KR200377156Y1 - Circulation System for Procession of Wafer - Google Patents
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Abstract
본 고안은 장치 상측에 착탈 가능하게 배치되는 냉각부를 형성하여 장치의 과열을 방지할 수 있고, 아울러 승/하강 영역 내로 작업자의 손 등이 들어올 경우 장치의 작동을 멈추도록 하여 서큘레이션으로 공급되는 웨이퍼 카세트의 승/하강 영역을 안전하게 확보하고 동시에 장치의 오작동 및 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있는 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치에 관한 것이다.The present invention forms a cooling unit detachably disposed on the upper side of the apparatus to prevent overheating of the apparatus, and also stops the operation of the apparatus when the operator's hand enters into the lifting / lowering region so that the wafer is supplied as a circulation. The present invention relates to a wafer processing circulation device capable of securely securing a cassette up / down area and at the same time preventing malfunction of a device and safety accident of an operator.
상기 본 고안은 오버 헤드 트렌스퍼를 통해 다수의 웨이퍼를 공급받아 본체 내부로 반입하여 웨이퍼에 박막처리를 행하는 서큘레이션 장치에 있어서, 상기 본체 상측에 배치되어 작업장의 공기를 흡입하여 본체를 냉각시키기 위한 냉각부와, 상기 본체 전방에 설치되어 무형의 차단막을 통해 오버 헤드 트랜스퍼로부터 승/하강되는 웨이퍼 카세트의 승/하강 영역을 설정하고, 차단막 내부로 외부 개체가 침입함과 동시에 이를 감지하여 메인콘트롤러로 감지신호를 전가하여 오버 헤드 트랜스퍼의 작동을 온/오프하기 위한 센서부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention is a circulation device for receiving a plurality of wafers through the overhead transfer to the inside of the main body to perform a thin film processing on the wafer, which is disposed above the main body for sucking the air in the workplace to cool the main body It sets the rising / lowering area of the wafer cassette which is installed in front of the cooling unit and the main body and is lifted / lowered from the overhead transfer through an intangible blocking film. It is characterized in that it comprises a sensor unit for turning on / off the operation of the overhead transfer by transferring the detection signal.
Description
본 고안은 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치에 관한 것으로, 특히 장치 상측에 착탈 가능하게 배치되는 냉각부를 형성하여 장치의 과열을 방지할 수 있고, 아울러 승/하강 영역 내로 작업자의 손 등이 들어올 경우 장치의 작동을 멈추도록 하여 서큘레이션으로 공급되는 웨이퍼 카세트의 승/하강 영역을 안전하게 확보하고 동시에 장치의 오작동 및 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있는 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer processing circulation device, and in particular, to form a cooling unit that is detachably disposed above the device, to prevent overheating of the device, and also to bring the operator's hand into the lifting / lowering area. The present invention relates to a wafer processing circulation device capable of securely securing a rising / falling area of a wafer cassette supplied to a circulation by stopping an operation, and at the same time preventing a malfunction of a device and a safety accident of an operator.
반도체 공정 중에서 CVD(Chemical Vapor Deposition)공정에 사용되고 있는 서큘레이션 장치는 타 장치로부터 다수의 웨이퍼를 공급받아 웨이퍼에 박막처리를 행하는데 사용된다.The circulation apparatus used in the chemical vapor deposition (CVD) process among semiconductor processes is used to perform a thin film treatment on a wafer by receiving a plurality of wafers from another apparatus.
그런데 이와 같은 종래의 서큘레이션 장치는 박막처리공정의 특성상 고온상태에서 웨이퍼를 처리하게 되며, 이에 따라 하게 서큘레이션 장치는 지속적으로 고온에 노출되어 박막처리 도중 장치가 과열되어 오작동을 일으키게 되는 문제점이 있었다.However, such a conventional circulation device has a problem that the wafer is processed in a high temperature state due to the characteristics of the thin film processing process, and thus the circulation device is continuously exposed to high temperature, causing the device to overheat and cause malfunctions during the thin film processing. .
또한, 서큘레이션 장치는 타 장치로부터 서큘레이션 장치로 웨이퍼를 공급받을 경우, 웨이퍼의 사이즈가 300mm 이상의 대구경인 경우 그 무게도 상당히 무겁기 때문에 작업자가 웨이퍼를 직접 이동시키는데 어려움이 있었다.In addition, when the circulation device is supplied with the wafer from the other device to the circulation device, when the size of the wafer is 300 mm or more in large diameter, the weight thereof is quite heavy, which makes it difficult for an operator to directly move the wafer.
따라서 서큘레이션 장치의 상측에 오버 헤드 트랜스퍼(OHT: Over Head Transfer)를 설치하여 타 장치로부터 서큘레이션 장치까지 웨이퍼가 담겨져 있는 웨이퍼 카세트를 이동시킨 뒤, 체인을 통해 웨이퍼 카세트를 하강시켜 서큘레이션 장치의 프론트 거치대에 안착시킨다.Therefore, an overhead transfer (OHT) is installed on the upper side of the circulation device to move the wafer cassette containing the wafer from the other device to the circulation device, and then the wafer cassette is lowered through the chain. Seat on the front cradle.
그 후, 서큘레이션 장치의 내측 챔버로부터 로봇암이 나와서 웨이퍼를 파지하여 챔버로 반입하여 웨이퍼 카세트를 비우게 되면, 체인은 다시 오버 헤드 트랜스퍼로 감겨져 승강되고 다음 공정으로 이동하게 된다.Thereafter, when the robot arm emerges from the inner chamber of the circulation device, the wafer is gripped, brought into the chamber, and the wafer cassette is emptied, the chain is again wound by an overhead transfer, lifted up and moved to the next process.
그런데, 이 경우, 작업자가 오버 헤드 트랜스퍼에 의해 승/하강 중인 웨이퍼 카세트의 승/하강 영역으로 실수로 인해 자신의 신체 일부 예를 들면 작업자의 손을 집어넣게 되면 승/하강 중인 웨이퍼 카세트에 의해 상해를 입게 되는 문제점이 있었다.In this case, however, if a worker accidentally inserts a part of his / her body, for example, a worker's hand, due to a mistake in the lifting / lowering area of the wafer cassette being lifted / lowered by an overhead transfer, an injury is caused by the rising / lowering wafer cassette. There was a problem wearing.
아울러, 웨이퍼 카세트가 체인을 통해 하강 중일 때, 작업자가 실수로 체인을 건드리게 되면 웨이퍼 카세트가 흔들리게 되어 미리 설정되어 있는 안착지점을 벗어난 상태로 안착되며, 이에 따라 로봇암이 웨이퍼를 정확하게 파지할 수 없게 되어 전체적으로 장치의 오작동을 유발하게 되는 문제점이 있었다.In addition, when the wafer cassette is being lowered through the chain, if the operator accidentally touches the chain, the wafer cassette will be shaken and seated outside the preset seating point, so that the robot arm can correctly hold the wafer. There was a problem that can not be as a whole cause a malfunction of the device.
따라서 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 고안의 목적은 장치 상측에 착탈 가능하게 배치되는 냉각부를 형성하여 장치의 과열을 방지할 수 있고, 아울러 승/하강 영역 내로 작업자의 손 등이 들어올 경우 장치의 작동을 멈추도록 하여 서큘레이션으로 공급되는 웨이퍼 카세트의 승/하강 영역을 안전하게 확보하고 동시에 장치의 오작동 및 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있는 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 제공하는데 있다.Therefore, an object of the present invention for solving the above problems is to form a cooling unit that is detachably disposed on the upper side of the device to prevent overheating of the device, and also when the operator's hand, etc. into the lifting / lowering area of the device It is to provide a wafer processing circulation device that can secure the rising and lowering area of the wafer cassette supplied to the circulation by stopping the operation, and at the same time prevent the malfunction of the device and the safety accident of the operator.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 고안은 오버 헤드 트렌스퍼를 통해 반도체 제작을 위한 다수의 웨이퍼를 공급받아 본체 내부로 반입하여 웨이퍼에 박막처리를 행하는 서큘레이션 장치에 있어서, 상기 본체 상측에 배치되어 작업장의 공기를 흡입하여 본체를 냉각시키기 위한 냉각부와, 상기 본체 전방에 설치되어 무형의 차단막을 통해 오버 헤드 트랜스퍼로부터 승/하강되는 웨이퍼 카세트의 승하강 영역을 설정하고, 차단막 내부로 외부 개체가 침입함과 동시에 이를 감지하여 메인콘트롤러로 감지신호를 전가하여 오버 헤드 트랜스퍼의 작동을 온/오프하기 위한 센서부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a circulation device that receives a plurality of wafers for semiconductor fabrication through an overhead transfer to the inside of the main body to perform a thin film processing on the wafer, disposed above the main body And a cooling unit for sucking the air in the workplace to cool the main body, and an elevating area of the wafer cassette installed in front of the main body, which is lifted and lowered from the overhead transfer through an intangible blocking film, and the external object inside the blocking film. It provides a circulating wafer processing apparatus characterized in that it comprises a sensor unit for detecting the intrusion and at the same time to pass the detection signal to the main controller to turn on / off the operation of the overhead transfer.
이 경우, 상기 냉각부는 본체 상측에 배치된 다수의 냉각팬과, 상기 본체의 상측 전방에 배치되어 다수의 냉각팬을 통해 작업공간의 에어를 본체 내부로 안내하기 위한 후드로 이루어진다.In this case, the cooling unit includes a plurality of cooling fans disposed above the main body, and a hood for guiding air in the work space into the main body through the plurality of cooling fans disposed above the main body.
또한, 상기 센서부는 본체의 거치대를 중심으로 좌우측에 각각 착탈 가능하게 부착된 한쌍의 고정판과, 상기 고정판에 각각 일면이 결합되고 서로 대응하도록 돌출 배치된 사각틀 형상의 한쌍의 지지프레임과, 상기 한쌍의 지지프레임의 전방 내측에 상호 대응하는 위치에 각각 배치되어 무형의 차단막을 형성하는 다수의 센서로 이루어진다.The sensor unit may include a pair of fixing plates detachably attached to the left and right sides of the holder of the main body, and a pair of support frames each having one surface coupled to the fixing plate and protrudingly arranged to correspond to each other; It consists of a plurality of sensors that are respectively disposed at positions corresponding to each other inside the front of the support frame to form an intangible blocking film.
이때, 상기 한쌍의 고정판은 한쌍의 지지프레임을 본체에 대하여 수직방향으로 이동 고정시켜 다수의 센서의 설정 높이를 임으로 조정하도록 상/하측에 길이방향으로 다수의 장공이 형성되어 있다.At this time, the pair of fixing plates are formed in a plurality of long holes in the longitudinal direction on the top / bottom side to adjust the set height of the plurality of sensors by moving the fixed pair of the support frame in the vertical direction with respect to the main body.
아울러, 본 고안은 상기 센서의 감지신호를 통해 메인콘트롤러에 의해 점등되어 작업자에게 정상 및 비상사태를 시각적으로 알려주기 위해 한쌍의 지지프레임의 전방에 배치된 다수의 LED를 더 포함한다.In addition, the present invention further includes a plurality of LEDs disposed in front of the pair of support frames to be illuminated by the main controller through the detection signal of the sensor to visually inform the operator of the normal and emergency.
또한 본 고안은 상기 본체 하면에 설치되어 본체를 후드에 밀착되도록 본체의 높이를 조절하기 위한 다수의 높이조절구를 더 포함한다.In addition, the present invention further includes a plurality of height adjustment holes for adjusting the height of the main body is installed on the lower surface of the main body in close contact with the hood.
따라서 상기한 본 고안에 있어서는 냉각부를 통해 장치가 과열되어 오작동을 일으키는 것을 방지할 수 있고, 또한 센서부를 통해 서큘레이션으로 공급되는 웨이퍼 카세트의 승/하강을 제어하여 작업자가 웨이퍼 카세트 등에 부딪혀 상해를 입는 것을 근본적으로 차단하고 이와 동시에 장치의 오작동 및 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있다.Therefore, in the present invention described above, it is possible to prevent the device from overheating and malfunction due to the cooling unit, and also to control the rising / falling of the wafer cassette supplied to the circulation through the sensor unit, so that an operator may be injured by hitting the wafer cassette or the like. It is possible to fundamentally block the operation and at the same time prevent the malfunction of the device and the safety accident of the operator.
(실시예)(Example)
첨부된 도면을 참고하여 본 고안에 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a circulating wafer processing apparatus according to the present invention is described in detail as follows.
첨부된 도 1은 본 고안에 따른 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1에 표시된 "A" 부분을 나타내는 확대도이고, 도 3은 본 고안에 따른 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 나타내는 개략 정면도이고, 도 4는 도 3에 표시된 "B" 부분을 나타내는 확대도이다.1 is a perspective view showing a circulating wafer processing apparatus according to the present invention, Figure 2 is an enlarged view showing a portion "A" shown in Figure 1, Figure 3 is a circulating wafer processing device according to the present invention 4 is an enlarged view showing a portion “B” shown in FIG. 3.
먼저, 본 고안에 따른 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치는 전체적으로 도 1과 같이 본체(10)와, 본체(10) 상측에 배치되는 냉각부(20), 본체(10) 전방에 설치되는 센서부(30) 및 본체(10) 하면에 설치된 다수의 높이조절구(40)로 이루어져 있다.First, the wafer processing circulation apparatus according to the present invention as shown in Figure 1 as a whole, the main body 10, the cooling unit 20 disposed above the main body 10, the sensor unit 30 is installed in front of the main body 10 And the main body 10 is made up of a plurality of height adjustment (40) installed on the bottom.
먼저, 상기 냉각부(20)는 본체(10)의 상측에 내장 설치된 한쌍의 냉각팬(21)을 구비하고 있으며, 아울러 상기 한쌍의 냉각팬(21)이 설치된 본체(10)의 전방에 배치된 후드(23)를 구비하고 있다.First, the cooling unit 20 includes a pair of cooling fans 21 installed on the upper side of the main body 10, and is disposed in front of the main body 10 in which the pair of cooling fans 21 are installed. The hood 23 is provided.
이 경우, 상기 한쌍의 냉각팬(21)을 작동시키면 본체(10)의 외부 즉, 작업공간의 공기를 후드(23)를 거쳐 장치 내부로 흡입함에 따라 본체(10)의 전체적인 온도를 낮출 수 있어 고온으로 인해 장치가 오작동 되는 것을 미연에 방지할 수 있다.In this case, when the pair of cooling fans 21 are operated, the overall temperature of the main body 10 can be lowered as the outside of the main body 10, that is, the air in the work space is sucked into the apparatus through the hood 23. High temperatures can prevent the unit from malfunctioning.
상기 실시예 및 도면에서는 냉각팬(21)을 한쌍으로 도시하여 설명하였으나 이에 제한되지 않고 작업환경에 따라 적어도 하나 이상의 냉각팬을 설치하여 사용하는 것도 물론 가능하다.In the above embodiments and drawings, the cooling fan 21 is illustrated as a pair, but the present invention is not limited thereto and at least one cooling fan may be installed and used according to a working environment.
또한, 반도체 현장은 작업자가 근무하는 공간과 장치 내의 작동(Maintenance)구간으로 구분되는데, 통상적으로 오퍼레이터가 근무하는 공간의 청정도가 작동공간 즉, 본체(10) 내부에 비하여 높게 유지되고 있다.In addition, the semiconductor site is divided into a space in which the worker works and a maintenance section in the apparatus. In general, the cleanliness of the space in which the operator works is maintained higher than that in the operating space, that is, inside the main body 10.
따라서 본 고안의 경우 상기 냉각부(20)를 구동시킴에 따라 본체(10) 내부로 청정도가 높은 에어를 흡인하게 되어 별도의 공기청정 장치를 사용하지 않고 본체(10) 내부에 청정 에어를 공급할 수 있다.Therefore, in the case of the present invention, as the cooling unit 20 is driven, the high cleanness air is sucked into the main body 10 so that clean air can be supplied into the main body 10 without using a separate air cleaning device. have.
한편, 상기 본체(10) 하면에 배치된 다수의 높이조절구(40)는 도 4와 같이 본체 하면에 나사결합방식으로 체결되어 있어, 별도의 연결구(도시하지 않음)를 통해 본체(10)와 후드(23)가 연결된 상태에서 다수의 높이조절구(40)를 적절히 정/역회전시켜 본체(10)가 후드(23)에 밀착되도록 본체(10)의 높이를 조절할 수 있으며, 반대로 본체(10) 및 후드를 분리할 경우에도 상기 높이조절구(40)를 통해 본체(10) 및 후드(23)를 용이하게 탈착시킬 수 있다.On the other hand, the plurality of height adjustment holes 40 disposed on the lower surface of the main body 10 is fastened to the lower surface of the main body as shown in Figure 4 by a screw coupling method, and the main body 10 through a separate connector (not shown) The height of the main body 10 can be adjusted so that the main body 10 is in close contact with the hood 23 by appropriately rotating the plurality of height adjustment holes 40 in the state where the hood 23 is connected, and conversely, the main body 10 In the case of separating the hood and the hood, the main body 10 and the hood 23 can be easily detached through the height adjusting opening 40.
또한, 도 1에 도시된 본체(10) 전방에 설치되는 센서부(30)는 도 3과 같이 체인(6)에 의해 오버 헤드 트랜스퍼(5)로부터 하강되는 웨이퍼 카세트(7)가 안착되는 거치대(11)를 중심으로 좌우측에 각각 착탈 가능하게 부착된 한쌍의 고정판(31a, 31b)과, 상기 고정판(31a, 31b)에 각각 일면이 결합되고 서로 대응하도록 돌출 배치된 사각틀 형상의 지지프레임(33a, 33b)을 구비하고 있다.In addition, the sensor unit 30 installed in front of the main body 10 shown in FIG. 1 has a cradle in which the wafer cassette 7 lowered from the overhead transfer 5 by the chain 6 is mounted as shown in FIG. 11, a pair of fixing plates 31a and 31b detachably attached to the left and right sides, respectively, and a square frame-shaped support frame 33a having one surface coupled to the fixing plates 31a and 31b and protrudingly arranged to correspond to each other. 33b).
이 경우, 상기 지지프레임(33a, 33b)은 도 1과 같이 전방 내측에 배치된 다수의 센서(36a, 36b)를 구비하고 있으며, 이에 따라 상기 지지프레임(33a, 33b)의 전방에는 상기 다수의 센서(36a, 36b)에 의해 일종의 커튼 타입의 무형 차단막이 형성된다.In this case, the support frames 33a and 33b are provided with a plurality of sensors 36a and 36b disposed inside the front as shown in FIG. 1, and thus the front of the support frames 33a and 33b are provided with the plurality of sensors. A kind of curtain type inert film is formed by the sensors 36a and 36b.
이에 따라 작업자가 실수로 다수의 센서(36a, 36b)에 의해 형성된 무형 차단막을 넘어 웨이퍼 카세트(7)의 승/하강 영역을 침범할 경우, 이와 동시에 다수의 센서(36)는 본체(10)에 내장된 메인컨트롤러(50)로 감지신호를 전가하게 되고 상기 메인콘트롤러(50)는 오버 헤드 트랜스퍼(5)에 연결된 체인(6)의 구동을 일시적으로 정지시키게 되며, 만약 작업자의 손이 차단막 외부로 벗어나게 되면 센서(36a, 36b)는 메인콘트롤러(50)로 감지해제신호를 전가하고, 이에 따라 메인컨트롤러(50)는 초단위 또는 분단위로 미리 설정된 시간이 흐른 후에 다시 장치를 재가동시키게 된다.Accordingly, when an operator accidentally invades the rising / falling area of the wafer cassette 7 beyond the intangible blocking film formed by the plurality of sensors 36a and 36b, at the same time, the plurality of sensors 36 are attached to the main body 10. The detection signal is transferred to the built-in main controller 50, and the main controller 50 temporarily stops driving of the chain 6 connected to the overhead transfer 5, and if the operator's hand moves out of the blocking film. When the sensor 36a, 36b passes the detection release signal to the main controller 50, the main controller 50 restarts the device again after a preset time passes by the unit of seconds or minutes.
이에 따라 작업자의 실수로 인해 장치의 오작동을 유발시키는 요인을 근본적으로 차단시킬 수 있으며, 아울러 작업자의 신체 또는 신체의 일부가 가동하고 있는 장치에 부딪혀 상해를 입는 문제를 미연에 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to fundamentally block the factors causing the malfunction of the device due to the operator's mistakes, and also to prevent the injury of the operator's body or a part of the body hit the operating device in advance.
더욱이 상기 한쌍의 고정판(31a, 31b)에는 도 2와 같이 길이방향으로 다수의 장공(32a, 32b)이 형성되어 있어 한쌍의 지지프레임(33a, 33b)을 본체(10)에 대하여 수직방향으로 이동 고정시킬 수 있으며, 이에 따라 작업자의 키 등을 고려하여 센서(36a, 36b)의 설정 높이를 임으로 조정하는 것이 가능하다.Furthermore, the pair of fixing plates 31a and 31b are formed with a plurality of long holes 32a and 32b in the longitudinal direction as shown in FIG. 2 to move the pair of support frames 33a and 33b in a vertical direction with respect to the main body 10. The height of the sensor 36a, 36b can be adjusted arbitrarily in consideration of the height of the operator.
