KR20030084432A - Effluent Management System with Improved Water Treatment Efficiency - Google Patents

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KR20030084432A
KR20030084432A KR1020020023144A KR20020023144A KR20030084432A KR 20030084432 A KR20030084432 A KR 20030084432A KR 1020020023144 A KR1020020023144 A KR 1020020023144A KR 20020023144 A KR20020023144 A KR 20020023144A KR 20030084432 A KR20030084432 A KR 20030084432A
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water treatment
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정성진
이만수
정창욱
이근식
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유니셈 주식회사
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Abstract

PURPOSE: Provided is a waste gas treatment apparatus having a porous rotating body, a part of which is dipped in a solution, between a dry treatment unit and a wet treatment unit to increase treatment efficiency by eliminating water soluble component and powder by dissolving a gas passing through the dry treatment unit. CONSTITUTION: The apparatus comprises a chamber(651) having an inlet(651a) through which waste gas and powder are introduced into the chamber(651), an outlet(651b) for exhausting the treated gas, and a solvent for water soluble gas therein; a rotating body(660) rotatably received in the chamber(651) in such a way that a part of the rotating body(660) is dipped into the solvent and the waste gas passes therethrough; a motor(665) for rotating the rotating body(660); and a drainage device(670) for withdrawing settlings and polluted solvent in the chamber(651).

Description

수처리 효율이 개선된 폐가스처리장치{Effluent Management System with Improved Water Treatment Efficiency}Effluent Management System with Improved Water Treatment Efficiency

본 발명은 폐가스처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 건식처리부 및 습식처리부를 연결하는 연결부에 폐가스를 용해시키고 분체를 포집하는 습식처리장치를 추가로 구성하여 폐가스 처리상태를 향상시키는 수처리 효율이 향상된 폐가스처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a waste gas treatment apparatus, and more particularly, a wet treatment apparatus for dissolving waste gas and collecting powder to a connection portion connecting a dry treatment unit and a wet treatment unit further improves water treatment efficiency to improve a waste gas treatment state. It relates to a waste gas treatment device.

반도체 소자를 제조하기 위하여 다양한 종류의 제조설비와 제조공정이 필요하며, 반도체 소자를 제조하기 위한 공정 중 CVD(Chemical Vapor Deposition), 플라즈마에칭, 에피택시증착, 스퍼터링 공정 등에서는 공정 특성상 SiH4, Si2H6, SiF4, Si2F6, DCS(SiH2Cl), NH3, AsH3, 4PH3, B2H6, GeH4, WF6, TEOS, TEB, TEPO, TMB, TMP, TDMAT, NF3, CF4, C2F6, C3F8등의 각종 유독성, 부식성, 인화성 가스를 사용하는 것이 일반적이다.In order to manufacture a semiconductor device, various kinds of manufacturing facilities and manufacturing processes are required.In the process of manufacturing a semiconductor device, in the process of CVD (Chemical Vapor Deposition), plasma etching, epitaxy deposition, and sputtering process, SiH 4 , Si 2 H 6 , SiF 4 , Si 2 F 6 , DCS (SiH 2 Cl), NH 3 , AsH 3 , 4PH 3 , B 2 H 6 , GeH 4 , WF 6 , TEOS, TEB, TEPO, TMB, TMP, TDMAT It is common to use various toxic, corrosive and flammable gases such as NF 3 , CF 4 , C 2 F 6 , and C 3 F 8 .

따라서, 반도체 소자의 제조공정에 사용된 유독성 가스들을 아무런 순화과정 없이 대기 중으로 방출할 경우 대기를 오염시킴으로써 인체 및 생태계에 심각한 영향을 미치므로 종래의 반도체 소자의 제조라인에서는 일정한 장소에 폐가스 처리장치를 설치하고, 이 폐가스 처리장치를 이용하여 반도체 소자의 제조공정에서 발생된 유독성 가스들을 일정기준값 이하로 정화시켜 대기로 배출하고 있다.Therefore, when toxic gases used in the manufacturing process of semiconductor devices are released into the atmosphere without any purification process, the waste gas treatment apparatus is installed at a certain place in the conventional semiconductor device manufacturing line because it seriously affects the human body and the ecosystem by polluting the air. The waste gas treatment device is used to purify the toxic gases generated in the semiconductor device manufacturing process to a predetermined reference value or less and discharge them to the atmosphere.

이와 같이 폐가스를 처리하는 장치로는 전체적으로 보아 건식폐가스 처리장치와 습식폐가스 처리장치가 있으며, 최근에는 이 두 가지 형태를 접목시킨 건·습식 처리장치가 개발되어 사용되고 있다.As a whole, there are a dry waste gas treatment device and a wet waste gas treatment device as an apparatus for treating waste gas. Recently, a dry / wet treatment device incorporating these two types has been developed and used.

그러한 예로, 국내실용신안공보(등록번호 : 20-02464792, 고안의 명칭 : 폐가스 건·습식 처리장치)에 개시된 바 있다.For example, it has been disclosed in the Korean Utility Model Publication (Registration No .: 20-02464792, Designated name: waste gas dry-wet treatment device).

그 기본 구성은 폐가스건식처리부와, 파우더제거부와, 분리부 및 폐가스습식처리부로 구성된다.The basic configuration is composed of a waste gas dry treatment unit, a powder removal unit, a separation unit and a waste gas wet treatment unit.

상기 폐가스건식처리부에 의해 폐가스가 공기와 화학반응하여 미립자의 분체가 생성되어 상기 폐가스건식처리부의 내벽에 미립자 형태의 분체가 생성된다.The waste gas is chemically reacted with air by the waste gas dry treatment unit to generate powder of fine particles, thereby generating particulate powder in the inner wall of the waste gas dry treatment unit.

그 분체는 상기 분체제거부를 통해 폐가스건식처리부의 내벽으로부터 분리되고, 그 분리된 분체는 상기 폐가스건식처리부를 통해 공급되는 액체와 공급되어 슬러리 상태를 이루게 된다.The powder is separated from the inner wall of the waste gas dry processing unit through the powder removing unit, and the separated powder is supplied with the liquid supplied through the waste gas dry processing unit to form a slurry state.

상기 폐가스건식처리부를 통해 처리된 폐가스 중 슬러리 상태의 분체는 상기 분리부를 통해 분리되어 드레인부로 통하고, 미반응 폐가스 및 부유분체는 다시 폐가스습식처리부를 따라 상승하면서 분사되는 액체에 의해 용해되며 부유분체는 상기 폐가스습식처리부를 구성하는 집진필터에 의해 집진된다.Slurry powder in the waste gas treated through the waste gas dry processing unit is separated through the separating unit and passed to the drain unit, and unreacted waste gas and floating powder are dissolved by the liquid injected while rising again along the waste gas wet processing unit and suspended powder. Is collected by a dust collecting filter constituting the waste gas wet treatment unit.

그러나, 상술한 바와 같은 종래의 폐가스 처리장치는 폐가스건식처리부 및 폐가스습식처리부가 단순히 관 형태를 취하는 분리부에 의해 연결되어 미반응폐가스 및 부유파우더 중 중량이 무거운 파우더와, 미 반응 폐가스 및 부유파우더를 분리해 내는 역할 만 이행한다는 문제점이 있다.However, in the conventional waste gas treatment apparatus as described above, the waste gas dry treatment unit and the waste gas wet treatment unit are connected by a separation unit that simply takes the form of a tube, and the heavy weight powder of the unreacted waste gas and the floating powder, the unreacted waste gas and the floating powder The problem is that only the role of separating the

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 건식처리부 및 습식처리부가 연결되는 중간 경로 상에 내부에 충진물을 수용하는 다공성의 회전체를 그 일부가 수용액에 잠겨지는 상태로 회전시켜 상기 건식처리부를 통해 배출되는 수용성폐가스를 용해시킴과 아울러 분체를 포집하도록 하는 장치를 추가로 구성하여 폐가스 처리 효과를 높이는 수처리 효율이 개선된 폐가스처리장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention is a part of the porous rotating body for receiving the filling therein on the intermediate path between the dry processing unit and the wet processing unit submerged in an aqueous solution It is to provide a waste gas treatment device that improves the water treatment efficiency by improving the waste gas treatment effect by further comprising a device for dissolving the water-soluble waste gas discharged through the dry treatment unit to collect the powder by rotating in a losing state.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 폐가스 및 분체가 유입되는 유입구 및 처리된 폐가스를 토출시키는 유출구가 마련됨과 아울러 그 내부에 수용성가스용매를 수용하는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 수용된 수용성가스용매에 일부가 잠기도록 회전 가능하게 설치됨과 아울러 그 내부로 폐가스가 통과하여 흐를 수 있도록 폐가스 통로가 형성된 회전체와; 상기 회전체를 회전시키는 모터 및; 상기 챔버의 내부에 수용된 오염된 수용성가스용매 및 침전물을 배출시키는 드레인수단을 포함한다.In order to achieve the above object, the present invention is provided with an inlet through which waste gas and powder are introduced and an outlet through which discharged treated waste gas is provided, and a chamber accommodating a water-soluble gas solvent therein; A rotatable body rotatably installed so as to be partially immersed in the water-soluble gas solvent contained in the chamber, and a waste gas passage formed therein for allowing waste gas to flow therein; A motor for rotating the rotating body; And drain means for discharging the contaminated water-soluble gas solvent and precipitate contained in the chamber.

