KR20040002864A - 1,2-디클로로에탄의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 에틸렌과 염화수소 및 산소 함유 기체를 반응 기체를 형성시키기 위해 유동층을 갖는 옥시염화 반응기내에서 반응시켜 1,2-디클로로에탄을 제조하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 반응 기체는 하나 이상의 필터 캔들에 의해 옥시염화 반응기 외부에서 여과된다.
Description
본 발명은 에텐과 염화수소 및 산소 함유 기체를 유동층을 갖는 옥시염화 반응기내에서 반응시키는 1,2-디클로로에탄의 제조방법 및 제조장치에 관한 것이다.
옥시염화 반응은 포화 염화 알칸(본 발명의 경우, 1,2-디클로로에탄, 이하 "EDC"로도 지칭한다)를 형성하는 알켄(본 발명에서는 에텐)과 염화수소 및 산소 또는 산소 함유 기체(예: 공기)의 반응으로 이해하면 되며, 다음 반응식에 따라 반응한다.
C2H4+ 2HCl + 1/2O2↔Cl-CH2-CH2-Cl + H2O
그러나, 이러한 반응의 부수적인 반응 생성물(물)은 미반응 출발 물질(염화수소)과 함께, 부식성이 매우 큰 염산을 형성할 수 있으므로, 이러한 방법을 수행하는 경우, 적합하게 저항성이 있으며, 따라서 고가인 물질을 당해 장치에 사용해야만 한다.
옥시염화 반응은 촉매의 존재하에 수행된다.
대규모 공업에 자주 사용되는 이러한 방법의 형태에서, 사실상 산화알루미늄 담체 위에 존재하는 염화구리로 이루어진 촉매 유동층이 옥시염화 반응용 촉매로서사용된다.
통상적인 공업적 유동층 방법의 경우, 촉매는 서로 차례로 배열된 다수의 사이클론에 의해 옥시염화 반응기의 상부 영역에서 분리되므로, 촉매의 대부분은 반응기내에 잔류하게 된다. 또한, 촉매의 작은 부분(이른바 촉매 조각)이 반응 기체를 통해 반응기를 빠져나가, 1,2-디클로로에탄의 마무리 작업에 합쳐지므로, 다시 분리해야만 한다.
독일 공개특허공보 제41 32 030호에는, 유동층 옥시염화 방법에 의한 1,2-디클로로에탄의 제조시 반응 영역내에서 형성되어, 정제하지 않은 EDC 기체 스트림과 함께 반응 영역을 빠져나가는 촉매 조각의 제거방법이 공지되어 있다. 이러한 촉매 제거는 이탈한 촉매 조각을 건조 조건하에서 작동되는 세척 영역내의 조 EDC 기체 스트림으로부터 분리하는 방식으로 수행된다. 이러한 방법의 바람직한 양태는 촉매 조각이 세척 영역과 같은 분진 분리기 또는 전기 여과기내에서 분리된다는 사실을 특징으로 하는데, 당해 분진 분리기에 압축 재순환 기체에 의해 세척되는 백 필터(bag filter)를 장착할 수 있다. 반응 영역으로부터 이탈한 촉매 조각을 하부스트림에 위치한 탈착 영역내에서 흡착된 반응 생성물로부터 분리시킬 수 있다.
이러한 방법에 의해, 당해 공정의 마무리에 형성된 물과 마무리 작업에 사용된 세척수를 제거하려는 경우, 중금속 및 무기 슬러리에 의해 오염된 폐수의 형성이 억제된다. 그러나, 더 이상 사용할 수 없는 이탈한 촉매의 일정량이 버려지게 되며, 적합한 방식으로 처리해야만 한다는 단점이 있다. 또한, 이러한 방법의 경우, 옥시염화로부터의 폐수에 의해 주변 환경에 배출되는 PCDD/PCDF(폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란)의 양이 여전히 상당히 많다. 또한, 이러한 방법은 매우 까다로운 것으로 밝혀졌으며, 비교적 고가의 장치가 요구되며, 아울러 넓은 공간과 많은 투자 비용이 따른다.
