KR20180073191A - Self-cleaning waste gas scrubber - Google Patents

Self-cleaning waste gas scrubber Download PDF

Info

Publication number
KR20180073191A
KR20180073191A KR1020160176777A KR20160176777A KR20180073191A KR 20180073191 A KR20180073191 A KR 20180073191A KR 1020160176777 A KR1020160176777 A KR 1020160176777A KR 20160176777 A KR20160176777 A KR 20160176777A KR 20180073191 A KR20180073191 A KR 20180073191A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
waste gas
cleaning
mesh
filler plate
cleaning liquid
Prior art date
Application number
KR1020160176777A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101902411B1 (en
Inventor
윤수현
Original Assignee
(주) 세아그린텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 세아그린텍 filed Critical (주) 세아그린텍
Priority to KR1020160176777A priority Critical patent/KR101902411B1/en
Publication of KR20180073191A publication Critical patent/KR20180073191A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101902411B1 publication Critical patent/KR101902411B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0027—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions
    • B01D46/0035—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions by wetting, e.g. using surfaces covered with oil
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06—Spray cleaning
    • B01D47/063—Spray cleaning with two or more jets impinging against each other
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/14—Packed scrubbers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

The present invention provides a self-cleaning waste gas scrubber which is convenient to maintain and repair due to a filling unit that can be easily attached and detached and is convenient to clean. According to one aspect of the present invention, the waste gas scrubber is configured to purify waste gas fed from a waste gas duct by using a cleaning solution, and comprises: a body which includes an inlet receiving the waste gas and an outlet discharging the waste gas; one or more gas treatment filter units which are disposed inside the body and can treat the waste gas by using the cleaning solution; a plurality of spray pipes which include one or more nozzles spraying the cleaning solution; a demister which is disposed inside the body to capture moisture in the waste gas to remove the same therefrom; a reservoir which is formed at a lower part of the body to capture the cleaning solution; an exhaust fan which is disposed in a rear end of the outlet to forcibly move the waste gas; and a filter unit which filters the cleaning solution captured in the reservoir to clean the same.

Description

자가 세정 폐가스 처리 장치{SELF-CLEANING WASTE GAS SCRUBBER}[0001] SELF-CLEANING WASTE GAS SCRUBBER [0002]

본 발명은 자가 세정 폐가스 처리 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 반도체 공장, 화학 공장 및 화공 플랜트 등에서 배출되는 폐가스를 처리하기 위한 자가 세정 폐가스 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a self-cleaning waste gas treatment apparatus, and more particularly, to a self-cleaning waste gas treatment apparatus for treating waste gas discharged from a semiconductor factory, a chemical plant, a chemical plant, or the like.

반도체 제조 공장, 화학 공장 및 화공 플랜트 등에서 배출되는 배기가스는 유독성, 폭발성, 부식성이 강하기 때문에 인체에 유해할 뿐만 아니라, 그대로 대기 중으로 방출되는 경우에는 환경 오염을 유발하는 원인이 된다. 따라서 이러한 배기가스는 유해 성분 등의 함량을 허용 농도 이하로 낮추는 정화 처리 과정이 반드시 필요하며, 이와 같은 정화 처리 과정을 거친 무해 가스만을 대기 중으로 방출하도록 법적으로 의무화되어 있다.Exhaust gases emitted from semiconductor manufacturing plants, chemical plants, and chemical plants are not only harmful to human bodies because they are highly toxic, explosive, and corrosive, but also cause environmental pollution if they are released into the atmosphere. Therefore, it is necessary that a purification process for reducing the content of harmful components or the like below the allowable concentration is required for such an exhaust gas, and it is legally required to release only harmless gases through the purification process to the atmosphere.

예를 들어, 반도체는 산화, 식각, 증착 및 포토 공정 등 다양한 제조 공정을 거쳐서 제조되고, 이들 반도체 제조 공정에는 반응 가스로 다양한 종류의 유독성 화공 약품 및 화학 가스 등이 사용되며, 반응 가스들은 산화 성분, 인화 성분 및 유독 성분 등을 포함한다.For example, semiconductors are manufactured through various manufacturing processes such as oxidation, etching, deposition, and photolithography. To these semiconductor manufacturing processes, various types of toxic chemical agents and chemical gases are used as reactive gases, , A burning component, a toxic component, and the like.

따라서, 반도체 제조 공정의 여러 단계에서 아르신, 포스핀, 디보란, 모노실란, 암모니아, 산화질소, 보론 트리 클로라이드, 불소 화합물 및 실리카 등으로 대표되는 가스상의 독성물질 및 더스트, 분진 등을 포함하는 폐가스가 발생하게 된다.Accordingly, it has been found that in the various stages of the semiconductor manufacturing process, gaseous toxic substances represented by arsine, phosphine, diborane, monosilane, ammonia, nitrogen oxide, boron trichloride, fluorine compounds and silica, Waste gas is generated.

이러한 폐가스에 포함된 독성 물질 및 분진 등을 제거하기 위하여, 반도체 설비의 배기 라인에는 다양한 형태의 폐가스 처리 장치가 설치되고 있다. In order to remove toxic substances and dust contained in such waste gas, various types of waste gas treatment devices are installed in an exhaust line of a semiconductor facility.

현재 폐가스를 처리하는 방법에는 크게 건식(Burning) 방식과 습식(Wetting) 방식이 있다. 건식 방식은 주로 수소기 등을 함유한 발화성 가스를 고온의 연소실에서 분해, 반응 또는 연소시켜 배기 가스를 처리하는 방식이고, 습식 방식은 폐가스를 물 등의 세정액에 통과 및 용해시켜 처리하는 방식이다.At present, there are burning method and wetting method to treat waste gas. The dry type is a method of treating an exhaust gas by decomposing, reacting or burning an ignitable gas mainly containing a hydrogen group or the like in a high temperature combustion chamber, and the wet type is a method in which waste gas is passed through and dissolved in a cleaning liquid such as water.

종래의 습식 폐가스 처리 장치는 여러 종류가 있는데, 그 중 한가지는 폐가스를 몸체 내의 충진물과 물에 통과시켜 유해물질과 분진 등을 충진물에 침전되도록 하는 장치이다. 이러한 장치는 충진물에 가스 또는 분진이 포집되어 축적되고 순환수를 재이용하게 되므로, 순환수의 염 농도가 증가하여 폐가스 처리 효율은 점점 저하되고 압력 손실이 설계치 이상으로 상승한다. 따라서 폐가스 처리 장치의 가스 처리 효율 저하를 방지하고, 설계 범위 내의 차압을 유지하기 위해 주기적으로 충진물 등을 세정해야 한다. There are various types of conventional wet waste gas disposal apparatuses. One of them is a device that allows waste gas to pass through a filling material and water in the body to deposit harmful substances, dust, etc. in the filling material. In such a device, gas or dust is collected and accumulated in the packing material, and the circulating water is reused, so that the salt concentration of the circulating water is increased, the waste gas treatment efficiency is gradually lowered, and the pressure loss is increased beyond the designed value. Therefore, it is necessary to clean the filling materials and the like periodically in order to prevent the deterioration of the gas treatment efficiency of the waste gas treating apparatus and to maintain the differential pressure within the design range.

도 1은 종래기술에 따른 폐가스 처리 장치를 나타내는 도면으로서, 종래기술에 따른 폐가스 처리 장치는 몸체(10), 충진 카트리지(20), 및 데미스터(30)를 포함한다. FIG. 1 shows a waste gas treatment apparatus according to the prior art. The waste gas treatment apparatus according to the prior art includes a body 10, a filling cartridge 20, and a demister 30.

몸체(10)의 일측에는 유입구(11)가 형성되고, 타측에는 배기구(12)가 형성되며, 몸체(10)의 내부에는 충진 카트리지(20)가 설치된다. 충진 카트리지(20)는 내부 공간을 가지고 복수의 관통공이 형성되는 상자 형상으로서, 충진 카트리지(20)의 내부 공간에는 복수의 충진물(미도시)이 채워진다.An inlet 11 is formed at one side of the body 10 and an exhaust port 12 is formed at the other side. A filling cartridge 20 is installed inside the body 10. The filling cartridge 20 has a box shape in which a plurality of through holes are formed with an inner space, and a plurality of filling materials (not shown) are filled in the inner space of the filling cartridge 20.

충진 카트리지(20)의 상부에는 복수의 분사관(40)이 배치되고, 각각의 분사관(40)에 형성되는 복수의 노즐(41)을 통하여 충진 카트리지(20) 측으로 세정액이 분사된다. 따라서, 유입구(11)를 통하여 유입되는 폐가스의 유해 성분 등이 세정액과 혼합되어 충진물에 포집된다. A plurality of spray tubes 40 are disposed on the upper part of the filling cartridge 20 and a washing liquid is sprayed toward the filling cartridge 20 through a plurality of nozzles 41 formed in each spray tube 40. Therefore, harmful components of the waste gas flowing through the inlet 11 are mixed with the cleaning liquid and collected in the filling material.

또한, 충진 카트리지(20)와 배기구(12) 사이에는 데미스터(30)가 배치되고, 충진 카트리지(20)를 통과한 폐가스와 수분은 데미스터(30)에 포집되며, 정화 처리된 기체는 배기구(12)를 통하여 배출된다. A demister 30 is disposed between the filling cartridge 20 and the exhaust port 12. Waste gas and moisture that have passed through the filling cartridge 20 are collected by the demister 30, (12).

