KR20030020657A - 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비 - Google Patents

스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR20030020657A
KR20030020657A KR1020010054074A KR20010054074A KR20030020657A KR 20030020657 A KR20030020657 A KR 20030020657A KR 1020010054074 A KR1020010054074 A KR 1020010054074A KR 20010054074 A KR20010054074 A KR 20010054074A KR 20030020657 A KR20030020657 A KR 20030020657A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
load lock
lock chamber
lift shaft
storage elevator
vapor deposition
Prior art date
Application number
KR1020010054074A
Other languages
English (en)
Inventor
박연수
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020010054074A priority Critical patent/KR20030020657A/ko
Publication of KR20030020657A publication Critical patent/KR20030020657A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/6773Conveying cassettes, containers or carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

Abstract

본 발명은 가공을 위한 웨이퍼가 담겨진 스토리지 엘리베이터를 상/하로 이동시키기 위한 이동 장치와, 이를 이용한 화학적 기상 증착 장비에 관한 것이다. 상기 이동 장치는 스테이지, 리프트 축 및 구동부로 이루어져 있다. 상기 리프트 축이 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 로드락 챔버의 진공 상태 유지를 위한 다수의 실링 부재들이 로드락 챔버의 내부 하단면에 설치된다.

Description

스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적 기상 증착 장비{DEVICE FOR MOVING A STORAGE ELEVATOR AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING THIS DEVICE}
본 발명은 화학적 기상 증착 장비에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 로드락 챔버 내에 위치한 스토리지 엘리베이터를 상/하로 이동 시켜주는 이동 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 화학적 기상 증착 장비는 반도체 제조 공정을 수행하기 위하여 멀티 챔버를 구비하고 있다. 상기 멀티 챔버는 로드락 챔버와, 상기 로드락 챔버와 인접하게 위치한 복수의 공정 챔버들을 구비한다. 상기 로드락 챔버의 내부 소정부에는 웨이퍼 카세트로부터 로드락 챔버로 이동된 웨이퍼가 위치하는 스토리지 엘리베이터(storage elevator)가 설치되어 있다. 스토리지 엘리베이터로 이송된 웨이퍼는 로봇 아암에 의해 공정 챔버로 보내져서 공정이 이루어진다.
상기 카세트로부터 웨이퍼를 인출하여 상기 로드락 챔버 내에 위치한 스토리지 엘리베이터에 탑재할 때, 상기 스토리지 엘리베이터는 이동 장치에 의해 상/하로 이동하면서 웨이퍼 받침대에 웨이퍼를 적재한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 이동 장치는 스테이지(미 도시된), 리프트 축(10), 밀폐 커버(20) 및 실링 부재(30)로 이루어져 있다.
웨이퍼가 담겨진 스토리지 엘리베이터(미 도시된)는 상기 스테이지(미 도시된) 상에 놓여진다. 상기 스테이지는 상기 리프트 축(10)에 의해 상/하로 이동되어지며, 로드락 챔버(미 도시된)의 외부에 설치된 구동부(미 도시된)는 상기 리프트축(10)의 상/하 이동을 위한 동력을 발생시킨다. 이때, 상기 리프트 축(10)이 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 로드락 챔버의 진공 상태 유지를 위하여 로드락 챔버의 내부 하단면에 리프트 축(10)을 둘러싸도록 실링 부재(30)를 설치한다.
그러나, 상기한 통상적인 스토리지 엘리베이터 이동 장치는 하나의 실링 부재를 포함하고 있다. 이로 인해, 상기 실링 부재의 마모로 인한 설비 가동율의 저하와 공정 불량의 발생 주기가 빨리 발생하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 공정 불량의 발생 주기가 연장 되도록 다수의 실링 부재들을 포함하는 스토리지 엘리베이터 이동 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 종래의 스토리지 엘리베이터를 이동시켜주는 이동 장치를 나태난 도면이다.
도 2는 본 발명의 화학적 기상 증착 장비의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 이동 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 이동 장치 내에 설치된 실링 부재를 보여주는 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10,170 : 리프트 축20,190 : 밀폐 커버
30,200 : 실링 부재100 : 카세트 인덱스
110 : 웨이퍼 카세트
120 : 스토리지 엘리베이터(storage elevator)
130 : 로봇 아암140 : 로드락 챔버
150 : 공정 챔버160 : 스테이지
180 : 구동부
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 스토리지 엘리베이터를 이동시키는 이동 장치는 로드락 챔버 내에 위치하고, 스토리지 엘리베이터가 놓여지는 스테이지와 상기 로드락 챔버를 관통하여 설치되고, 상기 스테이지를 상/하로 이동시키기 위한 리프트 축 및 상기 로드락 챔버의 외부에 설치되고, 상기 리프트 축을 상/하로 이동시키기 위한 구동부로 구성된다. 또한, 상기 로드락 챔버의 내부 하단면에 상기 리프트 축을 둘러싸도록 설치되고, 상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 상기 로드락 챔버의 진공 상태를 유지시켜 주기 위한 적층 구조의 실링 부재들을 구비한다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 이동 장치는 파티클(particle)이 상기 리프트 축과 상기 리프트 축이 관통하는 상기 로드락 챔버의 관통홀 사이의 틈새를 통하여상기 로드락 챔버 내로 유입되는 것을 방지하기 위한 밀폐 커버를 구비하고 있다. 상기 실링 부재들의 재질은 플라스틱 또는 고무중 어느 하나로 이루어져 있으며, 상기 실링 부재들은 적어도 두개가 서로 맞붙어 있다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 반도체 제조를 위한 화학적 기상 증착 장비는 웨이퍼가 담겨진 카세트가 놓여지는 카세트 인덱스, 상기 웨이퍼 카세트로부터 인출한 웨이퍼가 실려진 스토리지 엘리베이터를 상/하로 이동시켜 주는 이동 장치를 포함하고 있는 로드락 챔버, 상기 로드락 챔버와 인접하게 위치하고, 웨이퍼의 가공이 이루어지는 공정 챔버 및 상기 로드락 챔버의 웨이퍼를 상기 공정 챔버 내로 이송하기 위한 로봇 아암으로 구성된다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 이동 장치는 로드락 챔버 내에 위치하고, 스토리지 엘리베이터가 놓여지는 스테이지와 상기 로드락 챔버를 관통하여 설치되고, 상기 스테이지를 상/하로 이동시키기 위한 리프트 축 및 상기 로드락 챔버의 외부로 노출된 리프트 축의 일단과 연결되고, 상기 리프트 축을 상/하로 이동시키기 위한 구동부로 구성된다. 또한, 상기 로드락 챔버의 내부 하단면에 상기 리프트 축을 둘러싸도록 설치되고, 상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 상기 로드락 챔버의 진공 상태를 유지시켜 주기 위한 적층 구조의 실링 부재들을 구비한다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 이동 장치는 파티클(particle)이 상기 리프트 축과 상기 리프트 축이 관통하는 상기 로드락 챔버의 관통홀 사이의 틈새를 통하여 상기 로드락 챔버 내로 유입되는 것을 방지하기 위한 밀폐 커버를 구비하고 있다.상기 실링 부재들의 재질은 플라스틱 또는 고무중 어느 하나로 이루어져 있으며, 상기 실링 부재들은 적어도 두개가 서로 맞붙어 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도2 내지 도 4에 의거하여 상세히 설명한다. 또한, 상기 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 병기한다.
도 2는 본 발명의 화학적 기상 증착 장비의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 화학적 기상 증착 장비는 카세트 인덱스(100), 로드락 챔버(140), 로봇 아암(130) 및 다수의 공정 챔버(150)들로 구성된다. 다수의 웨이퍼가 담겨져 있는 웨이퍼 카세트(110)는 상기 카세트 인덱스(100)에 놓여진다. 카세트 인덱스(100) 상의 웨이퍼 카세트(110)로부터 웨이퍼는 로드락 챔버(140) 내부 소정부에 위치한 스토리지 엘리베이터(120)에 탑재된다. 상기 스토리지 엘리베이터(120)는 웨이퍼를 탑재할 수 있는 다수의 받침대(미 도시된)를 가지고 있다. 상기 스토리지 엘리베이터(120)로 이송된 웨이퍼는 상기 로봇 아암(130)에 의해서 공정 챔버(150)들로 보내져서 웨이퍼에 대한 제조 공정이 이루어진다.
도 3은 본 발명의 이동 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2 내지 도 3을 참조하면, 로드락 챔버(140) 내에 위치한 스토리지 엘리베이터(120)를 이동시켜주는 이동 장치는 스테이지(160), 리프트 축(170), 실링 부재(200) 및 구동부(180)로 구성된다.
상기 스토리지 엘리베이터(120)는 로드락 챔버(140) 내에 위치한 상기 스테이지(160) 상에 놓여지고, 상기 스테이지(160) 아래에 수직으로 설치된 리프트 축(170)에 의해 스테이지(160)가 상/하로 이동됨에 따라 스토리지 엘리베이터(120)도 상/하로 이동된다. 상기 구동부(180)는 로드락 챔버(140) 외부로 관통되어 노출된 리프트 축(170)의 일단과 연결되어 있고, 동력을 발생시켜 리프트 축(170)이 상/하로 이동되도록 한다. 도 2에 도시된 웨이퍼 카세트(110)로부터 인출된 웨이퍼를 스토리지 엘리베이터(120)에 탑재할 때 또는 스토리지 엘리베이터(120)로부터 공정 챔버(150) 내로 웨이퍼를 이송할 때, 웨이퍼를 상기 스토리지 엘리베이터로부터 로딩/언로딩하기 위해서 스토리지 엘리베이터(120)가 상/하로 이동한다.
상기 로드락 챔버(140)는 파티클(particle)이나 공기에 의한 공정 불량이 발생하지 않도록 진공 상태이다. 이런 로드락 챔버(140)의 진공 상태를 유지하기 위하여 로드락 챔버(140)의 내부 하단면에 다수의 실링 부재(200)들이 설치되어 있다. 실링 부재(200)들은 상/하로 이동하는 리프트 축(170)을 둘러싸도록 설치되며, 실링 부재(200)들의 중심부는 리프트 축(170)이 로드락 챔버(140) 내로 상/하 이동할 때, 리프트 축(170)이 통과하도록 관통되어져 있다. 이로 인해, 외부의 공기나 파티클이 로드락 챔버(140) 내로 유입되는 것을 차단시켜준다.
도 4는 본 발명의 이동 장치 내에 설치된 실링 부재를 보여주는 도면이다.
도 3 내지 도 4를 참조하면, 상기 실링 부재(200)들은 적어도 두개로 이루어져 있으며, 서로 맞붙어 있다. 실링 부재(200)들의 재질은 플라스틱 또는 고무중 어느 하나로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 이동 장치는 파티클이 리프트 축(170)과 리프트 축이 관통하는 로드락 챔버(140)의 관통홀 사이의 틈새를 통하여 로드락 챔버(140) 내로 유입되는 것을 방지하기 위한 밀폐 커버(190)를 구비한다. 상기 밀폐 커버(190)는 실링 부재들을 덮고 있다. 따라서, 본 발명의 다수의 실링 부재(200)들을 적용시에는 증가하는 실링 부재(200)의 수에 비례하여 상기 밀폐 커버(190)의 높이가 증가하여야 한다.
본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 상기 본 발명의 장치에 대한 변형 및 변화가 가능하다는 것은 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 다수의 실링 부재들을 적용함으로써 실링 부재의 마모로 인한 공정 불량의 발생 주기를 연장할 수 있다. 따라서, 설비 효율 향상 및 공정의 안정을 이룰수 있다.

Claims (8)

  1. 웨이퍼가 담겨진 스토리지 엘리베이터를 이동시키는 이동 장치에 있어서:
    로드락 챔버 내에 위치하고, 상기 스토리지 엘리베이터가 놓여지는 스테이지;
    상기 로드락 챔버를 관통하여 설치되고, 상기 스테이지를 상/하로 이동시키기 위한 리프트 축;
    상기 로드락 챔버의 외부에 위치하고, 상기 리프트 축을 구동시키기 위한 구동부; 및
    상기 로드락 챔버의 내부 하단면에 상기 리프트 축을 둘러싸도록 설치되고, 상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 상기 로드락 챔버의 진공 상태를 유지시켜주기 위한 적층 구조의 실링 부재들을 구비하는 것을 특징으로 하는 스토리지 엘리베이터 이동 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버의 관통홀을 지나 로드락 챔버 내로 이동될 때, 파티클이 상기 리프트 축과 상기 로드락 챔버의 관통홀 사이의 틈새를 통하여 상기 로드락 챔버 내로 유입되는 것을 방지하기 위하여 상기 실링 부재들을 덮는 밀폐 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스토리지 엘리베이터 이동 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 실링 부재들의 재질은 플라스틱 또는 고무중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 스토리지 엘리베이터 이동 장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 실링 부재들은 적어도 두개가 서로 맞붙어 있는 것을 특징으로 하는 스토리지 엘리베이터 이동 장치.
  5. 반도체 제조를 위한 화학적 기상 증착 장비에 있어서:
    웨이퍼가 담겨진 카세트가 놓여지는 카세트 인덱스;
    상기 카세트로부터 인출한 웨이퍼가 실려지는 스토리지 엘리베이터를 상/하로 이동시켜주는 이동 장치를 포함하는 로드락 챔버;
    상기 로드락 챔버와 인접하게 위치하고, 웨이퍼의 가공이 이루어지는 공정 챔버; 및
    상기 로드락 챔버의 웨이퍼를 상기 공정 챔버로 이송하기 위한 로봇 아암을 구비하되;
    상기 이동 장치는
    상기 로드락 챔버 내에 위치하고, 상기 스토리지 엘리베이터가 놓여지는 스테이지;
    상기 로드락 챔버를 관통하여 설치되고, 상기 스테이지를 상/하로 이동시키기 위한 리프트 축;
    상기 로드락 챔버의 외부에 위치하고, 상기 리프트 축을 구동시키기 위한 구동부; 및
    상기 로드락 챔버의 내부 하단면에 상기 리프트 축을 둘러싸도록 설치되고, 상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버 내로 상/하 이동될 때 상기 로드락 챔버의 진공 상태를 유지시켜주기 위한 적층 구조의 실링 부재들을 구비하는 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장비.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 리프트 축이 상기 로드락 챔버의 관통홀을 지나 로드락 챔버 내로 이동될 때, 파티클이 상기 리프트 축과 상기 로드락 챔버의 관통홀 사이의 틈새를 통하여 상기 로드락 챔버 내로 유입되는 것을 방지하기 위하여 상기 실링 부재들을 덮는 밀폐 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장비.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 실링 부재들의 재질은 플라스틱 또는 고무중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장비.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 실링 부재들은 적어도 두개가 서로 맞붙어 있는 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장비.
KR1020010054074A 2001-09-04 2001-09-04 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비 KR20030020657A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010054074A KR20030020657A (ko) 2001-09-04 2001-09-04 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010054074A KR20030020657A (ko) 2001-09-04 2001-09-04 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20030020657A true KR20030020657A (ko) 2003-03-10

Family

ID=27722365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010054074A KR20030020657A (ko) 2001-09-04 2001-09-04 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20030020657A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422452B1 (ko) * 2002-06-18 2004-03-11 삼성전자주식회사 로드락 챔버용 스토리지 엘리베이터 샤프트의 실링장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422452B1 (ko) * 2002-06-18 2004-03-11 삼성전자주식회사 로드락 챔버용 스토리지 엘리베이터 샤프트의 실링장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7622006B2 (en) Processed body carrying device, and processing system with carrying device
KR100785871B1 (ko) 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법
US6641349B1 (en) Clean box, clean transfer method and system
KR101903338B1 (ko) 기판 반송실, 기판 처리 시스템, 및 기판 반송실 내의 가스 치환 방법
JP5729148B2 (ja) 基板搬送容器の開閉装置、蓋体の開閉装置及び半導体製造装置
KR20180111592A (ko) 기판 처리 장치
KR20240025705A (ko) 반도체 공정 챔버, 반도체 공정 디바이스 및 반도체 공정 방법
US6190104B1 (en) Treatment object conveyor apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, and treatment object treatment method
JPH11130255A (ja) 基板搬送移載装置
KR20010007475A (ko) 용기 및 용기 밀봉 방법
CN219998166U (zh) 一种密闭式晶圆盒装载口
KR20190098056A (ko) 기판 반송 장치 및 기판 처리 시스템
KR20030020657A (ko) 스토리지 엘리베이터 이동 장치 및 이를 이용한 화학적기상 증착 장비
JPH05201506A (ja) クリーンルーム用保管庫
KR100873967B1 (ko) 완충메카니즘을 갖는 반도체 제조장치 및 반도체 웨이퍼의완충방법
KR101099603B1 (ko) 챔버 및 이를 이용한 기판 처리 방법
CN1307706C (zh) 半导体处理装置中的端口结构
JPH0697260A (ja) 枚葉式真空処理装置
JP3160691B2 (ja) 処理装置
US20030230854A1 (en) Loadlock apparatus and structure for creating a seal between an elevator drive shaft and the loadlock chamber thereof
CN116525508B (zh) 一种密闭式晶圆盒装载口及其气体置换方法
KR100640557B1 (ko) 평판표시소자 제조장치
KR100298031B1 (ko) 기계식인터페이스장치
KR20240038431A (ko) 기판처리장치
JP6614278B2 (ja) 容器パージ装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination