KR101571089B1 - 포토레지스트막 제거장치 - Google Patents

포토레지스트막 제거장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 포토레지스트막 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상기 포토레지스트막을 진공상태에서 오존과 액시머광으로 제거하는 진공공정챔버(10)과 약액(D)으로 제거하는 약액공정처리조(20)가 구비됨으로써, 반도체, 엘씨디(LCD), 오엘이디(OLED), 엘이디(LED), 포토마스크 등의 제조시 식각 및 이온주입공정에 사용된 포토레지스막이 친환경적으로 제거되는 포토레지스트막 제거장치에 관한 것이다.

Description

포토레지스트막 제거장치{Removing system for photoresist film}
본 발명은 포토레지스트막 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체, 엘씨디(LCD), 오엘이디(OLED), 엘이디(LED), 포토마스크 등의 제조시 식각 및 이온주입공정에 사용된 포토레지스막이 친환경적으로 제거되도록 엑시머광과 오존가스를 이용한 진공챔버와 약액으로 잔사를 제거하는 약액챔버가 구비된 포토레지스트막 제거장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체, 엘씨디(LCD), 오엘이디(OLED), 엘이디(LED), 포토마스크 등의 제조공정 중 시료에 회로패턴을 형성하기 위하여 시료의 표면에 해당 회로패턴이 형성된 마스크를 준비하고, 포토레지스트막을 표면에 도포한 다음 노광공정과 현상공정 및 식각공정을 수행하게 된다.
그런데, 식각공정 또는 이온주입 공정에 사용된 포토레지스트막의 제거를 위해 화학물질인 유기계 약액 또는 아민계 약액을 사용하게 되는데, 이러한 약액은 환경오염의 주요 원인으로 대두되고 있어서, 최근에는 비유기계 또는 비아민계 약액이 사용되고 있으나 여전히 공정완료 후의 폐액의 처리를 위한 과다한 비용 부담이 발생하는 문제점이 있었다.
한편, 약액에 의한 습식 포토레지스트막 제거 장치와는 별도로 산소와 과불화 탄소가 공급된 상태에서 플라즈마를 이용한 건식 제거 처리와 함께 완전히 제거되지 않은 포토레지스트나 기타 잔유물을 제거하기 위해 별도의 고온의 황산처리가 병행되어 진행되고 있다.
여기서, 상기 플라즈마를 이용한 건식공정은 나트륨 또는 칼륨 성분이 가동 이온으로 작용되어 산화막이나 실리콘 중으로 침투하여 제품의 전기적 특성이 변화되는 문제점이 있었다.
이와 관련된 종래 기술로 본 출원인이 출원하여 등록받은 한국 등록 특허 제1506213호(등록일 2015.03.20)에는 매엽식 감광성 수지막 제거장치가 개시되었다.
상기한 종래 기술은 제거 대상인 감광성 수지막(C)이 잔존하는 시료(T)가 탑재되어 0.5초 ~ 2초 마다 1회전되는 시료탑재단(11)이 구비된 공정챔버부(10)와; 상기 공정챔버부(10)의 상부에 연결되어 상기 수지막(C)이 제거되도록 기체 또는 액체상태의 약액을 공급하는 챔버공급부(20)와; 상기 챔버공급부(20)의 일측에 구비되어 상기 약액의 공급상태를 체크하여 송신하는 센서부(30)와; 상기 센서부(30)의 신호를 수신하여 상기 공정챔버부(10)와 상기 챔버공급부(20)를 제어하는 컨트롤러(40)가 구비된 것이 특징이다.
다만 상기한 종래 기술은 시료탑재단(11)이 구비된 상기 공정챔버부(10)에서 건식과 습식 공정을 병행하여 진행하게 되어 상기 시료(T)에서 포토레지스트막을 제거하는 처리 속도가 지연되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로 본 발명의 목적은 화학물질인 유기계 또는 아민계 약액을 사용하지 않고, 진공상태에서 오존가스과 프레온계가스 및 엑시머광을 이용하여 포토레지스트막을 제거하는 진공챔버부와, 상기 진공챔버부에서 이송된 시료를 액체상태의 오존수와 약액 및 소닉으로 잔사를 제거하는 약액공정처리조가 다수개 구비되어 상기 포토레지스트막의 제거 속도가 향상되고 환경 오염을 저감시키며, 제거공정 후 발생되는 폐액의 처리비용이 절감되는 포토레지스트막 제거장치를 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치는 이송암으로 이송된 시료의 포토레지스트막이 진공상태에서 제거되는 다수개의 매엽식 진공공정챔버와; 상기 진공공정챔버에서 이송된 상기 시료에 잔존하는 상기 포토레지스트막을 약액으로 제거하는 다수개의 약액공정처리조와; 상기 약액공정처리조의 제거효율이 높아지도록 소닉을 공급하는 소닉공급기와; 상기 약액공정처리조에서 이송된 상기 시료를 건조하는 건조기와; 상기 진공공정챔버, 상기 약액공정처리조, 상기 소닉공급기, 상기 건조기의 상태정보를 감지하는 센서부; 및 상기 센서부의 상태정보를 저장하여 분석하고 상기 이송암, 상기 진공공정챔버, 상기 약액공정처리조, 상기 소닉공급기 및 상기 건조기를 제어하는 컨트롤러로 이루어지고,
상기 진공공정챔버와 상기 약액공정처리조에 연결되어 상기 시료에 잔류하는 오존가스와 오존수를 분해하여 배기하는 오존처리부가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 진공공정챔버는 상기 시료가 탑재되어 0.3~0.5Hz의 주기로 회전되는 스테이지가 구비된 챔버부와, 상기 챔버부의 하부 일측에 연결되어 불순물이나 잔존가스가 제거되도록 상기 챔버부의 내부를 진공상태로 만드는 진공펌프부와, 상기 챔버부의 일측에 연결되어 오존가스를 공급하는 오존가스공급부와, 프레온계가스를 공급하는 가스공급부와, 상기 스테이지의 상부 일측에 엑시머광을 조사하는 엑시머광공급부가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 스테이지의 상부에는 상기 시료를 200~250℃ 온도로 가열하는 스테이지히터가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 약액공정처리조는 상기 포토레지스트막의 잔사를 제거하는 매엽식약액처리조 또는 배치식약액처리조 중 어느 하나로 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 매엽식약액처리조는 상기 시료가 상부에 안착되어 0.5~2Hz의 주기로 회전되는 회전스테이지가 구비된 매엽식약액챔버와, 상기 매엽식약액챔버와 결합되어 상기 회전스테이지의 상부에 안착된 상기 시료에 오존수를 분사하는 오존수공급부와, 상기 매엽식약액챔버와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액을 공급하는 약액공급부가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 배치식약액처리조는 다수개의 상기 시료가 탑재되도록 케리어가 구비된 배치식약액챔버와, 상기 배치식약액챔버와 결합되어 상기 시료가 잠기도록 25~45℃의 오존수를 공급하는 오존수공급부와, 상기 배치식약액챔버와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액을 공급하는 약액공급부가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 센서부는 상기 진공공정챔버와 약액공정처리조에 각각 설치되어 오존수 또는 오존가스를 계측하는 오존농도센서와, 상기 가스공급부와 연결되어 상기 프레온계가스의 공급량을 계측하는 가스공급센서와, 상기 엑시머광공급부에 연결되어 엑시머광의 파장을 측정하는 엑시머광량센서와, 상기 소닉공급기와 연결되어 공급되는 소닉의 강도를 계측하는 소닉강도센서와, 상기 챔버부의 내압을 계측하는 압력감지센서가 구비된 것을 특징으로 한다.
상기 센서부는 상기 약액공급부와 연결되어 불산수 및 수소원자수의 공급량을 계측하는 약액공급센서와, 상기 오존수공급부와 연결되어 공급되는 오존수의 온도를 가감하는 온도조절센서가 구비된 것을 특징으로 한다.
이와 같이 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 챔버부를 진공상태로 만드는 진공펌프부가 진공공정챔버에 구비됨으로써, 포토레지스트막의 제거 공정시 불순물이나 잔류가스가 제거되어 순수한 오존과 프레온계가스 및 엑시머광을 활용함으로써 제거효율이 증대되어 불량 제품의 생산이 방지되고,
둘째, 시료의 포토레지스트막을 진공상태에서 오존가스와 엑시머광으로 제거하거나 약액으로 제거하는 진공공정챔버와 약액공정처리조가 구비됨으로써, 상기 진공공정챔버와 약액공정처리조에서 각각 동시에 상기 시료의 포토레지스트막을 제거하여 처리 속도가 향상되며,
셋째, 상기 진공공정챔버와 상기 약액공정처리조에는 상기 시료에 잔류하는 오존가스와 오존수를 분해하여 처리하는 오존처리부가 구비됨으로써, 종래의 플라즈마 에싱처리와 황산을 이용한 제거방식 또는 화학 물질인 유기계 또는 아민계 약액의 대량 사용을 대체하여 환경 오염을 방지하여 친환경적이며 저비용으로 생산성이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치의 실시예에 따른 배치도이며,
도 2는 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치의 블럭도이고,
도 3은 본 발명에 따른 진공공정챔버의 실시예를 나타낸 구상도이며,
도 4는 본 발명에 따른 매엽식약액처리조의 실시예를 나타낸 구상도이고,
도 5는 본 발명에 따른 배치식약액처리조의 실시예를 나타낸 구상도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치의 실시예를 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 포토레지스트막 제거장치는 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이 이송암(11)으로 이송된 시료(T)의 포토레지스트막이 진공상태에서 매엽식으로 제거되는 다수개의 진공공정챔버(10)와; 상기 진공공정챔버(10)에서 이송된 상기 시료(T)에 잔존하는 상기 포토레지스트막을 약액(D)으로 제거하는 다수개의 약액공정처리조(20)와; 상기 약액공정처리조(20)의 제거효율이 높아지도록 소닉(S)을 공급하는 소닉공급기(30)와; 상기 약액공정처리조(20)에서 이송된 상기 시료(T)를 건조하는 건조기(40)와; 상기 진공공정챔버(10), 상기 약액공정처리조(20), 상기 소닉공급기(30), 상기 건조기(40)의 상태정보를 감지하는 센서부(50); 및 상기 센서부(50)의 상태정보를 저장하여 분석하고 상기 이송암(11), 상기 진공공정챔버(10), 상기 약액공정처리조(20), 상기 소닉공급기(30) 및 상기 건조기(40)를 제어하는 컨트롤러(60)로 이루어지고,
상기 진공공정챔버(10)와 상기 약액공정처리조(20)에 연결되어 상기 시료(T)에 잔류하는 오존가스와 오존수를 분해하여 배기하는 오존처리부(45)가 구비되며, 상기 진공공정챔버(10)와 상기 약액공정처리조(20)는 도 3에 도시된 바와 같이 하나의 장치로 결합되어 가동되거나, 필요에 따른 서로 분리되어 가동될 수 있다.
그리고, 상기 진공공정챔버(10)는 상기 시료(T)가 탑재되어 0.3~0.5Hz의 주기로 회전되는 스테이지(12a)가 구비된 챔버부(12)와, 상기 챔버부(12)의 하부 일측에 연결되어 불순물이나 잔존가스가 제거되도록 상기 챔버부(12)의 내부를 진공상태로 만드는 진공펌프부(13)와, 상기 챔버부(12)의 일측에 연결되어 오존가스를 공급하는 오존가스공급부(14)와, 프레온계가스를 공급하는 가스공급부(15)와, 상기 스테이지(12a)의 상부 일측에 엑시머광을 조사하는 엑시머광공급부(16)가 구비된다.
여기서, 상기 챔버부(12)에 공급되는 상기 오존가스는 18~25%의 농도로 공급되고, 상기 프레온계가스는 상기 오존가스의 0.01~3%의 농도로 공급되게 된다.
그리고, 상기 엑시머광은 172nm 또는 254nm의 파장을 가진 엑시머광원을 조사하게 되며, 상기 스테이지(12a)의 회전은 상기 포토레지스트막의 제거를 균일하게 한다.
또한, 상기 스테이지(12a)의 상부에는 상기 시료(T)를 200~250℃ 온도로 가열하는 스테이지히터(12b)가 구비된다.
한편, 상기 약액공정처리조(20)는 도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이 상기 시료(T)의 포토레지스트막을 매엽식으로 제거하는 매엽식약액처리조(20a) 또는 상기 시료(T)의 포토레지스트막을 배치식으로 제거하는 배치식약액처리조(20b) 중 어느 하나로 구비된다.
여기서, 상기 약액공정처리조(20)는 상기 진공공정챔버(10)를 거친 상기 시료(T)를 공급받아 잔존하는 상기 포토레지스트막의 잔사를 제거하게 된다.
상기 매엽식약액처리조(20a)는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 시료(T)가 상부에 안착되어 0.5~2Hz의 주기로 회전되는 회전스테이지(21a)가 구비된 매엽식약액챔버(21)와, 상기 매엽식약액챔버(21)와 결합되어 상기 회전스테이지(21a)의 상부에 안착된 상기 시료(T)에 오존수를 분사하는 오존수공급부(22)와, 상기 매엽식약액챔버(21)와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액을 공급하는 약액공급부(23)가 구비된다.
상기 매엽식약액처리조(20a)는 매엽식으로 상기 시료(T)의 잔사를 한장씩 제거하게 되며, 상기 회전스테이지(21a)는 모터(미도시)의 동력에 의해 회전되게 된다.
또한, 상기 오존수는 70~110ppm의 농도로 공급되며, 약 25~45℃의 온도로 공급될 때 잔사와 오염물 제거시 효율적이다.
그리고, 상기 배치식약액처리조(20b)는 도 5에 도시된 바와 같이 다수개의 상기 시료(T)가 탑재되도록 케리어(24a)가 구비된 배치식약액챔버(24)와, 상기 배치식약액챔버(24)와 결합되어 상기 시료(T)가 잠기도록 25~45℃의 오존수를 공급하는 오존수공급부(22)와, 상기 배치식약액챔버(24)와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액을 공급하는 약액공급부(23)가 구비된다.
한편, 상기 센서부(50)는 상기 진공공정챔버(10)와 약액공정처리조(20)에 각각 설치되어 오존수 또는 오존가스를 계측하는 오존농도센서(51)와, 상기 가스공급부(15)와 연결되어 상기 프레온계가스의 공급량을 계측하는 가스공급센서(52)와, 상기 엑시머광공급부(16)에 연결되어 엑시머광의 파장을 측정하는 엑시머광량센서(53)와, 상기 소닉공급기(30)와 연결되어 공급되는 소닉의 강도를 계측하는 소닉강도센서(54)와, 상기 챔버부(12)의 내압을 계측하는 압력감지센서(55)가 구비되며, 상기 약액공급부(23)와 연결되어 불산수 및 수소원자수의 공급량을 계측하는 약액공급센서(56)와,상기 오존수공급부(22)와 연결되어 공급되는 오존수의 온도를 가감하는 온도조절센서(57)가 구비된다.
즉, 상기 센서부(50)는 오존가스, 내압, 약액량 등을 계측하여 상기 컨트롤러(60)에 보내고, 상기 컨트롤러(60)는 수신된 계측신호를 기준값과 비교한 후 공급량을 조정하게 된다.
상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 포토레지스트막 제거장치의 작용은 다음과 같다.
본 발명의 포토레지스트막 제거장치는 진공공정챔버(10)와 약액공정처리조(20)에서 오존과 엑시머광 및 약액을 이용하여 시료(T)에 잔존하는 포토레지스트막을 친환경적으로 제거하게 된다.
먼저, 상기 진공공정챔버(10)는 상기 포토레지스트막의 제거시 이송암(11)이 상기 시료(T)를 스테이지(12a)에 안착시킨 후 진공펌프부(13)에서 챔버부(12)의 내부를 진공상태로 만들게 된다. 여기서, 상기 진공상태는 챔버부(12)의 내부에 잔존하는 불순물을 제거하게 된다.
그리고, 오존가스공급부(14)는 진공상태인 상기 챔버부(12)의 내부에 오존가스를 18~20%농도로 공급하며, 가스공급부(15)에서는 프레온계가스를 공급하게 된다. 이때, 상기 프레온계가스는 상기 오존가스 대비 0.01~3%의 농도로 공급된다.
상기 챔버부(12)의 내부가 상기 오존가스와 프레온계가스가 적정 농도로 공급된 후 엑시머광공급부(16)에서는 엑시머광을 조사하여 상기 포토레지스트막을 제거하게 된다. 이때, 상기 스테이지(12a)는 0.3~0.5Hz의 주기로 회전되어 상기 시료(T)에서 상기 포토레지스트막을 균일하게 제거하게 된다.
그리고, 상기 스테이지(12a)의 상부에 구비된 스테이지히터(12b)는 상기 포토레지스트막의 제거가 용이해지도록 상기 시료(T)를 200~250℃ 온도로 가열하게 된다.
한편, 상기 약액공정처리조(20)에서는 상기 진공공정챔버(10)에서의 제거공정을 끝낸 상기 시료(T)을 공급받아 잔존하는 오존이나 잔사를 제거하게 된다.
그리고, 상기 약액공정처리조(20)에는 상기 시료(T)가 배설철치되는 방식을 기준으로 두가지 형태로 구분된다. 즉 상기 시료(T)의 포토레지스트막을 매엽식으로 제거하는 매엽식약액처리조(20a)와 배치식으로 제거하는 배치식약액처리조(20b)로 구분되게 된다.
여기서, 상기 매엽식약액처리조(20a)의 공정순서는 상기 진공공정챔버(10)에서 이송된 상기 시료(T)가 매엽식약액챔버(21)의 내부에 구비된 회전스테이지(21a)에 안착되고, 상기 회전스테이지(21a)는 0.5~2Hz의 주기로 회전되어 포토레지스트막의 제거가 균일하게 일어나게 한다.
그리고, 상기 회전스테이지(21a)의 상부에서 오존수공급부(22)는 상기 시료(T)에 오존수를 분사하고, 약액공급부(23)는 상기 포토레지스트막이 사용되어졌던 용도에 따라 불산수 또는 수소원자수를 분사하여 상기 포토레지스트막의 잔사를 제거하게 된다.
이때, 상기 포토레지스트막의 잔사의 제거시 효율성이 높아지도록 소닉공급기(30)는 상기 시료(T)의 크랙이 발생되지 않는 1MHz 부근 메가 소닉(S)을 분사하여 이물질 제거의 효과를 극대화하게 된다.
또한, 상기 배치식약액처리조(20b)는 케리어(24a)가 구비된 배치식약액챔버(24)가 상기 매엽식약액처리조(20a)와 가장 큰 차이점이다. 상기 케리어(24a)에는 다수개의 상기 시료(T)가 탑재되는 점이 매엽식과는 다른 부분이다.
아울러, 상기 오존수공급부(22)는 오존수를 상기 시료(T)가 잠기도록 상기 배치식약액챔버(24)의 내부에 공급하게 된다.
그리고, 상기 약액공급부(23)와 상기 소닉공급기(30)의 공정은 앞서 살펴본 상기 매엽식약액처리조(20a)의 공정 순서와 동일하게 진행되게 된다.
최종적으로는 상기 시료(T)가 건조기(40)에 이송되어 건조되는 공정을 공통으로 거치게 된다. 그리고 상기 건조기(40)에는 상태정보를 감지하는 건조기감지센서(58)가 구비되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 진공공정챔버(10)와 매엽식약액처리조(20a)와 배치식약액처리조(20b)의 공정은 컨트롤러(60)를 통해 이루어지며, 상기 컨트롤러(60)는 센서부(50)의 상태정보를 저장하여 분석하여 제어하게 된다.
여기서, 상기 센서부(50)에서 감지하는 상태정보는 오존농도센서(51)에서 감지하는 오존수 또는 오존가스와, 가스공급센서(52)에서 감지하는 프레온계가스의 공급량과, 엑시머광량센서(53)에서 센싱하는 엑시머광의 파장과, 소닉강도센서(54)에서 계측하는 소닉 강도와, 압력감지센서(55)에서 계측하는 상기 챔버부(12)의 내압 약액공급부(23)와 연결된 약액공급센서(56)에서 감지하는 불산수 및 수소원자수의 공급량을 계측하게 된다.
특히, 상기 오존농도센서(51)에서 감지된 오존수 또는 오존가스의 상태정보를 활용하여 오존처리부(45)에서는 잔류된 오존을 분해하여 배기하게 되며, 이때, 상기 컨트롤러(60)는 사전에 입력된 기준값과 상기 센서부(50)에서 감지된 상태정보를 비교하여 상기 진공공정챔버(10)와 약액공정처리조(20)등이 안전하게 구동되도록 제어하게 된다.
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
<도면을 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 진공공정챔버 11 : 이송암
12 : 챔버부 12a : 스테이지
12b : 스테이지히터 13 : 진공펌프부
14 : 오존가스공급부 15 : 가스공급부
16 : 엑시머광공급부 20 : 약액공정처리조
20a : 매엽식약액처리조 20b : 배치식약액처리조
21 : 매엽식약액챔버 21a : 회전스테이지
22 : 오존수공급부 23 : 약액공급부
24 : 배치식약액챔버 24a : 케리어
30 : 소닉공급기 40 : 건조기
45 : 오존처리부 50 : 센서부
51 : 오존농도센서 52 : 가스공급센서
53 : 엑시머광량센서 54 : 소닉강도센서
55 : 압력감지센서 56 : 약액공급센서
57 : 온도조절센서 58 : 건조기감지센서
60 : 컨트롤러
T : 시료 D : 약액 S : 소닉

Claims (8)

  1. 이송암(11)으로 이송된 시료(T)의 포토레지스트막이 진공상태에서 제거되는 다수개의 매엽식 진공공정챔버(10)와; 상기 진공공정챔버(10)에서 이송된 상기 시료(T)에 잔존하는 상기 포토레지스트막을 약액(D)으로 제거하는 다수개의 약액공정처리조(20)와; 상기 약액공정처리조(20)의 제거효율이 높아지도록 소닉(S)을 공급하는 소닉공급기(30)와; 상기 약액공정처리조(20)에서 이송된 상기 시료(T)를 건조하는 건조기(40)와; 상기 진공공정챔버(10), 상기 약액공정처리조(20), 상기 소닉공급기(30), 상기 건조기(40)의 상태정보를 감지하는 센서부(50); 및 상기 센서부(50)의 상태정보를 저장하여 분석하고 상기 이송암(11), 상기 진공공정챔버(10), 상기 약액공정처리조(20), 상기 소닉공급기(30) 및 상기 건조기(40)를 제어하는 컨트롤러(60)로 이루어지고,
    상기 진공공정챔버(10)와 상기 약액공정처리조(20)에 연결되어 상기 시료(T)에 잔류하는 오존가스와 오존수를 분해하여 배기하는 오존처리부(45)가 구비되고,
    상기 진공공정챔버(10)는 상기 시료(T)가 탑재되어 0.3~0.5Hz의 주기로 회전되는 스테이지(12a)가 구비된 챔버부(12)와, 상기 챔버부(12)의 하부 일측에 연결되어 불순물이나 잔존가스가 제거되도록 상기 챔버부(12)의 내부를 진공상태로 만드는 진공펌프부(13)와, 상기 챔버부(12)의 일측에 연결되어 오존가스를 공급하는 오존가스공급부(14)와, 프레온계가스를 공급하는 가스공급부(15)와, 상기 스테이지(12a)의 상부 일측에 엑시머광을 조사하는 엑시머광공급부(16)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지(12a)의 상부에는 상기 시료(T)를 200~250℃ 온도로 가열하는 스테이지히터(12b)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 약액공정처리조(20)는
    상기 포토레지스트막의 잔사를 제거하는 매엽식약액처리조(20a) 또는 배치식약액처리조(20b) 중 어느 하나로 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 매엽식약액처리조(20a)는
    상기 시료(T)가 상부에 안착되어 0.5~2Hz의 주기로 회전되는 회전스테이지(21a)가 구비된 매엽식약액챔버(21)와,
    상기 매엽식약액챔버(21)와 결합되어 상기 회전스테이지(21a)의 상부에 안착된 상기 시료(T)에 오존수를 분사하는 오존수공급부(22)와,
    상기 매엽식약액챔버(21)와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액(D)을 공급하는 약액공급부(23)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 배치식약액처리조(20b)는
    다수개의 상기 시료(T)가 탑재되도록 케리어(24a)가 구비된 배치식약액챔버(24)와,
    상기 배치식약액챔버(24)와 결합되어 상기 시료(T)가 잠기도록 25~45℃의 오존수를 공급하는 오존수공급부(22)와,
    상기 배치식약액챔버(24)와 결합되어 상기 포토레지스트막의 잔사가 제거되도록 불산수 또는 수소원자수 중 어느 하나의 약액(D)을 공급하는 약액공급부(23)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 센서부(50)는
    상기 진공공정챔버(10)와 약액공정처리조(20)에 각각 설치되어 오존수 또는 오존가스를 계측하는 오존농도센서(51)와,
    상기 가스공급부(15)와 연결되어 상기 프레온계가스의 공급량을 계측하는 가스공급센서(52)와,
    상기 엑시머광공급부(16)에 연결되어 엑시머광의 파장을 측정하는 엑시머광량센서(53)와,
    상기 소닉공급기(30)와 연결되어 공급되는 소닉의 강도를 계측하는 소닉강도센서(54)와,
    상기 챔버부(12)의 내압을 계측하는 압력감지센서(55)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
  8. 제 5항 또는 제 6항에 있어서,
    상기 센서부(50)는
    상기 약액공급부(23)와 연결되어 불산수 및 수소원자수의 공급량을 계측하는 약액공급센서(56)와,
    상기 오존수공급부(22)와 연결되어 공급되는 오존수의 온도를 가감하는 온도조절센서(57)가 구비된 것을 특징으로 하는 포토레지스트막 제거장치.
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