폐가스 처리에 사용되는 세정액은 외부로부터 공급되는 상수 등이 이용되는데, 세정 후 몸체(10) 하부로 낙하한 세정액은 분사관(40)을 통하여 분사되어 재사용된다. 세정액은 폐가스 처리 시에 폐가스의 오염 물질 등에 의해 점차 오염되고, 충진물의 오염 또한 심해져 충진 카트리지 처리 능력이 저하되며, 충진 카트리지의 압력 손실이 커져 예방 보수 주기가 짧아진다. 따라서, 소정 주기마다 오염된 세정액을 폐기하고 새로운 세정액을 공급하거나, 이를 필터링하여 사용해야 한다. The cleaning liquid used in the waste gas treatment is a constant water or the like supplied from the outside. The cleaning liquid dropped to the bottom of the body 10 after the cleaning is sprayed through the spray pipe 40 and reused. The cleaning liquid gradually becomes contaminated by pollutants in the waste gas during the waste gas treatment, the contamination of the packing material becomes worse, the capacity of the filling cartridge decreases, the pressure loss of the filling cartridge increases, and the preventive maintenance cycle becomes shorter. Therefore, the contaminated cleaning liquid must be discarded every predetermined period, and a new cleaning liquid must be supplied or filtered.

하지만, 새로운 세정액을 공급하는 경우에 세정액 공급 비용 및 사용 후 오염된 폐수를 처리하기 위한 폐수 처리 비용이 상승하고, 오염된 세정액을 필터링하여 사용하는 경우에도 필터 교체 비용이 발생하는 문제점이 있다. 특히, 폐가스 처리량이 큰 경우에 이들 비용이 대단히 증가하므로 폐가스 처리 비용이 많이 소모되는 단점이 있다. However, when a new cleaning liquid is supplied, the cleaning liquid supply cost and the waste water treatment cost for treating contaminated wastewater after use increase, and even if the contaminated cleaning liquid is used by filtration, there is a problem that a filter replacement cost is generated. Particularly, when the amount of waste gas to be treated is large, these costs are greatly increased, and therefore, there is a disadvantage that a waste gas treatment cost is much consumed.

또한, 일반적으로 세정액을 사용함에 따라 세정액의 염 농도가 상승하고, 염 농도가 소정 수치에 도달하면 폐가스 처리가 불가능해지므로 세정액을 교체해야 한다. 하지만, 폐가스 내에 실리카 등의 파우더가 포함되는 경우에 세정액에 파우더가 포집되어 폐가스 처리 능력이 저하되므로, 염 농도가 낮음에도 불구하고 세정액을 교체해야 하는 단점이 있다.In general, the use of a cleaning liquid increases the salt concentration of the cleaning liquid, and when the salt concentration reaches a predetermined value, the waste gas treatment becomes impossible, and therefore, the cleaning liquid must be replaced. However, when powder such as silica is contained in the waste gas, the powder is trapped in the cleaning liquid, and the waste gas treatment ability is lowered. Therefore, the cleaning liquid must be replaced despite the low salt concentration.

또한, 충진 카트리지(20) 및 데미스터(30)의 오염물 침착량이 증가하여 가스 유동로가 폐쇄되므로 가스 처리가 용이하지 못하고, 이를 세척하기 위하여 자주 청소해야 하는 문제가 있으며, 청소 중에는 장치를 정지시켜야 하므로 생산 공정에 차질이 발생할 수 있는 문제점이 있다. 더하여, 세척 작업 시 작업자가 몸체(10) 내부에서 작업해야 하는데, 몸체(10)는 밀폐된 공간으로서 가스 중독이나 질식 등을 방지하기 위한 특수 장비 등이 필요하여 이를 위한 비용 및 시간이 많이 소모되고, 안전사고가 발생할 수 있는 단점이 있다.Further, since the amount of deposited contaminants in the filling cartridge 20 and the demister 30 is increased to close the gas flow path, gas treatment is not easy and there is a problem that it is frequently cleaned in order to clean it. There is a problem that the production process may be disturbed. In addition, the operator has to work inside the body 10 during the cleaning operation. The body 10 is required to have special equipment for preventing gas poisoning or suffocation as an enclosed space. , There is a drawback that safety accidents may occur.

등록실용신안공보 제0248212호(2001.09.14)Registration Utility Model No. 0248212 (Sep. 14, 2001) 등록특허공보 제1175003호(2012.08.10)Patent Registration No. 1175003 (Aug. 10, 2012)

본 발명은 충진부의 착탈이 용이하여 유지보수가 쉬운 자가 세정 폐가스 처리 장치를 제공함에 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a self-cleaning waste gas treatment device which is easy to install and remove the filling part and is easy to maintain and maintain.

또한, 본 발명은 충진부의 청소가 용이하여 유지보수가 쉬운 자가 세정 폐가스 처리 장치를 제공함에 다른 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a self-cleaning waste gas treatment device which is easy to clean and which can be easily cleaned.

상기 본 발명의 목적들 및 다른 특징들을 달성하기 위한 본 발명의 일 관점에 따르면, 세정액을 이용하여 폐가스 덕트로부터 공급되는 폐가스를 정화 처리하기 위한 폐가스 처리 장치에 있어서, 상기 폐가스가 유입되는 유입구와 상기 폐가스가 배출되는 배출구를 가지는 몸체; 상기 몸체 내부에 배치되고, 상기 세정액을 이용하여 상기 폐가스를 처리할 수 있는 하나 이상의 가스 처리 필터부; 상기 세정액을 분사하는 하나 이상의 노즐을 가지는 복수의 분사관; 상기 몸체 내부에 배치되고, 상기 폐가스의 수분을 포집하여 제거하기 위한 데미스터; 상기 몸체 하부에 형성되어 상기 세정액을 포집할 수 있는 저수조; 상기 배출구의 후단에 배치되어 상기 폐가스를 강제 유동시킬 수 있는 배기팬; 및 상기 저수조에 포집되는 상기 세정액을 필터링하여 세정하기 위한 여과부를 포함하는 자가 세정 폐가스 처리 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a waste gas treatment apparatus for purifying waste gas supplied from a waste gas duct by using a cleaning liquid, the apparatus comprising: A body having a discharge port through which waste gas is discharged; At least one gas treatment filter portion disposed inside the body and capable of treating the waste gas using the cleaning liquid; A plurality of spray tubes having at least one nozzle for spraying the cleaning liquid; A demister disposed within the body for trapping and removing moisture from the waste gas; A water reservoir formed at a lower portion of the body and capable of collecting the cleaning liquid; An exhaust fan disposed at a rear end of the discharge port and capable of forcedly flowing the waste gas; And a filtration unit for filtering and cleaning the cleaning liquid collected in the water storage tank.

또한, 상기 가스 처리 필터부는, 소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고 더스트를 전처리할 수 있는 망상 충진판; 및 상기 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터를 포함할 수 있다.The gas processing filter unit may include a mesh filler plate detachably disposed in a predetermined frame and capable of pretreating the dust; And a mesh filter disposed at a rear end of the mesh filler plate and spaced apart from the frame by a predetermined distance so as to be detachable from the mesh.

또한, 상기 망상 충진판은, 복수의 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)을 포함하고, 상기 홀수단 망상 충진판(219)의 면과 짝수단 망상 충진판(218)의 면이 마주보도록 교번적으로 배치되고, 상기 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되고, 상기 홀수단 망상 충진판(219)의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 상기 짝수단 망상 충진판(218)의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측 사선방향, 날줄은 좌측 사선방향으로 배치된다.The mesh filler plate includes a plurality of hole mesh filling plates 219 and an even mesh filler filler plate 218 and the surface of the hole filler mesh filler plate 219 and the surface of the even mesh filler filler 218 Are arranged alternately so as to face each other, and the hole means net-like filler plate 219 and the even-number-means filler plate 218 are arranged in a lattice shape with a predetermined interval between the tabs and the tabs, And the ribs 219 are arranged in the vertical direction and the ribs are arranged in the horizontal direction, and the ribs of the even-numbered means fillets 218 are arranged in the right oblique direction with respect to the vertical line and the oblique lines in the left oblique direction.

또한, 상기 가스 처리 필터부는, 전단에서 소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고, 더스트를 전처리할 수 있는 변형 망상 충진판; 및 상기 변형 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터를 포함하고, 상기 변형 망상 충진판은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되되, 상기 씨줄은 모두 연결되는 한편, 상기 날줄은 적어도 일부가 절단될 수 있다.The gas processing filter unit may include a modified mesh filler plate detachably disposed on a predetermined frame at a front end thereof and capable of pretreating the dust; And a mesh filter removably disposed on the frame at a predetermined distance from the rear end of the deformed network filler plate, wherein the deformed network filler plate is arranged in a lattice shape with a predetermined spacing between the beads and the beads, While the blade is at least partially cut.

또한, 상기 변형 망상 충진판은, 복수의 홀수단 변형 망상 충진판과 짝수단 변형 망상 충진판을 포함하고, 상기 홀수단 변형 망상 충진판의 면과 짝수단 변형 망상 충진판의 면이 마주보도록 교번적으로 배치되고, 상기 홀수단 변형 망상 충진판의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 상기 짝수단 변형 망상 충진판의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측 사선방향, 날줄은 좌측 사선방향으로 배치된다.Further, the modified mesh filler plate may include a plurality of hole means modified net filler plates and an even-numbered means modified net filler plate, wherein the alternate-shaped modified mesh filler plate has an alternating Wherein the sills of the odd-numbered modified net-like filler plates are arranged in the vertical direction and the ribs are arranged in the horizontal direction, the sills of the even-numbered-shaped modified network filler plates are arranged in the right oblique direction with respect to the vertical line, .

또한, 상기 가스 처리 필터부는, 전단에서 소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고, 더스트를 전처리할 수 있는 파도 형상 충진판; 및 상기 변형 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터를 포함한다.The gas processing filter unit may include a wave-shaped filling plate detachably disposed on a predetermined frame at a front end thereof and capable of pretreating the dust; And a mesh filter disposed at a rear end of the deformed mesh filler plate and spaced apart from the frame by a predetermined distance.

또한, 상기 복수의 파도 형상 충진판은 서로 마주보게 배치되되, 파도 모양 방향이 서로 45°내지 60°의 각도를 가지도록 교번적으로 배치되고, 상기 파도 형상 충진판에는 다수의 관통공이 형성된다.The plurality of wave-like fill plates are arranged to face each other and alternately arranged so that the wave-shaped directions have an angle of 45 ° to 60 ° with each other, and the wave-like filler plate has a plurality of through holes.

또한, 상기 메쉬 필터는, 지그재그 형태로 배치된 고정대; 및 상기 고정대에 걸쳐지는 망 형태의 필터를 포함한다.The mesh filter may include: a fixed base disposed in a zigzag form; And a net-like filter which spans the fixing table.

또한, 상기 여과부는, 상기 저수조의 세정액을 필터링하여 세척하기 위한 제1 필터부; 및 상기 제1 필터부를 통과한 세정액 내 포함된 오염물을 제거하여 상기 세정액의 탁도를 소정 수준 이하로 유지하기 위한 울트라멤브레인 필터부를 포함한다.The filtration unit may include: a first filter unit for filtering and cleaning the cleaning liquid in the reservoir; And an ultramembrane filter unit for removing contaminants contained in the cleaning liquid passed through the first filter unit to maintain the turbidity of the cleaning liquid below a predetermined level.

또한, 상기 제1 필터부, 세정액 유입관, 및 역세수 배출관에 연결되는 제1 삼방밸브; 상기 제1 필터부, 역세수 유입관, 및 상기 울트라멤브레인 필터부에 연결되는 제2 삼방밸브; 및 상기 세정액의 강제 유동을 위하여 상기 세정액 유입관에 구비되는 여과 펌프를 더 포함하고, 상기 세정액 유입관은 상기 저수조에 연결되고, 상기 역세수 유입관은 역세수 공급밸브를 통하여 상수도관에 연결되며, 상기 역세수 배출관은 하수도관에 연결된다.A first three-way valve connected to the first filter unit, the rinse solution inlet pipe, and the reverse water discharge pipe; A second three-way valve connected to the first filter unit, the reverse water inflow pipe, and the ultramembrane filter unit; And a filtration pump provided in the rinsing liquid inflow pipe for forced flow of the rinsing liquid, wherein the rinsing liquid inflow pipe is connected to the water storage tank, and the backwash water inflow pipe is connected to the water supply pipe through a reverse water supply valve , The reverse water discharge pipe is connected to the sewage pipe.

본 발명의 자가 세정 폐가스 처리 장치는, 충진부의 착탈이 용이하여 유지보수가 쉽고, 충진부를 청소하기가 용이하여 유지보수가 쉬우므로 운용비용을 낮출 수 있는 효과가 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The self-cleaning waste gas treatment apparatus of the present invention has an effect that it is easy to install and dismantle the filling part, the maintenance is easy, the filling part is easy to clean, and the maintenance is easy.

도 1은 종래의 기술에 따른 폐가스 처리 장치를 나타내는 도면,
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면,
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면,
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면,
도 5은 본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 스크러버를 나타내는 도면,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 세정액 회수 분사관을 나타내는 도면,
도 7a 내지 7c는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 처리 필터부용 충진부 예시도,
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 데미스터용 충진부 예시도,
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 망상 충진판의 세부 구성도,
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 변형 망상 충진판의 세부 구성도,
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 파도 형상 충진판의 세부 구성도, 및
도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 메쉬 필터의 세부 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a waste gas treatment apparatus according to the prior art,
2 is a view showing a self-cleaning waste gas treatment system according to a first embodiment of the present invention,
3 is a view showing a self-cleaning waste gas treatment system according to a second embodiment of the present invention,
4 is a view showing a self-cleaning waste gas treatment system according to a third embodiment of the present invention,
5 is a view showing a scrubber of a self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention,
6 is a view showing a cleaning liquid collection and discharge tube of a self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIGS. 7A through 7C illustrate filler portions for a gas treatment filter portion according to an embodiment of the present invention;
8 is an illustration of a filling part for a demister according to an embodiment of the present invention,
FIG. 9 is a detailed configuration diagram of a mesh filler plate according to an embodiment of the present invention;
10 is a detailed configuration diagram of a modified mesh filler plate according to another embodiment of the present invention,
11 is a detailed configuration diagram of a wave shape filler plate according to another embodiment of the present invention, and Fig.
12 is a detailed configuration diagram of a mesh filter according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 본 발명은 다양한 변경을 도모할 수 있고, 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 아래에서 설명되고 도면에 도시된 예시들은 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the particular embodiments, It is to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the scope. It should also be understood that various equivalents and modifications may be substituted for those at the time of the present application.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면, 도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면, 도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 시스템을 나타내는 도면, 및 도 5은 본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 스크러버를 나타내는 도면이다. FIG. 2 is a view showing a self-cleaning waste gas treatment system according to a first embodiment of the present invention, FIG. 3 is a view showing a self-cleaning waste gas treatment system according to a second embodiment of the present invention, FIG. 5 is a view showing a scrubber of a self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.

본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치는, 스크러버 및 여과부를 포함하고, 스크러버는 몸체(110), 가스 처리 필터부(210) 및 데미스터(220)를 포함하고, 여과부는 디스크 필터부(511), 울트라멤브레인 필터부(800), 및 카트리지 필터부(820)를 포함한다.The scrubbing apparatus includes a body 110, a gas processing filter unit 210 and a demister 220, and the filtering unit includes a disk filter 210, Section 511, an ultra-membrane filter section 800, and a cartridge filter section 820.

통형상을 가지는 몸체(110)의 일측에는 폐가스가 유입될 수 있도록 유입구(112)가 형성되고, 타측에는 가스가 배출될 수 있도록 배출구(113)가 형성된다. An inlet 112 is formed at one side of the tubular body 110 to allow waste gas to flow therein and an outlet 113 is formed at the other side to discharge the gas.

또한, 유입구(112)는 폐가스 덕트(613)에 연결되고, 유입구(112)와 폐가스 덕트(613) 사이에는 가스 유량 조절부(111)가 구비되어 폐가스 유입량이 조절될 수 있으며, 가스를 강제 유동시킬 수 있도록 배출구(113) 측에는 배기팬(114)이 구비된다. The inlet 112 is connected to the waste gas duct 613 and the gas flow rate regulator 111 is provided between the inlet 112 and the waste gas duct 613 so that the waste gas inflow amount can be controlled, An exhaust fan 114 is provided on the discharge port 113 side.

적어도 하나 이상의 가스 처리 필터부(210)가 몸체(110) 내에 배치되고, 가스 처리 필터부(210)와 배출구(113)의 사이에는 기류 중의 액적 제거를 위한 데미스터(220)가 배치된다. At least one gas processing filter unit 210 is disposed in the body 110 and a demister 220 for removing droplets in the airflow is disposed between the gas processing filter unit 210 and the outlet 113.

가스 처리 필터부(210)와 데미스터(220)는 다양한 충진판이 배치될 수 있는바, 도 7 내지 12에서 상세하게 설명하기로 한다.The gas treatment filter unit 210 and the demister 220 may be disposed in various filling plates, and will be described in detail with reference to FIGS.

몸체(110) 하부의 저수조(116)에는 순환 펌프(115)가 연결되고, 분사관(311)과 순환 펌프(115)는 순환 공급관(320)에 의해 연결된다. 따라서, 저수조(116)의 세정액은 순환 펌프(115) 및 순환 공급관(320)에 의해 분사관(311)에 공급되며, 분사관(311)의 노즐을 통하여 몸체(110) 내부로 분사될 수 있다. 이때, 저수조(116)에는 세정액 수위를 체크하기 위한 레벨 트랜스미터(414)가 설치되어 저수조(116)의 저수위로 인한 순환 펌프(115) 공회전을 방지할 수 있다. 또한, 저수조(116)는 상수도관(610)과 연결되고, 저수조(116)와 상수도관(610)의 사이에는 상수 공급밸브(413)가 설치되어 저수조(116)의 저수위 시 상수를 공급받을 수 있다.A circulation pump 115 is connected to the water storage tank 116 below the body 110 and a discharge pipe 311 and a circulation pump 115 are connected by a circulation supply pipe 320. The cleaning liquid of the water storage tank 116 is supplied to the spray tube 311 by the circulation pump 115 and the circulation supply tube 320 and may be sprayed into the body 110 through the nozzle of the spray tube 311 . At this time, a level transmitter 414 for checking the level of the cleaning liquid is installed in the water storage tank 116, so that idling of the circulation pump 115 due to the low water level of the water storage tank 116 can be prevented. A water supply valve 413 is provided between the water storage tank 116 and the water supply pipe 610 to receive a constant water at the low water level of the water storage tank 116 have.

저수조(116)의 일측에는 세정액을 배출하기 위한 드레인 노즐(119)이 형성되고, 세정액이 드레인 노즐(119)을 향하여 포집되어 배출될 수 있도록 저수조(116) 내부의 바닥면(118)은 드레인 포트(119) 측으로 경사지도록 형성된다. 드레인 노즐(119)은 드레인 배관 및 폐기밸브(416)를 통하여 하수도관(611)과 통하는 세정액 폐기관(117)에 연결된다. 또한, 저수조(116)는 약품 공급관(612)에 연결되고, 약품 공급관(612)과 저수조(116)의 사이에는 약품 공급밸브(415)가 설치된다. A drain hole 119 for discharging the cleaning liquid is formed on one side of the water storage tank 116. A bottom surface 118 inside the water storage tank 116 is connected to the drain port 119 so that the cleaning liquid can be collected toward the drain nozzle 119, (119). The drain nozzle 119 is connected to a cleaning liquid waste tube 117 communicating with the sewage pipe 611 through a drain pipe and a waste valve 416. The water storage tank 116 is connected to the chemical supply pipe 612 and the chemical supply valve 415 is provided between the chemical supply pipe 612 and the water storage tank 116.

