KR20030042875A - Apparatus to expose edge of wafer - Google Patents

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조형석
박영호
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삼성전자주식회사
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Abstract

PURPOSE: A wafer edge exposure apparatus is provided to perform continuously a process by using a couple of light sources, alternately. CONSTITUTION: A couple of lamp modules(10) includes a UV lamp(11) for exposing an edge of a wafer. A switch(20) is connected with the lamp modules by an optical fiber(40). The switch is used for switching the power supplied to the lamp modules. A controller(30) is used for checking the illumination intensity of the UV lamp mounted in the inside of the lamp modules. The controller checks the illumination intensity of the UV lamp by using sensors(12) installed at the lamp modules. The controller is connected with an alarm portion(50) in order to generate an alarm sound when the checked value of the illumination intensity of the UV lamp corresponds to a predetermined value of the illumination intensity.

Description

웨이퍼 에지 노광장치{Apparatus to expose edge of wafer}Wafer edge exposure apparatus {Apparatus to expose edge of wafer}

본 발명은 웨이퍼 에지 노광장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 제조 설비에서 포토 레지스트가 도포된 웨이퍼의 에지부위를 노광하는 웨이퍼 에지 노광용 램프 모듈을 한쌍으로 구비되게 하면서 일측의 램프 수명이 다하면 타측의 램프가 주광원으로 자동으로 대체되면서 램프의 잦은 교체에 따른 공정 중단으로 인한 손실을 최소화할 수 있도록 하는 웨이퍼 에지 노광장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer edge exposure apparatus, and more particularly, to a pair of wafer edge exposure lamp modules for exposing edge portions of a wafer to which photoresist is applied in a semiconductor manufacturing facility, and when the lamp life of one side expires, The present invention relates to a wafer edge exposure apparatus that enables the lamp to be automatically replaced with a main light source, thereby minimizing the loss due to the process interruption caused by frequent lamp replacement.

일반적으로 반도체는 확산설비나 증착설비, 이온주입설비 및 식각설비등과 같은 다양한 공정설비를 통해서 제조된다.In general, semiconductors are manufactured through various process equipment such as diffusion equipment, deposition equipment, ion implantation equipment and etching equipment.

이들 반도체 제조공정 중에서 특히 스피너 설비를 통하면서 웨이퍼에는 포토 레지스트가 도포된다.Among these semiconductor manufacturing processes, a photoresist is apply | coated to a wafer, especially through a spinner installation.

포토 레지스트는 웨이퍼에 미세패턴을 형성하기 위하여 우선 포토 레지스트를 도포하고, 이 포토 레지스트를 필요로 하는 형상으로 패터닝하기 위하여 노광을 수행하게 된다.The photoresist first applies a photoresist to form a fine pattern on the wafer, and then performs exposure in order to pattern the photoresist into a required shape.

이때 웨이퍼의 에지 부위는 전사 노광을 하기 전에 부분적으로 노광을 수행하게 된다.At this time, the edge portion of the wafer is partially exposed before the transfer exposure.

다시말해 전사 노광에 의해서는 웨이퍼에 도포된 포토 레지스트에 균일하게 노광을 수행할 수가 없다.In other words, it is not possible to uniformly expose the photoresist applied to the wafer by transfer exposure.

따라서 노광시 가장 취약한 에지 부위만을 별도로 전사 노광 전에 노광을 수행한다.Therefore, only the edge areas most fragile at the time of exposure are separately exposed before the transfer exposure.

이러한 에지의 노광시 광원은 통상 UV 램프를 사용하게 되는데 UV 램프는 현재 하나만을 사용하고 있다.When exposing the edges, the light source usually uses a UV lamp, which currently uses only one UV lamp.

하지만 UV 램프를 하나만 사용하다 보니 공정을 수행 중 램프의 수명이 다하여 교체하고자 할 때 부득이 공정 수행을 일시 정지시켜야만 하고, 램프를 교체하기 위해서는 최소 30분 이상은 소요되므로 잦은 공정 중단에 따라 생산성 저하의 원인이 되는 단점이 있다.However, since only one UV lamp is used, it is necessary to pause the process when the lamp is running out and the replacement of the lamp is in progress, and at least 30 minutes are required to replace the lamp. There is a disadvantage that causes.

