상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 게이트 라인,데이터 라인 및 상기 게이트 라인과 데이터 라인에 연결된 스위칭 소자로 이루어진 다수의 화소가 형성된 제1 기판, 상기 제1 기판과 마주보는 제2 기판 및 상기 제1 및 제2 기판 사이에 개재된 액정층으로 이루어진 표시부; 상기 표시부의 주변에 형성되고, 상기 다수의 데이터 라인과 결합되어 상기 다수의 데이터 라인에 영상 데이터를 제공하는 데이터 구동부; 및 상기 표시부의 주변에 형성되고, 복수의 스테이지가 종속적으로 연결되어 각 스테이지로부터 출력된 게이트 구동신호를 상기 게이트 라인으로 순차적으로 제공하며, 제1 및 제2 그룹으로 분리된 쉬프트 레지스터 및 상기 표시부의 주변에 형성되어 외부로부터 제공되는 신호들을 상기 각 스테이지에 인가하는 배선으로 이루어진 게이트 구동부를 포함한다.
이때, 상기 배선은 상기 제1 그룹의 홀수 번째 스테이지에 제1 클럭을 제공하는 제1 클럭 배선, 상기 제1 그룹의 짝수 번째 스테이지에 상기 제1 클럭과 반전된 위상을 갖는 제2 클럭을 제공하는 제2 클럭 배선, 상기 제2 그룹의 홀수 번째 스테이지에 상기 제1 클럭을 제공하는 제3 클럭 배선 및 상기 제2 그룹의 짝수 번째 스테이지에 상기 제2 클럭을 제공하는 제4 클럭 배선을 포함한다.
이러한 액정표시장치에 따르면, 제1 및 제2 클럭의 지연 시간이 제1 및 제2 클럭 배선에 비하여 작은 제3 및 제4 클럭 배선을 추가로 구비함으로써 액정표시장치의 표시특성을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 액정표시장치의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 액정표시장치를 구체적으로 나타낸 도면이다. 도 4는 도 3에 도시된 게이트 구동회로를 구성하는 쉬프트 레지스터의 블럭도이다. 여기서, 쉬프트 레지스터(211)는 n 개의 게이트 라인(G1~Gn)에 각각 연결되어, n 개의 게이트 라인을 구동하는 n 개의 출력단자(OUT1~OUTn)를 갖는다. 이때, n은 자연수이며, 그 중에서도 짝수이다.
도 3을 참조하면, 액정표시장치는 TFT 기판(300), 컬러필터기판(미도시) 및 TFT 기판(300)과 컬러필터기판과의 사이에 주입된 액정(미도시)으로 이루어진 액정표시패널(미도시)을 구비한다.
구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이 TFT 기판(300)은 게이트 라인, 데이터 라인, TFT(110) 및 TFT(110)와 연결된 액정 커패시터(120)로 이루어진 다수의 화소가 매트릭스 형태로 형성된 표시영역(100) 및 표시영역(100)의 주변에서 표시영역(100)의 구동을 제어하는 주변영역(200)으로 구분된다. TFT(110)는 게이트 라인(G1~Gn)으로부터 분기된 게이트 전극, 데이터 라인(D1~Dm)으로부터 분기된 소오스 전극 및 액정 커패시터(120)에 연결된 드레인 전극(113)으로 이루어진다.
한편, 표시영역(100)의 주위에는 게이트 구동부(210) 및 소오스 구동부(220)로 이루어진 주변영역(200)이 형성되어 있다. 구체적으로, 게이트 구동부(210)는 게이트 라인(G1~Gn)의 일단과 연결되어 게이트 라인(G1~Gn)에 순차적으로 게이트 구동신호를 인가한다. 또한, 소오스 구동부(220)는 데이터 라인(D1~Dm)의 일단과 연결되어 데이터 라인(D1~Dm)에 순차적으로 데이터 구동신호를 인가한다.