순환 공급관(320)의 세정액은 pH 센서(412) 및 ORP 센서(411)에 의해 각각 pH 및 전기 전도도가 측정될 수 있으며, 세정액의 pH가 소정 수치 이하로 하강 또는 소정 수치 이상으로 상승하는 경우에 약품 공급밸브(415)가 작동하여 약품 공급관(612)으로부터 세정액으로 약품이 공급될 수 있다. 또한, 세정액의 전기 전도도가 소정 수치 이상으로 상승하는 경우에 폐기밸브(416)가 작동하여 저수조(116)의 세정액 일부 또는 전부가 세정액 폐기관(117)으로 배출될 수 있다. The pH and conductivity of the cleaning liquid of the circulation supply pipe 320 can be measured by the pH sensor 412 and the ORP sensor 411 respectively and when the pH of the cleaning liquid descends below a predetermined value or rises above a predetermined value The medicine supply valve 415 is operated and the medicine can be supplied from the medicine supply pipe 612 to the cleaning liquid. In addition, when the electrical conductivity of the cleaning liquid rises above a predetermined value, the discard valve 416 operates and part or all of the cleaning liquid of the water storage tank 116 may be discharged to the cleaning liquid waste engine 117.

pH 센서(412) 및 ORP 센서(411)를 이용하여 세정액의 pH를 소정 수치 이상 또는 이하로 유지하고, 전기 전도도를 소정 수치 이하로 유지시킴으로써 폐가스의 처리 효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다. the pH of the cleaning liquid can be maintained at or above a predetermined value by using the pH sensor 412 and the ORP sensor 411 and the electric conductivity can be kept below a predetermined value to prevent the waste treatment efficiency from being lowered.

본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 여과부 중 하나인 디스크 필터부(511)는 제1 삼방밸브(512) 및 제2 삼방밸브(513)와 연동한다. 디스크 필터부(511)의 하우징 내에는 필터가 구비되는데, 본 발명의 일실시예에 따르면, 복수개가 적층되는 디스크 필터일 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니며 세정액을 필터링하고, 역세 및 수세가 가능한 어떠한 필터라도 사용될 수 있다.The disk filter unit 511, which is one of the filtration units of the self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, is interlocked with the first three-way valve 512 and the second three-way valve 513. According to an embodiment of the present invention, the disk filter unit 511 may include a filter. However, the disk filter unit 511 may be a disk filter in which a plurality of disk filters are stacked, but the present invention is not limited thereto. Can also be used.

디스크 필터부(511)의 하우징 측부에는 제1 삼방밸브(512)가 연결되고, 디스크 필터부(511)의 하우징 하부에는 제2 삼방밸브(513)가 연결된다. 제1 삼방밸브(512)에는 세정액 유입관(520) 및 역세수 배출관(519)이 연결되고, 제2 삼방밸브(513)에는 역세수 유입관(521) 및 울트라멤브레인 유입관(530)이 연결된다. 따라서, 제1 삼방밸브(512) 및 제2 삼방밸브(513)의 조절에 따라 유로가 변경될 수 있다.A first three-way valve 512 is connected to the housing side of the disk filter unit 511 and a second three-way valve 513 is connected to a lower portion of the housing of the disk filter unit 511. The washing liquid inlet pipe 520 and the reverse water discharge pipe 519 are connected to the first three-way valve 512 and the reverse osmosis water inlet pipe 521 and the ultra-membrane inlet pipe 530 are connected to the second three- do. Therefore, the flow path can be changed by adjusting the first three-way valve 512 and the second three-way valve 513.

세정액 유입관(520) 및 세정액 회수관(522)은 저수조(116)에 연결되고, 역세수 유입관(521)은 역세수 공급밸브(514)를 통하여 상수도관(610)에 연결되며, 역세수 배출관(519)은 세정액 폐기관(117)에 연결된다. 또한 세정액 유입관(520)에는 세정액의 강제 유동을 위한 여과 펌프(510)가 구비되고, 세정액 유입관(520) 및 세정액 회수관(522)에는 압력계(515)가 설치된다. 여기에서 여과 펌프(510), 제1 삼방밸브(512), 제2 삼방밸브(513), 압력계(515) 및 역세수 공급밸브(514) 등은 제어패널(700)에 연결되어 제어될 수 있다.The washing liquid inlet pipe 520 and the washing liquid recovery pipe 522 are connected to the water storage tank 116 and the reverse water washing inlet pipe 521 is connected to the water pipe 610 through the reverse water washing water supply valve 514, The discharge tube 519 is connected to the cleaning liquid waste tube 117. The cleaning liquid inlet pipe 520 is provided with a filtration pump 510 for forced flow of the cleaning liquid and a pressure gauge 515 is installed in the cleaning liquid inlet pipe 520 and the cleaning liquid recovery pipe 522. Here, the filtration pump 510, the first three-way valve 512, the second three-way valve 513, the pressure gauge 515, the reverse water supply valve 514, etc. may be connected to the control panel 700 and controlled .

여과 펌프(510)에 의해 저수조(116)의 세정액이 세정액 유입관(520)을 통하여 디스크 필터부(511)에 공급될 수 있고, 디스크 필터부(511)에서 고형물이 필터링되어 세척된 세정액은 세정액 회수관(522)을 통하여 저수조(116)로 회수된다. 이때, 여과 펌프(510)는 제어패널(700)을 통해 지령 운전되거나, 타이머 또는 압력계(515)에 의해 자동 운전될 수 있다.The cleaning liquid of the water storage tank 116 can be supplied to the disk filter portion 511 through the cleaning liquid inlet pipe 520 by the filtration pump 510 and the cleaning liquid filtered and washed by the disk filter portion 511, And is returned to the water storage tank 116 through the recovery pipe 522. At this time, the filtration pump 510 may be commanded through the control panel 700 or automatically operated by the timer or pressure gauge 515.

본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 여과부 중 울트라멤브레인 필터부(800)와 활성탄 카트리지 필터부(820)는 디스크 필터부(511)를 통과한 후 미처리된 부유고형물과 약간의 용존고형물을 제거하기 위해 설치된다. 울트라멤브레인 필터부(800)와 활성탄 카트리지 필터부(820)는 디스크 필터부(511)의 기능을 보조함으로써 스크러버 내 세정액의 탁도와 전기전도도를 낮출 수 있으므로 용수절감 및 가스 처리 필터부(210) 내 충진판 오염을 저감하는 효과가 있다. 소정 기간 동안의 사용으로 인해 울트라멤브레인 필터부(800)가 오염되는 경우, NaOH, 차아염소산, 및 Air 혼합물을 이용하여 역세하면 재사용이 가능하다.The ultra-membrane filter unit 800 and the activated carbon cartridge filter unit 820 of the filtration unit of the self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention may be separated from the untreated suspended solids after passing through the disk filter unit 511, It is installed to remove dissolved solids. The ultrasound filter unit 800 and the activated carbon cartridge filter unit 820 can reduce the turbidity and the electrical conductivity of the cleaning liquid in the scrubber by assisting the function of the disk filter unit 511, There is an effect of reducing the contamination of the filling plate. If the ultramembrane filter unit 800 is contaminated due to use for a predetermined period, it can be reused by backwashing using NaOH, hypochlorous acid, and air mixture.

디스크 필터부(511) 및 울트라멤브레인 필터부(800)에서 필터링이 진행됨에 따라 디스크 필터부(511) 및 울트라멤브레인 필터부(800)에 오염물이 적체되어 압력이 상승하고, 필터링 처리 능력은 감소한다. 이에 따라, 압력계(515)에서 감지되는 압력치가 소정의 설정치에 도달하면 제어패널(700)에서의 지령 제어에 의해 역세모드로 운전할 수 있다.The contaminants accumulate in the disk filter unit 511 and the ultramembrane filter unit 800 due to the progress of the filtering in the disk filter unit 511 and the ultramembrane filter unit 800 so that the pressure rises and the filtering performance decreases . Accordingly, when the pressure value detected by the pressure gauge 515 reaches a predetermined set value, it is possible to operate in the backwash mode by command control on the control panel 700. [

디스크 필터부(511)는 세정액 내에 포함된 오염물 중 스크러버 막힘의 주원인이 되는 평균 입경 1μm 내지 5μm의 입자를 필터링할 수 있는 것이 바람직하다. 울트라멤브레인 필터부(800)는 내경 0.6mm, 외경 1.2mm 의 중공섬유가 충진되는 것이 바람직하다. 이를 통해 울트라멤브레인 필터부(800)는 디스크 필터 통과 후 세정액 내에 포함된 오염물을 제거하여 세정액의 탁도를 0.1 NTU(Nepthelometric Turbidity Unit) 정도 수준으로 유지할 수 있다. It is preferable that the disk filter unit 511 is capable of filtering particles having an average particle size of 1 탆 to 5 탆, which is a main cause of the clogging of the scrubber among the contaminants contained in the cleaning liquid. The ultramembrane filter unit 800 is preferably filled with hollow fibers having an inner diameter of 0.6 mm and an outer diameter of 1.2 mm. Accordingly, the ultramembrane filter unit 800 can remove the contaminants contained in the cleaning liquid after passing through the disk filter to maintain the turbidity of the cleaning liquid at a level of about 0.1 NTU (Nepthelometric Turbidity Unit).