또한 잦은 공정의 중단은 웨이퍼 가공 효율을 저하시키게 되므로서 제품의 품질 저하를 초래하는 문제가 있다.In addition, the frequent interruption of the process lowers the wafer processing efficiency, resulting in a problem of deterioration of the product quality.

따라서 본 발명은 상술한 종래 기술의 단점과 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명은 웨이퍼의 에지를 노광하는 UV 램프를 한쌍으로 구비하면서 일측의 UV 램프의 사용수명이 다하게 되면 자동으로 타측의 UV 램프가 점등되면서 공정이 보다 지속적으로 수행되게 하므로서 생산성이 향상되도록 하는데 주된 목적이 있다.Therefore, the present invention has been invented to solve the above-mentioned disadvantages and problems of the prior art, the present invention is provided with a pair of UV lamps for exposing the edge of the wafer while the other end of the life of the UV lamp is automatically reached when the other end The main purpose is to improve the productivity by allowing the process to be carried out more continuously while the UV lamp is turned on.

또한 본 발명은 웨이퍼의 가공성이 지속적으로 유지되면서 제품의 품질이 더욱 향상되도록 하는데 다른 목적이 있다.In addition, the present invention has another object to further improve the quality of the product while maintaining the processability of the wafer.

도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 에지 노광장치를 개략적으로 도시한 블록도,1 is a block diagram schematically showing a wafer edge exposure apparatus according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 제어순서를 도시한 플로우챠트,2 is a flowchart showing a control procedure according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따라 일측의 UV 램프만이 점등되는 상태를 도시한 블록도,3 is a block diagram illustrating a state in which only one UV lamp is turned on according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따라 양측의 UV 램프가 점등된 상태를 도시한 블록도,4 is a block diagram showing a state in which the UV lamps of both sides are lit in accordance with the present invention,

도 5는 본 발명에 의해 타측의 UV 램프를 주광원으로 사용하게 되는 상태를 도시한 블록도.5 is a block diagram showing a state in which the other UV lamp is used as the main light source according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 램프 모듈 11 : UV 램프10: lamp module 11: UV lamp

12 : 감지수단 20 : 절환기12: sensing means 20: switch

30 : 컨트롤러 40 : 광화이버30 controller 40 optical fiber

50 : 경보수단50: alarm means

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 포토 레지스트가 도포된 웨이퍼를 유도하여 상기 웨이퍼의 에지 부위를 원형으로 노광하는 웨이퍼 에지 노광장치에 있어서, 웨이퍼 에지를 노광하는 UV 램프가 내장되는 한쌍의 램프 모듈과; 상기 램프 모듈들과 광화이버에 의해 연결되면서 각 램프 모듈에의 전원 공급을 단속하는 절환기와; 상기 램프 모듈들내에 내장되는 UV 램프의 조도를 체크하면서 공정 수행이 가능한 일정 조도값과 교체가 필요한 시점의 일정 조도값을 설정값으로 입력되게 하여 상기 절환기를 통해 주광원이 자동으로 교체될 수 있도록 하는 컨트롤러로서 이루어지도록 하는 구성이다.In order to achieve the above object, the present invention provides a wafer edge exposure apparatus that induces a wafer coated with a photoresist and exposes an edge portion of the wafer in a circular manner, wherein a pair of lamp modules having a built-in UV lamp for exposing the wafer edge is provided. and; A switch for controlling power supply to each lamp module while being connected by the lamp modules and an optical fiber; While checking the illuminance of the UV lamps embedded in the lamp modules, a constant illuminance value capable of performing the process and a constant illuminance value at the time of needing replacement are input as set values so that the main light source can be automatically replaced through the switch. It is a configuration to be performed as a controller.

이때 컨트롤러는 체크되는 조도가 설정값에 도달하면 경보수단을 작동토록 한다.At this time, the controller operates the alarm means when the illuminance checked reaches the set value.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명은 스피너 설비를 거치면서 포토 레지스트가 도포된 웨이퍼의 에지 부위 노광 공정을 램프 교체로 인해 중단되지 않고 지속적으로 수행될 수 있도록 하기 위한 것이다.The present invention is intended to allow the edge area exposure process of the photoresist-coated wafer through the spinner facility to be continuously performed without interruption due to lamp replacement.

이를 위해서 본 발명에서는 광원인 UV 램프를 내장한 램프 모듈을 한쌍으로 구비되도록 하는데 가장 두드러진 특징이 있다.To this end, the present invention has the most prominent feature of having a pair of lamp modules with a built-in UV lamp as a light source.

도 1은 본 발명에 따른 램프의 제어 구성을 도시한 블록도이다.1 is a block diagram showing a control configuration of a lamp according to the present invention.

도시된 바와같이 본 발명에서는 웨이퍼 에지의 노광을 위한 광원으로서 한쌍의 UV 램프(11)를 구비한다.As shown, the present invention includes a pair of UV lamps 11 as a light source for exposing the wafer edges.

이때의 UV 램프(11)는 각각 램프 모듈(10a)(10b)내에 구비되며, 각 램프 모듈(10a)(10b)에는 UV 램프(11)의 조도를 감지하는 감지수단(12)이 구비된다.In this case, the UV lamps 11 are provided in the lamp modules 10a and 10b, respectively, and each lamp module 10a and 10b is provided with a sensing means 12 for detecting the illuminance of the UV lamp 11.

즉 램프 모듈(10)내에는 UV 램프(11)와 함께 각 UV 램프(11)의 조도를 감지하는 감지수단(12)이 동시에 구비되도록 한다.That is, the lamp module 10 is provided with a detection means 12 for detecting the illuminance of each UV lamp 11 together with the UV lamp 11 at the same time.

이러한 각각의 램프 모듈(10a)(10b)은 절환기(20)에 광화이버(40)에 의해서 연결된다.Each of these lamp modules 10a and 10b is connected to the switch 20 by an optical fiber 40.

절환기(20)는 각 램프 모듈(10a)(10b)내의 UV 램프(11)의 점등과 소등을 단속하게 되는 스위칭 수단이다.The switch 20 is switching means which intermittently turns on and off the UV lamp 11 in each lamp module 10a, 10b.

한편 절환기(20)는 컨트롤러(30)와 다시 광화이버(40)에 의해서 연결한다.On the other hand, the switch 20 is connected to the controller 30 and the optical fiber 40 again.

컨트롤러(30)는 각 램프 모듈(10a)(10b) 내의 UV 램프(11)의 점등과 소등을 실질적으로 제어하는 부위이다.The controller 30 is a portion that substantially controls the lighting and turning off of the UV lamps 11 in the lamp modules 10a and 10b.

다시말해 컨트롤러(30)는 각 UV 램프(11)가 점등되어 있는 상태에서의 조도를 감지하면서 공정 수행이 가능해지는 조도와 공정 수행이 저하되는 조도의 조도값이 입력되어 있다.In other words, the controller 30 inputs illuminance values of illuminance in which the process can be performed and illuminance in which the process is lowered while detecting illuminance in a state where each UV lamp 11 is turned on.

즉 UV 램프(11)가 점등되더라도 실제 공정 수행에 필요한 상태가 되기 위해서는 일정 시간이 소요되므로 그와같은 상태가 될때의 조도값이 컨트롤러(30)에 기준값으로 입력되도록 하고, 그와 동시에 점등 상태에서 UV 램프(11)가 사용 수명이 다하거나 자체적인 결함에 의해 조도가 저하되기도 하므로 공정 수행에 적절한 조도값 이하로 떨어지게 될 때의 조도값이 컨트롤러(30)에 기준값으로 입력되도록 하는 것이다.That is, even if the UV lamp 11 is turned on, it takes a certain time to become a state necessary for performing the actual process, so that the illuminance value at such a state is input to the controller 30 as a reference value, and at the same time, Since the illumination intensity of the UV lamp 11 is at the end of its service life or due to its own defects, the illumination value when the UV lamp 11 falls below an illumination value suitable for performing a process is input to the controller 30 as a reference value.

한편 컨트롤러(30)에는 경보수단(50)이 구비되게 하여 기입력된 조도값을 체크시 이를 작업자가 알 수 있도록 버저나 램프등을 작동시킨다.On the other hand, the controller 30 is provided with an alarm means 50 to operate the buzzer or lamp so that the operator can know when checking the previously input illuminance value.

상기한 구성에 따른 본 발명의 작용을 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 2 the operation of the present invention according to the above configuration is as follows.

본 발명은 우선 도 3에서와 같이 한쌍의 램프 모듈(10a)(10b) 중 일측의 램프 모듈(10a)로만 전원이 인가되면서 그 내측의 UV 램프(11)가 주광원으로 사용되도록 한다.In the present invention, as shown in FIG. 3, only the lamp module 10a of one side of the pair of lamp modules 10a and 10b is applied to power the UV lamp 11 inside thereof as a main light source.

이와같은 상태에서 주광원으로 사용되는 UV 램프(11)는 사용 수명이 가까워지거나 자체 결함에 의해서 점차 조도가 떨어지게 되는데 이러한 UV 램프(11)의 조도를 지속적으로 컨트롤러(30)가 체크하면서 체크되는 조도값이 컨트롤러(30)에 기입력된 조도값보다 같거나 작아지게 되면 타측의 램프 모듈(10b)에 전원을 인가하여 그 내측의 UV 램프(11)가 점등되도록 한다.In such a state, the UV lamp 11 used as the main light source has a decreasing lifetime due to a near service life or its own defect. The illumination intensity of the UV lamp 11 is checked while the controller 30 continuously checks the illumination of the UV lamp 11. When the value becomes equal to or smaller than the illuminance value previously input to the controller 30, power is applied to the lamp module 10b on the other side so that the UV lamp 11 inside thereof is turned on.

따라서 도 4에서와 같이 주광원으로 사용되던 일측의 UV 램프(11)와 함께 타측의 UV 램프(11)도 동시에 점등되는 상태가 유지된다.Therefore, as shown in FIG. 4, the UV lamp 11 on the other side is kept lit at the same time along with the UV lamp 11 on the one side used as the main light source.

이때 새롭게 점등된 타측의 UV 램프(11)는 공정 수행에 필요한 상태가 되기까지는 일정 시간이 소요되므로 동시 점등상태가 유지되게 한 상태에서 기점등되어 있던 일측의 UV 램프(11)가 주광원으로 작용하도록 한다.At this time, the other UV lamp 11 that is newly turned on takes a certain time to become a state necessary for performing a process, and thus the UV lamp 11 of one side that is turned on as the main light source is maintained in a state where the simultaneous lighting state is maintained. Do it.

양측의 UV 램프(11)가 점등되어 있는 상태에서 일정 시간이 지나 타측의 UV 램프(11)로부터 조도를 지속적으로 체크하여 체크되는 조도값이 컨트롤러(30)에 기입력되어 있는 조도값보다 같거나 크게 체크되면 도 5에서와 같이 조도가 저하되던 일측의 UV 램프(11)로의 전원 공급을 중단시켜 소등상태가 되도록 한다.After a certain period of time while the UV lamps 11 on both sides are turned on, the illuminance value checked by continuously checking the illuminance from the other UV lamp 11 is equal to or greater than the illuminance value previously input to the controller 30. If large check, as shown in Figure 5 to stop the power supply to the UV lamp 11 of the one where the illuminance is lowered to be turned off.

따라서 나중에 점등된 타측의 UV 램프(11)만이 점등상태가 유지되면서 공정 수행의 주광원으로 사용하게 된다.Therefore, only the other UV lamp 11 which is turned on later is used as the main light source of the process while the lighting state is maintained.

이때 사용 수명이 다된 이미 소등된 일측의 UV 램프(11)는 새로운 램프로서교체한다.At this time, the UV lamp 11 on one side that is already turned off when the service life is over is replaced with a new lamp.

이후는 일측의 UV 램프(11)가 점등된 상태에서 점등된 UV 램프(11)로부터 조도를 체크하는 최초의 단계로 리턴하면서 전기한 작용을 반복 수행한다.Thereafter, the above-described action is repeatedly performed while returning to the first step of checking the illuminance from the lit UV lamp 11 while the UV lamp 11 on one side is turned on.

이와같은 방식으로 UV 램프(11)를 유지하게 되면 웨이퍼의 에지 부위 노광을 위한 공정 수행이 전혀 중단되지 않고 지속적으로 수행될 수가 있게 된다.By maintaining the UV lamp 11 in this manner, the process for exposing the wafer edge portion can be continuously performed without interruption at all.

즉 각 램프 모듈(10a)(10b)을 번갈아 점등시키면서 웨이퍼 에지 노광에 필요한 광원을 지속적으로 공급할 수가 있게 되므로 공정이 중도에 중지되는 사례를 미연에 방지할 수가 있게 되는 것이다.That is, it is possible to continuously supply a light source for wafer edge exposure while lighting each lamp module 10a, 10b alternately, thereby preventing the case where the process is stopped midway.

특히 이러한 지속적인 공정 수행은 종전과 같은 웨이퍼 가공 중 설비 구동이 중도에 정지되는 경우를 방지하면서 웨이퍼 불량을 방지하게 되는 동시에 역으로 보다 웨이퍼의 가공 효율을 증대시키게 되므로 제품의 품질이 향상된다.In particular, such continuous process performance prevents wafer defects while preventing facility stoppages during the conventional wafer processing, and conversely, improves the processing efficiency of the wafer, thereby improving product quality.

또한 공정이 지속적으로 수행되면서 단위 시간당 제품 가공수가 많아지므로 생산 효율이 향상된다.In addition, as the process continues, the number of products processed per unit time increases, which increases production efficiency.

한편 상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다는 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다.On the other hand, while many matters have been described in detail in the above description, they should be construed as illustrative of preferred embodiments rather than to limit the scope of the invention.

따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be defined by the described embodiments, but should be determined by the technical spirit described in the claims.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 포토 레지스트가 도포된 웨이퍼의 에지 부위를 노광하는 공정에서 광원을 한쌍으로 구비하되 공정 수행이 중단됨없이 자동으로 한쌍의 광원이 교차하면서 주광원으로 사용되도록 하여 공정 수행이 지속적으로 수행될 수가 있게 된다.As described above, according to the present invention, a pair of light sources are provided in a process of exposing an edge portion of a photoresist-coated wafer, but the process is performed by automatically crossing a pair of light sources without interrupting the process. It can be run continuously.

공정 수행이 중단되지 않고 지속적으로 수행됨에 따라 결국 제품의 생산성이 대폭 향상되는 동시에 공정 수행시 웨이퍼의 가공 불량을 방지하게 되므로 제품의 품질이 향상되는 매우 유용한 효과가 있다.As the process is continuously performed without interruption, the productivity of the product is greatly improved, and thus the processing quality of the wafer is prevented during the process, thereby improving the quality of the product.

Claims (3)

포토 레지스트가 도포된 웨이퍼를 유도하여 상기 웨이퍼의 에지 부위를 원형으로 노광하는 웨이퍼 에지 노광장치에 있어서,A wafer edge exposure apparatus for guiding a wafer coated with photoresist and exposing an edge portion of the wafer in a circular manner, 웨이퍼 에지를 노광하는 UV 램프(11)가 내장되는 한쌍의 램프 모듈(10)과;A pair of lamp modules 10 in which a UV lamp 11 for exposing a wafer edge is embedded; 상기 램프 모듈(10)들과 광화이버(40)에 의해 연결되면서 각 램프 모듈(10)에의 전원 공급을 단속하는 절환기(20)와;A switch 20 connected to the lamp modules 10 and the optical fiber 40 to interrupt power supply to each lamp module 10; 상기 램프 모듈(10)들내에 내장되는 UV 램프(11)의 조도를 체크하면서 공정 수행이 가능한 일정 조도값과 교체가 필요한 시점의 일정 조도값을 설정값으로 입력되게 하여 상기 절환기(20)를 통해 주광원이 자동으로 교체될 수 있도록 하는 컨트롤러(30);While checking the illuminance of the UV lamp 11 embedded in the lamp modules 10, the switch 20 is input by setting a constant illuminance value capable of performing the process and a constant illuminance value at the time of needing replacement as a set value. A controller 30 for allowing the main light source to be automatically replaced; 로서 구비되는 웨이퍼 에지 노광장치.Wafer edge exposure apparatus provided as. 제 1 항에 있어서, 상기 컨트롤러(30)는 각 램프 모듈(10)에 구비되는 감지수단(12)을 통해 각 UV 램프(11)의 조도를 체크하는 웨이퍼 에지 노광장치.The wafer edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the controller (30) checks the illuminance of each UV lamp (11) through sensing means (12) provided in each lamp module (10). 제 1 항에 있어서, 상기 컨트롤러(30)는 체크되는 UV 램프(11)의 조도가 기입력된 조도값의 조건과 일치하는 경우 이를 경고하는 경보수단(50)이 연결되는 웨이퍼 에지 노광장치.The wafer edge exposure apparatus according to claim 1, wherein the controller (30) is connected with an alarm means (50) which warns when the illuminance of the checked UV lamp (11) matches the condition of the previously input illuminance value.
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