한편, 상기 한쌍의 지지프레임의 전방에는 각각 다수의 LED(37a, 37b)가 배치되어 있으며, 상기 다수의 LED(37a, 37b)는 정상상태에는 녹색으로 점등된 상태를 유지하다가 상기와 같이 외부로부터 센서(36a, 36b)에 의해 형성된 무형 차단막으로 작업자의 손 등이 침입을 하게 되면 상기 메인컨트롤러(50)를 통해 적색으로 점등되면서 시각적으로 작업자에게 비상사태임을 경고할 수 있다.On the other hand, a plurality of LEDs (37a, 37b) are disposed in front of the pair of support frames, respectively, the plurality of LEDs (37a, 37b) is maintained in a green state in the normal state from the outside as described above When a worker's hand or the like enters into the intangible blocking film formed by the sensors 36a and 36b, the main controller 50 lights red to visually warn the operator of an emergency.
이 경우, 스피커 등을 메인콘트롤러(50)에 연결하여 비상사태 시 소리를 통해 청각적으로 작업자에게 현재 상태를 알려주는 것도 물론 가능하다.In this case, it is also possible to connect the speaker and the like to the main controller 50 to inform the worker of the current state acoustically through the sound during an emergency.
상기한 본 고안에 있어서는 냉각부를 통해 장치가 과열되어 오작동을 일으키는 것을 방지할 수 있고, 또한 센서부를 통해 서큘레이션으로 공급되는 웨이퍼 카세트의 승/하강을 제어하여 작업자가 웨이퍼 카세트 등에 부딪혀 상해를 입는 것을 근본적으로 차단하고 이와 동시에 장치의 오작동 및 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있는 이점이 있다. In the present invention described above, it is possible to prevent the device from overheating and malfunction due to the cooling unit, and to control the rising / falling of the wafer cassette supplied to the circulation through the sensor unit so that an operator may be injured by hitting the wafer cassette or the like. There is an advantage to fundamentally block and at the same time prevent malfunction of the device and safety accidents of the operator.
아울러, 다수의 LED를 통해 작업자로 하여금 육안을 통해 장치의 정상작동 및 비상상태를 인지토록 하여, 작업자가 용이하게 상황에 대처할 수 있도록 안내할 수 있다.In addition, through a plurality of LEDs to allow the operator to recognize the normal operation and emergency state of the device through the naked eye, it can guide the operator to cope with the situation easily.
이상에서는 본 고안을 특정의 바람직한 실시예를 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 고안의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다. In the above, the present invention has been illustrated and described with reference to specific preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and the general knowledge in the technical field to which the present invention belongs without departing from the spirit of the present invention. Various changes and modifications will be possible by those who have the same.
도 1은 본 고안에 따른 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing a circulating wafer processing apparatus according to the present invention,
도 2는 도 1에 표시된 "A" 부분을 나타내는 확대도,FIG. 2 is an enlarged view showing part “A” shown in FIG. 1;
도 3은 본 고안에 따른 웨이퍼 처리용 서큘레이션 장치를 나타내는 개략 정면도,3 is a schematic front view showing a circulation device for wafer processing according to the present invention;
도 4는 도 3에 표시된 "B" 부분을 나타내는 확대도이다.4 is an enlarged view illustrating a portion “B” shown in FIG. 3.
*도면 내 주요부분에 대한 부호 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10: 본체 11: 거치대10: body 11: holder
20: 냉각부 21: 냉각팬20: cooling unit 21: cooling fan
23: 후드 30: 센서부23: hood 30: sensor unit
31a, 31b: 고정판 32a, 32b: 장공31a, 31b: fixed plate 32a, 32b: long hole
33a, 33b: 지지프레임 36a, 36b: 센서33a, 33b: support frame 36a, 36b: sensor
37a, 37b: LED 40: 높이조절구37a, 37b: LED 40: height adjustment
50: 메인콘트롤러50: main controller
Claims (6)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR20-2004-0035175U KR200377156Y1 (en) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | Circulation System for Procession of Wafer |
Applications Claiming Priority (1)
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| KR200377156Y1 true KR200377156Y1 (en) | 2005-03-10 |
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Family Applications (1)
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| KR20-2004-0035175U KR200377156Y1 (en) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | Circulation System for Procession of Wafer |
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-
2004
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