상기 회전체는 다공성의 이중관을 이루며 그 중앙부는 일단이 개방된 중공상태를 갖는 원통관과; 상기 이중관을 이루는 원통관 사이에 충진된 필터부재로 구성된 것이다.The rotating body forms a porous double tube and its central portion has a cylindrical tube having an open end at one end thereof; It is composed of a filter member filled between the cylindrical tube forming the double pipe.

상기 필터부재는 그물망 또는 다수의 통공을 갖는 박판으로 된 것이며, 상기그물망 또는 박판은 다중층으로 배치된 것이다.The filter member is made of a thin plate having a net or a plurality of through holes, the net or thin plate is arranged in multiple layers.

상기 필터부재는 소정의 크기를 갖는 다수의 알갱이로 된 것이다.The filter member is of a plurality of grains having a predetermined size.

상기 필터부재는 금속 또는 중합체로 이루어진 것이다.The filter member is made of metal or polymer.

상기 필터부재에는 수처리촉매제 또는 분체 흡착률을 높이는 흡착제가 추가로 첨가된 것이다.The filter member further includes a water treatment catalyst or an adsorbent for increasing the powder adsorption rate.

상기 챔버 내부는 격벽에 의해 제1,2공간으로 구획 분리되어 제1공간에 상기 회전체가 설치되고; 상기 제2공간에는 상기 회전체를 통과하여 토출되는 폐가스 경로를 향하여 용매를 분사시키는 분사수단이 설치된 것이다.The inside of the chamber is partitioned into first and second spaces by partition walls, and the rotor is installed in the first space; The second space is provided with injection means for injecting a solvent toward the waste gas path discharged through the rotating body.

상기 격벽의 하부는 관통홀이 형성되어 상기 챔버 내부에 수용된 수용성가스 용매 및 침전물이 통하도록 된것이다.The lower part of the partition wall has a through hole formed so that the water-soluble gas solvent and precipitate contained in the chamber pass.

상기 드레인수단은 상기 챔버의 하부에 설치된 제1,2배관과; 상기 제1배관에 설치되어 상기 챔버 내부에 수용된 수용가스용매의 수위를 자동조절하는 수위조절밸브와; 상기 제2배관에 설치되어 그 유로 개폐를 밸브로 구성된 것이다.The drain means includes first and second pipes installed in the lower portion of the chamber; A water level control valve installed at the first pipe and automatically adjusting the level of the containing gas solvent contained in the chamber; It is installed in the second pipe is configured to open and close the flow path as a valve.

상기 챔버의 일측에는 상기 챔버 바닥에 가라앉은 침전물을 유동시키도록 펄싱수단이 추가로 마련된 것이다.One side of the chamber is further provided with a pulsing means to flow the sediment settled to the bottom of the chamber.

상기 펄싱수단은 상기 챔버의 바닥측에 설치된 펄싱관과; 상기 펄싱관을 통해 공급되는 유체의 압력을 조절하여 주기적으로 개폐시키는 펄싱밸브로 구성된 것이다.The pulsing means includes a pulsing tube installed on the bottom side of the chamber; It is composed of a pulsing valve to periodically open and close by adjusting the pressure of the fluid supplied through the pulsing pipe.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 의한 폐가스처리장치의 구성을 도시한 도면,1 is a view showing the configuration of a waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention,

도 2a는 상기 도 1에 적용된 필터부재의 구성을 도시한 사시도,Figure 2a is a perspective view showing the configuration of the filter member applied to Figure 1,

도 2b는 상기 도 1에 적용된 필터부재의 다른 구성을 도시한 사시도,Figure 2b is a perspective view showing another configuration of the filter member applied to FIG.

도 3은 상기 도 1에 적용된 필터부재의 다른 구성을 도시한 사시도이다.3 is a perspective view showing another configuration of the filter member applied to FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

610 : 건식처리수단620 : 습식처리수단610: dry treatment means 620: wet treatment means

650 : 습식전처리수단651a : 유입구650: wet pretreatment means 651a: inlet

651b : 유출구651c,651d : 제1,2공간651b: outlet 651c, 651d: 1st, 2nd space

651 : 챔버653 : 수용성가스용매651: chamber 653: water-soluble gas solvent

653a : 침전물655 : 격벽653a: Sediment 655: bulkhead

655a : 관통홀655b : 용매통과홀655a: through hole 655b: solvent through hole

660 : 회전체661 : 원통관660: rotating body 661: cylindrical tube

663(663a,663b, 663d) : 필터부재670 : 드레인수단663 (663a, 663b, 663d): Filter member 670: Drain means

673,675 : 제1,2배관673a : 수위조절밸브673,675: 1st, 2nd piping 673a: water level control valve

675a : 밸브680 : 펄싱수단675a: valve 680: pulsing means

681 : 펄싱관683 : 펄싱밸브681: pulsing tube 683: pulsing valve

690 : 분사수단691 : 공급관690: injection means 691: supply pipe

693 : 노즐693: nozzle

이하, 첨부된 도 1 내지 도 3을 참조로 하여 본 발명의 일 실시 예에 의한폐가스처리장치의 구성 및 작용에 대해서 좀더 자세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying Figures 1 to 3 will be described in more detail the configuration and operation of the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이 건식처리수단(610)과 습식처리수단(620)을 연결하는 연결부에 본 발명의 일실시 예에 의한 습식전처리수단(650)이 추가로 구성된다.As shown in FIG. 1, a wet pretreatment means 650 according to an embodiment of the present invention is further configured at a connection portion connecting the dry treatment means 610 and the wet treatment means 620.

상기 습식전처리수단(650)은 상기 건식처리수단(610)의 하부에 연결되어 상기 건식처리수단(610)을 통해 배출되는 폐가스 및 분체가 유입되는 유입구(651a) 및 상기 습식처리수단(620)에 연결되어 처리된 폐가스를 토출시키는 유출구(651b)가 마련된 챔버(651)로 이루어진다.The wet pretreatment means 650 is connected to the lower portion of the dry treatment means 610 to the inlet 651a and the wet treatment means 620 into which waste gas and powder discharged through the dry treatment means 610 are introduced. It is composed of a chamber 651 provided with an outlet 651b for discharging the waste gas connected and processed.

상기 챔버(651)는 그 내부에 소정의 높이로 수용성가스용매(653)가 수용되고, 상기 챔버(651)는 격벽(655)에 의해 제1,2공간(651c,651d)으로 구획된다.The chamber 651 accommodates a water-soluble gas solvent 653 at a predetermined height therein, and the chamber 651 is partitioned into first and second spaces 651c and 651d by partition walls 655.

상기 제1공간(651c)에는 다공성의 2중관 형태를 취하며, 그 중앙부가 중공의 상태를 이룸과 아울러 그 중공부의 일단이 차단되고 일측은 개방된 개구(661a)를 이루는 원통관(661)과, 상기 원통관(661)의 사이에 필터부재(663)가 충진된 회전체(660)가 모터(665)에 의해 회전 가능하게 설치된다.The first space 651c has a porous double tube shape, the central portion of which is hollow, and one end of the hollow portion is blocked and one side forms an open opening 661a, and The rotor 660 in which the filter member 663 is filled between the cylindrical tubes 661 is rotatably installed by the motor 665.

상기 원통관(661)의 일측은 모터(665)에 의해 회전 가능하게 연결되며 그 타단측은 내부관이 돌출 형성되어 그 돌출부(664)를 통해 격벽(655)의 관통홀(655a)을 통해 관통 지지됨에 따라 챔버(651)의 내부에 회전 가능하게 지지된다.One side of the cylindrical tube 661 is rotatably connected by a motor 665 and the other end of the cylindrical tube 661 is rotatably supported through the through hole 655a of the partition wall 655 through the protrusion 664. As it is rotatably supported inside the chamber 651.

상기 원통관(661)은 소정깊이로 수용성가스용매(653)에 잠기도록 설치됨에 따라 회전동작에 의해 필터부재(663)를 포함하는 원통관(661)이 항상 젖어 있는 상태를 유지하여 폐가스의 용해도를 높이도록 하고 미세 분체 집진률을 높이는 작용을 한다.The cylindrical tube 661 is installed to be immersed in the water-soluble gas solvent 653 at a predetermined depth, so that the cylindrical tube 661 including the filter member 663 is always wet by the rotational operation so that the solubility of the waste gas is maintained. To increase the function of increasing the fine dust collection rate.

또한, 상기 원통관(661)은 상기 수용성가스용매(653)에 잠겨서 회전됨에 따라 분체덩어리가 뭉쳐져 오랜 시간 존재하는 것을 해소시킴에 따라 부식되는 것이 방지되어 수명증가의 이점을 갖는다.In addition, the cylindrical tube 661 is immersed in the water-soluble gas solvent 653 and rotated to prevent the powder lumps to eliminate the existence of a long time has the advantage of increasing the life.

상기 필터부재(663)는 도 2a,도 2b에 도시된 바와 같이 그 표면을 평평하게 형성시키거나 또는 굴곡지게 형성시킨 그물망(663a,663b)으로 구성하거나, 도 3에 도시된 바와 같이 다수의 통공(663d′)이 형성된 박판(663d)으로 구성하거나 또는 소정의 크기를 갖는 다수의 알갱이(미도시)를 충진시켜 구성할 수 있다.The filter member 663 comprises a mesh 663a and 663b having a flat or curved surface as shown in FIGS. 2A and 2B, or a plurality of through holes as shown in FIG. 3. It can be configured by the thin plate 663d on which the 663d 'is formed or by filling a plurality of grains (not shown) having a predetermined size.

상기 그물망(663a,663b) 또는 박판(663d)은 상기 원통관(661)의 형상에 대응된 형태를 취하며 다중층으로 배치함이 바람직하다.The meshes 663a and 663b or the thin plates 663d may have a shape corresponding to the shape of the cylindrical tube 661 and are arranged in multiple layers.

상술한 바와 같은 구성으로 이루어지는 필터부재(663)는 금속이나 중합체로 하며, 수처리를 향상시키는 촉매제를 첨가하거나 또는 분체 흡착률을 높이도록 흡착제를 코팅시켜 구성할 수도 있다.The filter member 663 having the above-described configuration is made of a metal or a polymer, and may be configured by adding a catalyst to improve water treatment or coating an adsorbent to increase the powder adsorption rate.

상기 격벽(655)은 그 하부측에 용매통과홀(655b)이 형성되어 챔버(651) 내부에 수용된 수용성가스용매(653)가 제1,2공간(651c,651d)으로 통하도록 하고, 침전된 침전물(653a)이 통과할 수 있도록 한다.The partition wall 655 has a solvent passage hole 655b formed at a lower side thereof so that the water-soluble gas solvent 653 accommodated in the chamber 651 passes through the first and second spaces 651c and 651d, and is deposited. Allow the precipitate 653a to pass through.

상기 챔버(651)의 하부에는 상기 챔버(651)에 수용된 수용성가스용매(653) 및 침전물(653a)을 배출시키는 드레인수단(670))이 설치된다.The lower portion of the chamber 651 is provided with a drain means 670 for discharging the water-soluble gas solvent 653 and the precipitate 653a accommodated in the chamber 651.

상기 드레인수단(670)은 드레인통(671)에 상기 챔버(651)를 연결시키는 제1,2배관(673,675)과, 상기 제1배관(673)에 연결되어 상기 챔버(651)에 수용된 수용성가스용매(653)의 수위를 조절하는 수위조절밸브(673a)와, 상기 제2배관(675)에설치되어 유로를 개폐시키는 밸브(675a)로 구성된다.The drain means 670 may include first and second pipes 673 and 675 connecting the chamber 651 to the drain container 671 and a water-soluble gas connected to the first pipe 673 and accommodated in the chamber 651. A water level control valve 673a for adjusting the water level of the solvent 653 and a valve 675a installed in the second pipe 675 to open and close the flow path.

상기 수위조절밸브(673a)는 상기 챔버(651)에 수용된 수용성가스용매(653)가 오버플로우되는 것을 방지하는 것으로서, 상기 수용성가스용매(653)가 소정의 높이로 차게 되면 자동 동작되어 유로를 개방함으로써 상기 챔버(651) 내부에 수용된 수용성가스용매(653)를 배출시키도록 한다.The water level control valve 673a prevents the water-soluble gas solvent 653 contained in the chamber 651 from overflowing. When the water-soluble gas solvent 653 is filled to a predetermined height, the water level control valve 673a opens the flow path. As a result, the water-soluble gas solvent 653 accommodated in the chamber 651 is discharged.

상기 밸브(675a)는 설비 정비 등을 목적으로 할 경우 작업자가 수동으로 유로를 개방시켜 상기 챔버(651) 내부에 수용된 수용성가스용매(653)를 배출시키는 목적으로 사용한다.The valve 675a is used for the purpose of discharging the water-soluble gas solvent 653 housed in the chamber 651 by the operator manually opening the flow path for the purpose of facility maintenance.

한편, 상기 챔버(651)의 바닥부에는 침전물(653a)을 유동시켜 수용성가스용매(653) 배출시 함께 배출되도록 하는 펄싱수단(680)이 설치된다.On the other hand, a pulsing means 680 is installed at the bottom of the chamber 651 to flow the precipitate 653a to be discharged together when discharging the water-soluble gas solvent 653.

상기 펄싱수단(680)은 상기 챔버(651)의 바닥부에 설치된 펄싱관(681)과, 상기 펄싱관(681)의 일측에 연결되어 소정의 압으로 조절된 유체를 주기적으로 배출시키는 펄싱밸브(683)로 구성된다.The pulsing means 680 is connected to a pulsing tube 681 installed at the bottom of the chamber 651, the pulsing valve 681 is a pulsing valve for periodically discharging the fluid adjusted to a predetermined pressure ( 683).

다음, 상기 제2공간(651d)의 일측에는 상기 회전체(660)를 통과한 가스에 포함된 미 처리 가스를 다시 한번 용해시키는 분사수단(690)이 설치된다.Next, one side of the second space 651d is provided with injection means 690 for dissolving once again the unprocessed gas contained in the gas passing through the rotating body 660.

상기 분사수단(690)은 용매가 공급되는 공급관(691)과, 상기 공급관(691)과 연결되어 용매를 분사하는 노즐(693)로 구성되며, 상기 노즐(693)은 상기 원통관(661)의 중앙부 개구(661a)를 향해 분사시키도록 상기 개구(661a)의 맞은편 쪽에 설치되며, 용매의 분사각(a °)은 상기 회전체(660)의 개구(661a)의 크기를 커버하는 각도로 한다.The injection means 690 is composed of a supply pipe (691) is supplied with a solvent, and a nozzle (693) connected to the supply pipe (691) for injecting a solvent, the nozzle (693) of the cylindrical tube (661) It is provided on the opposite side of the said opening 661a so that it may inject toward the center opening 661a, and the injection angle (a degree) of a solvent shall be the angle which covers the magnitude | size of the opening 661a of the said rotating body 660. .

다음은 상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 일실시 예에 의한 폐가스처리장치의 동작원리에 대해서 설명한다.Next will be described the operation principle of the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention configured as described above.

먼저, 건식처리수단(610)을 통해 처리된 폐가스 및 분체가 유입구(651a)를 통해 챔버(651)의 내부로 유입된다.First, the waste gas and powder processed through the dry processing means 610 is introduced into the chamber 651 through the inlet 651a.

이때, 회전체(660)는 모터(665)에 의해 소정의 속도로 회전되면서 수용성가스용매(653)에 의해 필터부재(663)를 포함하는 원통관(661)이 젖어 있는 상태를 유지한다.At this time, the rotor 660 is rotated at a predetermined speed by the motor 665 while maintaining the state in which the cylindrical tube 661 including the filter member 663 is wet by the water-soluble gas solvent 653.

따라서 폐가스 및 분체는 상기 원통관(661)에 형성된 다수의 관통공을 통해 원통관(661) 중앙의 중공부를 거쳐 개구(661a)로 토출되며, 그와 같은 동작에 의해 수용성가스는 용해되며, 분체는 상기 원통관(661)내부에 충진된 필터부재(663)를 통하여 포집된다.Therefore, the waste gas and the powder are discharged to the opening 661a through the hollow part in the center of the cylindrical tube 661 through a plurality of through holes formed in the cylindrical tube 661, and the water-soluble gas is dissolved by the operation. Is collected through the filter member 663 filled in the cylindrical tube 661.

이때, 상기 필터부재(663)가 충진된 원통관(661)은 지속적으로 수용성가스용매(663)를 통해 씻겨져 분체 덩어리가 오랜 시간동안 원통관(661) 또는 필터부재(663)에 존재하게 되는 것을 해소시켜 그 수명이 연장될 뿐만 아니라, 수용성가스와의 접촉률을 높여 가스 용해도 및 포집률이 향상된다.At this time, the cylindrical tube 661 filled with the filter member 663 is continuously washed through the water-soluble gas solvent 663 so that the powder mass is present in the cylindrical tube 661 or the filter member 663 for a long time. Not only does it prolong the life, but also improves the gas solubility and collection rate by increasing the contact rate with the water-soluble gas.

다음 상기와 같은 원리에 의해 용해되고 포집되어 정화된 폐가스는 원통관(661)의 개구(661a)를 통해 토출되는 데 이때, 상기 개구(661a)의 맞은편 쪽에 위치한 노즐(693)을 통해 고압의 용매가 또다시 분사된다.Next, the waste gas dissolved, collected and purified according to the principle described above is discharged through the opening 661a of the cylindrical tube 661. At this time, the high pressure is discharged through a nozzle 693 located opposite the opening 661a. Solvent is sprayed again.

상기 노즐(693)을 통해 분사되는 용매는 상기 회전체(660)를 통과한 폐가스를 다시 한번 용해시킴과 아울러 분체와 접촉되어 챔버(651)의 바닥부로 떨어짐에따라 정화도가 향상된 폐가스를 다음 처리단계인 습식처리수단(620)으로 이동시킨다.The solvent injected through the nozzle 693 dissolves the waste gas that has passed through the rotating body 660 again, and contacts the powder to fall to the bottom of the chamber 651 to further process the waste gas having improved purification. The process moves to the wet processing means 620.

한편, 상기와 같은 원리에 의해 챔버(651)의 내부에 수용된 오염된 수용성가스용매 및 침전물은 제1,2배관(673,675)을 통해 드레인통(671)으로 배출된다.On the other hand, according to the principle described above, the contaminated water-soluble gas solvent and precipitate contained in the chamber 651 are discharged to the drain container 671 through the first and second pipes 673 and 675.

그에 대해 좀더 자세히 설명하면, 먼저, 도시되지 않은 센싱수단에 의해 챔버(651) 내부에 수용된 수용성가스용매(653)의 만 수위가 감지되면 수위조절밸브(673a)가 동작되어 상기 제1배관(673)을 개방하여 챔버(651)에 수용된 수용성가스용매(653)를 배출한다. 이때 펄싱수단(680)에 의해 챔버(651) 내부 바닥에 침전되어 있던 침전물이 유동되어 함께 배출되게 된다.In more detail, first, when the water level of the water-soluble gas solvent 653 accommodated in the chamber 651 is sensed by the sensing means (not shown), the first water level control valve 673a is operated. ) Is discharged to discharge the water-soluble gas solvent 653 contained in the chamber 651. At this time, the precipitate precipitated on the bottom of the chamber 651 by the pulsing means 680 flows and is discharged together.

한편, 작업자가 예방 정비 등을 목적으로 할 경우 제2배관(675)에 설치된 밸브(675a)를 수동으로 개방하여 유로를 형성함으로써 챔버(651) 내부에 수용된 수용성가스용매를 배출시킬 수 있다.On the other hand, if the operator for the purpose of preventive maintenance, etc. by manually opening the valve 675a provided in the second pipe 675 to form a flow path can be discharged the water-soluble gas solvent contained in the chamber 651.

이때에도 펄싱수단(680)에 의해 침전물(653a)을 유동시킴으로써 함께 배출시키게 된다.In this case, the pulverizing means 680 causes the precipitate 653a to flow out together.

상술한 내용에 있어 본 발명의 구성을 건식처리수단(610) 및 습식처리수단(620)의 연결부에 구성한 예로 설명하였으나 그에 한정된 것은 아니며, 폐가스처리장치의 일환으로 어떠한 위치에 설치시켜도 무방하다.In the above description, the configuration of the present invention has been described as an example configured in the connection portion of the dry treatment means 610 and the wet treatment means 620, but is not limited thereto, and may be installed at any position as part of the waste gas treatment apparatus.

상술한 바와 같이 본 발명은 건식처리수단 및 습식처리수단을 연결하는 연결부사이에 설치되어 폐가스 처리도를 높일 뿐만 아니라 습식처리수단의 다음 단계인배기덕트 등이 부식되거나 막히는 문제점을 해소시키는 이점을 갖는다.As described above, the present invention is provided between the connection portion connecting the dry treatment means and the wet treatment means to increase the waste gas treatment degree and to solve the problem of corrosion or clogging of the exhaust duct, which is the next step of the wet treatment means. .

이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, in the detailed description of the present invention, specific embodiments have been described. However, various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined by the claims below and equivalents thereof.

Claims (14)

폐가스 및 분체가 유입되는 유입구 및 처리된 폐가스를 토출시키는 유출구가 마련됨과 아울러 그 내부에 수용성가스용매를 수용하는 챔버;A chamber in which waste gas and powder are introduced and an outlet for discharging the treated waste gas is provided and a water-soluble gas solvent is contained therein; 상기 챔버의 내부에 수용된 수용성가스용매에 일부가 잠기도록 회전 가능하게 설치됨과 아울러 그 내부로 폐가스가 통과하여 흐를 수 있도록 폐가스 통로가 형성된 회전체;A rotating body rotatably installed so as to be partially immersed in the water-soluble gas solvent contained in the chamber, and a waste gas passage formed therein for allowing waste gas to flow therein; 상기 회전체를 회전시키는 모터 및;A motor for rotating the rotating body; 상기 챔버의 내부에 수용된 오염된 수용성가스용매 및 침전물을 배출시키는 드레인수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.And a drain means for discharging the contaminated water-soluble gas solvent and sediment contained in the chamber. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회전체는 다공성의 이중관을 이루며 그 중앙부는 일단이 개방된 중공상태를 갖는 원통관과;The rotating body forms a porous double tube and its central portion has a cylindrical tube having an open end at one end thereof; 상기 이중관을 이루는 원통관 사이에 충진된 필터부재로 구성된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.Waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that consisting of a filter member filled between the cylindrical pipe forming the double pipe. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 필터부재는 그물망으로 된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된폐가스 처리장치.The filter member is a waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that the mesh. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 필터부재는 다수의 통공을 갖는 박판으로 된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The filter member is a waste gas treatment device having improved water treatment efficiency, characterized in that the thin plate having a plurality of through holes. 제 3 항 또는 제 4항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 그물망 또는 박판은 다중층으로 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The net or thin plate is waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that arranged in multiple layers. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 필터부재는 소정의 크기를 갖는 다수의 알갱이로 된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The filter member is a waste gas treatment apparatus is improved water treatment efficiency, characterized in that the plurality of granules having a predetermined size. 제 3항, 4항, 6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3, 4 and 6, 상기 필터부재는 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The filter member is made of a metal waste gas treatment device, the water treatment efficiency is improved. 제 3항, 4항, 6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3, 4 and 6, 상기 필터부재는 중합체로 이루어진 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The filter member is a waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that made of a polymer. 제 3항, 4항, 6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 3, 4 and 6, 상기 필터부재에는 수처리촉매제 또는 분체 흡착률을 높이는 흡착제가 추가로 첨가된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that the filter member is further added to the water treatment catalyst or adsorbent to increase the powder adsorption rate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 챔버 내부는 격벽에 의해 제1,2공간으로 구획 분리되어 제1공간에 상기 회전체가 설치되고;The inside of the chamber is partitioned into first and second spaces by partition walls, and the rotor is installed in the first space; 상기 제2공간에는 상기 회전체를 통과하여 토출되는 폐가스 경로를 향하여 용매를 분사시키는 분사수단이 설치된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The second gas space is the waste gas treatment device is improved efficiency of the water treatment, characterized in that the injection means for injecting the solvent toward the waste gas path discharged through the rotating body is installed. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 격벽의 하부는 관통홀이 형성되어 상기 챔버 내부에 수용된 수용성가스 용매 및 침전물이 통하도록 된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.Through-holes are formed in the lower portion of the partition wall waste gas treatment device, the water treatment efficiency is improved, characterized in that the water-soluble gas solvent and precipitates received in the chamber to pass through. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 드레인수단은 상기 챔버의 하부에 설치된 제1,2배관과;The drain means includes first and second pipes installed in the lower portion of the chamber; 상기 제1배관에 설치되어 상기 챔버 내부에 수용된 수용가스용매의 수위를 자동 조절하는 수위조절밸브와;A water level control valve installed in the first pipe to automatically adjust the level of the containing gas solvent contained in the chamber; 상기 제2배관에 설치되어 그 유로 개폐를 밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.The waste gas treatment system is improved in the water treatment efficiency, characterized in that provided in the second pipe is configured to open and close the flow passage as a valve. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 챔버의 일측에는 상기 챔버 바닥에 가라앉은 침전물을 유동시키도록 펄싱수단이 추가로 마련된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.One side of the chamber is a waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that the pulsing means is further provided to flow the sediment settled to the bottom of the chamber. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 펄싱수단은 상기 챔버의 바닥측에 설치된 펄싱관과;The pulsing means includes a pulsing tube installed on the bottom side of the chamber; 상기 펄싱관을 통해 공급되는 유체의 압력을 조절하여 주기적으로 개폐시키는 펄싱밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 수처리 효율이 개선된 폐가스 처리장치.Waste gas treatment device is improved water treatment efficiency, characterized in that consisting of a pulsing valve to periodically open and close by adjusting the pressure of the fluid supplied through the pulsing pipe.
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KR100715547B1 (en) * 2006-03-03 2007-05-08 유영상 The device for deodorizing polluted air
KR20210121916A (en) * 2020-03-31 2021-10-08 조태형 Scrubber system

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