도 4를 참조하면, 게이트 구동부(210)는 복수의 스테이지(SRC1~SRCn)가 종속 연결된 하나의 쉬프트 레지스터(211)와 각 스테이지에 각종 신호를 제공하기 위한배선들(ST, VDD, CK1, CKB1, VSS, CK2, CKB2)로 이루어진다.
각 스테이지(SRC1~SRCn+1)는 입력단자(IN), 출력단자(OUT), 제어단자(CT), 클럭 입력단자(CK), 제1 전원전압단자(VSS1), 제2 전원전압단자(VDD)를 갖는다. 각 스테이지는 출력단자(OUT)가 다음 스테이지의 입력단자(IN)에 연결됨과 동시에 이전 스테이지의 제어단자에 연결됨으로써 종속적으로 연결된다. 또한, 쉬프트 레지스터(211)는 게이트 라인(G1~Gn)에 대응하는 n개의 스테이지들(SRC1~SRCn) 이외에 n번째 스테이지(SRCn)의 다음 단에 연결된 하나의 더미 스테이지(SRCn+1)를 더 포함한다.
쉬프트 레지스터(211)의 첫 번째 스테이지(SRC1)의 입력단자(IN)에는 개시신호(ST)가 입력된다. 각 스테이지(SRC1~SRCn)의 출력단자(OUT1~OUTn)는 대응되는 각 게이트 라인(G1~Gn)에 연결된다.
각 스테이지(예를 들어, SRC1, SRC2, SRC3)의 제어단자(CT)에는 다음 스테이지(예를 들어, SRC2, SRC3, SRC4)의 출력신호(OUT2, OUT3, OUT4)가 제어신호로 입력된다. 여기서, 제어단자(CT)에 입력되는 제어신호는 각 스테이지의 출력신호를 로우 레벨로 다운시키기 위해 사용된다. 따라서, 각 스테이지(SRC1~SRCn)의 출력신호들이 순차적으로 액티브 구간(하이상태)을 가짐으로써, 각 출력신호의 액티브 구간에서 대응되는 각 게이트 라인(G1~Gn)이 순차적으로 선택된다.
한편, 배선들은 각 스테이지들(SRC1~SRCn+1) 중 첫 번째 스테이지의 입력단자(IN)에 개시신호(ST)를 인가하기 위한 개시신호배선(ST), 각 스테이지(SRC1~SRCn+1)에 제1 전원전압(VSS)을 인가하기 위한 제1전원전압배선(VSS), 제2 전원전압(VDD)을 인가하기 위한 제2 전원전압배선(VDD), 제1 클럭(CK)을 제공하기 위한 제1 클럭 배선(CK1) 및 제1 클럭(CK)과 반전된 위상을 갖는 제2 클럭(CKB)을 제공하기 위한 제2 클럭 배선(CKB2)을 포함한다.
또한, 배선들은 제1 클럭(CK)을 제공하기 위한 더미 클럭 배선인 제3 클럭 배선(CK2) 및 제2 클럭(CKB)을 제공하기 위한 더미 클럭 배선인 제4 클럭 배선(CKB2)을 더 포함한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 쉬프트 레지스터(211)는 n+1 개의 스테이지들(SRC1~SRCn+1) 중 일부를 포함하는 제1 그룹 및 나머지 일부를 포함하는 제2 그룹으로 분리된다. 제1 그룹에는 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 제공되는 제1 및 제2 클럭이 제공되고, 제2 그룹에는 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)을 통해 제공되는 제1 및 제2 클럭이 제공된다.
구체적으로, 제1 클럭 배선(CK1)으로부터 출력되는 제1 클럭은 제1 그룹의 홀수 번째 스테이지로 제공되고, 제2 클럭 배선(CKB1)으로부터 출력되는 제2 클럭은 제1 그룹의 짝수 번째 스테이지로 제공된다. 또한, 제3 클럭 배선(CK2)으로부터 출력되는 제1 클럭은 제2 그룹의 홀수 번째 스테이지로 제공되고, 제4 클럭 배선(CKB2)으로부터 출력되는 제2 클럭은 제2 그룹의 짝수 번째 스테이지로 제공된다.
각 배선들은 개시신호배선(ST), 제2 전원전압배선(VDD), 제2 및 제1 클럭 배선(CKB1, CK1), 제1 전원전압배선(VSS), 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)의 순서대로 쉬프트 레지스터(211)에 근접하게 배치된다.
각 배선들의 입력단은 서로 인접하여 배치된다. 구체적으로, 제1 내지 제4 클럭 배선(CK1, CKB1, CK2, CKB2)은 제1 및 제2 클럭이 각각 인가되는 제1 내지 제4 입력단을 구비한다. 제1 내지 제4 입력단은 쉬프트 레지스터(211)의 첫 번째 스테이지(SRC1)가 배치되는 제1 영역에서 서로 인접하여 배치된다.
또한, 제1 클럭 배선(CK1)은 쉬프트 레지스터(211)의 마지막 스테이지(SRCn+1)이 배치되는 제2 영역에서 제3 클럭 배선(CK2)과 결합되고, 제2 클럭 배선(CKB1)은 제2 영역에서 제4 클럭 배선(CKB2)과 결합된다.
쉬프트 레지스터(211)의 홀수 번째 스테이지(예를 들어, SRC1, SRC3, SRCn+1))들에는 제1 또는 제3 클럭 배선(CK1, CK2)을 통해 제1 클럭(CK)이 제공되고, 짝수 번째 스테이지(예를 들어, SRC2, SRCn)들에는 제2 및 제4 클럭 배선(CKB1, CKB2)을 통해 제2 클럭(CKB)이 제공된다.
따라서, 제1 클럭 배선(CK1)은 쉬프트 레지스터(211)의 제1 그룹 중 홀수 번째 스테이지(SRC1, SRC3, SRCn+1)에 제1 클럭(CK)을 제공하고, 제2 클럭 배선(CKB1)은 제1 그룹 중 짝수 번째 스테이지(SRC2, SRCn)에 제2 클럭(CKB)을 제공한다. 한편, 제3 클럭 배선(CK1)은 쉬프트 레지스터(211)의 제2 그룹 중 홀수 번째 스테이지(SRC1, SRC3, SRCn+1)에 제1 클럭(CK)을 제공하고, 제4 클럭 배선(CKB2)은 제2 그룹 중 짝수 번째 스테이지(SRC2, SRCn)에 제2 클럭(CKB)을 제공한다.
도 5는 도 4에 도시된 제3 및 제4 클럭 배선의 위치를 구체적으로 나타낸 게이트 구동회로의 설계도이고, 도 6은 제1 및 제3 클럭 배선의 연결관계와 제2 및제4 클럭 배선의 연결관계를 나타낸 설계도이다.
도 5를 참조하면, 쉬프트 레지스터(211)의 외측에는 개시신호배선(ST), 제2 전원전압배선(VDD), 제1, 제2 클럭 배선(CK1, CKB1), 제1 전원전압배선(VSS), 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)들이 순차적으로 배치되어 있다. 각 배선들은 배선 폭이 좁을 수록 쉬프트 레지스터(211)와 인접하여 배치된다. 쉬프트 레지스터(211)와 인접할수록 배선간의 접촉 면적이 커져 접촉 커패시턴스가 커지기 때문에, 커패시턴스의 영향을 적게 받는 배선일수록 쉬프트 레지스터(211)와 인접하여 배치된다.
구체적으로, 쉬프트 레지스터(211)에 가장 인접한 곳에는 개시신호배선(ST)이 배치되고, 그 다음으로 제2 전원전압배선(VDD)이 개시신호배선(ST)에 인접하여 배치된다. 제2 전원전압배선(VDD)의 외측으로는 제2 및 제1 클럭 배선(CKB1, CK1)이 위치한다. 여기서, 제2 클럭 배선(CKB1)은 제1 클럭 배선(CK1)보다 내측에 배치된다. 제1 클럭 배선(CK1)과 인접하여 제1 전원전압배선(VSS)이 형성된다. 이와 같은 구조는 배선들과 해당 배선을 각 스테이지(SRC1~SRCn+1)를 연결하는 연결 라인들과의 사이에서 발생되는 접촉 커패시턴스로 인한 딜레이를 감소시킨다.
한편, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)은 다른 배선들을 가로지르는 연결 라인들에 결합되어 쉬프트 레지스터(211)에 연결되는 것이 아니고, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)의 일단에 결합되어 쉬프트 레지스터(211)에 연결되기 때문에 제1 전원전압배선(VSS)보다 외측에 배치된다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)은 TFT 기판(300)의 실 라인 영역(S) 내에 형성된다. 구체적으로, TFT 기판(300)은 게이트라인(미도시), 데이터 라인(미도시) 및 화소(미도시)들이 형성되어 있는 표시영역(D)과 표시영역(D)의 주변에 형성된 주변영역(C)으로 구분된다.
다시, 주변영역(C)은 쉬프트 레지스터(211) 및 각종 배선들이 형성된 게이트 구동영역(G)과 TFT 기판(300)을 컬러필터기판(미도시)과 결합시키는 실런트(sealant)(미도시)가 형성된 실 라인 영역(S)으로 구분된다. 상기 게이트 구동영역(G)과 실 라인 영역(S)은 부분적으로 오버랩되어 있다. 즉, 실 라인 영역(S)은 실 라인 영역(S)의 중심을 기준으로 액정이 존재하는 내측 영역과 액정이 존재하지 않는 외측 영역으로 구분된다. 여기서, 상기 게이트 구동영역(G)은 상기 내측 영역을 포함하고 있다.
여기서, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2), 제1 전원전압배선(VSS)의 일부는 실 라인 영역(S) 내에 형성되고, 제1 전원전압배선(VSS)의 나머지 일부, 제1 클럭 배선(CK1), 제2 클럭 배선(CKB1), 제2 전원전압배선(VDD) 및 개시신호배선(ST)은 게이트 구동영역(G)내에 형성된다.
제1 전원전압배선(VSS)의 일부, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1), 제2 전원전압배선(VSS, VDD) 및 개시신호배선(ST)은 연결 라인들과 접촉되는 부분을 갖기 때문에 이들을 실 라인 영역(S)의 내에 형성하게되면, TFT 기판(300)과 컬러필터기판을 결합시키기 위해 고온에서 압력을 가하는 공정에 의해서 접촉 불량이 발생된다.
연결 라인들과 접촉되는 부분을 갖고 있는 배선들이 게이트 구동영역(G) 내에 형성되고, 연결 라인들과 접촉되는 부분을 갖지 않는 배선들이 실라인 영역(S)내에 형성되기 때문에 액정표시장치의 전체적인 사이즈가 증가되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 제1 전원전압배선(VSS)의 나머지 일부, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)은 연결 라인들과 결합되는 부분이 없기 때문에 실 라인 영역(S) 내에 형성하여도 무방하다.
따라서, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)이 추가로 형성됨으로 인해서 액정표시장치의 사이즈가 증가되는 현상이 발생되지 않는다. 또한, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)은 액정이 존재하지 않는 실 라인 영역(S) 내에 형성되기 때문에 커패시턴스가 존재하지 않아서 제1 및 제2 클럭의 지연 시간이 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)에 비하여 훨씬 감소된다.
도 6을 참조하면, 제1 클럭 배선(CK1)의 일단은 제3 클럭 배선(CK2)의 일단과 결합되고, 제2 클럭 배선(CKB1)의 일단은 제4 클럭 배선(CKB2)의 일단과 결합된다. 따라서, 제3 클럭 배선(CK2)은 쉬프트 레지스터의 각 스테이지에 제1 클럭(CK)을 제공하는 배선이고, 제4 클럭 배선(CKB2)은 각 스테이지에 제2 클럭(CKB)을 제공한다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)은 쉬프트 레지스터(211)와 직접적으로 연결되지도 않고, 다른 배선들과 크로스(crcss)되는 부분도 없다. 그러므로, 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)이 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)을 통해 이동하는 속도는 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 이동하는 속도보다 빠르다.
따라서, 쉬프트 레지스터(211)의 각 스테이지(SRC1~SRCn+1)들 중 일부는 제1및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 제공되는 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)에 의해 동작되고, 나머지 일부는 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)을 통해 제공되는 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)에 의해 동작된다.
이로써, 첫 번째 게이트 라인으로부터 마지막 게이트 라인까지 순차적으로 하이 레벨 구간을 갖고 발생되는 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)의 지연시간을 최소화하여 쉬프트 레지스터(211)로부터 출력되는 출력신호의 지연 왜곡을 제거할 수 있다.
도 7 및 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 배선 구조를 나타낸 도면들이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 제1 전원전압배선(VSS)과 쉬프트 레지스터(미도시)의 사이에는 제1 전원전압배선(VSS)과 각 스테이지를 연결하는 제1 전원전압 연결라인(VSSc)이 배치된다. 제1 전원전압배선(VSS)과 쉬프트 레지스터와의 사이에는 제1 전원전압배선(VSS)과 나란하게 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)이 배치된다.
제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)은 크로스된다. 또한, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)은 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 크로스되지 않는 영역에서는 제1 폭(W1)을 갖고, 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 크로스된 영역에서는 제1 폭(W1)보다 작은 제2 폭(W2)을 갖는다.
구체적으로, 제1 클럭 배선(CK1)에는 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 크로스된 영역에 대응하여 일측벽으로부터 내측으로 오목하게 함몰된 제1 오목부(A)가 형성되고, 제2 클럭 배선(CKB1)에도 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 크로스된 영역에 대응하여 일측벽으로부터 내측으로 오목하게 함몰된 제2 오목부(B)가 형성된다.
제1 클럭 배선(CK1)은 길이방향으로 연장되는 제1 및 제2 측벽을 구비하고,제2 클럭 배선(CKB1)은 길이 방향으로 연장되는 제3 및 제4 측벽을 구비한다. 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)은 제2 측벽과 제3 측벽이 서로 마주보도록 배치된다. 이때, 제1 오목부(A)는 제1 측벽에 형성되고, 제2 오목부(B)는 제4 측벽에 형성된다.
도 8에 도시된 바와 같이, 제1 클럭 배선(CK1)과 쉬프트 레지스터와의 사이에서 제1 클럭을 각 스테이지로 제공하는 제1 클럭 연결라인(CKc1)이 배치되고, 제2 클럭 배선(CKB1)과 쉬프트 레지스터와의 사이에서 제2 클럭을 각 스테이지로 제공하는 제2 클럭 연결라인(CKBc1)이 배치된다. 제1 클럭 연결라인(CKc1)은 제1 클럭 배선(CK1)의 제2 측벽 부근에서 제1 클럭 배선(CK1)과 콘택되고, 제2 클럭 연결라인(CKBc1)은 제2 클럭 배선(CKB1)의 제3 측벽 부근에서 제2 클럭 배선(CKB1)과 콘택된다. 제1 및 제2 오목부(A, B)는 제1 및 제2 클럭 연결라인(CKc1, CKBc1)의 콘택 부분들과 오버랩되지 않는 위치에 형성되는 것이 바람직하다.
이와 같이 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 크로스된 부분에서 제1 및 제2 클럭 배선(CKc1, CKBc1)의 제2 폭(W2)을 크로스되지 않는 부분에의 제1 폭(W1)보다 비하여 좁게 형성함으로써 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과의 사이에서 형성되는 커패시턴스를 감소시킬 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 인가되는 제1 및 제2 클럭의 지연 시간과 제1 전원전압 연결라인(VSSc)을 통해 인가되는 제1 전원전압의 지연 시간을 줄일 수 있다.
제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)의 폭을 부분적으로 좁게 형성하기 때문에저항 성분이 커질 수도 있지만, 신호의 지연은 저항 성분보다는 커패시턴스 성분에 더 큰 영향을 받기 때문에 궁극적으로 지연 시간을 감소시킬 수 있다.
이하, 표 1에 제시된 실험예 및 비교예를 통해 커패시터스 성분 및 저항 성분에 따라 변화되는 RC 딜레이를 제시한다. 실험예에서는 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)의 제1 폭(W1)이 70㎛이고 제2 폭(W2)이 45㎛이다. 또한, 비교예에서는 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)은 전체적으로 균일하게 70㎛를 갖는다.
CK1(CKB1) |
W1 |
W2 |
C |
R |
비교예 |
70㎛ |
70㎛ |
385㎊ |
457Ω |
실험예 |
70㎛ |
45㎛ |
344.5㎊ |
489Ω |
표 1에 제시된 바와 같이, 비교예에서 제1 및 제2 클럭 배선(CK1)과 제1 전원전압 연결라인(VSSc) 사이에서 발생되는 제1 커패시턴스는 385㎊이고, 실험예에서 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 제1 전원전압 연결라인(VSSc) 사이에서 발생되는 제2 커패시턴스는 344.5㎊이다. 즉, 실험예에서의 제2 커패시턴스가 비교예보다 약 10.5% 감소된다.
한편, 비교예서 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)에서의 제1 저항은 457Ω이고, 실험예에서 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)의 제2 저항은 489Ω으로, 실험예에서의 제2 저항이 제1 저항보다 약 7%증가된다. 그러나, 실험예에서 제2 저항이 증가된 비율보다 제2 커패시턴스가 감소된 비율이 크기 때문에 궁극적으로 RC 딜레이는 감소된다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 배선 구조를 나타낸 도면들이다.
도 9를 참조하면, 제1 전원전압배선(VSS)과 쉬프트 레지스터(미도시)의 사이에는 제1 전원전압배선(VSS)과 각 스테이지를 연결하는 제1 전원전압 연결라인(VSSc)이 배치된다. 제1 전원전압배선(VSS)과 쉬프트 레지스터와의 사이에는 제1 전원전압배선(VSS)과 나란하게 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)이 배치된다.
여기서, 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)은 크로스된다. 또한, 제1 전원전압 연결라인(VSSc)은 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 크로스되지 않는 영역에서는 제3 폭(W3)을 갖고, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 크로스되는 영역에서는 제3 폭(W3)보다 작은 제4 폭(W4)을 갖는다.
구체적으로, 제1 전원전압 연결라인(VSSc)에는 제1 클럭 배선(CK1)과 크로스된 영역에 대응하여 일측벽으로부터 내측으로 오목하게 함몰된 제3 오목부(C)가 형성되고, 제2 클럭 배선(CKB1)과 크로스된 영역에 대응하여 일측벽으로부터 내측으로 오목하게 함몰된 제4 오목부(D)가 형성된다.
이와 같이 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 크로스된 영역에서 제1 전원전압 연결라인(VSSc)의 제4 폭(W4)을 크로스되지 않는 영역에서의 제3 폭(W3)보다 좁게 형성함으로써, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)과 제1 전원전압 연결라인(VSSc)과의 사이에서 형성되는 커패시턴스를 감소시킬 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 인가되는 제1 및 제2 클럭의 지연 시간과 제1 전원전압 연결라인(VSSc)을 통해 인가되는 제1 전원전압의 지연 시간을 감소시킬 수 있다.
이하, 쉬프트 레지스터(211)를 구성하는 각 스테이지(SRC1~SRCn+1)의 구조에 대해서 설명한다. 단, 각 스테이지(SRC1~SRCn+1)의 구조는 거의 동일함으로, i 번째 스테이지(SRCi)를 예로써 설명함으로써 모든 스테이지(SRC1~SRCn+1)의 설명을 대신한다. 여기서, i는 1부터 n까지에 있는 어느 하나의 자연수이다.
도 10은 도 4에 도시된 쉬프트 레지스터의 각 스테이지를 구성하는 내부 회로도이고, 도 11은 도 4에 도시된 쉬프트 레지스터의 출력 파형도이다.
도 10을 참조하면, 쉬프트 레지스터(211)의 i 번째 스테이지(SRCi)는 풀업부(211a), 풀다운부(211b), 풀업 구동부(211c) 및 풀다운 구동부(211d)로 이루어진다.
풀업부(211a)는 드레인이 클럭 입력단자(CK)에 연결되고, 소오스가 출력단자에 연결되어, 제1 노드(N1)의 전위에 따라 구동되는 제1 NMOS 트랜지스터(NT1)로 이루어진다.
풀다운부(211b)는 드레인이 상기 출력단자(OUTi)에 연결되고, 소오스가 제1 전원전압(VSS)에 연결되어, 제2 노드(N2)의 전위에 따라 구동되는 제2 NMOS 트랜지스터(NT2)로 구성된다.
풀업 구동부(211c)는 제1 커패시터(C1), 제3 내지 제5 NMOS 트랜지스터(NT3~NT5)로 이루어진다. 상기 제1 커패시터(C1)는 상기 제1 노드(N1)와 상기 출력단자(OUT)와의 사이에 연결된다. 제3 NMOS 트랜지스터(NT3)는 드레인이 제2 전원전압(VDD)에 연결되고, 소오스가 제1 노드(N1)에 연결되어, 입력단자(IN)로부터 입력되는 입력신호에 의해 구동된다. 제4 NMOS 트랜지스터(NT4)는 드레인이 제1 노드(N1)에 연결되고, 소오스가 제1 전원전압(VSS)에 연결되어 제어단자(CT)로부터 입력되는 제어신호에 의해 구동된다. 제5 NMOS 트랜지스터(NT5)는 드레인이 제1 노드(N1)에 연결되고, 소오스가 제1 전원전압(VSS)에 연결되어, 제2 노드(N2)의 전위에 따라 구동된다.
풀다운 구동부(211d)는 제6 및 제7 NMOS 트랜지스터들(NT6, NT7)로 구성된다. 제6 NMOS 트랜지스터(NT6)는 드레인이 제2 전원전압(VDD)에 연결되고, 소오스가 제2 노드(N2)에 연결되어 제2 전원전압(VDD)에 의해 구동된다. 제7 NMOS 트랜지스터(NT7)는 드레인이 제2 노드(N2)에 연결되고, 소오스가 제1 전원전압(VSS)에 연결되어 제1 노드(N1)의 전위에 따라 구동된다.
풀업 구동부(211c)의 커패시터(C)가 하이 전압레벨 구간을 갖고 발생된 이전 스테이지의 출력신호에 의해 구동되는 제3 NMOS 트랜지스터(NT3)를 통하여 충전된다. 커패시터(C)의 충전전압이 제1 NMOS 트랜지스터(NT1)의 게이트와 소오스 사이의 문턱전압 이상으로 충전되면, 제1 NMOS 트랜지스터(NT1)가 턴-온되어, 제1 클럭(CK)의 하이 레벨 구간이 출력단자(OUTi)에 나타난다.
이와 동시에 턴-온 상태에 있는 제3 NMOS 트랜지스터(NT3)를 통해 제공되는 제2 전원전압(VDD)에 의해 제7 NMOS 트랜지스터(NT7)가 턴-온되고, 제 5 및 제2 NMOS 트랜지스터(NT5. NT2)가 턴-오프 상태를 유지한다. 따라서, 제1 클럭(CK)이 제1 NMOS 트랜지스터(NT1)를 통해 출력단자(OUTi)로 출력된다.
출력단자(OUTi)에 제1 클럭(CK)의 하이 전압레벨 구간이 나타나기 시작하면,이 출력전압이 커패시터(C)에 부트스트랩(BOOTSTRAP)되어 제1 NMOS 트랜지스터(NT11)의 게이트 전압이 턴-온 전압 이상으로 상승하게 된다. 따라서, 제1 NMOS 트랜지스터(NT1)가 완전(FULL)한 도통 상태를 유지한다.
이후, 하이 레벨 구간을 갖고 발생된 다음 스테이지의 출력신호가 제어신호로써 제어단자(CT)를 통해 입력되면, 제4 NMOS 트랜지스터(NT4)가 턴-온되어, 제1 및 제7 NMOS 트랜지스터(NT1, NT7)를 턴-오프시킨다. 동시에 제6 NMOS 트랜지스터(NT6)를 통해 제2 노드(N2)의 전위가 상승함으로써, 제5 NMOS 트랜지스터(NT5)가 턴-온된다. 이후, 커패시터(C)에 충전된 전하는 제5 NMOS 트랜지스터(NT5)를 통해 방전된다.
또한, 제2 노드(N2)의 전위가 상승됨에 따라 제2 NMOS 트랜지스터(NT2)가 턴-온되고, 출력단자(OUTi)의 전압은 제2 NMOS 트랜지스터(NT2)를 통해 제1 전원전압(VSS)으로 방전된다. 따라서, 출력단자(OUTi)에는 제1 전원전압(VSS)이 출력신호로써 출력된다.
이와 같이, 쉬프트 레지스터(211)의 각 스테이지(SRC1~SRCn)가 순차적으로 구동되어 게이트 라인(G1~Gn)에 순차적으로 게이트 구동전압을 인가하여 한 프레임 기간동안 하나의 화면을 구현한다.
도 11을 참조하면, 제1 및 제2 클럭 배선(CK1, CKB1)을 통해 쉬프트 레지스터(211)의 제1 그룹에 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)이 제공되고, 제1 그룹(G1)의 첫 번째 스테이지(SRC1)에 개시신호(ST)가 제공되면, 제1 그룹(G1)의 첫 번째 스테이지(SRC1)에서는 개시신호(ST)의 선단에 응답하여 제1 클럭(CK)의 하이 레벨 구간이제1 출력신호(OUT1)로 발생된다. 이후, 두 번째 스테이지(SRC2)에서는 첫 번째 스테이지(SRC1)의 제1 출력신호(OUT2)에 응답하여, 제2 클럭(CKB)의 하이 레벨 구간이 제2 출력신호(OUT2)로 발생된다.
한편, 제3 및 제4 클럭 배선(CK2, CKB2)을 통해 쉬프트 레지스터(211)의 제2 그룹(G2)에 제1 및 제2 클럭(CK, CKB)이 제공되면, 제2 그룹(G2)의 첫 번째 스테이지인 제i 번째 스테이지(SRCi)에서는 제1 그룹(G1)의 마지막 스테이지인 제i-1 번째 스테이지(SRCi-1)의 제i-1 출력신호에 응답하여, 제1 클럭(CK)의 하이 레벨 구간이 제i 출력 신호로 발생된다. 제i+1 번째 스테이지(SRCi+1)에서는 제i 출력신호에 응답하여, 제2 클럭(CKB)의 하이 레벨 구간이 제i+1 출력신호(OUTi+1)로 발생된다.
이와 같이, 각 스테이지의 출력단자(OUT)에는 제1 내지 제n 출력신호(OUT1~OUTn)가 순차적으로 하이 레벨 구간을 갖으면서 발생된다.