저수조(116)에 연결된 오염도 검출 센서(516)는 저수조(116) 내 세정액의 오염도를 측정할 수 있으며, 이를 통하여 세정액 교체시기를 파악할 수 있다. 한편, 세정액의 오염도는 세정액의 탁도, 또는 세정액의 고형물 농도 등을 이용하여 측정 가능하다.The contamination degree detection sensor 516 connected to the water storage tank 116 can measure the degree of contamination of the cleaning liquid in the water storage tank 116, thereby determining the replacement time of the cleaning liquid. On the other hand, the degree of contamination of the cleaning liquid can be measured using the turbidity of the cleaning liquid, the solid concentration of the cleaning liquid, and the like.

본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 폐가스 처리 과정은 다음과 같다. The waste gas treatment process of the self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is as follows.

순환 펌프(115)의 작동에 따라 분사관(311)의 노즐을 통하여 저수조(116)의 세정액이 몸체(110) 내부로 분사되고, 가스 유량 조절부(111)의 개방 및 배기팬(114)의 작동에 따라 폐가스 덕트(613)로부터 유입구(112)를 통하여 폐가스가 몸체(110)로 유입된다. 유입되는 폐가스는 가스 처리 필터부(210)를 통과하는데, 폐가스에 포함되어 있는 오염물, 고형물, 분진, 및 더스트 등이 세정액과 함께 충진판에 점착된다.The cleaning liquid of the water storage tank 116 is sprayed into the body 110 through the nozzle of the spray pipe 311 and the gas flow control unit 111 is opened and the exhaust fan 114 The waste gas flows into the body 110 from the waste gas duct 613 through the inlet 112 according to the operation. The incoming waste gas passes through the gas treatment filter unit 210, and contaminants, solid matter, dust, dust, and the like contained in the waste gas are adhered to the filler plate together with the cleaning liquid.

충진판에 점착되는 오염물 등이 흘러내려 저수조(116)에 포집되고, 순환 펌프(115)에 의해 재순환되어 사용될 수 있다. 저수조(116)의 세정액 수위는 소정 범위에서 유지될 수 있는데, 세정액의 양이 적으면 세정액 순환이 원활하지 못하므로 레벨 트랜스미터(414) 및 상수 공급밸브(413)에 의해 저수조(116)의 수위가 낮은 경우 상수도관(610)으로부터 세정액이 공급될 수 있다. Contaminants or the like adhering to the filling plate may be collected and collected in the water storage tank 116 and recycled by the circulation pump 115. [ If the amount of the cleaning liquid is small, the circulation of the cleaning liquid is not smooth. Therefore, the level of the water storage tank 116 is controlled by the level transmitter 414 and the constant supply valve 413 The cleaning liquid can be supplied from the water pipe 610.

가스 처리 필터부(210)에서 처리된 폐가스는 데미스터(220)로 유입되고, 데미스터(220)는 폐가스에 포함된 수분을 제거하며, 수분이 제거된 가스는 배기팬(114)을 통하여 외부로 배출된다. The waste gas treated in the gas processing filter unit 210 flows into the demister 220. The demister 220 removes the moisture contained in the waste gas and the gas from which the moisture is removed passes through the exhaust fan 114 .

몸체에 연결되는 차압계(410)가 가스 처리 필터부(210) 및 데미스터(220)의 오염도를 측정하며, 가스 처리 필터부(210) 및 데미스터(220)의 세척이 필요한 경우 분사관(311, 312)을 통하여 상수를 세정액으로 분사하여 세척할 수 있다. The differential pressure gauge 410 connected to the body measures the degree of contamination of the gas processing filter unit 210 and the demister 220. When it is necessary to clean the gas processing filter unit 210 and the demister 220, , 312) to wash the wash water.

저수조에 연결되는 오염도 검출 센서(516)가 세정액의 오염도를 검출하여 저수조(116)의 세정액의 오염도가 소정값에 도달하면 여과부(511, 800, 820)를 통하여 세정액 내 고형물을 제거할 수 있다. 즉, 제1 삼방 밸브(512) 및 제2 삼방 밸브(513)를 조절하여 세정액이 디스크 필터부(511)를 통과하도록 유로를 형성하고, 여과 펌프(510)를 동작시키면 저수조(116)의 세정액이 세정액 유입관(520) 및 제1 삼방 밸브(512)를 통해 디스크 필터부(511)로 유입된다. 디스크 필터부(511)에서 여과 처리된 세정액은 제2 삼방 밸브(513)를 거쳐 울트라멤브레인 필터부(800), 및 활성탄 카트리지 필터(820)를 통과한 후 세정액 회수관(522)을 통하여 저장조로 유입되며, 여과된 세정액은 재사용될 수 있다. 이에 따라 오염된 세정액 내에 포함된 다양한 입자상 오염 물질을 효과적으로 처리할 수 있고, 충진판의 오염으로 인한 기류의 막힘을 최소화할 수 있으며, 세정액인 상수의 소비량을 줄일 수 있다. 여기서, 제거되는 입자상 오염 물질은 SiO2, 각종 불용성 물질 및 미생물 등의 다양한 오염물질일 수 있다.The contamination degree detection sensor 516 connected to the water tank detects the degree of contamination of the cleaning liquid and when the degree of contamination of the cleaning liquid in the water storage tank 116 reaches a predetermined value, the solid matter in the cleaning liquid can be removed through the filtration units 511, 800 and 820 . That is, when the first three-way valve 512 and the second three-way valve 513 are adjusted to form a flow path so that the cleaning liquid passes through the disk filter unit 511 and the filtration pump 510 is operated, Is introduced into the disk filter unit 511 through the rinse solution inlet pipe 520 and the first three-way valve 512. The cleaning liquid filtered by the disk filter unit 511 passes through the second membrane filter unit 800 and the activated carbon cartridge filter 820 via the second three-way valve 513 and then through the cleaning liquid recovery pipe 522 to the storage tank And the filtered cleaning liquid can be reused. Accordingly, various particulate pollutants contained in the contaminated cleaning liquid can be effectively treated, clogging of the airflow due to contamination of the filling plate can be minimized, and consumption of the constant water as the cleaning liquid can be reduced. Here, the particulate pollutant to be removed may be various pollutants such as SiO 2 , various insoluble substances and microorganisms.

세정액의 여과 처리로 인하여 디스크 필터부(511)가 오염된 경우, 디스크 필터부(511)를 세척할 수 있다. 즉, 제1 삼방 밸브(512) 및 제2 삼방 밸브(513)를 조절하여 상수도관(610)의 상수가 디스크 필터부(511)를 통과하도록 유로를 형성하고, 역세수 공급밸브(514)를 개방하면 상수도관(610)의 상수가 역세수 유입관(520) 및 제2 삼방 밸브(513)를 통해 디스크 필터부(511)로 유입된다. 디스크 필터부(511)를 통과한 오염된 상수는 제1 삼방 밸브(512) 및 역세수 배출관(519)을 통하여 세정액 폐기관(117)으로 유입되어 폐기될 수 있다. 여기서, 디스크 필터부(511)의 세척 시기는 압력계(515)를 통하여 알 수 있으며, 활성탄 카트리지 필터부(820)에의 세정액 유입압력과 배출압력의 압력차를 감지하고, 압력차가 소정값에 도달하면 디스크 필터부(511)를 세척할 수 있다.When the disk filter unit 511 is contaminated due to the filtration process of the cleaning liquid, the disk filter unit 511 can be cleaned. That is, the first three-way valve 512 and the second three-way valve 513 are adjusted to form a flow passage so that the constants of the water supply pipe 610 pass through the disk filter portion 511 and the reverse water supply valve 514 The water in the water pipe 610 flows into the disk filter unit 511 through the reverse water inflow pipe 520 and the second three-way valve 513. The contaminated constant passing through the disk filter unit 511 flows into the cleaning liquid waste tube 117 through the first three-way valve 512 and the reverse water discharge pipe 519 and can be discarded. Here, the cleaning time of the disk filter unit 511 can be known through the pressure gauge 515, and the pressure difference between the inflow pressure and the inflow pressure of the cleaning liquid into the activated carbon cartridge filter unit 820 is detected. When the pressure difference reaches a predetermined value The disk filter unit 511 can be cleaned.

또한, 세정액을 교체하는 경우, 저수조(116)의 세정액은 드레인 노즐(119) 및 세정액 폐기관(117)을 통하여 하수도관(611)으로 배출된다.When the cleaning liquid is to be replaced, the cleaning liquid in the water storage tank 116 is discharged to the sewage pipe 611 through the drain nozzle 119 and the cleaning liquid waste tube 117.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 자가 세정 폐가스 처리 장치의 세정액 회수 분사관을 나타내는 도면으로서, 세정액이 세정액 회수관(522)을 통하여 여과부(511, 800, 820)로부터 회수될 때 세정액 회수관(522)을 통하여 저수조(116)의 바닥면(118) 전체에 고르게 분사될 수 있다. 이때 세정액 회수관(522)은 저수조(116)의 공간 등 설치 조건에 따라 한 개 또는 여러 개의 라인으로 형성될 수 있다. 6 is a view showing a cleaning liquid collection and discharge tube of a self-cleaning waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. When a cleaning liquid is recovered from the filtration units 511, 800, and 820 through a cleaning liquid recovery pipe 522, Can be uniformly sprayed to the entire bottom surface 118 of the water storage tank 116 through the return pipe 522. At this time, the cleaning liquid recovery pipe 522 may be formed as one or more lines depending on installation conditions such as the space of the water storage tank 116.

한편, 통상의 직경 50mm 정도 크기의 원형, 타원형, 육각형으로 된 패킹은 스크러버에 충진하였을 때, 가스 기류의 편류 현상을 야기하고, 이로 인해 가스처리 효율이 저하하고, 충진물의 막힘 현상이 발생하기 쉽다. 또한, 스크러버 당 20 입방미터 정도의 충진물이 소요되므로 오염된 충진물을 세정하기가 쉽지 않다. On the other hand, when filled in a scrubber, a packing of a circular, elliptical, or hexagonal shape having a size of about 50 mm in diameter causes a drift phenomenon of the gas flow, which results in lowered gas treatment efficiency and clogging of the packing . In addition, since it requires about 20 cubic meters of filling material per scrubber, it is not easy to clean the contaminated filling material.

