는데 유용한 중간체이다. 포스포노메틸글리신으로 전환시키기 위해, 먼저 단계 (a)에서 수득한 반응 혼합물을 추출한다(단계 (b)). 상기 추출은 산성, 중성 또는 알칼리성 조건하에서 수행될 수 있다. 이 때, pH 조건은 후속적인 가수분해를 위해 원하는 조건에 상응할 수 있으나, 추출시에는 또한 후속적인 가수분해를 위해 사용된 pH와는 다른 pH 범위에서 수행할 수 있다. 예를 들어, 산성 또는 중성 범위에서 추출한 다음, 염기를 첨가하여 알칼리성 범위에서 가수분해를 수행할 수 있다.
추출은 실온 내지 반응 혼합물의 환류 온도, 특히 바람직하게는 50℃ 이상에서 수행하는 것이 바람직하다. 포스포노 화합물 I를 수성상으로 상전이 시키는 것은 매우 급속도로 진행되며, X = CN 및 R3= 페닐인 포스포노 화합물 I의 경우에는, 50℃의 물에서 추출시에는 단지 10분안에 이미 전체 인의 95% 이상이 수성상에 존재하게 되며, 환류 온도에서는 10분 후에 거의 99%가 존재한다.
일반적으로, 추출 시간은 예를 들어 5분 내지 수분이면 충분하며, 온도에 따라 달라진다. 추출 시간은 10분 이상, 특히 1시간 이상이 바람직하다. 특히 저온에서 추출할 경우, 비교적 장시간, 예를 들어 2시간 이상의 추출 시간이 필요할 수 있다.
추출하는 동안, 일반적으로 최소한 일부 화학식 I의 포스포노 화합물을 미리 부분적으로 가수분해시킨다. 부분적인 가수분해는 단계 (a)의 생성물에 함유된 일부 R3CO 라디칼만이 분해되는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 가수분해의 정도는 해당 포스포노 화합물 및 선택된 추출 조건에 따라 달라진다. X = CN 및 R3= 페닐인 화합물 I의 경우에는, 10분 동안 추출한 후, 전체 벤조산의 45 내지 50%가 추출 조건에 따라 이미 유리 형태로 존재한다.
추출을 위해 사용된 산은 특히 무기산, 예컨대 염산, 황산 또는 인산이다. 일반적으로 알칼리 추출은 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토금속 수산화물, 특히 수산화나트륨 또는 수산화칼륨을 이용하여 수행한다.
추출하는 동안, 단계 (a)에서 사용된 용매 혼합물은 해당 용매가 특히 분해되는 경향이 강한 염소화된 탄화수소일지라도, 실질적으로 분해되지 않는다.
다음, 수성상 및 유기상을 서로 분리한다(단계 (c)). 이것은 가용성 불순물을 함유할 수 있는 유기상을 생성하며, 따라서 불순물은 간단한 방식으로 생성물로부터 분리할 수 있다. 수성상은 단계 (a)의 생성물 및 적합한 경우 이의 부분적으로 가수분해된 생성물을 함유한다. 상 분리는 당업자에게 공지된 통상적인 방식으로 수행된다. 다음 수성상에 존재하는 화합물 I 및(또는) 부분적으로 가수분해된 생성물을 가수분해시킨다(단계 (d)). 원하는 가수분해 조건에 따라, 산 또는 염기를 수성상에 첨가할 수 있다. 산 가수분해의 경우 과량의 산이 필요하기 때문에, 가수분해를 중성 또는 알칼리성 조건하에 수행하는 것이 바람직하다.
원하는 반응 온도에 이르기 위해, 가수분해를 상승된 압력하에 수행한다. 바람직하게, 가수분해 동안 반응 온도는 추출하는 동안 보다 높다. 일반적으로,반응 온도는 추출 동안보다 20℃ 이상, 특히 30℃ 이상 더 높다. 바람직한 반응 온도는 100 내지 180℃, 특히 바람직하게는 130 내지 150℃의 범위이다. 반응 시간은 바람직하게는 약 5분 내지 4시간, 특히 바람직하게는 10분 내지 2시간, 매우 특히 바람직하게는 약 20분이다.
가수분해를 위해서는, 중성 또는 염기성 조건이 바람직하다. 염기성 가수분해의 경우에, 염기는 실질적으로 등량 사용하는 것이 바람직하다.
