KR20030001301A - 와이프 및 이의 화장 용도 - Google Patents

Abstract

본 발명은 하기를 포함하는 와이프(wipe)에 관한 것이다: (A) 수불용성 기재, 및 (B) 수성 상 및 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 함유하며 상기 기재에 첨가 또는 함침된 조성물.

본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 기재 상에 포함되는 조성물은 하나 이상의 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트 및/또는 하나 이상의 에틸렌디아민테트라아세트산 염을 또한 함유한다.

상기 와이프는 특히 얼굴 및/또는 보디(body) 피부의 클렌징 및/또는 화장 제거를 위한, 그리고 눈에서의 화장 제거를 위한 와이프를 구성할 수 있다. 상기 와이프는 습윤 또는 건조 와이프의 형태일 수 있다.

Description

와이프 및 이의 화장 용도 {WIPE AND ITS COSMETIC USES}

본 발명은 (A) 수불용성 기재, 및 (B) 수성 상 및 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 함유하며 상기 기재에 첨가 또는 함침된 조성물을 포함하는 물품, 특히 와이프(wipe), 및 또한 화장품 또는 피부학에 있어서의 상기 물품의 용도, 특히 피부, 보다 특히는 얼굴, 및 눈의 클렌징 및/또는 화장 제거 용도에 관한 것이다.

피부의 클렌징 또는 화장 제거를 위해, 사용시에 탈지면과 같은 지지물에 적용되어 얼굴에 적용되는 로션형 또는 밀크형(milk type)의 조성물을 사용하는 것이 공지된 관행이다.

또한, 피부의 클렌징 또는 화장 제거를 위한 함침 조성물을 포함하는 습윤 와이프를 사용함으로써, 로션 또는 밀크가 들어있는 병의 취급 및 수송을 피하는 것도 공지된 관행이다. 이들 와이프는 통상적으로, 원하는 목적, 예를 들어 피부의 클렌징 또는 화장 제거에 적합한 조성물과 함께 함침되는, 천연 또는 합성 기원의 물질(바람직하게는 부직포)로 만들어진 기재로 이루어진다.

이들 와이프의 함침을 위한 조성물은 통상적으로 물을 함유하며, 예를 들어 용액, 분산액 또는 에멀션의 형태일 수 있다. 이들 조성물 중에는 물이 존재하기때문에, 그 중에 보존제를 도입함으로써 미생물의 생육 및 증식에 대해 조성물을 보호하는 것이 필요하다. 특히, 이와 같은 미생물의 생육은 조성물 및, 결과적으로 조성물을 포함한 물품을 사용하기에 급속히 부적합하게 만들곤 한다.

본 분야에서 가장 일반적으로 사용되는 화학적 보존제로는 특히 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트(이하, 파라벤으로서 언급됨) 및 페녹시에탄올이 있다. 불행하게도, 이들 보존제는 와이프와 같은 지지물에 효과적인 항균적 보호를 제공하기 위해서는 높은 투여량, 빈번하게는 병 중에 존재하는 화장 제거 밀크 및 로션의 경우보다 더 높은 투여량으로 사용할 필요가 있다는 결점이 있다. 다량으로의 이들 보존제는 자극 및/또는 알레르기와 같이, 사람 피부, 보다 특히는 민감성 피부에의 과민증을 유발할 수 있다.

따라서, 와이프 상에서의 항균 효능이 동일 농도 범위에서 적어도 종래 기술의 체계만큼 효과적이면서 그들의 결점을 가지지 않고, 특히 피부 또는 눈에 대해 자극이 없는 신규한 보존 체계가 요구된다는 것을 알게된다.

본 출원인은, 놀랍게도, N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드 또는 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아조-1-아조늄아다만탄 클로라이드 (CTFA 명칭: 쿼터늄 (Quaternium)-15 로도 공지되어 있음)의 사용, 심지어 극소량으로의 사용도 미생물(세균, 효모 및 곰팡이)에 대해 특히 효과적인 보호를 부여하며, 지지물 상으로의 함침에 적합한 조성물을 제공한다는 것을 발견하였다.

물론, 쿼터늄-15 는 화장 조성물에서의 보존제로서 공지되어 있다. 이에, 문헌 EP-850634 는 쿼터늄-15를 함유하는 보존 체계를 기술하고 있다. 그러나, 와이프의 상기 세균학적 보호는, 공기와의 접촉 표면이 자(jar) 또는 플라스크 내에 있는 생성물의 접촉 표면보다 훨씬 커서 오염 위험이 증가하고, 따라서 보다 우수한 세균학적 보호가 요구된다는 사실에 의한 특정 문제점을 가지고 있다. 따라서, 문제는, 자극을 보다 낮게 하기 위해 적은 양의 보존제를 가지는 동시에 우수한 세균학적 보호 효능을 얻는 것일 것이다.

이에, 본 발명의 한 주제는 하기를 포함하는 피부용 와이프이다: (A) 부직포 수불용성 기재, 및 (B) 수성 상, 및 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.05 중량%의 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 생리학적으로 허용가능한 매질 중에 함유하며 상기 기재에 첨가 또는 함침된 조성물.

상기 물품(와이프)는 피부 케어 및/또는 피부 트리트먼트에, 특히 얼굴 및/또는 보디(body) 피부용 클렌징 와이프 또는 화장 제거 와이프, 및/또는 눈용 클렌징 와이프 또는 화장 제거 와이프로, 또한 지성 피부 또는 여드름성 피부의 클렌징에 특히 적합할 수 있다.

이에 또한 본 발명의 주제는 피부 및/또는 눈의 클렌징 및/또는 화장 제거를 위한 상기 정의한 바와 같은 와이프의 화장용 용도이다.

본 발명의 또다른 주제는 수성 상을 함유하며 부직포 수불용성 기재에 함침시키고자 의도된 화장 조성물에서의 미생물 박멸을 위한 제제로서, 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.05 중량% 인 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드의 화장용 용도이다.

수득되는 와이프는 예를 들어, 특히 항미생물제를 함유하는 경우, 지성 피부를 트리트먼트하고/하거나 상기 피부를 소독하기 위해, 그리고 여드름이 존재하는 경우 피부를 정화하기 위해 사용될 수 있다.

또한, 본 발명의 주제는 지성 피부 또는 여드름성 피부의 클렌징을 위한, 상기 정의한 바와 같은 와이프의 용도이다.