이에 반해, 도 7a에 도시된 본 발명의 일실시예에 따른 가스 처리 필터부용 망상 충진부는, 전단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 망상 충진판(211)과, 소정 간격 이격되어 후단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터(213)를 포함한다.On the contrary, the network filling portion for the gas treatment filter portion according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 7A includes a network filling plate 211 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) at the front end, And a mesh filter 213 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) at the rear end.

더스트를 전처리할 수 있는 전단에 배치되는 망상 충진판(211)은 균일한 간격으로 소정 프레임(미도시)에 배치되기 때문에 편류가 발생하지 않아 가스처리 효율이 우수하고, 막힘 현상이 발생하지 않는다. 또한, 후단에 착탈 가능하게 배치되는 PE 재질의 메쉬 필터(213)는 촘촘히 짜여진 망 사이로 가스를 통과시킴으로써 망상 충진판(211)을 통과하면서 생성된 가스 미스트와 미처리된 가스 내 오염물을 효과적으로 포집할 수 있다. Since the reticular filling plates 211 disposed at the front end capable of pretreating the dust are arranged in a predetermined frame (not shown) at uniform intervals, no drift occurs, gas treatment efficiency is excellent, and clogging does not occur. Further, the mesh filter 213 of the PE material, which is detachably disposed at the rear end, passes gas through the tightly interwoven mesh to thereby effectively collect gas mist generated in the mesh-like filler plate 211 and contaminants in the untreated gas have.

이와 유사하게, 도 7b에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 처리 필터부용 변형 망상 충진부는, 전단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 변형 망상 충진판(212)과, 소정 간격 이격되어 후단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터(213)를 포함한다.Similarly, the modified network filling portion for the gas treatment filter portion according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 7B includes a modified network filler plate 212 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) at the front end, And a mesh filter 213 detachably disposed at a rear end thereof in a predetermined frame (not shown).

더스트를 전처리할 수 있는 전단에 배치되는 변형 망상 충진판(212)은 도 7a의 망상 충진물(211)과 달리, 망 사이가 절단되어 상대적으로 더 큰 더스트를 전처리하는 용도로 사용할 수 있다. 한편, 변형 망상 충진판(212)은 망 사이가 절단되어 있기 때문에 가스압에 견딜 수 있도록 상대적으로 더 두꺼운 형상을 가진다. 변형 망상 충진판(212)은 균일한 간격으로 고정 배치되기 때문에 편류의 발생을 방지할 수 있어 가스처리 효율이 우수하고, 막힘 현상이 발생하지 않는다. 또한, 후단에 배치되는 PE 재질의 메쉬 필터(213)는 촘촘히 짜여진 망 사이로 가스를 통과시킴으로써 망상 충진판(211)을 통과하면서 생성된 가스 미스트와 미처리된 가스 내 오염물을 효과적으로 포집할 수 있다.The deformation filler plate 212 disposed at the front end where the dust can be pretreated can be used for the purpose of pre-treating a relatively larger dust by cutting between the net, unlike the net filler 211 of FIG. 7A. On the other hand, the deformed network filler plate 212 has a relatively thicker shape to withstand the gas pressure because the net is cut off. Since the strained fillet plates 212 are fixedly arranged at uniform intervals, it is possible to prevent the occurrence of drift, so that the gas treatment efficiency is excellent and clogging does not occur. The mesh filter 213 of the PE material disposed at the rear end can effectively collect the gas mist generated in passing through the mesh filler plate 211 and contaminants in the untreated gas by passing the gas through the tightly interwoven mesh.

도 7c에 도시된 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가스 처리 필터용 파도 형상 충진부는, 전단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 파도 형상 충진판(214)과, 소정 간격 이격되어 후단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터(213)를 포함한다.The wave-shaped filling part for the gas processing filter according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 7C includes a wave-like filling plate 214 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) at the front end, And a mesh filter 213 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) at the rear end.

파도 형상 충진판(214)은 균일한 간격으로 배치되기 때문에 편류의 발생을 방지할 수 있어 가스처리 효율이 우수하고, 막힘 현상이 발생하지 않는다. 또한, 후단에 배치되는 PE 재질의 메쉬 필터(213)는 촘촘히 짜여진 망 사이로 가스를 통과시킴으로써 망상 충진판(211)을 통과하면서 생성된 가스 미스트와 미처리된 가스 내 오염물을 효과적으로 포집할 수 있다. Since the wave-like filler plates 214 are arranged at uniform intervals, the occurrence of drift can be prevented, the gas treatment efficiency is excellent, and clogging does not occur. The mesh filter 213 of the PE material disposed at the rear end can effectively collect the gas mist generated in passing through the mesh filler plate 211 and contaminants in the untreated gas by passing the gas through the tightly interwoven mesh.

도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 데미스터용 충진부 예시도로서, 데미스터용 충진부는, 전단에서 소정 프레임(미도시)에 착탈 가능하게 배치되는 파도 형상 충진판(214)과, 소정 간격 이격되어 착탈 가능하게 후단에 배치되는 복수의 메쉬 필터(213)를 포함한다. 8 is a diagram illustrating a filling unit for a demister according to an embodiment of the present invention. The filling unit for a demister includes a wave-like filling plate 214 detachably disposed in a predetermined frame (not shown) And a plurality of mesh filters 213 that are spaced apart and detachably disposed at the rear end.

유입되는 폐가스 중 소정 크기 이상의 미스트는 파도 형상 충진판(214)을 통과한 후 중력에 의해 낙하하여 제거되고, 후단에 배치되는 복수의 메쉬 필터(213)는 중력에 의해 낙하하다가 미처 수조나 데미스터 바닥에 도달하지 못하고 재비산하는 미스트나 미세한 크기의 미스트를 포집한다.A plurality of the mesh filters 213, which are disposed at the rear end, are dropped by gravity while passing through the wave-like filling plate 214 and then dropped by gravity. It collects mist or mist of mist that can not reach bottom and re-empties.

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 망상 충진판의 세부 구성도로서, 도 9a는 망상 충진판의 정면도이고, 도 9b는 홀수단 망상 충진판의 평면도이며, 도 9c는 짝수단 망상 충진판의 평면도이다.9A is a front view of the mesh filler plate, FIG. 9B is a plan view of the mesh filler plate of the hollow means, FIG. 9C is a plan view of the mesh filler plate of the even- Fig.

망상 충진판은, 교번적으로 배치되는 복수의 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)을 포함한다.The net filler plates include a plurality of alternatingly arranged hole net filler plates 219 and even-purpose filler fillets 218.

홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)은 굵은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되고, 굵은 줄 사이에 가는 줄이 촘촘하게 배치된다. 한편, 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)은 망상 충진판(211)의 프레임(미도시)에 삽입 고정될 때 상호 교차하도록 배치되는 것이 바람직하다. 이를 위하여 홀수단 망상 충진판(219)의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 짝수단 망상 충진판(218)의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측으로 45도, 날줄은 좌측으로 45도 기울어져 배치된다. The hollow unit mesh filler plate 219 and the even mesh filler mesh filler plate 218 are arranged in a lattice pattern with a predetermined spacing between a thick line and a narrow line, and thin lines are tightly arranged between the thick lines. On the other hand, it is preferable that the hollow means filler plate 219 and the even-purpose filler filler plate 218 are disposed so as to cross each other when they are inserted and fixed in a frame (not shown) of the network filler plate 211. For this purpose, the sills of the hall means fillets 219 are arranged in the vertical direction and the blade rows are arranged in the horizontal direction. The sills of the even-numbered means fillets 218 are arranged at 45 degrees to the right and 45 degrees to the left .

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 변형 망상 충진판의 세부 구성도로서, 도 10a는 변형 망상 충진판의 정면도이고, 도 10b는 홀수단 변형 망상 충진판의 평면도이며, 도 10c는 짝수단 변형 망상 충진판의 평면도이다.10A is a front view of the modified network filler plate, FIG. 10B is a plan view of the hole means modified network filler plate, FIG. 10C is a plan view of the modified network filler plate according to another embodiment of the present invention, And FIG.

변형 망상 충진판은 교번적으로 배치되는 복수의 홀수단 변형 망상 충진판(219)과 짝수단 변형 망상 충진판(218)을 포함한다.The modified net filler plates include a plurality of alternatingly arranged hole means modified net filler plates 219 and an even-numbered modified net filler plate 218.

홀수단 변형 망상 충진판(219)과 짝수단 변형 망상 충진판(218)은 굵은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되고, 굵은 줄 사이에 가는 줄이 촘촘하게 배치된다. 한편, 홀수단 변형 망상 충진판(219)과 짝수단 변형 망상 충진판(218)은 변형 망상 충진판(211)의 프레임(미도시)에 삽입 고정될 때 상호 교차하도록 배치되는 것이 바람직하다. 이를 위하여 홀수단 변형 망상 충진판(219)의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 짝수단 변형 망상 충진판(218)의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측으로 45도, 날줄은 좌측으로 45도 기울어져 배치된다. The hole-shaped modified mesh filler plate 219 and the even-shaped modified mesh filler plate 218 are arranged in a lattice pattern with a predetermined spacing of a thick line and a narrow line, and thin lines are tightly arranged between the thick lines. On the other hand, it is preferable that the hole-shaped modified mesh filler plate 219 and the even-shaped modified mesh filler plate 218 are disposed so as to cross each other when they are inserted and fixed in a frame (not shown) of the modified network filler plate 211. For this purpose, the filament of the hall-shaped deformed network filler plate 219 is arranged in the vertical direction and the bundle of the bundle-shaped deformed network filler plate 218 is arranged in the vertical direction, 45 degrees.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 파도 형상 충진판의 세부 구성도로서, 도 11a는 파도 형상 충진판(214)의 적층된 형태이고, 도 11b는 파도 형상 충진판(214)의 개별 구성도이다.11A is a laminated form of a wave-like filler plate 214, and FIG. 11B is a cross-sectional view of a wave-shaped filler plate 214 according to another embodiment of the present invention, FIG.

