KR20030004634A - 반도체 웨이퍼의 건조 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 세정 공정이 종료된 반도체 웨이퍼를 건조실의 회전판 재치되도록 하고, 건조실 내의 분사부에서 배출되는 온풍으로 반도체 웨이퍼가 건조되도록 형성함으로써, 반도체 웨이퍼가 회전하면서, 균일하고 전체적으로 건조되기 때문에, 세정 공정 후의 반도체 웨이퍼를 보다 효과적으로 건조시킬 수 있고, 웨이퍼의 건조 시간을 최대한 단축하도록 한 반도체 웨이퍼의 건조장치에 관한 것이다.

본 발명은 세정 공정이 종료된 웨이퍼를 건조하는 장치에 있어서,

웨이퍼 지그의 이탈을 방지하도록 걸림턱이 구비된 회전판과, 상기 회전판을 회전시키도록 하는 모터를 형성한 회전 부재와;

자외선 온풍을 발생하도록 한 히터와, 온풍을 상기 건조실에 연결하도록 한 온풍관과, 건조실에 자외선 온풍이 방출되도록 한 방사구가 구비된 분사부를 형성한 히터 부재를 구비되도록 구성하는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 웨이퍼의 건조 장치 { Dryer of semiconductor wafer }

본 발명은 세정 공정을 종료한 반도체 웨이퍼를 건조하는 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 웨이퍼를 재치하는 회전판이 회전되도록 하고, 건조실 내의 자외선 온풍으로 웨이퍼가 건조되도록 형성함으로써, 세정 공정 후의 반도체 웨이퍼를 효과적으로 건조시킬 수 있을 뿐만 아니라, 건조 시간을 단축하도록 한 반도체 웨이퍼의 건조장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 웨이퍼는 정밀 기기 부품으로서, 최근에 다양한 분야에 적용되어 널리 사용되고 있다.

이러한 반도체 웨이퍼를 제조하기 위해서, 각종 정밀 공정을 거치도록 하여 반도체 웨이퍼를 제작하였으며, 특히 반도체 웨이퍼의 각종 오염물질을 제거하기 위하여 세정되도록 하였다.

그리고, 세정 공정이 종료된 후에, 반도체 웨이퍼를 건조 공정이 필요하게 되었으며, 건조 시에 재오염을 방지하기 위한 건조 장치와 방법이 중요시되는 추세이다.

또한, 반도체 웨이퍼의 신속하고 효과적인 건조 공정에 대한 연구와 개발이 절실하게 요구되는 실정이었다.

따라서, 상기한 문제점을 해결하기 위한 본 발명은, 반도체 웨이퍼를 재치하는 회전판이 회전되도록 하고, 건조실 내의 자외선 온으로 웨이퍼가 건조되도록 형성함으로써, 반도체 웨이퍼가 회전하며 균일하게 건조될 수 있을 뿐만 아니라, 세정 공정 후의 반도체 웨이퍼를 효과적으로 건조시킬 수 있고, 건조 시간을 단축하도록 하는데 그 목적이 있는 것이다.

도 1은 본 발명을 보인 사시도

도 2는 본 발명의 사용 상태를 보인 사시도

도 3은 본 발명의 다른 실시예를 확대한 사시도

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예를 확대한 사시도

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 건조기 본체 11 : 건조실

12 : 도어 12a : 투시창

20 : 회전 부재 21 : 회전판

21a : 걸림턱 22 : 모터

30 : 히터 부재 31 : 히터

32 : 온풍관 33 : 분사부

33a : 방사구 34 : 십자형 분사노즐

34a : 보강 노즐 35 : 포크형 분사노즐

35a : 가지 노즐 40 : 컨트롤부

본 발명은 세정 공정이 종료된 웨이퍼를 건조하는 장치에 있어서,

웨이퍼 지그의 이탈을 방지하도록 한 걸림턱이 구비된 회전판과, 상기 회전판을 회전시키도록 하는 모터를 형성한 회전 부재와;

자외선 온풍을 발생하도록 한 히터와, 온풍을 상기 건조실에 연결하도록 한 온풍관과, 건조실에 자외선 온풍이 방출되도록 한 방사구가 구비된 분사부를 형성한 히터 부재를 구비되도록 구성하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 실시예로는, 분사부를 웨이퍼에 대량의 자외선 온풍을 집중시키도록 한 보강 노즐이 구비된 십자형 분사 노즐을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 실시예로는, 분사부를 웨이퍼의 전면 부위에 자외선 온풍이 방출되도록 한 가지 노즐이 구비된 포크형 노즐을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.

도 1은 본 발명을 보인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 사용 상태를 보인 사시도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예를 확대한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 또 다른 실시예를 확대한 사시도이다.

이하, 본 발명에 따른 구성 및 작용효과를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명은 반도체 웨이퍼를 건조하도록 한 건조기 본체(10)와, 반도체 웨이퍼를 회전시키도록 한 회전부재(20)와, 온풍을 공급하도록 히터부재(30)와, 건조기 본체(10)를 조절, 제어하도록 한 컨트롤부(40)로 구성된다.

상기 건조기 본체(10)는 반도체 웨이퍼를 건조하도록 한 건조실(11)과, 상기 건조실(11)을 개폐하도록 한 도어(12)와, 상기 건조실(11)의 조명을 유지하도록 한 조명등(13)과, 상기 건조실(14)의 공기를 배출하도록 한 배출관(14)을 형성한다.

상기 도어(12)는 건조실 내부를 투시하도록 한 투시창(12a)을 형성하는 것이 바람직하다.

상기 회전부재(20)는 반도체 웨이퍼를 재치하도록 한 회전판(21)과, 상기 회전판을 회전시키도록 하는 모터(22)를 형성한다.

상기 회전판의 외주연에는 반도체 웨이퍼의 이탈을 방지하도록 한 걸림턱(21a)을 형성한다.

상기 히터부재(30)는 자외선 온풍을 발생하도록 한 히터(31)와, 온풍을 상기 건조실(11)에 연결하도록 한 온풍관(32)과, 건조실(11)에 자외선 온풍을 방출하도록 방사구(33a)가 구비된 분사부(33)를 형성한다.

상기 분사부(33)를 웨이퍼에 대량의 자외선 온풍을 집중시키도록 한 보강 노즐(34a)이 구비된 십자형 분사 노즐(34)을 형성할 수 있다.

상기 분사부(33)를 웨이퍼의 전면 부위에 자외선 온풍이 방출되도록 한 가지 노즐(35a)이 구비된 포크형 노즐(35)을 형성할 수 있다.

상기 컨트롤부(40)는 건조 장치를 조절, 제어하도록 형성하고, PLC (Programmable Logic Controller)를 형성하는 것이 바람직하다.

미설명 부호 1은 반도체 웨이퍼이다.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 작용 및 효과를 첨부된 도면에 의거하여 살펴보면 다음과 같다.

도 2에 도시된 바와 같이, 습식 세정 공정이 종료된 반도체 웨이퍼를 상기 건조기 본체(10)의 건조실(11)에 투입하여, 상기 회전부재(20)의 회전판(21) 상부에 재치하게 된다.

상기 컨트롤부(40)에 의해, 히터부재(30)의 히터(31)가 가동되고, 히터(31)에서 발생된 자외선 온풍은 상기 온풍관(32)을 통하여, 상기 분사부(33)로 이동하게 된다.

그리고, 반도체 웨이퍼를 수납한 웨이퍼 지그를 상기 회전판(21)에 재치하게 되면, 웨이퍼 지그의 상부에 위치된 분사부(33)의 방사구(33a)에서 자외선과 온풍이 방출되며, 컨트롤부(40)에 의하여 모터(22)가 구동하게 되고, 상기 회전판(21)이 회전하게 된다.

웨이퍼 지그가 재치된 회전판(21)이 회전하면서, 상기 분사부(33)에서 방출되는 온풍과 자외선을 균일하게 접촉하기 때문에, 반도체 웨이퍼가 보다 효과적으로 건조될 수 있으며, 웨이퍼의 건조 시간을 최대한 단축할 수 있는 것이다.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 분사부(33)를 보강 노즐(34a)이 구비된 십자형 분사 노즐(34)로 형성하거나, 도 4에 도시된 바와 같이, 가지 노즐(35a)이 구비된 포크형 노즐(35)로 형성하여, 웨이퍼의 전면에 대량의 자외선 온풍을 집중시키도록 하여, 효과적으로 반도체 웨이퍼를 건조시킬 수 있는 것이다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은, 세정 공정이 종료된 반도체 웨이퍼를 건조실의 회전판 재치되도록 하고, 건조실 내의 분사부에서 방출되는 자외선 온풍으로 반도체 웨이퍼가 건조되도록 형성함으로써, 반도체 웨이퍼가 회전하면서, 균일하고 전체적으로 건조되기 때문에, 세정 공정 후의 반도체 웨이퍼를 보다 효과적으로 건조시킬 수 있고, 웨이퍼의 건조 시간을 최대한 단축하도록 한 유익한 발명인 것이다.

Claims (3)

1. 세정 공정이 종료된 웨이퍼를 건조하는 장치에 있어서,

   웨이퍼 지그의 이탈을 방지하는 걸림턱(21a)이 구비된 회전판(21)과, 상기 회전판(21)을 회전시키도록 하는 모터(22)를 형성한 회전 부재(20)와;

   자외선 온풍을 발생하도록 한 히터(31)와, 온풍을 상기 건조실(11)에 연결하도록 한 온풍관(32)과, 건조실(11)에 자외선 온풍을 방출하도록 방사구(33a)가 구비된 분사부(33)를 형성한 히터 부재(30)가 구비되도록 구성하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 건조장치.
2. 제 1항에 있어서,

   분사부(33)를 웨이퍼에 대량의 자외선 온풍을 집중시키도록 한 보강 노즐(34a)이 구비된 십자형 분사 노즐(34)로 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 건조장치.
3. 제 1항에 있어서,

   분사부(33)를 웨이퍼의 전면 부위에 자외선 온풍이 방출되도록 한 가지 노즐(35a)이 구비된 포크형 노즐(35)을 형성하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 건조장치.