독일 공개특허공보 제197 53 165호에는 옥시염화에 의한 1,2-디클로로에탄의 제조방법이 기재되어 있는데, 여기서 구리 함유 촉매를 포함하는 유동층내에서, 에텐이 염화수소 및 산소 함유 기체와 반응하고, 반응기로부터 생성되는 반응 기체는 매우 미세한 여과에 의해 반응기내의 촉매를 통과하므로, 촉매가 반응기내에 잔류하게 된다. 그 다음, 촉매를 통과한 반응 기체는 급냉 컬럼으로 유입되어 공지된 방식으로 냉각된다.
상기 방법의 단점은 당해 여과에 따라 반응기내에 매우 미세한 입자가 축적된다는 점이다. 이러한 단점은 촉매층의 유동 특성의 열화 및 반응기내의 열 전달의 열화와 관련되어 있다. 게다가, 특히 반응기 사이클론에 의한 제조가 아니기 때문에 반응 기체의 분진 함량이 매우 높다. 이러한 입자의 높은 비율로 인하여, 여과 표면이 사실상 높아진다. 또한, 독일 공개특허공보 제197 53 165호에 기재된 방법은 복잡한 방식에 의해서만 기존의 시스템에 적용할 수가 있으므로, 당해 방법은 새로운 시스템에만 사용되며, 기존 시스템에는 거의 적합하지 않다.
또한, 선행 기술(참조: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A6, 1986, P.269)에 따르면 옥시염화의 유동층 반응기로부터 생성되는 고온의 반응 기체의 경우, 당해 기체는 EDC 및 물 이외에 추가 처리하지 않고, 수용액을 사용하여 급냉시켜야 하는 미반응된 HCl 기체를 포함하는 것으로 공지되어 있다.이러한 방법에서, 이탈하지 않은 촉매 조각과 에텐의 옥시염화로부터의 미반응 염화수소가 세척된다. 세척수로서는, 외부로부터의 물 및 반응중 형성된 물(이른바 반응수) 둘 다 사용할 수 있다. EDC를 급냉 공정으로부터의 물과 함께 증류시키고, 응축시킨다.
상기 방법에서, 급냉 공정으로부터의 폐수는 다른 무엇보다도 촉매 조각을 포함하고 있기 때문에 이를 복잡한 방식에 의해 처리해야 한다는 사실이 단점으로 밝혀졌다.
유동층 기술을 사용하는 공지된 모든 선행 기술에 의해서는 PCDD/PCDF의 단지 부적합한 분리만이 가능하거나 또는 그러나, 적합한 보다 높은 분리속도는 오직 어려운 방법 또는 복잡한 공정 절차에 의해서만 성취된다는 단점이 밝혀졌다.
따라서, 본 발명의 문제는 반응중 형성된 촉매 조각을 최소의 노력만으로 제거할 수 있는 방식으로, 유동층을 사용하여 1,2-디클로로에탄 제조를 위한 옥시염화 방법을 유동층을 사용하여 수행하는 것이다. 또한, 당해 방법에 의해 촉매 조각의 분리 수준을 가능한 높힐 수 있어야만 한다.
본 발명의 추가의 문제는 장치 측면에서 최소한의 노력을 사용하여 반응 기체로부터 PCDD/PCDF를 적합하게 분리시키는 것이다.
이러한 문제는 서론에 언급한 하나 이상의 필터 캔들을 사용하여 옥시염화 반응기 외부로 반응 기체를 여과시키는 종류의 방법에 의해 해결된다.
놀랍게도, 본 발명에 의해, 조 1,2-디클로로에탄 기체 스트림을 통상적인 조건하에서 여과하는 경우, 필터 캔들이 세척 수행의 용이성 또는 내화학성(내부식성) 측면에서 문제를 일으키지 않는다는 사실이 밝혀졌다. 필터 캔들은 표면적이 매우 넓으며, 이러한 필터 캔들을 통해 부식성 기체 혼합물이 200℃ 이상의 온도에서 통과하기 때문에, 이러한 내부식성은 예상하지 못했던 것이다.
본 발명의 바람직한 양태에 따라, 하나 이상의 필터 캔들이 여과 물질로서, 하나 이상의 세라믹 물질 및/또는 하나 이상의 소결시킨 금속 분말 및/또는 고급 강(1.4571 또는 동등한 물질) 또는 또 다른 적합한 합금으로 이루어진 하나 이상의 와이어 플리스(wire fleece)를 포함한다.
하나 이상의 필터 캔들에 있어서, 인코넬(INCONEL)TM, 모넬(MONEL)TM및/또는 하스텔로이(HASTELLOY)TM이란 상표명으로 시판되는 합금을 사용할 수 있다.
마찬가지로, 적합한 평균 기공 크기의 세라믹 물질을 포함하는 필터 캔들도 사용할 수 있다.
이러한 여과 물질을 사용하는 경우, 특히 반응 기체로부터 PCDD/PCDF를 잘 분리할 수 있다. 디옥신 및 퓨란 관점에서의 분리 성능은 이러한 화합물의 물질 이동이 매우 복잡하고, 깊히 연구된 바 없기 때문에 놀라운 것이다. 특히, 필터 캔들 또는 필터 캔들에 사용되는 여과 물질의 평균 기공 크기 또는 분리 한계가 15㎛ 이하, 바람직하게는 8㎛ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 5㎛ 내지 1㎛인 경우, PCDD/PCDF의 분리의 탁월한 향상이 성취될 수 있다. 보다 낮은 평균 기공 크기 또는 분리 한계로서, 0.0001㎛, 0.001㎛, 0.01㎛, 0.1㎛ 및 0.5㎛의 값 모두 가능하다. 따라서, 여과 물질의 평균 기공 크기는 예를 들면, 0.0001 내지 5㎛일 수 있다. 한편, 본원에 동등한 효과를 지닌 것으로 간주된 직물 필터를 사용하는 경우, 디옥신/퓨란을 분리할 수 없다.
또한, 반응 기체를 직접 응축시키는 경우, 즉 급냉 없이 응축시키는 경우, 여전히 존재할 수 있는 소량의 잔류하는 PCDD 및/또는 PCDF가 사실상 완전히 유기상으로 되어, 옥시염화로부터 생성된 폐수 중의 이러한 물질을 매우 크게 줄일 수 있다.
이제 가장 간단한 수단을 사용하여, 하나 이상의 필터 캔들을 갖는 외부에 위치한 필터 성분을 사용함으로써 특히 폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란(PCDD/PCDF)의 높은 분리능을 성취할 수 있으므로, 까다로우며 고가인 수단에 의해 마무리를 해야만 했었던 폐수 중의 이러한 화합물의 함량을 크게 낮출 수 있다.
매우 미세한 입자가 필터 하우징 내부에 침전되어, 결과적으로 필터 하우징을 차단한다는 문제는 필터내의 기체 스트림의 다음 경로에 의해 해결할 수 있다. 즉, 촉매 입자의 침전 속도와 기체(재순환 기체, 1,2-디클로로에탄 및 공정수)의 유속으로부터 생성되는, 중력 방향의 속도 벡터를 0 이상으로 하는 것이다.
상술한 바와 같이, 매우 미세한 여과 직후 예비 급냉시키지 않고 응축시키려는 반응 기체의 특정한 적용의 경우, 당해 기술분야에서 항상 필요했었던 급냉 공정 단계를 생략할 수 있다. 결과적으로, 옥시염화 방법이 더욱 간단해지며, 보다 경제적으로 수행된다. 이러한 방법의 경우, 이른바 급냉 타워를 설치할 필요가 없는 장치를 사용할 수 있으므로, 결과적으로 사용하는 장치의 공간 절감 효과가 이루어진다.
공정 조건, 특히 유동층에 의한 옥시염화 단계의 조건을 바람직하게는 본원에 참조 문헌으로 인용되는, 독일 특허 제1 518 931호 및 독일 특허 제1 468 489호에 기재된 공정 조건에 따라 수행할 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따르는 방법의 옥시염화 반응기를 이탈한 후, 반응 기체는 약 1 내지 6bar, 바람직하게는 약 3.5bar의 압력에서 필터 캔들을 통해 유동한다.
본 방법에서, 반응 기체는 필터를 통해 유동하는 경우, 약 200 내지 250℃, 바람직하게는 약 220℃의 온도를 가져야 한다.
촉매의 침전 속도와 기체의 유속(재순환 기체, 1,2-디클로로에탄 및 공정수)에 의한, 중력 방향의 속도 벡터가 0 이상, 특히 10mm/초 이상인 경우, 본 발명에 따르는 방법에서 특히 양호한 결과를 수득할 수 있다.
여과 후, 정제 수준에 따라, 반응 기체를 급냉 칼럼에 통과시키거나 직접 응축시킬 수 있다.
이러한 방법에서, 촉매 조각을 기타 복잡한 장치(예를 들면, 독일 특허원 제197 53 165호에 기재된 것과 같은 장치)를 사용하여 제거할 필요가 없으므로, 매우 간단하게 구성된 장치를 사용할 수도 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따르는 방법 이후의 1,2-디클로로에탄 중의 폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란(PCDD/PCDF)의 함량은 1,2-디클로로에탄 1톤중 0.1㎍ 미만이다.
바람직한 양태에 따르는 본 발명의 방법의 경우, 유동층에 의한 옥시염화 방법내에 탑재된 촉매 입자의 분리 수준은 99.99% 이상이다.
당해 여과는 옥시염화 반응기의 외부에 위치하는, 본 발명에 따르는 방법을 수행하기 위해 사용된 필터 캔들을 사용하여 수행된다는 사실로 인하여, 유동층을 갖는 기존의 옥시염화 시스템을 매우 간단한 방식으로 재설치 할 수 있다. 이는 특히 매우 간단한데, 왜냐하면, 하나 이상의 필터 캔들을 갖는 필터는 매우 간결하게 구성될 수 있기 때문이다.
게다가, 필터 캔들의 높은 작동 신뢰성으로 인하여, 백-업(back-up) 장치를 생략할 수도 있다.
이러한 이유로, 특히 필터 캔들이 실제적으로 마모되지 않기 때문에, 이들은 무한정한 수명을 가지며, 특히, 필터 캔들내의 본 발명에 따르는 스트림 경로의 경우, 여과된 입자를 쉽게 분리할 수 있다. 또한, 이는 복잡한 유지 작업을 수행할 필요가 없기 때문에 유리한 것으로 판명되었다.
본 발명에 따르는 방법을 특히 잘 수행할 수 있기 위해서는, 유동층 반응기내에서의 옥시염화 방법에 따르는 1,2-디클로로에탄의 제조장치는 옥시염화 반응기의 유동층내로 직접 유입되는 염화수소 및 산소 함유 기체용 주입구를 가져야 한다.
이러한 주입구는 다공성, 기체 투과성 팩킹 성분을 포함할 수 있다.
또한, 에텐과 재순환 기체 스트림을 다공성의 기체 투과성 물질로 제조되거나 또는 다공성의 기체 투과성 물질로 이루어진 팩킹 성분이 제공된 트레이를 통해 옥시염화 반응기로 공급되는 경우에 특히 유리하다.
이러한 주입구의 구조로서 예를 들면, 본원에 참조문헌으로 인용된 독일 공개특허공보 제199 03 335 A1호에 기재된 형태를 선택할 수 있다.
본 발명의 추가의 이점 및 발전 사항을 청구항, 도면 및 본 발명의 예시적인 실시예를 도면을 참조로 상세히 기술한 아래의 설명에 의해 나타낼 것이다.
도 1은 예로서, 바람직한 양태에 따라 본 발명에 따르는 장치를 나타낸 것이다.
또한, 본 발명에 따르는 방법을 도면을 참조로 아래에 설명한다.
예비가열된 출발 물질, 염화 수소 및 산소를 파이프(1)를 통해 반응기(3)의 반응 공간으로 직접 주입한다. 동시에, 추가의 파이프(2)를 통해 예비가열된 재순환 기체 및 에텐을 반응기(3)에 공급한다. 반응기(3)에는 촉매가 장착되어 있다(도면에는 나타내지 않음). 조 1,2-디클로로에탄, 공정수 및 재순환 기체를 사이클론(4)에 의해 매우 미세한 필터(6)로 공급한다. 분리된 매우 미세한 촉매 분진을 배출구(7)를 통해 시스템으로부터 배출시킨다. 제3의 파이프(5)를 통해 필터 성분을 세척[백-워싱(back-washing)]하기 위한 예비가열된 백-워싱 기체를 필터(6)에 통과시킨다. 조 1,2-디클로로에탄, 공정수 및 매우 미세한 입자의 상당한 양이 없는 재순환 기체를 추가의 파이프(8)를 통해 냉각기(9)(여기서, EDC 및 수증기가 응축된다)에 공급한다. 액체 EDC/물 혼합물을 분리기(10)내의 재순환 기체로부터 분리하고, 파이프(12)에 의해 통과시켜 마무리한다. 재순환 기체를 파이프(11)에 의해 재순환 기체 압축기의 주입구 쪽으로 회수한다.
유동층을 갖는 옥시염화 반응기가 CuCl2를 촉매로 사용하는 1,2-디클로로에탄의 제조에 사용된다. 이러한 옥시염화는 본원에서 통상적인 공정 조건하에 수행되는데, 이러한 조건은 당해 기술 분야의 숙련가에게 공지되어 있으므로 자세하게 논의하지 않는다.
유동층 반응기를 통과한 후, 반응 기체(500N㎥/h)는 이른바 촉매 조각인 동반된 촉매 입자를 분리시키기 위해, 200 내지 250℃(바람직하게는 220℃)의 온도 및 약 1 내지 6bar(바람직하게는 3.5bar)의 압력의 건조 조건하에 작동되는, 세척 영역의 매우 미세한 필터를 통해 유동하므로, 결과적으로 촉매가 사실상 완전히 분리된다.
매우 미세한 필터는 8개의 필터 성분으로 이루어진다. 이러한 필터 성분은 물질 316 S(스테인레스 강)으로부터 제조된다. 이러한 8개의 필터 성분은 자동 밸브에 의해 주기적으로 백-워싱된다. 예비 가열된 질소(8bar의 압력에서 이용가능하다)를 백-워싱 기체로서 사용한다. 당해 필터 콘(cone)내에서 분리되는 매우 미세한 분진은 배출구에 의해 하루에 한번 제거된다.
본원에서 반응 기체의 경로는 촉매 입자의 침전 속도와 기체(재순환 기체, 1,2-디클로로에탄 및 공정수)의 유속에 의해 생성되는 중력 방향의 속도 벡터가 0 이상이 되는 방식으로 제공된다.
따라서, 미세 입자의 최적의 침전이 보장된다.
그 다음, 촉매 조각으로부터 이탈하는, 온도가 200 내지 250℃, 바람직하게는 약 220℃인 반응 기체를 라인을 통해 응축기에 통과시켜 EDC 및 생성물 용액을 웅축시킨다. 응축된 액체를 기체 분리기내의 재순환 기체로부터 분리한다. EDC/물 혼합물을 파이프에 의해 분리 용기로 이송시키고, 여기서 수성상을 EDC로부터 분리한다.
다음의 폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란 농도가 옥시염화로부터 생성된 폐수내에서 측정되었다.
여과하지않음 | 직물 여과기 | 평균 기공 크기가 5㎛ 미만인소결된 금속 필터(스테인레스 강) | |
NATO/CCMS에 따르는 PCDD/PCDF TEQ(㎍/옥시염화 용량 1톤) | 5 | 4.5 | <0.1 |
약어의 설명:
PCDD = 폴리염화 디벤조디옥신
PCDF = 폴리염화 디벤조퓨란
TEQ = 독성 등량
NATO/CCMS = 북대서양 조약 기구/현대 사회
㎍ = 마이크로그램
t of OC = 옥시염화 용량의 톤
상기 결과는 본 발명에 따르는 방법을 사용하여, 특정한 평균 기공 크기를 갖는 필터 캔들을 사용하여, PCDD/PCDF 성분을 여과시킨 후 선행 기술에서 통상적으로 사용되었던 직물 필터를 사용한 여과에 비해 97% 이상 저하시킬 수 있다는 것을 의미한다.
따라서, 동반된 촉매 입자의 분리 수준은 99.99% 이상이다. 따라서, 폐수 중 폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란의 함량이 결과적으로 급격히 저하될 수 있다. 따라서, 옥시염화 후에 더 이상 고가이며 시간 소모적인 폐수 처리를 할 필요가 없다.
Claims (16)
- 에텐을 옥시염화 반응기 속에서 염화수소 및 산소 함유 기체와 반응시켜 반응 기체를 형성시키면서 1,2-디클로로에탄을 제조하는 방법으로서, 반응 기체가 옥시염화 반응기 외부의 하나 이상의 필터 캔들(filter candle)을 사용하여 여과됨을 특징으로 하는 방법
- 제1항에 있어서, 하나 이상의 필터 캔들에 사용된 여과 물질이 세라믹 물질, 소결된 금속 분말, 또는 고급 강 또는 고급 강 합금으로 이루어진 와이어 플리스(wire fleece)를 포함함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 하나 이상의 필터 캔들에 사용되는 여과 물질의 평균 기공 크기가 15㎛ 이하, 바람직하게는 8㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 반응 기체가 약 1 내지 6bar의 압력에서 필터 캔들을 통해 유동함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 반응 기체가 약 200 내지 250℃의 온도에서 필터 캔들을 통해 유동함을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 필터 캔들내의 기체 스트림의 경로가, 촉매 입자를 포함하는 여과되는 입자의 침전 속도 및, 재순환 기체, 1,2-디클로로에탄 및 공정수를 포함하는 기체의 유속에 의해 생성되는, 중력 방향의 속도 벡터가 0 이상으로 되도록 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 여과 후, 반응 기체가 급냉 컬럼 속으로 도입되거나 직접 응축됨을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 폴리염화 디벤조-p-디옥신/퓨란(PCDD/PCDF)의 함량이 유동층 옥시염화 반응으로부터의 폐수 중의 1,2-디클로로에탄 1톤당 0.1㎍ 미만임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 반응 기체로부터의 촉매 단편의 분리도가 99.99% 이상임을 특징으로 하는 방법.
- 특히 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 따르는 방법에 사용하기 위한, 옥시염화 반응기 및 필터가 구비되어 있는, 에텐을 염화수소 및 산소 함유 기체와 반응시켜 1,2-디클로로에탄을 제조하기 위한 장치로서, 필터가, 옥시염화 반응기 외부에 배열되어 있는 하나 이상의 필터 캔들을 가짐을 특징으로 하는 장치.
- 제10항에 있어서, 하나 이상의 필터 캔들이 세라믹 물질, 소결된 금속 분말, 또는 고급 강 또는 고급 강 합금으로 이루어진 와이어 플리스를 포함함을 특징으로 하는 징치.
- 제10항 또는 제11항에 있어서, 하나 이상의 필터 캔들에 사용된 여과 물질이 인코넬(INCONEL)TM, 모넬(MONEL)TM및/또는 하스텔로이(HASTELLOY)TM를 포함함을 특징으로 하는 장치.
- 제10항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 필터 캔들에 사용되는 여과 물질 중의 하나 이상의 평균 기공 크기가 0.01 내지 15㎛, 바람직하게는 0.1 내지 8㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 5㎛, 가장 바람직하게는 0.8 내지 3㎛임을 특징으로 하는 장치.
- 제10항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 염화수소 및/또는 산소 함유 기체 및/또는 산소 함유 기체용 주입구가 유동층 반응기의 유동층 속으로 직접 연결되어 있음을 특징으로 하는 장치.
- 제14항에 있어서, 주입구가 다공성의 기체 투과성 팩킹 성분(packingelement)을 포함함을 특징으로 하는 장치.
- 제10항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, 재순환 기체 및/또는 에텐이 다공성의 기체 투과성 물질로 이루어진 트레이(tray)를 통해 옥시염화 반응기 속으로 주입됨을 특징으로 하는 장치.
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