파도 형상 충진판(214)은 파도 형상으로 굴곡져 있으며, 복수의 파도 형상 충진판(214)이 소정 간격 이격되어 적층될 수 있다. 파도 형상 충진판(211)은 이웃하는 파도 형상 충진판(214)의 파도 모양 방향이 평행하지 않도록 엇갈려 배치되고, 폐가스가 이웃하는 파도 형상 충진판(214)의 사이를 원활하게 관통할 수 있도록 파도 형상 충진판(214) 사이의 공간이 폐가스의 유동 방향을 이루도록 배치된다.  The wave-like filling plate 214 is curved in a wave shape, and a plurality of wave-like filling plates 214 may be stacked with a predetermined spacing. The wave-like filler plate 211 is staggered so that the wave shape directions of the neighboring wave-like filler plates 214 are not parallel to each other, and the wave- And the space between the shape filling plates 214 is arranged so as to form the flowing direction of the waste gas.

본 발명의 일실시예에 따르면, 복수의 파도 형상 충진판(214)은 서로 마주보게 배치되되, 파도 모양 방향이 서로 45°내지 60°의 각도를 가지도록 교번적으로 배치될 수 있다. 파도 모양의 깊이는 교차 각도 및 파도 형상 충진판(214)의 재질에 따라 다르나, 바람직하게는 비표면적 500m2/m3 기준으로 6mm, 250m2/m3 기준으로 12mm, 그리고 125m2/m3 기준으로는 25mm 정도이며, 처리 가스의 종류, 제거 효율, 처리 가스에 포함된 오염물 농도 등에 따라 조절될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the plurality of wave-like fill plates 214 may be arranged to face each other and alternately arranged such that wave-shaped directions have angles of 45 to 60 degrees with each other. The depth of the wave form is a different in, preferably, a specific surface area of 500m 2 / m 3 based depending on the material of the crossing angle and the wave-like filling plate 214 to 6mm, 250m 2 / m 3 based on 12mm, and 125m 2 / m 3 The standard is about 25 mm and can be adjusted depending on the kind of the processing gas, the removal efficiency, the concentration of contaminants contained in the processing gas, and the like.

또한, 가스 및 세정액의 확산을 위하여 파도 형상 충진판(214)에는 다수의 관통공(215)이 형성되며, 일실시예에 따르면, 관통공(215)의 지름은 약 4mm 내지 5mm일 수 있으나, 처리 가스의 특성에 따라 조절될 수 있다. In addition, a plurality of through holes 215 are formed in the wave-like filler plate 214 to diffuse the gas and the cleaning liquid. According to one embodiment, the diameter of the through holes 215 may be about 4 mm to 5 mm, And can be adjusted depending on the characteristics of the process gas.

본 발명에 따른 가스 처리 필터부(210)는 동일 압력 손실 대비 일반적인 가스 처리 필터보다 비표면적이 큰 장점이 있다. 따라서, 가스 처리 효율을 위해 직경 1 inch 이하의 패킹을 충진하는 것이 바람직하지만 처리 공탑 속도 등의 여러 조건 때문에 이를 사용하기 곤란한 스크러버에 본 발명에 따른 충진물을 적용하는 것이 바람직하다.The gas processing filter unit 210 according to the present invention has an advantage that the specific surface area is larger than that of the general gas processing filter in comparison with the same pressure loss. Therefore, it is preferable to fill the packing with a diameter of 1 inch or less for the gas treatment efficiency, but it is preferable to apply the filling material according to the present invention to the scrubber which is difficult to use due to various conditions such as the treatment superficial velocity.

도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 메쉬 필터의 세부 구성도로서, 도 12a는 메쉬 필터의 정면도, 도 12b는 메쉬 필터의 평면도, 및 도 12c는 메쉬 필터의 우측면도이다.12A is a front view of the mesh filter, FIG. 12B is a plan view of the mesh filter, and FIG. 12C is a right side view of the mesh filter. FIG. 12A is a detailed view of a mesh filter according to an embodiment of the present invention.

메쉬 필터는 지그재그 형태로 배치된 고정대(217)와, 고정대(217)에 착탈 가능하게 걸쳐지는 망 형태의 필터(216)를 포함한다.The mesh filter includes a fixed base 217 disposed in a zigzag pattern and a mesh-shaped filter 216 detachably attached to the fixed base 217.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Various modifications and variations are possible within the scope of the appended claims.

110: 몸체 111: 가스 유량 조절 장치
112: 유입구 113: 배출구
114: 배기팬 115: 순환 펌프
116: 저수조 117: 세정액 폐기관
118: 바닥면 210: 가스 처리 필터부
211, 212: 격자형 패킹 213: mesh filter
214: 파형판 215: 관통공
216: mesh 217: mesh filter 고정대
218: 격자형 패킹 고정대 220: 데미스터
311: 분사관 320: 순환 공급관
410: 차압계 411: ORP 측정 센서
412: pH 센서 413: 상수 공급밸브
414: 레벨 트랜스미터 415: 약품 공급밸브
416: 폐기밸브 510: 여과 펌프
511: 필터부 512: 제1 삼방밸브
513: 제2 삼방밸브 514: 역세수 공급밸브
515: 압력계 516: 오염도 검출 센서
519: 역세수 배출관 520: 세정액 유입관
521: 역세수 유입관 522: 세정액 회수관
610: 상수도관 611: 하수도관
612: 약품 공급관 613: 폐가스 덕트
614: Clean Dry Air 700: 제어패널
800: Ultramembrane 820: 활성탄 카트리지 필터
830: 차아염소산 공급 펌프 840: 차아염소산 탱크110: body 111: gas flow rate regulator
112: inlet 113: outlet
114: exhaust fan 115: circulation pump
116: Water tank 117: Cleaning liquid waste engine
118: bottom surface 210: gas treatment filter section
211, 212: lattice packing 213: mesh filter
214: corrugated plate 215: through-hole
216: mesh 217: mesh filter
218: Grid type packing stand 220: Demister
311: branch pipe 320: circulation pipe
410: Differential pressure meter 411: ORP measurement sensor
412: pH sensor 413: constant supply valve
414: level transmitter 415: chemical supply valve
416: waste valve 510: filtration pump
511: filter unit 512: first three-way valve
513: second three-way valve 514: reverse water supply valve
515: Pressure gauge 516: Pollution degree detection sensor
519: Reverse osmosis discharge pipe 520: Washing liquid inlet pipe
521: Reverse osmosis inflow pipe 522: Cleaning fluid collection pipe
610: Water supply pipe 611: Sewer pipe
612: chemical supply pipe 613: waste gas duct
614: Clean Dry Air 700: Control Panel
800: Ultramembrane 820: Activated carbon cartridge filter
830: Hypochlorous acid supply pump 840: Hypochlorous acid tank

Claims (10)

세정액을 이용하여 폐가스 덕트로부터 공급되는 폐가스를 정화 처리하기 위한 폐가스 처리 장치에 있어서,
상기 폐가스가 유입되는 유입구와 상기 폐가스가 배출되는 배출구를 가지는 몸체;
상기 몸체 내부에 배치되고, 상기 세정액을 이용하여 상기 폐가스를 처리할 수 있는 하나 이상의 가스 처리 필터부;
상기 세정액을 분사하는 하나 이상의 노즐을 가지는 복수의 분사관;
상기 몸체 내부에 배치되고, 상기 폐가스의 수분을 포집하여 제거하기 위한 데미스터;
상기 몸체 하부에 형성되어 상기 세정액을 포집할 수 있는 저수조;
상기 배출구의 후단에 배치되어 상기 폐가스를 강제 유동시킬 수 있는 배기팬; 및
상기 저수조에 포집되는 상기 세정액을 필터링하여 세정하기 위한 여과부
를 포함하는 자가 세정 폐가스 처리 장치.
A waste gas treatment apparatus for purifying waste gas supplied from a waste gas duct by using a cleaning liquid,
A body having an inlet through which the waste gas flows and an outlet through which the waste gas is discharged;
At least one gas treatment filter portion disposed inside the body and capable of treating the waste gas using the cleaning liquid;
A plurality of spray tubes having at least one nozzle for spraying the cleaning liquid;
A demister disposed within the body for trapping and removing moisture from the waste gas;
A water reservoir formed at a lower portion of the body and capable of collecting the cleaning liquid;
An exhaust fan disposed at a rear end of the discharge port and capable of forcedly flowing the waste gas; And
A filtering unit for filtering and cleaning the cleaning liquid collected in the water storage tank;
Wherein the self-cleaning waste gas treatment apparatus comprises:
제1항에 있어서,
상기 가스 처리 필터부는,
소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고 더스트를 전처리할 수 있는 망상 충진판; 및
상기 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터
를 포함하는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the gas processing filter unit comprises:
A mesh filler plate detachably disposed in a predetermined frame and capable of pretreating the dust; And
A mesh filter disposed at a rear end of the mesh filler plate and spaced apart from the frame by a predetermined distance,
And a cleaning unit for cleaning the cleaned waste gas.
제2항에 있어서,
상기 망상 충진판은, 복수의 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)을 포함하고, 상기 홀수단 망상 충진판(219)의 면과 짝수단 망상 충진판(218)의 면이 마주보도록 교번적으로 배치되고,
상기 홀수단 망상 충진판(219)과 짝수단 망상 충진판(218)은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되고, 상기 홀수단 망상 충진판(219)의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 상기 짝수단 망상 충진판(218)의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측 사선방향, 날줄은 좌측 사선방향으로 배치되는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
3. The method of claim 2,
The mesh filler plate includes a plurality of hole mesh fillets 219 and an even mesh filler filler plate 218. The surface of the mesh filler filler 219 and the filler mesh filler plate 218 Are arranged alternately so as to face each other,
The hall means filler plate 219 and the even number means filler plate 218 are arranged in a lattice pattern with a predetermined spacing between the line and the line, the line of the hole means filler plate 219 is in the vertical direction, Wherein the sills of the even-numbered means retention filler plate (218) are disposed in the right oblique direction with respect to the vertical line, and the oblique lines are arranged in the left oblique direction.
제1항에 있어서,
상기 가스 처리 필터부는,
전단에서 소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고, 더스트를 전처리할 수 있는 변형 망상 충진판; 및
상기 변형 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터를 포함하고,
상기 변형 망상 충진판은 씨줄과 날줄이 소정 간격의 격자형으로 배치되되, 상기 씨줄은 모두 연결되는 한편, 상기 날줄은 적어도 일부가 절단되는
자사 세정 폐가스 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the gas processing filter unit comprises:
A deformed mesh filler plate detachably disposed on a predetermined frame at a front end thereof and capable of pretreating the dust; And
And a mesh filter disposed at a rear end of the deformed mesh filler plate and spaced apart from the frame by a predetermined distance,
The strained fillets are arranged in a lattice shape with a predetermined interval between the strings and the strings, wherein the strings are all connected and at least a part of the strings is cut
Waste gas treatment system for its own cleaning.
제4항에 있어서,
상기 변형 망상 충진판은, 복수의 홀수단 변형 망상 충진판과 짝수단 변형 망상 충진판을 포함하고, 상기 홀수단 변형 망상 충진판의 면과 짝수단 변형 망상 충진판의 면이 마주보도록 교번적으로 배치되고,
상기 홀수단 변형 망상 충진판의 씨줄은 수직 방향, 날줄은 수평 방향으로 배치되고, 상기 짝수단 변형 망상 충진판의 씨줄은 수직선을 기준으로 우측 사선방향, 날줄은 좌측 사선방향으로 배치되는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the deformed network filler plate comprises a plurality of hole means modified net filler plates and an even-numbered means modified net filler plate, the alternating means alternating so that the face of the hole means modified net filler plate and the face of the even- Disposed,
Wherein the filaments of the hole means modified warp filler plate are arranged in the vertical direction and the flywheel is arranged in the horizontal direction, the filament of the even-numbered deformed network filler plate is arranged in the right oblique direction with respect to the vertical line, Processing device.
제1항에 있어서,
상기 가스 처리 필터부는,
전단에서 소정 프레임에 착탈 가능하게 배치되고, 더스트를 전처리 할 수 있는 파도 형상 충진판; 및
상기 변형 망상 충진판의 후단에 소정 간격 이격되어 상기 프레임에 착탈 가능하게 배치되는 메쉬 필터
를 포함하는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the gas processing filter unit comprises:
A wave-shaped filling plate detachably disposed on a predetermined frame at a front end thereof and capable of pretreating the dust; And
A mesh filter disposed at a rear end of the deformed mesh filler plate and spaced apart from the frame by a predetermined distance,
And a cleaning unit for cleaning the cleaned waste gas.
제6항에 있어서,
상기 복수의 파도 형상 충진판은 서로 마주보게 배치되되, 파도 모양 방향이 서로 45°내지 60°의 각도를 가지도록 교번적으로 배치되고, 상기 파도 형상 충진판에는 다수의 관통공이 형성되는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
The method according to claim 6,
Wherein the plurality of wave-like fill plates are disposed so as to face each other and alternately arranged so that the wave-shaped directions thereof are at an angle of 45 to 60 degrees with respect to each other, and the wave-form filler plate has a plurality of through- Processing device.
제2항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 메쉬 필터는,
지그재그 형태로 배치된 고정대; 및
상기 고정대에 걸쳐지는 망 형태의 필터
를 포함하는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
8. The method according to any one of claims 2 to 7,
The mesh filter may comprise:
A fixture arranged in a zigzag form; And
A mesh-type filter
And a cleaning unit for cleaning the cleaned waste gas.
제2항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 여과부는,
상기 저수조의 세정액을 필터링하여 세척하기 위한 제1 필터부; 및
상기 제1 필터부를 통과한 세정액 내 포함된 오염물을 제거하여 상기 세정액의 탁도를 소정 수준 이하로 유지하기 위한 울트라멤브레인 필터부
를 포함하는 자사 세정 폐가스 처리 장치.
8. The method according to any one of claims 2 to 7,
The filtration unit,
A first filter unit for filtering and cleaning the cleaning liquid of the water storage tank; And
An ultramembrane filter unit for removing contaminants contained in the cleaning liquid passing through the first filter unit and maintaining the turbidity of the cleaning liquid below a predetermined level;
And a cleaning unit for cleaning the cleaned waste gas.
제9항에 있어서,
상기 제1 필터부, 세정액 유입관, 및 역세수 배출관에 연결되는 제1 삼방밸브;
상기 제1 필터부, 역세수 유입관, 및 상기 울트라멤브레인 필터부에 연결되는 제2 삼방밸브; 및
상기 세정액의 강제 유동을 위하여 상기 세정액 유입관에 구비되는 여과 펌프를 더 포함하고,
상기 세정액 유입관은 상기 저수조에 연결되고, 상기 역세수 유입관은 역세수 공급밸브를 통하여 상수도관에 연결되며, 상기 역세수 배출관은 하수도관에 연결되는 자가 세정 폐가스 처리 장치.10. The method of claim 9,
A first three-way valve connected to the first filter portion, the rinse solution inlet pipe, and the reverse water discharge pipe;
A second three-way valve connected to the first filter unit, the reverse water inflow pipe, and the ultramembrane filter unit; And
Further comprising a filtration pump provided in the rinse solution inlet pipe for forced flow of the rinse solution,
The washing liquid inlet pipe is connected to the water storage tank, the backwash water inlet pipe is connected to the water pipe through the reverse water wash water supply valve, and the reverse water wash water pipe is connected to the sewage pipe.
KR1020160176777A 2016-12-22 2016-12-22 Self-cleaning waste gas scrubber KR101902411B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160176777A KR101902411B1 (en) 2016-12-22 2016-12-22 Self-cleaning waste gas scrubber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160176777A KR101902411B1 (en) 2016-12-22 2016-12-22 Self-cleaning waste gas scrubber

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180073191A true KR20180073191A (en) 2018-07-02
KR101902411B1 KR101902411B1 (en) 2018-09-28

Family

ID=62914441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160176777A KR101902411B1 (en) 2016-12-22 2016-12-22 Self-cleaning waste gas scrubber

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101902411B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200061066A (en) * 2018-11-23 2020-06-02 주식회사 애니텍 A scrubber provided with a demister for preventing the discharge of the cleaning liquid
KR102378807B1 (en) * 2021-07-05 2022-03-25 서번산업엔지니어링 주식회사 Combustible gas cleaning system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200248212Y1 (en) 2001-06-01 2001-10-26 청도환경 주식회사 Mist & dust eliminator
JP5725322B2 (en) 2009-07-07 2015-05-27 清水建設株式会社 Filler manufacturing equipment
KR101571093B1 (en) 2014-07-30 2015-11-23 (주) 세아그린텍 Waste gas scrubber
KR101564580B1 (en) 2015-06-26 2015-10-30 서익환 Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200061066A (en) * 2018-11-23 2020-06-02 주식회사 애니텍 A scrubber provided with a demister for preventing the discharge of the cleaning liquid
KR102378807B1 (en) * 2021-07-05 2022-03-25 서번산업엔지니어링 주식회사 Combustible gas cleaning system

Also Published As

Publication number Publication date
KR101902411B1 (en) 2018-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102022476B1 (en) Apparatus for dust and water-soluble odor removal and method thereof
KR101751783B1 (en) Apparatus for treatment exhaunst gas containing particle, insoluble substance and gas-phase pollutant
KR100717430B1 (en) A high efficiency multi-water sprinkle type dust collector
KR101571093B1 (en) Waste gas scrubber
KR100865574B1 (en) The wet scrubber with waste water self-treatment
KR100769281B1 (en) Wer scrubbing apparatus and method
KR101902411B1 (en) Self-cleaning waste gas scrubber
KR102116381B1 (en) Wet air purification system for Public use facilities
CN204672091U (en) A kind of stripper filtration system
KR101848790B1 (en) Self-cleaning waste gas scrubber
CN109519999B (en) Water tank spray type range hood
KR20170115421A (en) Micro-bubbling Diffraction Scrubber
CN208038246U (en) A kind of chemical waste liquid online recycling device
RU182087U1 (en) FILTER FOR SEWAGE TREATMENT FROM MOLYBDENUM IONS
KR101925556B1 (en) Modular waste gas scrubber with prefabricated net-like filler plate
RU2453354C1 (en) Self-cleaning filter
EA010270B1 (en) Method of waste gas purification of organic compounds and device therefor
KR101693328B1 (en) Self-cleaning waste gas scrubber
CN211676942U (en) Exhaust purification processing apparatus that purification efficiency is high
CN208493655U (en) A kind of efficient exhaust gas processing device
CN208097710U (en) A kind of acid mist tail gas level purification system
KR200425371Y1 (en) A high efficiency multi-water sprinkle type dust collector
KR101879769B1 (en) Modular saste gas scrubber
RU2377045C1 (en) Inertial edge mud filter
KR101652312B1 (en) Horizontal Type Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function

Legal Events

Date Code Title Description
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant