KR20030050099A - Slit valve for semiconductor fabrication apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 로드락 챔버와 공정 챔버 간의 기밀 유지를 위한 슬릿 밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a slit valve for maintaining airtightness between a load lock chamber and a process chamber.
일반적으로, 반도체 제조 공정은 고 진공 상태에서 이루어진다. 이러한 이유로 반도체 제조 공정에서 진공도 유지는 매우 중요한 인자라고 할 수 있다. 따라서 공정 진행을 위한 웨이퍼를 대기로부터 공정 챔버로 바로 유입하지 않고, 완충적인 역할을 수행하는 로드락 챔버를 통해서 상기 웨이퍼를 공정 챔버로 유입한다. 즉, 상기 로드락 챔버는 공정을 위한 그리고 공정이 완료된 웨이퍼가 대기하는 장소이다.In general, semiconductor manufacturing processes occur at high vacuum. For this reason, maintaining the degree of vacuum is a very important factor in the semiconductor manufacturing process. Therefore, the wafer is introduced into the process chamber through a load lock chamber which performs a buffering role, instead of directly introducing the wafer for process progress from the atmosphere to the process chamber. That is, the load lock chamber is the place where the wafer for the process and the process is completed waits.
상기 로드락 챔버와 상기 공정 챔버 간에는 웨이퍼의 이송을 위한 도어가 있는데, 웨이퍼가 들어오고 나가는 상기 도어를 개폐하기 위하여 상기 로드락 챔버 내에는 슬릿 밸브가 설치되어 있다.There is a door for transferring the wafer between the load lock chamber and the process chamber, and a slit valve is installed in the load lock chamber to open and close the door where the wafer enters and exits.
도 1은 종래의 슬릿 밸브를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing a conventional slit valve.
도 1을 참조하면, 슬릿 밸브(100)는 서포트(140), 축(110), 가압부(120) 및 도어 플레이트(130)로 구성되어 있다.Referring to FIG. 1, the slit valve 100 includes a support 140, a shaft 110, a pressing unit 120, and a door plate 130.
상기 축(110)은 상기 로드락 챔버(미 도시된) 외부에 설치되어 있는 구동부(미 도시된)에 의해 상/하 방향으로 승강한다. 상기 축(110)은 마운팅 플레이트(mounting plate)(132)에 의해 상기 도어 플레이트(130)와 체결된다. 그리고 상기 가압부(120)인 판 스프링은 상기 마운팅 플레이트(132)와 상기 축(110) 사이에 위치하며, 상기 도어 플레이트(130)가 도어(미 도시된)에 밀착되도록 밀어주는 역할을 한다. 상기 서포트(140)는 상기 로드락 챔버 내부 하면에 고정되어서 상기 축(110)이 상/하로 승강할 때 상기 축(110)이 유동되지 않도록 지지하는 역할을 수행한다. 그리고 상기 서포트(140)는 상기 축(110)과 접하는 면에 롤러(142)를 구비하고 있는데, 상기 롤러(142)로 인하여 상기 축(110)이 상/하로 원활히 승강할 수 있도록 한다.The shaft 110 is moved up and down by a driving unit (not shown) installed outside the load lock chamber (not shown). The shaft 110 is fastened to the door plate 130 by a mounting plate 132. The leaf spring, which is the pressing unit 120, is positioned between the mounting plate 132 and the shaft 110 and pushes the door plate 130 to be in close contact with the door (not shown). The support 140 is fixed to the lower surface of the load lock chamber to support the shaft 110 so that the shaft 110 does not flow when the shaft 110 moves up and down. And the support 140 is provided with a roller 142 on the surface in contact with the shaft 110, the roller 142 to allow the shaft 110 to be moved up and down smoothly.
그러나, 상기한 종래의 슬릿 밸브는 다음과 같은 문제점을 가지고 있었다.However, the conventional slit valve described above had the following problems.
먼저, 상기 롤러와 상기 축이 선 접촉을 함으로써, 마찰에 의한 파티클이 많이 발생하고, 상기 롤러의 회전이 불안정하여 상기 롤러나 축이 마모되는 현상이 발생하였다. 다음은, 상기 가압부인 판 스프링의 강도가 약해서 쉽게 끊어지거나 휘어져서 공정 불량을 유발하는 문제점이 있었다.First, a linear contact between the roller and the shaft generates a lot of particles due to friction, and rotation of the roller is unstable, causing wear of the roller or the shaft. Next, there is a problem in that the strength of the leaf spring, which is the pressing portion, is weak and easily broken or bent causing a process defect.
본 발명의 목적은 서포트와 축과의 마찰과 마모에 의한 영향을 줄일 수 있는 슬릿 밸브를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a slit valve that can reduce the effects of friction and wear of the support and the shaft.
본 발명의 또 다른 목적은 쉽게 끊어지거나 휘지않는 가압부를 갖는 슬릿 밸브를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a slit valve having a pressurization portion that is not easily broken or bent.
도 1은 종래의 슬릿 밸브를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a conventional slit valve.
도 2는 본 발명의 슬릿 밸브를 갖는 반도체 제조 장비를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining a semiconductor manufacturing equipment having a slit valve of the present invention.
도 3은 본 발명의 슬릿 밸브를 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a slit valve of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
100 : 슬릿 밸브 110,420 : 축(shaft)100: slit valve 110,420: shaft
120,440 : 가압부 130,450 : 도어 플레이트120,440: Pressing unit 130,450: Door plate
140 : 서포트 142 : 롤러(roller)140: support 142: roller
200 : 로드락 챔버 300 : 공정 챔버200: load lock chamber 300: process chamber
400 : 슬릿 밸브 410 : 서포트400: slit valve 410: support
412 : 베어링 430 : 구동부412: bearing 430: drive part
442 : 블럭 444 : 스프링442: block 444: spring
452 : 마운팅 플레이트 500 : 도어452: mounting plate 500: door
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 로드락 챔버와 공정 챔버 간의 기밀 유지를 위한 슬릿 밸브는 도어 플레이트, 상기 도어 플레이트를 상/하 방향으로 승강시키기 위한 축, 상기 로드락 챔버 내부 하면에 고정되는 그리고 상기 축을 지지하는 서포트 및 상기 도어 플레이트와 상기 축을 연결하는 그리고 상기 도어 플레이트에 밀착을 위한 힘을 제공하는 연결부로 구성된다. 상기 축을 지지하는 상기 서포트는 상기 축과 접하는 면에 상기 축이 상/하방향으로 원활히 승강할 수 있도록 하는 베어링을 구비한다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the slit valve for maintaining the airtight between the load lock chamber and the process chamber is a door plate, a shaft for lifting the door plate in the vertical direction, the load lock chamber inside And a support fixed to the lower surface and supporting the shaft and connecting the door plate and the shaft and providing a force for close contact with the door plate. The support for supporting the shaft is provided with a bearing on the surface in contact with the shaft to smoothly lift the shaft in the vertical direction.
이와 같은 본 발명에서, 상기 로드락 챔버 외부에 설치되는 그리고 상기 축을 상/하 방향으로 구동시키기 위한 구동부를 더 포함하며, 상기 베어링은 상기 축과의 마찰을 최소화하기 위하여 상기 서포트에 복수 개로 설치된다.In the present invention as described above, further includes a drive unit installed outside the load lock chamber and for driving the shaft in the up and down direction, the bearing is provided in plurality in the support to minimize friction with the shaft. .
이와 같은 본 발명에서, 상기 연결부는 상기 도어 플레이트와 연결되는 블럭 과 상기 축과 상기 블럭 사이에 설치되는 그리고 상기 블럭에 압력을 가하고, 충격을 완충하기 위한 스프링으로 이루어진다.In the present invention, the connecting portion is composed of a block connected to the door plate and a spring which is installed between the shaft and the block and pressurizes the block and cushions the impact.
이와 같은 본 발명에서, 상기 스프링은 복수 개로 이루어지는 압축 코일 스프링이고, 상기 공정 챔버는 반도체의 선폭 측정이 이루어지는 챔버이다.In the present invention as described above, the spring is a compression coil spring consisting of a plurality, the process chamber is a chamber in which the line width measurement of the semiconductor is made.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부한 도면 도 2 및 도 3에 의거하여 상세히 설명한다. 또한, 첨부 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 병기한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3. In addition, in the accompanying drawings, the same reference numerals are denoted together for the components that perform the same function.
도 2는 본 발명의 슬릿 밸브를 갖는 반도체 제조 장비를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining a semiconductor manufacturing equipment having a slit valve of the present invention.
도 2를 참조하면, 반도체 제조 공정은 여러 챔버들을 통하여 이루어진다. 도 2는 공정이 이루어지는 공정 챔버(300)와 공정을 위한 대기 장소인 로드락 챔버(200)를 보여준다. 상기 로드락 챔버(200)는 공정을 위한 그리고 공정이 완료된 웨이퍼가 대기하는 장소이다. 특히, 상기 로드락 챔버(200)는 상기 공정챔버(300)의 진공도 유지를 위하여 필수적이다. 즉, 상기 로드락 챔버(200)는 웨이퍼를 상기 공정 챔버(300)로 이송할 때는 진공 상태를 유지하고, 공정이 완료된 웨이퍼를 대기중으로 이송할 때는 대기압 상태를 유지한다. 따라서, 파티클등이 기압 차이에 의하여 상기 로드락 챔버(200)로부터 상기 공정 챔버(300)로 유입되지 못한다. 상기 로드락 챔버(200)와 상기 공정 챔버(300) 사이에는 웨이퍼의 이송을 위한 도어(500)가 설치되어 있다. 그리고 상기 도어(500)의 개폐를 위하여 상기 로드락 챔버(200) 내에는 슬릿 밸브(400)가 설치된다. 상기 슬릿 밸브(400)로 인하여 상기 공정 챔버(300)를 진공으로 유지할 수 있다.Referring to FIG. 2, a semiconductor manufacturing process is performed through several chambers. 2 shows a process chamber 300 in which a process is performed and a load lock chamber 200 which is a waiting place for the process. The load lock chamber 200 is a place where a wafer for processing and processing is completed. In particular, the load lock chamber 200 is essential for maintaining the degree of vacuum of the process chamber 300. That is, the load lock chamber 200 maintains a vacuum state when transferring a wafer to the process chamber 300, and maintains an atmospheric pressure state when transferring a wafer whose process is completed to the atmosphere. Therefore, particles and the like cannot be introduced into the process chamber 300 from the load lock chamber 200 due to the pressure difference. A door 500 for transferring a wafer is installed between the load lock chamber 200 and the process chamber 300. In addition, a slit valve 400 is installed in the load lock chamber 200 to open and close the door 500. The process chamber 300 may be maintained in a vacuum due to the slit valve 400.
상기 슬릿 밸브(400)는 도어 플레이트(450), 축(420), 가압부(440) 및 서포트(410)로 구성된다. 상기 축(420)은 마운팅 플레이트(452)에 의해 상기 도어 플레이트(450)와 연결된다. 상기 축(420)은 상기 로드락 챔버(200) 외부에 설치된 구동부(430)에 의해 상/하 방향으로 승강된다. 상기 축(420)이 상/하 방향으로 승강함에 따라 상기 축(420)과 연결된 상기 도어 플레이트(450)가 상기 도어(500)를 개폐한다. 그리고, 상기 축(420)이 상/하로 승강할 때 상기 축(420)을 지지하기 위한 상기 서포트(410)는 상기 로드락 챔버(200) 내부 하면에 고정된다. 상기 가압부(440)는 상기 축(420)과 상기 마운팅 플레이트(452) 사이에 위치하며, 상기 도어 플레이트(450)에 압력을 가하여 상기 도어 플레이트(450)가 상기 도어(500)에 밀착되도록 한다.The slit valve 400 is composed of a door plate 450, a shaft 420, the pressing unit 440 and the support 410. The shaft 420 is connected to the door plate 450 by a mounting plate 452. The shaft 420 is moved up and down by the driving unit 430 installed outside the load lock chamber 200. As the shaft 420 moves up and down, the door plate 450 connected to the shaft 420 opens and closes the door 500. In addition, when the shaft 420 moves up and down, the support 410 for supporting the shaft 420 is fixed to an inner bottom surface of the load lock chamber 200. The pressing unit 440 is positioned between the shaft 420 and the mounting plate 452, and applies pressure to the door plate 450 so that the door plate 450 is in close contact with the door 500. .
도 3은 본 발명의 슬릿 밸브를 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a slit valve of the present invention.
도 3을 참조하면, 슬릿 밸브(400)는 서포트(410), 축(420), 가압부(440), 마운팅 플레이트(452) 및 도어 플레이트(450)로 구성된다. 구동부(도 2에도시됨)에 의해 상/하로 승강하는 상기 축(420)은 상기 마운팅 플레이트(452)에 의해 상기 도어 플레이트(450)와 연결이 되며, 상기 축(420)과 상기 도어 플레이트(450) 그리고 상기 마운팅 플레이트(452)의 체결은 고정 부재(미 도시된)들에 의해 이루어진다. 따라서, 상기 축(420)의 상/하 승강에 따라 상기 도어 플레이트(450)가 상/하로 승강되며, 이에 따라 도어(도 2에 도시됨)가 개폐된다.Referring to FIG. 3, the slit valve 400 includes a support 410, a shaft 420, a pressing unit 440, a mounting plate 452, and a door plate 450. The shaft 420, which is lifted up and down by a driving unit (shown in FIG. 2), is connected to the door plate 450 by the mounting plate 452, and the shaft 420 and the door plate ( 450 and the mounting plate 452 is fastened by fixing members (not shown). Accordingly, the door plate 450 is lifted up and down in accordance with the up and down lifting of the shaft 420, thereby opening and closing the door (shown in FIG. 2).
상기 가압부(440)는 상기 마운팅 플레이트(452)와 연결되는 블럭(442)과 상기 블럭(442)과 상기 축(420) 사이에 설치되는 스프링(444)으로 이루어진다. 상기 스프링(444)은 상기 블럭(442)에 압력을 가하여 상기 도어에 상기 도어 플레이트(450)가 보다 더 밀착될 수 있도록 한다. 또한, 상기 스프링(444)으로 인하여 상기 도어의 개폐시 발생되는 충격을 완화할 수 있다.The pressing unit 440 is composed of a block 442 connected to the mounting plate 452 and a spring 444 installed between the block 442 and the shaft 420. The spring 444 pressurizes the block 442 to allow the door plate 450 to be in close contact with the door. In addition, the spring 444 can mitigate the impact generated when opening and closing the door.
상기한 가압부(440)가 종래의 판 스프링 대신에 강도가 강한 재질의 블럭(442)을 사용함으로써, 공정 중에 휘거나 끊어지는 것을 방지할 수 있다. 이로 인해, 종래처럼 가압부인 판 스피링이 끊어져서 발생되는 여러가지 문제점을 제거할 수 있다. 즉, 상기 가압부의 교체에 많은 시간이 소요되고, 상기 축이 계속적으로 올라가서 챔버와 부딪치는 문제점을 방지할 수 있다.By using the block 442 made of a material having high strength instead of the conventional leaf spring, the pressing unit 440 may be prevented from bending or breaking during the process. Thus, various problems caused by breaking the plate spring, which is the pressing portion, as in the prior art can be eliminated. That is, it takes a long time to replace the pressurizing portion, it is possible to prevent the problem that the shaft is continuously raised and hit the chamber.
상기 로드락 챔버(도 2에 도시됨) 내부 하면에 고정이 되는 상기 서포트(410)는 상기 축(420)이 상/하로 승강될 때 상기 축(420)을 지지하는 역할을 수행한다. 상기 서포트(410)는 상기 축(420)과 접하는 면에 상/하 승강이 원활히 이루어질 수 있도록 베어링(412)을 구비한다. 상기 베어링(412)으로 인하여 상기축(420)과 상기 서포트(410)는 점 접촉을 하게 되며, 상기 축(420)의 상/하로의 작동이 안정적으로 된다. 이로 인해, 상기 축(420)과 상기 서포트(410) 간의 마찰에 의한 마모와 파티클을 현저히 줄일 수 있다. 상기 베어링(412)은 상기 베어링(412)에 가해지는 힘의 분산을 위하여 복수 개로 이루어지는 것이 바람직하다.The support 410 fixed to an inner bottom surface of the load lock chamber (shown in FIG. 2) serves to support the shaft 420 when the shaft 420 is lifted up and down. The support 410 is provided with a bearing 412 so that the up / down can be smoothly lifted on the surface in contact with the shaft 420. Due to the bearing 412, the shaft 420 and the support 410 is in point contact, the operation of the shaft 420 up and down is stable. Thus, wear and particles due to friction between the shaft 420 and the support 410 can be significantly reduced. The bearing 412 is preferably made of a plurality in order to distribute the force applied to the bearing 412.
본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명의 장치에 대한 다양한 변형 및 변화가 가능하다는 것은 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the apparatus of the present invention without departing from the scope and spirit of the invention.
이와 같은 본 발명에 의하면, 서포트가 축과 접하는 면에 복수 개의 베어링을 구비함으로써, 마찰에 의한 영향을 최대로 줄일 수 있다. 또한, 가압부가 강도가 놓은 재질의 블럭과 상기 블럭에 압력을 가하기 위한 스프링으로 이루어짐으로써, 공정 중에 가압부가 휘거나 끊어지는 현상을 방지할 수 있다.According to the present invention as described above, by providing a plurality of bearings on the surface where the support is in contact with the shaft, the effect of friction can be minimized. In addition, since the pressing portion is made of a block of material having strength and a spring for applying pressure to the block, it is possible to prevent the pressing portion from being bent or broken during the process.
Claims (7)
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020010080491A KR20030050099A (en) | 2001-12-18 | 2001-12-18 | Slit valve for semiconductor fabrication apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=29575874
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Country Status (1)
| Country | Link |
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| KR (1) | KR20030050099A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101158283B1 (en) * | 2011-11-03 | 2012-06-19 | 이프로링크텍(주) | Chamber door which can be auto-aligned |
| KR200470864Y1 (en) * | 2011-12-27 | 2014-01-22 | 이호영 | Chamber door |
-
2001
- 2001-12-18 KR KR1020010080491A patent/KR20030050099A/en not_active Application Discontinuation
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|---|---|---|---|---|
| KR101158283B1 (en) * | 2011-11-03 | 2012-06-19 | 이프로링크텍(주) | Chamber door which can be auto-aligned |
| KR200470864Y1 (en) * | 2011-12-27 | 2014-01-22 | 이호영 | Chamber door |
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