본 발명에 따라 사용되는 조성물은 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.05 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 0.03 중량%의 쿼터늄-15 를 함유한다.

본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 기재 상에 사용되는 조성물은 또한 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트, 에틸렌디아민테트라아세트산 염, 및 이의 혼합물에서 선택되는 하나 이상의 다른 보존제를 함유한다.

상기 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트는 특히 메틸 파라-히드록시벤조에이트(이하, 메틸파라벤으로 언급됨), 에틸 파라-히드록시벤조에이트(이하, 에틸파라벤으로 언급됨), 프로필 파라-히드록시벤조에이트(이하, 프로필파라벤으로 언급됨), 및 이의 혼합물에서 선택될 수 있다. 본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 이는 메틸파라벤 또는 프로필파라벤이다. 메틸파라벤이 더욱 특히 바람직하다.

본 발명에 따른 상기 용도는, 예를 들어 조성물 총중량에 대해 0.01 중량%내지 0.3 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 0.25 중량%의 알킬 파라-히드록시벤조에이트를 함유할 수 있다.

에틸렌디아민테트라아세트산 염은 특히 알칼리 금속 염, 가장 특히는 나트륨 염일 수 있다. 본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 이는 에틸렌디아민테트라아세트산의 디소듐 염, 또는 에틸렌디아민테트라아세트산의 테트라소듐 염, 또는 이의 혼합물이다.

본 발명에 따라 사용되는 조성물은, 예를 들어 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.2 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 0.15 중량%의 에틸렌디아민테트라아세트산 염을 함유할 수 있다.

쿼터늄-15, 및 또한 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트 및/또는 에틸렌디아민테트라아세트산 염을 함유하는 보존 체계는 통상적으로 조성물 총중량에 대해 모두 0.025 중량% 내지 0.55 중량%, 보다 우수하게는 0.1 중량% 내지 0.3 중량% 로 나타난다.

수불용성 기재의 함침용으로 본 발명에 따라 사용되는 조성물은 생리학적으로 허용가능한 수성 매질, 다시 말해서, 피부, 점막, 모발 및 두피와 상용가능한 매질을 함유한다. 본 발명에 따라 사용되는 조성물의 수성 매질은 물 이외에도, 탄소수 1 내지 6 의 저급 알콜, 예컨대 에탄올; 폴리올, 예컨대 글리세롤; 글리콜, 예컨대 부틸렌 글리콜, 이소프렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 또는 PEG-8과 같은 폴리에틸렌 글리콜; 소르비톨; 당, 예컨대 글루코오스, 프룩토오스,말토오스, 락토오스 또는 수크로오스; 및 이의 혼합물에서 선택되는 하나 이상의 용매를 함유할 수 있다.

본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 지지물에 함침시키고자 의도된 조성물은, 점도가 바람직하게는 150 mPa.s 미만, 더욱 바람직하게는 100 mPa.s 미만이다. 상기 점도는 바람직하게는, 1호 스핀들(spindle)을 사용하여 Rheomat RM 180 기계로 실온(약 25℃)에서 측정하여 1 mPa.s 내지 100 mPa.s 의 범위이다.

본 발명에 따라 사용되는 조성물은 통상적으로 pH 가 3 내지 7.5, 바람직하게는 6 내지 7.5, 보다 바람직하게는 6 내지 7 의 범위이다.

본 발명에 따른 조성물은 국소 적용에 적합한 임의의 표출 형태, 특히 수성 또는 수성-알콜성 용액, 로션, 밀크, 수성 또는 수성-알콜성 겔, 수성 상에 지방성 상을 분산시켜 수득된 (O/W) 또는 그 반대로 하여 수득된 (W/O) 에멀션, 현탁액, 마이크로에멀션, 마이크로캡슐, 미립자, 또는 이온형(리포솜) 및/또는 비이온형의 소낭성 분산액의 형태일 수 있다.

본 발명의 한 바람직한 구현예에 따라, 조성물은 O/W 에멀션의 형태이며, 로션 또는 밀크를 구성한다.

본 발명에 따라 사용되는 조성물이 에멀션인 경우, 지방성 상(또는 오일성 상)의 비율은 조성물 총중량에 대해 5 중량% 내지 80 중량%, 바람직하게는 5 중량% 내지 50 중량% 의 범위일 수 있다. 에멀션 형태로의 조성물에서 사용되는 오일, 에멀션화제 및 조(助)에멀션화제는 화장품 또는 피부학에서 통상적으로 사용되는 것에서 선택된다. 에멀션화제 및 임의로의 조에멀션화제는 조성물 총중량에 대해0.3 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 20 중량% 범위의 비율로 조성물에 존재한다.

지방성 상 또는 오일성 상은 일반적으로 하나 이상의 오일을 함유한다. 본 발명의 조성물에서 사용될 수 있는 오일로서, 예를 들어 하기를 언급할 수 있다:

- 동물성 탄화수소계 오일, 예컨대 퍼히드로스쿠알렌;

- 식물성 탄화수소계 오일, 예컨대 탄소수 4 내지 10 인 지방산의 액체 트리글리세리드, 예를 들어 헵타노산 또는 옥타노산 트리글리세리드 또는 대안적으로, 예를 들어 스위트 아몬드 유, 해바라기유, 옥수수유, 대두유, 매로우(marrow) 유, 포도씨유, 참깨유, 헤이즐넛유, 살구유, 마카다미아유, 아라라(arara)유, 해바라기유, 피마자유, 아보카도유, 카프릴산/카프르산 트리글리세리드, 예를 들어 Stearineries Dubois 사에서 시판되는 것 또는 Dynamit Nobel 사에서 명칭 Miglyol 810, 812 및 818 로 시판되는 것, 호호바유 또는 카리테 버터(karite butter)유;

- 특히 지방산의, 합성 에스테르 및 합성 에테르, 예를 들어 화학식 R¹COOR²및 R¹OR²의 오일(여기서, R¹은 탄소수 8 내지 29 인 지방산 잔기를 나타내며, R²는 탄소수 3 내지 30 의 분지형 또는 비분지형 탄화수소계 쇄를 나타냄), 예를 들어 푸르셀린(purcellin)유, 이소노닐 이소노나노에이트, 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 2-에틸헥실 팔미테이트(또는 옥틸 팔미테이트), 2-옥틸도데실 스테아레이트, 2-옥틸도데실 에루케이트, 이소스테아릴 이소스테아레이트; 히드록시화된 에스테르, 예컨대 이소스테아릴 락테이트, 옥틸 히드록시스테아레이트,옥틸도데실 히드록시스테아레이트, 디이소스테아릴 말레이트, 트리이소세틸 시트레이트 및 지방 알킬 헵타노에이트, 옥타노에이트 및 데카노에이트; 폴리올 에스테르, 예를 들어 프로필렌 글리콜 디옥타노에이트, 네오펜틸 글리콜 디헵타노에이트 및 디에틸렌 글리콜 디이소노나노에이트; 및 펜타에리트리톨 에스테르, 예를 들어 펜타에리트리틸 테트라이소스테아레이트;