가수분해에 적합한 산 및 염기는 일반적으로 추출과 관련하여 상기한 각각의 산 및 염기이다.
분해될 수 있는 유기 용매가 존재하지 않기 때문에, 온건한 가수분해 조건을 채택할 필요는 없다.
X가 CH2OY인 경우에는, 가수분해 후 수득한 생성물을 산화시켜야 한다. 사용된 물질은 특히 X가 CH2OH인 화합물이다. 포스포노메틸글리신을 수득하기 위한 산화는 당업자에게 공지된 통상적인 방법, 예를 들어 구리 촉매하에 촉매적 탈수 반응으로 수행한다.
X가 CH2OY이고 Y가 아실 라디칼인 경우에는, 아실 라디칼이 단계 (a)의 생성물의 가수분해 동안 분해되어, X가 CH2OH인 상응하는 화합물이 형성된다. 이를 상기 언급한 바와 같이 산화시켜 포스포노메틸글리신을 수득한다.
X가 CH2OY이고 Y가 알킬 라디칼인 경우에는, 일반적으로 단계 (a)의 생성물의 산 가수분해 조건하에 동시에 에테르 절단을 수행한다. X가 CH2OH인 수득한 화합물은 상기 언급한 바와 같이 산화시켜 포스포노메틸글리신을 수득한다.
가수분해가 종결된 후, N-포스포노메틸글리신은 염의 형태로 존재하며, 수성상으로부터 제거된다. 이것은 적합한 방식으로 pH를 조정함으로써 수행하는 것이 바람직하다.
포스포노메틸글리신은 수성상을 예를 들어 산 또는 염기, 예를 들어 HCl, H2SO4또는 NaOH, KOH, Ca(OH)2를 첨가하여 pH 0.5 내지 2.0, 특히 0.8 내지 1.5의 범위로 조정하고, 적합한 경우 수성상을 농축하고(거나) 침전제를 첨가하여 침전시키고, 통상적인 방식, 예를 들어 여과에 의해 단리시킬 수 있다. 적합한 여과제로는 수혼화성 용매, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤 등이 바람직하다. 용매를 모액으로부터 증류에 의해 회수하여 재사용할 수 있다.
가수분해 동안 형성된 암모니아 또는 임의의 염화암모늄을 적합한 경우 혼합물을 알칼리성으로 만들고 스트립핑에 의해 암모니아를 회수함으로써 상기 공정에 재순환시킬 수 있다.
필요에 따라, 수득한 포스포노메틸글리신을 적합한 방식으로 탈색시킬 수 있다. 이는 예를 들어 상기 포스포노메틸글리신을 소량의 탈색제, 예를 들어 산화제, 예컨대 퍼보레이트 또는 H2O2, 또는 흡착제, 예컨대 활성 목탄으로 처리함으로써 수행할 수 있다. 탈색제의 양은 탈색 정도에 따라 달라지고, 당업자에 의해 간단한 방식으로 결정될 수 있다. 탈색제의 처리는 가수분해 후 임의의 단계에서 통상적인 방식으로 수행할 수 있다. 편리하게는, 포스포노메틸글리신을 침전시키기 전에 탈색제를 첨가한다.
N-포스포메틸글리신 뿐만 아니라, 가수분해 동안 형성된 반응 혼합물은 생성물 및(또는) 부산물을 더 함유한다. 카르복실산 R3COOH는 과량의 산으로 가수분해시킬 때 또는 중성으로 가수분해시킬 때는 바로, 또는 염기로 가수분해시킬 때는 강산을 이용하여 바람직하게는 pH 0.5 미만으로 산성화시킨 후에 형성된다. 다음, 카르복실산을 통상적인 방식으로, 예를 들어 고체 형태로 침전된 카르복실산의 여과, 수성상과 불혼화성인 유기 용매를 이용한 증류 또는 추출에 의해 제거한다. 카르복실산은 고순도로 수득되며, 화학식 III의 화합물의 제조를 위해 어떠한 문제없이 재순환시킬 수 있다. 단계 (a)로부터의 유기 용매 역시 화합물 I의 추출 후에 어떠한 문제없이 재순환될 수 있다. 그러나, 일반적으로 용매를 미리 증류, 추출, 여과 및(또는) 스트립핑시켜 불순물을 제거한다. 본 발명에 따른 방법 또는 그에 따른 임의의 단계는 연속식, 배취식 또는 반배취식 방법으로 수행될 수 있다. 사용된 반응 용기는 이러한 목적을 위한 통상적인 반응 용기, 예컨대 적합한 경우 역류 혼합 기기 또는 관식 반응기에 장착된 혼합 요소를 갖춘 교반 탱크 또는 관식 반응기, 추출 컬럼, 혼합침강기 또는 상분리기이다.
본 발명에 따른 방법은 간단한 공정 작업 및 저렴한 출발 물질을 특징으로 한다. 무기 염화물만이 폐생성물로 수득되고, 보호기인 화학식 III의 트리아실 포스파이트의 아실 라디칼은 간단한 방식으로 재순환될 수 있다. 본 방법을 통해 화학식 II의 헥사히드로트리아진을 기준으로 90% 초과의 고수율로 매우 짧은 반응 시간 내에 N-포스포노메틸글리신을 수득한다.
가수분해 전에 생성물을 수성상으로 추출함으로써, (a)에서 사용된 유기 용매의 분해를 방지한다. 온건한 가수분해 조건은 필요하지 않으나, N-포스포노메틸글리신의 모노암모늄염 또는 모노나트륨염을 제공하고 생태학적인 관점에서 유리한 중성 또는 알칼리성 가수분해를 어떠한 문제없이 이용할 수 있다. 상기 염 모두 등량의 산을 첨가함으로써 침전시킬 수 있으며, 폐수의 염 함유 및 출발 물질의 비용을 감소시킨다.
하기 실시예는 제한 없이 본 발명을 설명한다.
실시예 1: 트리아진과 포스파이트의 반응
먼저 테플론 패들 교반기 및 환류 응축기를 갖춘 2 L 교반 플라스크에 벤조산암모늄 284 g을 1,2-디클로로에탄 1000 mL에 충전시키고, 삼염화인 91.5 g을 질소 대기하에 30분 동안 적가하였다. 첨가하는 동안, 온도는 최대 36℃로 상승하였다. 다음, 교반을 30분 동안 25 내지 36℃에서 계속하였다. 반응 혼합물을 압력 너체(nutsche)를 통해 여과하고, 여과케이크를 질소하에 디클로로에탄(여과액 2054 g) 500 g으로 2번 세척하였다.
먼저 테플론 패들 교반기 및 환류 응축기를 갖춘 2 L 교반 플라스크에 여과액을 실온에서 충전시키고, 헥사히드로트리아진 6(X = CN, 45.54 g)을 첨가하였다. 교반하면서, 혼합물을 30분에 걸쳐 80℃로 가열하고 30분 동안 80℃에서 교반하였다. 용액을 냉각시킨 후 다음 단계에 직접 사용하였다.
실시예 2: 추출 단계
실시예 1에 따라 수득한 용액(P 0.051 mol 함유) 150 g을 표 1에 기재된 바와 같이 물 28 g 또는 수용액과 함께 교반하였다. 다음, 상을 분리하고 벤조산에 대해 P 원소 분석 및 정량적인 HPLC로 개별적으로 분석하였다. 하기 표와 같이 결과를 얻었다.
유리 벤조산 | ||||||
실험 번호 | 수용액 | 반응 시간 | 반응 온도 | 총량의 % | 수성상 | 디클로로에탄 상 중 P의 비율 |
1 | 물 | 10분 | 50℃ | 45.7% | 7.3% | 3.8% |
2 | 물 | 2시간 | 50℃ | 46.0% | 7.3% | 1.5% |
3 | 물 | 10분 | 환류 온도 | 46.7% | 7.2% | 1.3% |
4 | 물 | 2시간 | 환류 온도 | 50.4% | 5.5% | 1.2% |
5 | 20% HCl | 10분 | 환류 온도 | 57.3% | 5.4% | 0.2% |
6 | 20% HCl | 2시간 | 환류 온도 | 78.0% | 5.4% | 0.2% |
"유리 벤조산"하의 열은 추출물을 비결합된 형태로 용해시킨 후에 포스파이트 형태로 이론적으로 첨가된 벤조산이 얼마나 많은 양(%)으로 존재하는지를 나타내었다. 수성상 열은 수성상에 여전히 용해되어 있는 상기 화합물의 비율을 나타내었다. 마지막 열은 추출 후에 유기상에 남아있는 인의 총 비율을 나타내었다.
실시예 3: 물을 이용한 가수분해
실시예 2(실험 번호 2)에 따라 수득한 수성상을 10 mL 압력 반응기에서 더 가열하였다. 반응 조건은 하기 표 2에 제공하였다. 반응의 배출물을 50℃에서 톨루엔으로 2번 추출한 다음, 포스포노메틸글리신에 대해 정량적인 HPLC 및 정량적인1H-NMR 분석으로 분석하였다. 결과는 표 2에 열거하였다. N-포스포노메틸글리신을 단리시키기 위해, 반응 배출물을 pH 1.0으로 조정하고 N-포스포노메틸글리신을 여과 제거한 후 세척하였다.
반응 온도 | 반응 시간 | 수율 | |
분석시 | 단리시 | ||
150℃ | 4시간 | 39% | 30% |
150℃ | 1시간 | 59% | 57% |
150℃ | 20분 | 75% | 72% |
140℃ | 1시간 | 74% | 71% |
130℃ | 1시간 | 61% | 55% |
실시예 4: 알칼리성 조건을 이용한 가수분해 단계
50% 농도의 수산화나트륨 수용액 0.051 mol을 실시예 2(실험 번호 2)에 따라 수득한 수성상에 첨가하고, 반응 혼합물을 압력 교반기에서 더 가열하였다. 반응 조건은 하기 표 3에 제공되었다. 반응 배출물을 포스포노메틸글리신에 대해 정량적인 HPLC 및 정량적인1H-NMR 분석으로 분석하였다(합성물의 수율). 결과는 하기 표 3에 나타내었다. 포스포노메틸글리신을 단리시키기 위해, 혼합물을 1,2-디클로로에탄으로 60℃ 및 pH 2.5에서 3번 추출한 다음, pH 1.0으로 조정하고, 약간의 메탄올을 첨가하고, 혼합물을 추가의 3시간 동안 40℃에서 교반하고, 포스포노메틸글리신을 여과 제거하고, 잔여물을 냉수로 세척하였다.
반응 온도 | 반응 시간 | 수율 | |
합성시 | 단리시 | ||
180℃ | 20분 | 43% | 24% |
150℃ | 2시간 | 87% | 81% |
150℃ | 30분 | 90% | 85% |
150℃ | 15분 | 92% | 88% |
140℃ | 1시간 | 71% | 60% |
130℃ | 1시간 | 50% | 38% |
Claims (14)
- a) 화학식 II의 헥사히드로트리아진 유도체와 화학식 III의 트리아실 포스파이트를 유기 용매 중에서 반응시키는 단계,b) 수득한 반응 혼합물을 물 또는 산의 수용액 또는 염기의 수용액으로 추출하는 단계,c) 상을 분리시키는 단계, 및d) 수성상에 함유된 생성물을 가수분해시키는 단계를 포함하는, N-포스포노메틸글리신의 제조 방법.<화학식 II><화학식 III>P(OCOR3)3상기 식들에서,X는 CN, COOZ, CONR1R2또는 CH2OY이고,Y는 H, 또는 H와 용이하게 교환가능한 라디칼이고,Z는 H, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이고,R1및 R2는 동일하거나 상이할 수 있으며, H 또는 C1-C4-알킬이고,R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, C1-C18-알킬, 또는 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 아릴이다.
- 제1항에 있어서, 단계 (d) 후에, 수성상으로부터 N-포스포노메틸글리신이 수득되는 방법.
- 제2항에 있어서, pH를 0.5 내지 2.0 범위의 수치로 조정함으로써 N-포스포노메틸글리신을 침전시키는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 화합물 II의 X가 CH2OY일 경우, 단계 (d) 후에 수득된 생성물을 산화시키는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (b)에 따른 추출을 실온 내지 상기 혼합물의 환류 온도에서 수행하는 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에 따른 가수분해를 중성 또는 알칼리성 조건하에 수행하는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (d)에 따른 가수분해를 단계 (b)에 따른 추출시의 온도보다 고온에서 수행하는 방법.
- 제7항에 있어서, 단계 (d)에서 온도가 100℃ 내지 180℃ 범위인 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 사용된 용매가 염소화된 탄화수소, 바람직하게는 1,2-디클로로에탄인 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 사용된 화학식 III의 트리아실 포스파이트가 벤조일 포스파이트인 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, X가 CN 또는 COOZ인 방법.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, R3이 비치환되거나 또는 C1-C4-알킬, NO2또는 OC1-C4-알킬에 의해 치환된 페닐이거나 CH3인 방법.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 II 및 III의 화합물을실질적으로 등량으로 사용하는 방법.
- 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (a)로부터의 용매를 단계 (c) 후에 회수하여 재순환시키는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10130135A DE10130135A1 (de) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | Verfahren zur Herstellung von N-Phosphonomethylglycin |
DE10130135.9 | 2001-06-22 | ||
PCT/EP2002/006902 WO2003000703A1 (de) | 2001-06-22 | 2002-06-21 | Verfahren zur herstellung von n-phosphonomethylglycin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040010766A true KR20040010766A (ko) | 2004-01-31 |
KR100878928B1 KR100878928B1 (ko) | 2009-01-19 |
Family
ID=7689073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020037016700A KR100878928B1 (ko) | 2001-06-22 | 2002-06-21 | N-포스포노메틸글리신의 제조 방법 |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7145034B2 (ko) |
EP (1) | EP1401845B1 (ko) |
JP (1) | JP3896113B2 (ko) |
KR (1) | KR100878928B1 (ko) |
CN (1) | CN1239507C (ko) |
AR (1) | AR034596A1 (ko) |
AT (1) | ATE293118T1 (ko) |
AU (1) | AU2002321098B2 (ko) |
BR (1) | BR0210529B1 (ko) |
CA (1) | CA2450781A1 (ko) |
DE (2) | DE10130135A1 (ko) |
DK (1) | DK1401845T3 (ko) |
ES (1) | ES2240779T3 (ko) |
IL (2) | IL159492A0 (ko) |
IN (1) | IN2003CH02032A (ko) |
MX (1) | MXPA03011309A (ko) |
NZ (1) | NZ530026A (ko) |
PT (1) | PT1401845E (ko) |
RU (1) | RU2311420C2 (ko) |
SI (1) | SI1401845T1 (ko) |
TW (1) | TWI252852B (ko) |
WO (1) | WO2003000703A1 (ko) |
ZA (1) | ZA200400432B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101014830B1 (ko) * | 2008-09-12 | 2011-02-15 | 건국대학교 산학협력단 | 탈수 쓰레기통 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10130134A1 (de) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von alpha-Aminophosphonsäuren |
AU2007204755A1 (en) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Eugene J. Van Scott | N-(phosphonoalkyl)-amino acids, derivatives thereof and compositions and methods of use |
EP2875034B1 (en) * | 2012-07-17 | 2017-05-03 | Straitmark Holding AG | Method for the synthesis of n-(phosphonomethyl)glycine |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE141929C (ko) * | ||||
DE118435C (ko) | ||||
US2823222A (en) * | 1956-06-22 | 1958-02-11 | Dow Chemical Co | Method for the preparation of n-methylene-glycinonitrile |
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GB1445087A (en) * | 1972-11-08 | 1976-08-04 | Ici Ltd | Preparing n-phosphonomethylglycine and nitrile intermediates therefor |
HU173170B (hu) * | 1974-06-27 | 1979-03-28 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet | Sposob poluchenija n-fosfonometil-glicina |
US4038898A (en) * | 1975-03-03 | 1977-08-02 | Norlin Music, Inc. | System for producing chorus effect |
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US4304718A (en) * | 1975-10-06 | 1981-12-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 2-Azetidinone compounds and processes for preparation thereof |
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US4067719A (en) * | 1976-12-13 | 1978-01-10 | Monsanto Company | O-Aryl N-phosphonomethylglycinonitriles and the herbicidal use thereof |
US4442044A (en) * | 1981-06-19 | 1984-04-10 | Monsanto Company | Process for preparing monoesters and diesters of N-alkyl substituted amino methyl phosphonic acid |
US4427599A (en) | 1982-06-22 | 1984-01-24 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4428888A (en) * | 1982-08-16 | 1984-01-31 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4454063A (en) * | 1982-08-23 | 1984-06-12 | Stauffer Chemical Company | O,O-dialkyl-N-phosphonomethyl-N-halomethyl acetamide |
US4429124A (en) * | 1982-08-23 | 1984-01-31 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4487724A (en) * | 1982-08-23 | 1984-12-11 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4482504A (en) * | 1982-08-30 | 1984-11-13 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
US4415503A (en) * | 1982-09-28 | 1983-11-15 | Stauffer Chemical Company | Method for preparation of N-phosphonomethylglycine |
DE3564115D1 (en) | 1984-06-04 | 1988-09-08 | Stauffer Chemical Co | Method for preparation of n-phosphonomethylglycine |
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AR027024A1 (es) * | 1999-12-23 | 2003-03-12 | Basf Ag | Procedimiento para la preparacion de n-fosfonometilglicina |
-
2001
- 2001-06-22 DE DE10130135A patent/DE10130135A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-06-19 AR ARP020102291A patent/AR034596A1/es unknown
- 2002-06-21 DK DK02754733T patent/DK1401845T3/da active
- 2002-06-21 BR BRPI0210529-2B1A patent/BR0210529B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 AT AT02754733T patent/ATE293118T1/de active
- 2002-06-21 PT PT02754733T patent/PT1401845E/pt unknown
- 2002-06-21 KR KR1020037016700A patent/KR100878928B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 MX MXPA03011309A patent/MXPA03011309A/es active IP Right Grant
- 2002-06-21 CN CNB028122100A patent/CN1239507C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-21 NZ NZ530026A patent/NZ530026A/en not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 TW TW091113626A patent/TWI252852B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 ES ES02754733T patent/ES2240779T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-21 CA CA002450781A patent/CA2450781A1/en not_active Abandoned
- 2002-06-21 IL IL15949202A patent/IL159492A0/xx unknown
- 2002-06-21 RU RU2004101773/04A patent/RU2311420C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 DE DE50202785T patent/DE50202785D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-21 WO PCT/EP2002/006902 patent/WO2003000703A1/de active IP Right Grant
- 2002-06-21 JP JP2003507106A patent/JP3896113B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-21 US US10/481,579 patent/US7145034B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-21 AU AU2002321098A patent/AU2002321098B2/en not_active Ceased
- 2002-06-21 EP EP02754733A patent/EP1401845B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-21 SI SI200230126T patent/SI1401845T1/xx unknown
-
2003
- 2003-12-03 IN IN2032CH2003 patent/IN2003CH02032A/en unknown
- 2003-12-22 IL IL159492A patent/IL159492A/en not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-01-21 ZA ZA2004/00432A patent/ZA200400432B/en unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101014830B1 (ko) * | 2008-09-12 | 2011-02-15 | 건국대학교 산학협력단 | 탈수 쓰레기통 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040236145A1 (en) | 2004-11-25 |
JP3896113B2 (ja) | 2007-03-22 |
EP1401845B1 (de) | 2005-04-13 |
IN2003CH02032A (ko) | 2004-12-11 |
WO2003000703A1 (de) | 2003-01-03 |
PT1401845E (pt) | 2005-09-30 |
US7145034B2 (en) | 2006-12-05 |
MXPA03011309A (es) | 2004-03-19 |
TWI252852B (en) | 2006-04-11 |
CN1239507C (zh) | 2006-02-01 |
CA2450781A1 (en) | 2003-01-03 |
BR0210529B1 (pt) | 2013-08-13 |
AU2002321098B2 (en) | 2007-05-10 |
CN1516703A (zh) | 2004-07-28 |
BR0210529A (pt) | 2004-06-22 |
ATE293118T1 (de) | 2005-04-15 |
EP1401845A1 (de) | 2004-03-31 |
IL159492A (en) | 2010-11-30 |
ZA200400432B (en) | 2005-03-30 |
JP2004532282A (ja) | 2004-10-21 |
DE50202785D1 (de) | 2005-05-19 |
AR034596A1 (es) | 2004-03-03 |
MX234328B (ko) | 2006-02-13 |
NZ530026A (en) | 2004-07-30 |
RU2311420C2 (ru) | 2007-11-27 |
DE10130135A1 (de) | 2003-01-02 |
DK1401845T3 (da) | 2005-07-18 |
SI1401845T1 (ko) | 2005-08-31 |
ES2240779T3 (es) | 2005-10-16 |
KR100878928B1 (ko) | 2009-01-19 |
RU2004101773A (ru) | 2005-06-27 |
IL159492A0 (en) | 2004-06-01 |
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JPH0258276B2 (ko) | ||
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130107 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |