KR100219415B1

KR100219415B1 - Inside illumination system of wafer exposure apparatus

Info

Publication number: KR100219415B1
Application number: KR1019960022651A
Authority: KR
Inventors: 박순종; 이충재
Original assignee: 윤종용; 삼성전자주식회사
Priority date: 1996-06-20
Filing date: 1996-06-20
Publication date: 1999-09-01
Also published as: KR980003853A

Abstract

설비의 내부를 유지 및 보수하기 위한 작업에 필요한 조명을 확보하고 웨이퍼가 스테이지 상에 존재하거나 노광공정이 진행되는 중에는 조명의 사용을 방지하도록 개선시킨 웨이퍼 노광설비의 내부 조명장치에 관한 것이다. 본 발명은 스테이지 상에 웨이퍼를 위치시켜서 노광시키는 웨이퍼 노광설비에 있어서, 설비 내부의 조명을 위하여 장착되는 라이트, 상기 라이트를 온오프시키기 위한 스위치, 스테이지 상의 웨이퍼 유무에 따라 하이/로우 레벨로 인가되는 제1신호와 노광공정 진행 여부에 따라 하이/로우 ㄹ벨로 인가되는 제2신호를 논리조합하는 제1논리 조합수단, 상기 제1논리 조합수단의 출력이 스테이지 상에 웨이퍼가 없고 공정진행이 없음에 따른 상태이고 상기 스위치가 턴온상태이면 상기 라이트를 구동시키기 위한 제3신호를 출력하는 제2논리 조합수단 및 상기 라이트를 구동시키기 위한 제3신호가 입력되면 상기 라이트를 발광시키는 라이트 구동부를 구비하여 이루어진다. 따라서, 노광설비의 점검 및 보수 작업과 같이 내부에서 이루어지는 작업들의 작업능률이 극대화될 수 있으며, 설비의 파손이 방지되어 설비 가동율을 개선시키는 효과가 있다.To an internal illumination device of a wafer exposure facility which is improved to secure the necessary illumination for maintenance and repair of the interior of the facility and to prevent the use of illumination while the wafer is on the stage or during the exposure process. The present invention relates to a wafer exposure apparatus for exposing a wafer on a stage by exposing the wafer by placing the wafer on a stage. The wafer exposure apparatus includes a light source for illuminating the interior of the facility, a switch for turning the light on and off, A first logic combination means for logically combining a first signal and a second signal to be applied to the high / low bands according to whether or not the exposure process is proceeded; and an output of the first logic combination means having no wafer on the stage, A second logic combination means for outputting a third signal for driving the light when the switch is in a turned-on state, and a light driver for emitting the light when a third signal for driving the light is input . Therefore, it is possible to maximize the work efficiency of the internal work such as the inspection and maintenance work of the exposure facility, and to prevent the breakage of the facility, thereby improving the facility operation rate.

Description

Internal illumination device of wafer exposure equipment

본 발명은 웨이퍼 노광설비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 설비의 내부를 유지 및 보수하기 위한 작업에 필요한 조명을 확보하고 웨이퍼가 스테이지 상에 존재하거나 노광공정이 진행되는 중에는 조명의 사용을 방지하도록 개선시킨 에이퍼 노광설비의 내부 조명장칭 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer exposure facility, and more particularly, to a wafer exposure facility that secures the necessary illumination for maintenance and repair of the inside of a facility, and improves the use of the illumination while the wafer is on the stage, The present invention relates to an internal illumination device of an apex exposure facility.

통상, 반도체장치를 제조하기 위한 웨이퍼는 세정, 확산, 포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 식각 및 이온주입 등과 같은 공정을 반복하여 거치게 되며, 이들 과정별로 해당 공정을 수행하기 위한 설비가 사용된다.Typically, wafers for manufacturing semiconductor devices are subjected to repeated processes such as cleaning, diffusion, photoresist coating, exposure, development, etching, ion implantation, and the like, and facilities for performing the respective processes are used for these processes.

그 중 노광설비는 광원으로부터 주사되는 광으로 웨이퍼 상에 코팅된 포토레지스트를 감광시켜서 후속되는 현상 및 식각공정을 거쳐 웨이퍼 원하는 패턴을 형성토록 하는 것이다. 이러한 노광설비(일명 스테이퍼(Stepper)라고도 함)는 내부에 모터, 스테이지 및 웨이퍼 이송장치와 같은 각종 장치가 구성되어 있으며, 이들 장치는 정기적인 점검 및 보수 작업을 필요로 한다. 또한, 정기적으로 스테이지 상의 파티클(particle) 제거작업을 수행하여야 한다. 그러나, 종래의 노광설비는 내부에 조명용 라이트가 없어서 작업을 위한 조명을 확보할 수 없었다.Among them, the exposure facility exposes the photoresist coated on the wafer with the light to be scanned from the light source to form a desired pattern of the wafer through a subsequent development and etching process. Such an exposure apparatus (also referred to as a stepper) includes various apparatuses such as a motor, a stage, and a wafer transfer apparatus, and these apparatuses require periodic inspection and maintenance work. In addition, it is necessary to regularly perform particle removal on the stage. However, in the conventional exposure facility, there is no illumination light in the interior, so that illumination for work can not be ensured.

그러므로 점검 및 보수 작업이 상당히 어두운 상태 또는 손전등을 든상태에서 수행되었으므로 작업에 불편함이 있었고, 특히 고정밀도를 요구하는 작업은 상당한 어려움이 있었다. 또한, 점검 및 보수 작업 중에 다른 설비와 접촉하거나 혹은 비숙련공의 미숙한 점검 및 보수로 인하여 내부 장치의 파손이 자주 발생되어 설비의 가동율이 저하되는 문제점이 있었다.Therefore, the inspection and repair work was performed in a dark state or in a state in which a flashlight was applied, which made the work inconvenient, and in particular, the work requiring high precision was considerably difficult. In addition, there has been a problem that the internal equipment is frequently damaged due to inadequate inspection and maintenance of non-skilled workers in contact with other equipment during the inspection and maintenance work, and the operation rate of equipment is lowered.

본 발명의 목적은, 내부에 조명을 제공할 수 있도록 라이트를 구성하여 정확한 점검 및 보수작업을 할 수 있도록 하는 한편, 스테이지 상에 웨이퍼가 있거나 공정 중인 경우 조명을 방지하여 조명으로 인한 피해를 줄일 수 있도록 하는 웨이퍼 노광설비의 내부 조명장치를 제공하는 있다.It is an object of the present invention to provide a light control apparatus and a light control apparatus which can constitute a light so as to provide illumination to the inside of the apparatus so as to perform accurate checking and repairing work while reducing damage caused by illumination by preventing illumination when a wafer is on the stage, To provide an internal illumination device of a wafer exposure facility.

제 1도는 본 발명에 따른 웨이퍼 노광설비의 내부 조명장치의 실시예를 나타내는 도면이다.FIG. 1 is a view showing an embodiment of an internal illumination device of a wafer exposure facility according to the present invention.

제 2도는 실시예의 상세 회로도이다.2 is a detailed circuit diagram of the embodiment.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Description of the Related Art [0002]

10 : 콘덴스렌즈 12 : 렌즈10: Condens lens 12: Lens

14 : 레티클 16 : 스테이지14: reticle 16: stage

18 : 홀더 20 : 모터18: holder 20: motor

22 : 스크류 24, 26, 28, 32, 34 : 라이트22: screw 24, 26, 28, 32, 34: light

30 : 연결부 36, 38 : 라이트 구동부30: connection part 36, 38: light drive part

40, 42 : 앤드게이트 44, 46 : 스위치40, 42: AND gate 44, 46: switch

48 : 인버터 50 : 오아게이트48: inverter 50:

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 노광설비의 내부 조명장치는, 스테이지 상에 웨이퍼를 위치시켜서 노광시키는 웨이퍼 노광설비에 있어서, 설비 내부의 조명을 위하여 장착되는 제1라이트, 상기 제1라이트를 온오프시키기 위한 제1스위치, 상기 스테이지 상의 웨이퍼 유무에 따라 하이/로우 레벨로 인가되는 제1신호와 노광공정 진행 여부에 따라 하이/로우 레벨로 인가되는 제2신호를 논리조합하는 제1논리 조합수단, 상기 제1논리 조합수단의 출력이 스테이지 상에 웨이퍼가 없고 공정진행이 없음에 따른 상태이고 상기 제1스위치가 턴온상태이면 상기 제1라이트를 구동시키기 위한 제3신호를 출력하는 제2논리 조합수단 및 상기 제1라이트를 구동시키기 위한 제3신호가 입력되면 상기 제1라이트를 발광시키는 제1라이트 구동부를 구비하여 이루어진다.According to an aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for exposing a wafer by placing a wafer on a stage. The wafer exposure apparatus includes a first light mounted for illumination inside the apparatus, A first switch for turning on / off the first signal, a first switch for logically combining a first signal applied at a high / low level in accordance with the presence or absence of a wafer on the stage and a second signal applied at a high / Outputting a third signal for driving the first light when the output of the first logic combination means is in a state in which there is no wafer on the stage and no process is progressing and the first switch is in the on state, And a first light driver for causing the first light to emit light when a third signal for driving the first light is input Than it has done.

그리고, 상기 제1논리 조합수단은 상기 제1신호와 상기 제2신호를 논리합하는 오아(OR) 게이트를 포함하여 구성됨이 바람직하고, 오아 게이트의 출력단에는 인버터가 연결될 수 있다.Preferably, the first logic combination means includes an OR gate for performing a logical OR of the first signal and the second signal, and an inverter may be connected to the output terminal of the OR gate.

그리고, 상기 제2논리조합수단은 상기 인버터를 통한 오아게이트의 출력과 상기 제1스위치의 스위칭신호를 논리곱하는 앤드(AND) 게이트를 포함여 구성됨이 바람직하다.The second logic combination means preferably comprises an AND gate for logically multiplying the output of the gate through the inverter and the switching signal of the first switch.

그리고, 상기 스테이지에 인접대향하여 상기 스테이지 상부를 조명하도록 연결부에 의하여 고정장칙된 제2라이트, 상기 제2라이트를 온오프시키기 위한 제2스위치, 상기 제1논리 조합수단의 출력이 스테이지 상에 웨이퍼가 없고 공정진행이 없음에 따른 상태이고 상기 제2스위치가 턴온상태이면 상기 제2라이트를 구동시키기 위한 제4신호를 출력하는 제3논리 조합수단 및 상기 제2라이트를 구동시키기 위한 제4신호가 입력되면 상기 제2라이트를 발광시키는 제2라이트 구동부를 더 구비하여 이루어짐이 바람직하다.A second switch for turning on and off the second light, a second switch for turning on and off the second light, a second switch for turning on and off the second light, A third logic combination means for outputting a fourth signal for driving the second light when the second switch is in a turned-on state in the absence of a wafer and no process progress, and a fourth logic combination means for outputting a fourth signal for driving the second light And a second light driver for causing the second light to emit light when the first light is inputted.

여기에서 상기 연결부는 굴곡이 자유롭고 굴곡된 형상을 유지하는 재질로 이루어질 수 있다.Here, the connection portion may be made of a material which is free to bend and maintain a bent shape.

도 1을 참조하면, 노광설비는 콘덴스렌즈(10)(condens lens)와 렌즈(12) 사이에 레티클(14)(reticle)이 위치하도록 구성되고, 콘덴스렌즈(10)와 렌즈(12) 및 레티클(14)을 통과한 빛이 스테이지(16)(stage) 상부의 홀더(18)(holder)에 장착되는 웨이퍼(도시되지 않음)로 주사되도록 구성되어 있으며, 스테이지(16)의 일측면에 스크류(22)(screww)에 의해 연결된 모터(20)와 스테이지(16)의 다른 일측면에 미도시된 스크류에 의해 연결된 모터에 의해 스테이지(16)의 X축, Y축 방향에 대한 웨이퍼의 정력을 수행하도록 구성되어 있다.1, the exposure system is configured such that a reticle 14 is positioned between a condens lens 10 and a lens 12, and a condenser lens 10 and a lens 12 And the reticle 14 are scanned by a wafer (not shown) mounted on a holder 18 on a stage 16, The tilting of the wafer with respect to the X-axis and Y-axis directions of the stage 16 by the motor 20 connected by the screw 22 and the motor connected by the screw not shown on the other side of the stage 16 As shown in FIG.

가되어 각축 방향에 대한 웨이퍼의 정렬을 수행하도록 구성되어 있다.So as to perform alignment of the wafer with respect to each axis direction.

이와 같이 구성된 노광설비에 본 발명에 따른 실시예로 내부 조명을 위한 라이트(24, 26)가 각각 설치되어 있고 또 스테이지(16)를 조명하기 위한 라이트(28)가 연결부(30)에 고정되어 설치되어 있다. 연결부(30)는 조명방향을 가변설정하기 위한 굴곡이 자유롭고 또 굴곡된 형상을 유지하는 재질로 제작된다.Light 24 for internal illumination is provided in each of the exposure apparatuses according to the embodiment of the present invention and light 28 for illuminating the stage 16 is fixed to the connection unit 30 . The connecting portion 30 is made of a material which is flexible and free to bend to set the illumination direction variably.

그리고, 이들 라이트(24, 26, 28)를 구동하기 위한 상세회로가 제2도에 나타나 있다. 도1에서 라이트(24, 26)는 도2에서 라이트(32)로 도시되어 있으며, 도1에서 라이트(28)는 도2에서 라이트(34)로 도시되어 있다.A detailed circuit for driving these lights 24, 26, and 28 is shown in FIG. In FIG. 1, lights 24 and 26 are shown as lights 32 in FIG. 2, and light 28 in FIG. 1 is shown as light 34 in FIG.

라이트(32) 및 라이트(34)에는 라이트 구동부(36, 38)가 각각 전류를 공급하도록 연결되어 있으며, 각 라이트 구동부(36, 38)는 앤드게이트(40, 42)로부터 인가되는 구동제어신호의 상태에 따라 라이트(32, 34)의 발광을 조절하도록 구성되어 있다.The write drivers 32 and 34 are connected to the write drivers 36 and 38 to supply current to the write drivers 36 and 38. The write drivers 36 and 38 receive the drive control signals And controls the light emission of the lights 32 and 34 according to the state.

두 앤드게이트(40, 42)의 한 입력단은 정전압(Vcc)을 수위칭하는 스위치(44, 46)에 각각 연결되어 있으며, 다른 한 입력단은 공통으로 인버터(48)의 출력단에 연결되어 있다. 그리고, 인버터(48)는 오아게이트(50)의 출력을 반전출력하며, 오아게이트(50)는 스테이지(16) 상의 웨이퍼 유무를 센싱한 신호와 공정진행여부를 체크한 신호가 인가되도록 구성되어 있다.One input terminal of each of the two end gates 40 and 42 is connected to the switches 44 and 46 which respectively hold the constant voltage Vcc and the other input terminal is commonly connected to the output terminal of the inverter 48. The inverter 48 inverts the output of the OR gate 50 and the OR gate 50 is configured to apply a signal that senses the presence or absence of a wafer on the stage 16 and a signal that checks whether the process is proceeding .

전술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 실시예의 작용 및 효과에 대하여 설명한다.The operation and effect of the embodiment according to the present invention constructed as described above will be described.

웨이퍼가 스테이지(16)상에 장착된 상태 또는 공정이 진행중인 상태에서 각 라이트(32, 34)가 발광되면 공정에 영향을 미치게 되므로 이를 방지하기 위하여 오아게이트(50)를 포함하여 실시예가 구성되어 있다.When the light is emitted in the state where the wafer is mounted on the stage 16 or the process is in progress, the process is influenced by the light, so that the embodiment includes the O gate 50 .

즉, 웨이퍼가 스테이지(16) 상에 위치한 상태 또는 공정 진행 중인 상태에서는 각 라이트(32, 34)가 발광되지 않도록 둘 중 어느 한 상태를 감지하여 오아 게이트(50)의 입력단으로 하이레벨의 신호가 입력되면, 오아 게이트(50)는 하이레벨의 출력을 인버터(48)로 인가한다. 그러면 인버터(48)는 하이레벨의 입력신호를 로우레벨로 변환하여 각 앤드게이트(40, 42)로 인가하고, 각 앤드게이트(40, 42)는 각 스위치(44, 46)의 절환상태에 상관없이 출력을 로우레벨로 하여 각 라이트 구동부(36, 38)의 구동을 중지시킨다.That is, in a state where the wafer is placed on the stage 16 or the process is in progress, a high level signal is detected at the input terminal of the O gate 50 by detecting any one of the states of the lights 32 and 34 When input, the gate 50 applies a high-level output to the inverter 48. The inverter 48 then converts the high level input signal to a low level and applies it to each of the AND gates 40 and 42. The AND gates 40 and 42 are connected to the switches 44 and 46, So that the output of each of the write drivers 36 and 38 is stopped at a low level.

따라서, 전술한 스테이지 상에 웨이퍼가 위치해 있거나 공정이 진행 중인 상태에서는 라이트가 발광되지 않는다. 즉 본 발명에 따른 실시예는 이중으로 안전장치가 구성된 상태이다.Therefore, the light is not emitted in the state where the wafer is placed on the above-described stage or the process is in progress. That is, in the embodiment according to the present invention, a safety device is constructed in a double state.

그리고, 스테이지 상에 웨이퍼가 위치하지 않고 또 공정진행 중이 아니면 작업자가 내부 설비의 유지보수 또는 청소를 위해서 어느 한 스위치(44, 46)를 켜면 각 앤드게이트(40, 42)의 입력단에는 모두 하이레벨이 인가되므로 앤드게이트(40, 42)는 라이트 구동부(36, 38)로 하이레벨의 구동제어 신호를 출력하고, 그러면 라이트 구동부(36, 38)로부터 라이트(32, 34)로 전규가 인가되므로 라이트(32, 34)는 발광한다.When the wafer is not positioned on the stage and the process is not in progress, if the operator turns on any one of the switches 44 and 46 for maintenance or cleaning of the internal equipment, the input terminals of the AND gates 40 and 42 are all set to the high level The AND gates 40 and 42 output the drive control signals of the high level to the write drivers 36 and 38 and the electric power is supplied from the write drivers 36 and 38 to the lights 32 and 34. Therefore, (32, 34) emits light.

그리고, 작업자의 실수로 스위치(44, 46)를 턴온시킨 상태에서 공정을 진행하거나 웨이퍼를 스테이지(1) 상에 장착시키더라도 이것이 자동으로 센싱되어 라이트 구동부(36, 38)의 라이트(32, 34) 구동이 중지된다.Even if the process is carried out with the switches 44 and 46 turned on by the operator in error or the wafer is mounted on the stage 1, this is automatically sensed and the lights 32 and 34 of the light drivers 36 and 38 The driving is stopped.

라이트는 둘 또는 셋 이상 필요한 수로 필요한 장소에 설치될 수 있으며, 이들 중 특히 웨이퍼가 장착되는 스테이지를 조명하기 위한 라이트는 광의 직진성이 좋은 것으로 구성하여야 스테이지 상부의 파티클 제거작업을 용이하게 수행할 수 있다.The light may be installed at a required number of two or more of the required number of the light. The light for illuminating the stage on which the wafer is mounted may be structured so as to have a good linearity of light, .

즉, 본 발명의 실시예는 노광설비 내부를 점검 및 보수하거나 청소하는 경우 라이트에 의한 조명을 제공할 수 있다. 따라서 내부 점검 및 보수 작업이 밝은 조명상태에서 이루어질 수 있으므로 작업성이 향상되고, 특히 고정밀도를 요구하는 클리닝(Cleaning) 및 그리스-업(Grease-up) 작업이 용이하게 수행될 수 있다.That is, embodiments of the present invention can provide illumination by light when inspecting, repairing, or cleaning the inside of an exposure facility. Accordingly, since the internal inspection and maintenance work can be performed in a bright illumination state, the workability is improved, and cleaning and grease-up work requiring particularly high accuracy can be easily performed.

따라서, 본 발명에 의하면 노광설비의 점검 및 보수 작업과 같이 내부에서 이루어지는 작업들의 작업능률이 극대화될 수 있으며, 설비의 파손이 방지되어 설비 가동율을 개선시키는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to maximize the work efficiency of the internal work such as inspection and maintenance work of the exposure facility, prevent damage to the facility, and improve the facility operation rate.

이상에서 본 발명은 기대된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. .

Claims

1. A wafer exposure facility for placing a wafer on a stage and exposing the wafer, comprising: a first light mounted for illumination inside the facility;

A first switch for turning on and off the first light;

First logic combination means for logically combining a first signal applied at a high / low level in accordance with the presence or absence of a wafer on the stage and a second signal applied at a high / low level according to whether an exposure process progresses;

And a second logic combination for outputting a third signal for driving the first light when the first switch is in a turned-on state, the output of the first logic combination means being in a state in which there is no wafer on the stage and no process proceeds, Way; And

A first light driver for emitting the first light when a third signal for driving the first light is input;

And an illumination unit for illuminating the wafer.

The method according to claim 1,

Wherein the first logic combination means includes an OR gate for performing a logical OR of the first signal and the second signal.

3. The method of claim 2,

And an inverter is connected to the output terminal of the gate.

(Correction) The method according to claim 1,

Wherein the second logic combination means comprises an AND gate for logically multiplying the output of the gate through the inverter and the switching signal of the first switch.

The method according to claim 1,

A second light fixedly mounted by a connecting portion to illuminate an upper portion of the stage in a direction opposite to the stage;

A second switch for turning on and off the second light;

And a third logic combination for outputting a fourth signal for driving the second light when the second switch is in a turned-on state, the output of the first logic combination means being in a state in which there is no wafer on the stage and no process progress, Way; And

A second light driver for emitting the second light when a fourth signal for driving the second light is input;

Further comprising: a light source for illuminating the wafer;

6. The method of claim 5,

Wherein the connecting portion is made of a material which is flexible and free from curved shape.