- 광물성 또는 합성 선형 또는 분지형 탄화수소, 예컨대 휘발성 또는 비휘발성 유동 파라핀, 및 이의 유도체, 바셀린, 폴리데센, 및 수소화 폴리이소부텐, 예컨대 Parleam(등록상표) 오일;

- 탄소수 8 내지 26 인 지방 알콜, 예컨대 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 이의 혼합물(세테아릴 알콜), 옥틸도데칸올, 2-부틸옥탄올, 2-헥실데칸올, 2-운데실펜타데칸올, 올레일 알콜 또는 리놀레일 알콜;

- 알콕시화, 특히 에톡시화 지방 알콜, 예컨대 올레트(oleth)-12 또는 세테아레트-20;

- 부분 탄화수소계 및/또는 실리콘계 플루오로 오일, 예를 들어 문헌 JP-A-2 295 912 에 기술된 것들. 또한 언급될 수 있는 플루오로 오일의 예로는 BNFL Fluorochemicals 사에서 명칭 "Flutec PC1(등록상표)" 및 "Flutec PC3(등록상표)"로 시판되는, 퍼플루오로메틸시클로펜탄 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산; 퍼플루오로-1,2-디메틸시클로부탄; 퍼플루오로알칸, 예컨대 3M 사에서 명칭 "PF 5050(등록상표)" 및 "PF 5060(등록상표)"로 시판되는, 도데카플루오로펜탄 및 테트라데카플루오로헥산, 또는 대안적으로 Atochem 사에서 명칭 "Foralkyl(등록상표)"로 시판되는 브로모퍼플루오로옥틸; 3M 사에서 명칭 "MSX 4518(등록상표)"로 시판되는 노나플루오로메톡시부탄, 및 노나플루오로에톡시이소부탄; 퍼플루오로모르폴린 유도체, 예컨대 3M 사에서 명칭 "PF 5052(등록상표)"로 시판되는 4-트리플루오로메틸퍼플루오로모르폴린;

- 실리콘 오일, 예를 들어 실온에서 액체 또는 페이스트성인, 선형 또는 시클릭 실리콘 쇄를 포함하는 휘발성 또는 비휘발성 폴리메틸실록산(PDMS), 특히 시클로폴리디메틸실록산(시클로메티콘), 예컨대 시클로헥사실록산; 실리콘 쇄의 말단에 있는 또는 매달린(pendent), 알킬, 알콕시 또는 페닐기(이들 기는 탄소수 2 내지 24 임)를 포함하는 폴리디메틸실록산; 페닐실리콘, 예를 들어 페닐트리메티콘, 페닐디메티콘, 페닐트리메틸실록시디페닐실록산, 디페닐디메티콘, 디페닐메틸디페닐트리실록산, 2-페닐에틸트리메틸실록시실리케이트 및 폴리메틸페닐실록산;

- 이의 혼합물.

상기 언급된 오일 목록에서, 표현 "탄화수소계 오일"이란, 주로 탄소 및 수소 원자를, 그리고 선택적으로 에스테르, 에테르, 플루오로, 카르복실산 및/또는 알콜기를 포함하는 임의 오일을 의미한다.

본 발명에 따른 조성물은 이온성 또는 비이온성 에멀션화제(이의 선택은 목적하는 에멀션(W/O 또는 O/W)에 의존함)를 함유할 수 있다. 사용될 수 있는 에멀션화제는 해당 분야에서 일반적으로 사용되는 것들이다.

언급될 수 있는 에멀션화제로는, 예를 들어 비이온성 계면활성제, 예컨대 폴리올의 지방산 에스테르, 및 이의 옥시알킬렌화, 특히 옥시에틸렌화 유도체; 폴리올의 지방산 에테르, 및 이의 옥시알킬렌화, 특히 옥시에틸렌화 유도체, 및 이의 혼합물이 포함된다. 이들이 폴리올의 옥시알킬렌화 지방산 에스테르 또는 폴리올의 옥시알킬렌화 지방 알콜 에테르인 경우, 예를 들어 1 내지 150 개의 옥시알킬렌화, 특히 옥시에틸렌화 기가 있을 수 있다. 언급될 수 있는 에멀션화제로는, 보다 특히는 ICI 사에서 명칭 Arlacel 165 로 시판되는 PEG-100 스테아레이트 및 글리세릴 스테아레이트의 혼합물; 1 내지 100 개의 옥시에틸렌화 기를 포함하는 폴리옥시에틸렌화 지방 알콜 에테르, 예컨대 세테아레트-12 및 세테아레트-20, 및 또한 이들을 포함하는 혼합물, 예를 들어 Henkel 사에서 명칭 Emulgade CM 으로 시판되는 혼합물 (세테아릴 이소노나노에이트, 세테아레트-20, 세테아릴 알콜, 글리세릴 스테아레이트, 글리세롤, 세테아레트-12 및 세틸 팔미테이트의 혼합물)이 포함된다. 상기 언급된 에멀션화제는 O/W 에멀션의 제조에 사용된다.

화장 및 불순물의 제거를 촉진하고 조성물이 발포되도록 하는, 비이온성, 음이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성(zwitterionic) 계면활성제가 또한 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있다. 이들은 특히 발포 계면활성제일 수 있다. 언급될 수 있는 상기 형태의 계면활성제로는, 예를 들어 하기가 포함된다:

(1) 비이온성 계면활성제 중에서, 옥시에틸렌화 옥시프로필렌화 블록 중합체, 예컨대 Poloxamer 184 (CTFA 명칭); 알킬폴리글리코시드, 특히 탄소수 6 내지 30(C₆-C₃₀알킬폴리글루코시드), 바람직하게는 탄소수 8 내지 16의 알킬기를 갖는 알킬폴리글루코시드(APG), 예를 들어 데실글루코시드 (C9/C11)-알킬폴리글루코시드(1.4), 예컨대 Kao Chemicals 사에서 명칭 Mydol 10 으로 시판되는 제품, Henkel 사에서 명칭 Plantaren 2000 UP 또는 Plantacare 2000 UP 로 시판되는 제품, 및 SEPPIC 사에서 Oramix NS 10 으로 시판되는 제품; 카르릴릴/카프릴 글루코시드, 예를 들어 SEPPIC 사에서 명칭 Oramix CG 110 으로 시판되는 제품; 라우릴글루코시드, 예를 들어 Henkel 사에서 명칭 Plantaren 1200 N 및 Plantacare 1200 으로 시판되는 제품; 및 코코글루코시드, 예를 들어 Henkel 사에서 명칭 Plantacare 818/UP 로 시판되는 제품;

(2) 음이온성 계면활성제 중에서, 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트 및 이의 염, 특히 이의 소듐 염, 예를 들어 Henkel 사에서 명칭 Texapon ASV 로 시판되는 소듐 라우레트 술페이트/마그네슘 라우레트 술페이트/소듐 라우레트-8 술페이트/마그네슘 라우레트-8 술페이트의 혼합물; Henkel 사에서 명칭 Sipon AOS 225 또는 Texapon N702 Paste 로 시판되는 소듐 라우릴 에테르 술페이트 (70/30 C12-14) (2.2 EO), Henkel 사에서 명칭 Sipon LEA 370 으로 시판되는 암모늄 라우릴 에테르 술페이트 (70/30 C12-C14) (3 EO); Rhodia Chimie 사에서 명칭 Rhodapex AB/20 으로 시판되는 암모늄 (C12-C14) 알킬 에테르 (9 EO) 술페이트;

(3) 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제 중에서, 알킬아미도 알킬아민 유도체, 예컨대 Rhodia Chimie 사에서 명칭 Miranol C2M CONC NP 로 염류 수용액으로서 시판되는 N-디소듐 N-코코일-N-카르복시메톡시에틸-N-카르복시메틸에틸렌디아민 (CTFA 명칭: 디소듐 코코암포디아세테이트); N-소듐 N-코코일-N-히드록시에틸-N-카르복시메틸에틸렌디아민 (CTFA 명칭: 소듐 코크암포아세테이트) 및 코코넛 산 에탄올아미드의 혼합물 (CTFA 명칭: 코코아미드 DEA).

또한, 조성물은 이들 계면활성제의 혼합물을 함유할 수 있다.

기재에 함침되는데 사용되는 조성물은 또한 해당 분야에서 통상 사용되는 보조제, 예를 들어 하기와 같은 것을 함유할 수 있다: 유기 용매, 가용화제, 친수성 또는 친유성 증점제 및 겔화제, 연화제, 산화방지제, 불투명화제, 안정화제, 발포제, 충진제, 킬레이트화제, 향료, 스크리닝제, 정유, 염료, 안료, 친수성 또는 친유성 활성제, 하나 이상의 활성제를 임의 캡슐화하는 지질 소포(lipid vesicle), 또는 화장품 또는 피부학에서 일반적으로 사용되는 임의의 기타 성분. 또한, 상기 언급된 것 이외의 다른 보존제를 임의 함유할 수도 있다. 본 발명에 따른 조성물의 각종 구성성분의 양은 해당 분야에서 통상 사용되는 것이다. 물론, 이들 보조제는 본 발명에 따른 보존 체계를 파열시키지 않도록 하는 양으로 사용되어야 하고 그러한 특성의 것이어야 한다. 이들 보조제의 양은 예를 들어, 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 30 중량% 의 범위일 수있다.

언급될 수 있는 활성제로는 이 목록에 제한됨이 없이 예를 들어, 피부의 과도한 피지를 세정하기 위한 항지루(antiseborrhoeic) 활성제, 및 피부에 존재할 수 있는 임의 미생물을 피부에서 제거하는 항미생물제, 및 이의 혼합물이 포함된다.

언급될 수 있는 항지루 활성제로는, 예를 들어 황 및 황 유도체, 벤조일 퍼옥시드, 아연 유도체, 예컨대 아연 술페이트 및 산화아연, 알루미늄 클로라이드, 셀렌 디술파이드, 비타민 B, 특히 판테놀(비타민 B5) 및 니아신아미드(비타민 B6 또는 PP), 및 이의 혼합물이 포함된다.

하기의 활성제를 항미생물제로서 예를 들어 언급할 수 있다: β-락탐 유도체, 퀴놀론 유도체, 시프로플록사신, 노르플록사신, 테트라시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 에리트로마이신 및 이의 염(아연, 에스톨레이트 또는 스테아레이트 염), 아미카신 및 이의 염(술페이트), 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르(트리클로산), 3,4,4'-트리클로로바닐리드(트리카르반), 페녹시에탄올, 페녹시프로판올, 페녹시이소프로판올, 독시시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 카프레오마이신 및 이의 염(술페이트), 클로르헥시딘 및 이의 염(글루코네이트, 히드로클로라이드), 클로로테트라시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 옥시테트라시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 클린다마이신 및 이의 염(히드로클로라이드), 에탐부톨 및 이의 염(히드로클로라이드), 헥사미딘 및 이의 염(이세티오네이트), 메트로니다졸 및 이의 염(히드로클로라이드), 펜타미딘 및 이의 염(히드로클로라이드), 겐타마이신 및 이의 염(술페이트), 카나마이신 및 이의 염(술페이트), 리네오마이신 및 이의 염(히드로클로라이드), 메타시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 메텐아민 및 이의 염(히프푸레이트, 만델레이트), 미노시클린 및 이의 염(히드로클로라이드), 네오마이신 및 이의 염(술페이트), 네틸미신 및 이의 염(술페이트), 파로모마이신 및 이의 염(술페이트), 스트렙토마이신 및 이의 염(술페이트), 토브라마이신 및 이의 염(술페이트), 미코나졸 및 이의 염(히드로클로라이드), 아만파딘 및 이의 염(술페이트, 히드로클로라이드), 옥토피록스, 파라-클로로-메타-자일레놀, 나이스타틴(nystatin), 톨나프테이트, 아연 파이리티온, 클로트리마졸, 살리실산, 5-n-옥타노일살리실산(또는 카프릴로일살리실산), 벤조일 퍼옥시드, 3-히드록시벤조산, 글리콜산, 락트산, 4-히드록시벤조산, 아세틸살리실산, 2-히드록시부타노산, 2-히드록시펜타노산, 2-히드록시헥사노산, 피트산, N-아세틸-L-시스테인 산, 리포산, 아젤라산, 아라키돈산, 이부프로펜, 나프록센, 히드로코르티손, 아세타미노펜, 레소르시놀, 리도카인 히드로클로라이드, 네오마이신 술페이트, 옥톡시글리세롤, 옥타노일글리신(또는 카프릴로일글리신), 카프릴릴글리콜(1,2-옥탄디올) 및 10-히드록시-2-데카노산, 및 이의 혼합물.

바람직한 항미생물제는 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르, 3,4,4'-트리클로로바닐리드, 페녹시에탄올, 페녹시프로판올, 페녹시이소프로판올, 클로르헥시딘 및 이의 염, 옥토피록스, 아연 파이리티온, 살리실산, 5-n-옥타노일살리실산, 벤조일 퍼옥시드, 3-히드록시벤조산, 글리콜산, 락트산, 4-히드록시벤조산, 아세틸살리실산, 2-히드록시부타노산, 2-히드록시펜타노산, 2-히드록시헥사노산, 피트산, N-아세틸-L-시스테인 산, 리포산, 아젤라산, 아라키돈산, 옥톡시글리세롤, 옥타노일글리신, 카프릴릴 글리콜, 10-히드록시-2-데카노산, 및 이의 혼합물이다.

언급될 수 있는 친수성 겔화제로는 특히 하기가 포함된다: 카르복시비닐 중합체, 예컨대 카보머; 개질 아크릴산 공중합체, 예컨대 아크릴레이트/알킬아크릴레이트 공중합체, 예를 들어 Goodrich 사에서 명칭 Pemulen 으로 시판되는 제품; 폴리아크릴아미드, 예를 들어 SEPPIC 사에서 명칭 Sepigel 305 로 시판되는 제품, 또는 상표명 "Hostacerin AMPS"로 Hoechst 사에서 시판되는 폴리(2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산) (CTFA 명칭: 암모늄 폴리아크릴디메틸타우르아미드); 다당류,특히 셀룰로오스 유도체 및 천연 고무, 예를 들어 잔탄 고무 또는 구아 고무; 및 점토. 언급될 수 있는 친유성 겔화제로는 개질 점토, 예를 들어 벤톤, 지방산의 금속 염, 소수성 실리카, 폴리에틸렌, 및 이의 혼합물이 포함된다. 또한 사용될 수 있는 겔화제로는 소수성 관능을 갖는 중합체, 예컨대 소수성 쇄를 갖는 다당류, 예를 들어 4차화 구아 고무가 포함된다.

본 발명에 따른 조성물은 유리하게는 2-피롤리돈-5-카르복실산이 없다.

본 발명에 따른 조성물은 당업자들에게 잘 공지된 기법에 따라 제조된다.

본 발명의 한 특정 구현예에 따라, 조성물은 PIT 에멀션의 형태이다. O/W 에멀션을 수득하기 위한 이 기법의 원리는 당업자들에게 잘 공지되어 있으며, 특히 논문 ["Phase inversion emulsification", Th. Forster 등 저, Cosmetics & Toiletries 출판, Vol. 106, 1991년 12월, pp. 49∼52], ["Application of the phase-inversion-temperature method to the emulsification of Cosmetics", T. Mitsui 등 저, American Cosmetics and Perfumery 출판, vol. 87, 1972년 12월]에 기술되어 있다. 이의 원리는 하기와 같다: 계의 상 반전 온도(PIT), 즉, 사용되는 에멀션화제(들)의 친수 성질과 친유 성질 간의 평형이 달성되는 온도 보다 틀림없이 높은 온도에서 W/O 에멀션을 제조(오일로의 물의 도입)한다; 상승된 온도(> PIT)에서, 상기 에멀션은 유중수 형태의 것이고, 그의 냉각 동안, 상 반전 온도에서 상기 에멀션은 반전하여 이번에는 수중유 형태의 에멀션이 되고, 이는 사전에 마이크로에멀션 상태를 통과함으로써 그렇게 된다. 상기 기법은 지방성 상을 구성하는 소구체립(粒)의 평균 크기가 분명하게 정의된 한계 내, 즉 50 내지 1000 nm사이인, "초미세(ultrafine)" O/W 에멀션을 생성시킨다. 상기 에멀션은 극도로 유체이며, 수불용성 기재에 함침시켜 클렌징 물품 또는 와이프를 구성하는데 특히 적합하다. 한 특정 구현예에 따라, PIT 에멀션은 농축된 형태로 제조된 후, 통상적으로 함침 직전에, 예비용해된 보존제의 모두 또는 일부를 또한 함유할 수 있는 수성 상의 신선한(fresh) 부분으로 희석된다.

수불용성 기재는 부직포 재료의 군에서 선택된다. 특히 천연 기원(아마, 모, 면 또는 견) 또는 합성 기원(셀룰로오스 유도체, 비스코스, 폴리비닐 유도체, 폴리에스테르, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리올레핀, 예컨대 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌, 폴리아미드, 예컨대 나일론, 또는 아크릴산 유도체)의 섬유를 기재로 한 부직포 기재일 수 있다. 부직포는 통상 [Riedel, "Nonwoven bonding methods & materials", Nonwoven World (1987)] 에 기술되어 있다. 이들 기재는 부직포 제조를 위한 기법의 일반 공정에 따라 수득된다. 본 발명의 한 특정 구현예에 따라, 상기 불용성 기재는 섬유에 살생제를 접목하기 위한 공지된 수단에 의해 지지물에 결합된, 본 발명의 보존제 하나 이상을 포함할 수 있다.

상기 기재는 동일 또는 상이한 성질을 가진 하나 이상의 층을 포함할 수 있으며, 목적하는 용도에 적합한 탄성, 연도 및 기타 성질을 가질 수 있다. 상기 기재는 예를 들어, 문헌 WO-A-99/13861 에 기술된 바와 같이, 상이한 탄성의 성질을 갖는 두 부분을 포함할 수 있거나, 또는 문헌 WO-A-99/25318 에 기술된 바와 같이, 상이한 밀도를 갖는 단일 층을 포함할 수 있거나, 또는 문헌 WO-A-98/18441 에 기술된 바와 같이, 상이한 조직의 두 층을 포함할 수 있다.

기재는 원하는 목적에 적합한 임의 크기 및 임의 모양을 가질 수 있다. 통상적으로 표면적이 0.005 ㎡ 내지 0.1 ㎡, 바람직하게는 0.01 ㎡ 내지 0.05 ㎡ 이다. 바람직하게는 직사각형 와이프 또는 둥근 압축물의 형태이다.

기재 및 함침 조성물을 포함하는 최종 물품은, 통상적으로 예를 들어 기재의 중량에 대해 조성물이 200 중량% 내지 1000 중량%, 바람직하게는 250 중량% 내지 350 중량% 의 범위인 조성물의 함침도를 갖는, 습윤 상태이다. 기재에 조성물을 함침시키는 기법은 당 분야에 잘 공지되어 있으며, 모두 본 출원에 적용가능하다. 통상적으로, 함침 조성물은, 침지, 코팅, 기화 등을 포함하는 하나 이상의 기법에 의해 기재에 첨가된다.

또한, 조성물을 기재에 함침시킨 후 조성물에서 물을 제거함으로써, 또는 분말, 과립 또는 필름의 형태로의 건조 형태인 조성물을 임의의 공지된 제조 수단, 예를 들어 초음파에 의해 또는 열적으로의 다층의 접합 및 용접에 의해 기재에 함침시킴으로써 건조 형태의 와이프를 만드는 것도 가능하다. 상기 마지막 구현예에 있어서, 조성물은 임의 공지된 수단에 의해 건조된다: 분무, 동결건조 또는 기타 유사한 공정.

이에 습윤 와이프 또는 건조 와이프가 의도된 용도에 따라 수득될 수 있다. 건조 와이프는 사용 전에 습윤화되는 반면에, 습윤 와이프는 변형되지 않은 형태로 사용될 수 있다.

또한, 본 발명의 주제는 피부 및/또는 눈을 가로질러 상기 정의된 바와 같은 물품을 지나가게 하는 것으로 이루어지는, 피부 및/또는 눈의 클렌징 및/또는 화장제거를 위한 화장 방법이다.

하기의 본문에 걸쳐, 백분율은 달리 언급되는 곳을 제외하고, 중량 기초로 주어진 것이다.

본 발명의 기타 특징 및 이점은, 특성을 제한함이 없이 실례로서 순수히 주어지는 하기의 실시예에서 드러날 수 있다.

시험

하기의 시험은 미생물 상에서 본 발명에 따른 조합물의 활성을 입증한다.

상기 시험을 수행하기 위한 단계는 하기와 같다:

ㆍ제 1 단계: 유체 단독 상에서

1) 사용된 균주의 미생물 배양:

엔테로코쿠스 파에칼리스(Enterococcus faecalis) (세균)

칸디다 알비칸스(Candida albicans) (효모)

아스페르길루스 니게르(Aspergillus niger) (곰팡이)

상기 균주들은 트립톤-염 배지에서 준비된다.

2) 접종물의 준비:

접종물은 10⁸미생물/㎖ 을 함유한 현탁액이 수득되도록 희석된 적합한 한천 영양 배지 상에서의 상기 시험 미생물의 24 시간 배양으로 이루어진다. 5개 접종물의 카운팅(counting)을 수행한다.

3) 시료의 준비:

시험 생성물 20 g 을 필 보틀(pill bottle)로 공지된 5개 유리 플라스크에 넣는다.

4) 접종:

각 균주의 접종물 0.2 ㎖ 를 상이한 필 보틀에 넣고 균질화시킨다. 이에 10⁶미생물/g 의 오염물이 수득된다. 그 후, 필 보틀을 22℃에서 7 일동안 배양한다.

5) 샘플링 및 카운팅:

7 일동안의 배양 이후, 생성물 1 g 을 각각의 필 보틀에서 취한다. 보존제의 활성을 중단시킬 보존제 억제제를 함유한 희석제로 10배 희석을 수행한다. 이들 희석액을 한천 페트리 접시의 표면에 씌운 후, 35℃ 에서 배양한다. 카운팅을 7 일동안 수행한다.

미생물의 수는 보존 체계에 대해 100 미만이어야 만족스럽다.

ㆍ제 2 단계: 함침된 와이프 상에서

하기의 5 균주 250 ㎕ 의 접종:

→슈도모나 아에루기노사 (Pseudomona aeruginosa) (세균)

→황색포도상구균 (Staphylococcus aureus) (세균)

→대장균 (Escherichia coli) (세균)

→아스페르길루스 니게르 (곰팡이)

→칸디다 알비칸스 (효모)

7 일째에 그의 합계가 시험된 미생물 모두에 대한 대조군의 합계 이하인 조성물은 만족스러운 것으로 고려되며, "순응적(compliant)"으로 표시한다. 그 외의 제형물은 "비순응적"으로 표시한다.

하기의 조합물이 시험되었다:

(1)본 발명에 따른 조합물 1:

→메틸 p-히드록시벤조에이트 (메틸파라벤)0.2 %

→쿼터늄-150.025 %

→에틸렌디아민 테트라아세트산 2수화물의

디소듐염0.1 %

(2)조합물 2 (비교예)

→메틸 p-히드록시벤조에이트 (메틸파라벤)0.2 %

→프로필 p-히드록시벤조에이트 (프로필파라벤)0.1 %

→클로르페네신0.1 %

→소듐 메타비술파이트0.005 %

(3)조합물 3 (비교예)

→메틸 p-히드록시벤조에이트 (메틸파라벤)0.2 %

→프로필 p-히드록시벤조에이트 (프로필파라벤)0.1 %

→이미다졸리디닐우레아0.25 %

→13 % 물을 함유한 에틸렌디아민테트라아세트산의

테트라소듐 염0.05 %

(4)조합물 4 (비교예)

→물 중 20 % 로의 폴리헥사메틸렌-비구아나이드

히드로클로라이드0.75 %

(5)조합물 5 (비교예)

→메틸 p-히드록시벤조에이트 (메틸파라벤)0.2 %

→프로필 p-히드록시벤조에이트 (프로필파라벤)0.1 %

→이미다졸리디닐우레아0.3 %

(6)조합물 6 (비교예)

→폴리에틸렌 글리콜 모노-디-코코에이트

및 폴리에틸렌 글리콜 (4 EO) (10/40/40/10) 중의

3-요오도-2-프로피닐 부틸 카르바메이트0.15 %

본 세균학적 연구에 있어서, 참조물로서 하기의 보존 체계를 사용하였다:

→페녹시에탄올0.5 %

→메틸 p-히드록시벤조에이트 (메틸파라벤)0.2 %

→에틸렌디아민테트라아세트산 2수화물의

디소듐염0.05 %

→13% 물을 함유한 에틸렌디아민테트라아세트산의

테트라소듐염0.05 %

얻어진 결과를 하기 표 1 에 대조한다:

	참조물	조합물1	조합물2	조합물3	조합물4	조합물5	조합물6
메틸 p-히드록시벤조에이트	0.2%	0.2%	0.2%	0.2%		0.2%
프로필 p-히드록시벤조에이트			0.1%	0.1%		0.1%
페녹시에탄올	0.5%
쿼터늄-15		0.025%
이미다졸리디닐우레아				0.25%		0.3%
클로르페네신			0.1%
소듐 메타-비술파이트			0.005%
13% 물을 함유한 에틸렌디아민테트라아세트산의 테트라소듐염	0.05%			0.05%
에틸렌디아민테트라아세트산 2수화물의 디소듐염	0.05%	0.1%
물 중 20% 로의 폴리헥사메틸렌-비구아나이드 히드로클로라이드					0.75%
폴리에틸렌 글리콜 모노-디-코코에이트 및 폴리에틸렌 글리콜 (4 EO) (10/40/40/10) 중의 3-요오도-2-프로피닐 부틸 카르바메이트							0.15%

결과
	참조물	조합물1	조합물2	조합물3	조합물4	조합물5	조합물6
7 일 이후 유체에대한 미생물의 수	< 100	< 100	< 100	< 100	< 100	< 100	< 100
7 일 이후 와이프상의 미생물의 수	순응적	순응적	비순응적	비순응적	대장균에 대해비순응적	P. 아에루기노사에 대해비순응적	P. 아에루기노사, 황색포도상구균 및 대장균에 대해비순응적

상기 결과는 오직 본 발명에 따른 계만이 참조물과 동등한 결과를 제공하며, 동시에 무해성의 관점에서 전혀 문제점을 갖지 않는 생성물을 제공한다는 것을 나타낸다.

조성물 실시예

본 발명에 따른 조성물의 하기 실시예가, 특성을 제한함이 없이 실례로서 주어진다. 여기에서의 양은 달리 언급되는 곳을 제외하고, 중량%로 주어진 것이다.

실시예 1: 화장 제거 밀크 (O/W 에멀션)

상 A:

- 글리세릴 스테아레이트/PEG-100 스테아레이트 (Arlacel 165)

0.6 %

- 세틸 알콜0.15 %

- 향료qs

상 B:

- 메틸파라벤0.2 %

- 에틸렌디아민테트라아세트산 2수화물의

디소듐염0.1 %

- 탈염수 qs 100 %

상 C:

- 카보머0.1 %

- 잔탄 고무0.1 %

- 이소프로필 팔미테이트 5 %

상 D:

- 트리에탄올아민0.1 %

상 E:

- 쿼터늄-150.025 %

- 탈염수30 %

절차: 상 A 및 B 를 개별적으로 75/80℃ 에서 가열한다. 상 A 를 교반하며 상 B 에 첨가한 후, 5 분 동안 상기 교반을 유지한다. 그 후, 상 C 및 D 를 첨가하고, 이어서 교반하며 냉각한다. 상 E 를 30℃ 에서 첨가한다. 혼합물을 실온(약 25℃)으로 냉각하고, 밀크를 수득한다.

상기 화장 제거 밀크가 함침된 와이프는 자극없이 얼굴 및 눈에서 화장이 제거되게 하는 동시에, 매우 우수한 항균 보존성을 갖는다.

실시예 2: 화장 제거 밀크 (PIT 에멀션)

상 A:

- 세테아릴 이소노나노에이트1.8 %

- 세테아릴 알콜0.75 %

- 옥시에틸렌화 (20 EO) 세테아릴 알콜 (세테아레트 20)

0.75 %

- 옥시에틸렌화 (12 EO) 세테아릴 알콜 (세테아레트 12)

0.05 %

- 글리세롤0.25 %

- 글리세릴 스테아레이트0.25 %

- 벤조산0.1 %

- 세틸 팔미테이트0.05 %

- 향료0.1 %

- 탈염수6 %

상 B:

- Cognis 에서 명칭 Plantacare 2000 으로 시판되는 53% 수용액으로서의

(C8/10/12/14/16)알킬 폴리글루코시드 (1.4) 0.1 %

- 메틸파라벤0.2 %

- 에틸렌디아민테트라아세트산 2수화물의

디소듐염0.1 %

- 쿼터늄-150.025 %

- 탈염수 qs 100 %

절차: 상 A 는 상 반전 온도 공정 (PIT 기법)에 따른 에멀션화에 대해 공지된 수단에 의해 제조된다. 실온으로의 냉각 이후, 상 B 는 완만한 쏠림없는(non-shear) 교반과 함께 도입한다. 한 바람직한 제조 방법에 따라, Cognis 사에서 명칭 Emulgade CM 으로 시판되는, 세테아릴 이소노나노에이트, 세테아레트-20, 세테아릴 알콜, 글리세릴 스테아레이트, 글리세롤, 세테아레트-12 및 세틸 팔미테이트의 혼합물이 상 A 를 제조하는데 사용된다. 실온에서 상기 혼합물로 향료를 도입한 후, 상 B 를 지지물 함침 직전에 도입한다.

실시예 3: 화장 제거 로션 (수성 로션)

- 디소듐 코코암포디아세테이트

(Rhodia Chimie 의 Miranol C2M CONC NP)1.2 %

- 헥실렌 글리콜1 %

- 메틸파라벤0.1 %

- 디소듐 EDTA0.1 %

- 쿼터늄-150.02 %

- 트리에탄올아민0.08 %

- 탈염수 qs 100 %

절차: 탈염수를 80℃로 가열하고, 이어서 교반하며 디소듐 코코암포디아세테이트, 헥실렌 글리콜, 메틸파라벤, 그후 디소듐 EDTA 를 연속 첨가한다. 상기 혼합물을 교반하며 40℃로 냉각한다. 상기 온도에서, 쿼터늄-15 를 첨가하고, 이어서 트리에탄올아민을 첨가한다. 상기 혼합물을 25℃로 냉각하고, 로션을 수득한다.

단위면적 당 중량 65 g/㎡ 인 70/30 비스코스/폴리에스테르 부직포에 실시예 1 ∼ 3 의 조성물로, 부직포 중량에 대해 325 중량%의 조성물을 함침시킨 후, 150 ㎝ ×200 ㎝ 크기의 직사각형 와이프 형태로 절단한다.

또한, 발포 폴리우레탄에 예를 들어, 실시예 1 ∼ 3 의 조성물로, 발포물 중량에 대해 100 중량%의 조성물을 함침시킬 수도 있다. 유리하게는, 직경 70 mm, 두께 1.5 mm 인 둥근 압착물의 형태일 것이다.

와이프 상에서의 항균 효능이 동일 농도 범위에서 적어도 종래 기술의 체계만큼 효과적이면서 그들의 결점을 가지지 않고, 특히 피부 또는 눈에 대해 자극이 없는 신규한 보존 체계가 제공된다.

특히, N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드 또는 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아조-1-아조늄아다만탄 클로라이드 (CTFA 명칭: 쿼터늄 (Quaternium)-15 로도 공지되어 있음)의 사용, 심지어 극소량으로의 사용도 미생물(세균, 효모 및 곰팡이)에 대해 특히 효과적인 보호를 부여하며, 지지물 상으로의 함침에 적합한 조성물을 제공한다.

Claims (27)

1. 하기를 포함하는 피부용 와이프(Wipe): (A) 부직포 수불용성 기재, 및 (B) 수성 상, 및 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.05 중량%의 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 생리학적으로 허용가능한 매질 중에 함유하며 상기 기재에 첨가 또는 함침된 조성물.
2. 제 1 항에 있어서, 조성물이 이의 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.03 중량%의 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트, 에틸렌디아민테트라아세트산 염, 및 이의 혼합물에서 선택되는 하나 이상의 보존제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
4. 제 3 항에 있어서, C₁-C₄알킬 파라-히드록시벤조에이트가 메틸 파라-히드록시벤조에이트, 에틸 파라-히드록시벤조에이트, 프로필 파라-히드록시벤조에이트, 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
5. 제 4 항에 있어서, 파라-히드록시벤조에이트가 메틸 파라-히드록시벤조에이트인 것을 특징으로 하는 와이프.
6. 제 3 항에 있어서, 에틸렌디아민테트라아세트산 염이 에틸렌디아민테트라아세트산의 디소듐 염, 에틸렌디아민테트라아세트산의 테트라소듐 염, 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
7. 제 3 항에 있어서, 조성물이 0.005 중량% 내지 0.3 중량%의 알킬 파라-히드록시벤조에이트를 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
8. 제 3 항에 있어서, 조성물이 이의 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.2 중량%의 에틸렌디아민테트라아세트산 염을 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물의 점도가 100 mPa.s 미만인 것을 특징으로 하는 와이프.
10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 수성 또는 수성-알콜성 용액, 에멀션, 마이크로에멀션, 수성 또는 수성-알콜성 겔, 또는 소낭성 분산액의 형태인 것을 특징으로 하는 와이프.
11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 O/W 에멀션의 형태인 것을 특징으로 하는 와이프.
12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 PIT 에멀션의 형태인 것을 특징으로 하는 와이프.
13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 폴리올의 지방산 에스테르; 폴리올의 옥시알킬렌화 지방산 에스테르; 폴리올의 지방 알콜 에테르; 폴리올의 옥시알킬렌화 지방 알콜 에테르; 및 이의 혼합물에서 선택되는 에멀션화제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
14. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 유기 용매, 가용화제, 증점제 및 겔화제, 연화제, 산화방지제, 불투명화제, 안정화제, 발포제, 충진제, 킬레이트화제, 향료, 스크리닝제, 정유, 염료, 안료, 활성제 및 지질 소포에서 선택되는 하나 이상의 보조제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
15. 제 14 항에 있어서, 활성제가 항지루(antiseborrhoeic) 활성제, 항미생물 활성제, 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
16. 제 15 항에 있어서, 항지루 활성제가 황 및 황 유도체, 벤조일 퍼옥시드, 아연 유도체, 알루미늄 클로라이드, 셀렌 디술파이드, 판테놀, 니아신아미드, 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
17. 제 15 항에 있어서, 항미생물 활성제가 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르, 3,4,4'-트리클로로바닐리드, 페녹시에탄올, 페녹시프로판올, 페녹시이소프로판올, 클로르헥시딘 및 이의 염, 옥토피록스, 아연 파이리티온, 살리실산, 5-n-옥타노일살리실산, 벤조일 퍼옥시드, 3-히드록시벤조산, 글리콜산, 락트산, 4-히드록시벤조산, 아세틸살리실산, 2-히드록시부타노산, 2-히드록시펜타노산, 2-히드록시헥사노산, 피트산, N-아세틸-L-시스테인 산, 리포산, 아젤라산, 아라키돈산, 옥톡시글리세롤, 옥타노일글리신, 카프릴릴 글리콜, 10-히드록시-2-데카노산 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 하나 이상의 발포 계면활성제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
19. 제 18 항에 있어서, 발포 계면활성제가 옥시에틸렌화 옥시프로필렌화 블록 중합체, 알킬폴리글루코시드; 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트 및 이의 염; 알킬아미도 알킬아민 유도체; 및 이의 혼합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 와이프.
20. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물에 2-피롤리돈-5 카르복실산이 없는 것을 특징으로 하는 와이프.
21. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 6 내지 7.5 의 pH 를 갖는 것을 특징으로 하는 와이프.
22. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 로션 또는 밀크의 형태인 것을 특징으로 하는 와이프.
23. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 기재 총중량에 대하여 조성물을 200 중량% 내지 1000 중량% 로 함유하는 것을 특징으로 하는 와이프.
24. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피부 케어 와이프, 피부 트리트먼트 와이프, 또는 피부 케어 및 트리트먼트 와이프인 것을 특징으로 하는 와이프.
25. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피부, 눈, 또는 피부 및 눈 모두의 클렌징, 화장 제거, 또는 클렌징 및 화장 제거용 와이프인 것을 특징으로 하는 와이프.
26. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 지성 피부 또는 여드름성 피부의 클렌징용인 와이프.
27. 수성 상, 및 미생물 박멸을 위한 제제로서 조성물 총중량에 대해 0.01 중량% 내지 0.05 중량% 인 N-(3-클로로알릴)헥사미늄 클로라이드를 함유하며 부직포 수불용성 기재에 함침시키고자 의도된 화장 조성물.