KR200208018Y1 - Abradant for grinding machine - Google Patents
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- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
Abstract
본 고안은 석재연마기에 간편하게 착탈할 수 있도록 함과 아울러 연마재의 연마플레이트가 석재에 골고루 접촉되어 석재의 편모 및 석재연마기로 전달되는 충격을 억제할 수 있도록 구성된 석재 연마기용 연마재에 관한 것이다.The present invention relates to a stone polishing machine abrasive which is configured to be easily detachable to the stone polishing machine and to suppress the impact of the abrasive plate evenly contacted with the stone is transferred to the stone flag and stone polishing machine of the stone.
본 고안의 특징에 따르면, 석재연마기의 연마재고정틀에 결합되는 연마재에 있어서, 상기 연마재는 석재의 표면을 연마하는 연마플레이트와 연마제고정틀에 결합되는 결합플레이트 사이에 충격 및 기울기를 탄력적으로 조절하는 쿠션플레이트가 일체로 결합되어 연마플레이트가 석재의 표면에 골고루 접촉될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 석재 연마기용 연마재가 제공된다.According to a feature of the present invention, in the abrasive coupled to the abrasive frame of the stone polishing machine, the abrasive is a cushion plate for elastically adjusting the impact and the slope between the abrasive plate for polishing the surface of the stone and the coupling plate coupled to the abrasive fixing frame Is integrally coupled so that the polishing plate is provided so that the polishing plate can be in uniform contact with the surface of the stone.
Description
본 고안은 석재를 연마하는 연마재에 관한 것으로, 보다 상세히는 석재연마기에 간편하게 착탈할 수 있도록 함과 아울러 연마재의 연마플레이트가 석재에 골고루 접촉되어 석재의 편모 및 석재연마기로 전달되는 충격을 억제할 수 있도록 구성된 석재 연마기용 연마재에 관한 것이다.The present invention relates to an abrasive for polishing a stone, and more particularly, to be easily detachable to a stone polisher, and to suppress the impact transmitted to the flagellum and stone polisher of the stone by contacting the polishing plate of the abrasive evenly with the stone. It relates to an abrasive for a stone polishing machine configured to.
일반적으로 모터의 회전력에 의해 회전되는 석재연마기의 연마재고정틀에 결합되어 회전되면서 석재의 표면을 평탄하게 연마하는 연마재는 대부분 도 1에 도시한 바와 같이 석재(10)의 표면을 갈아내는 연마플레이트(21)의 상면에 석재연마기(30)의 연마재고정틀(40)에 결합되는 결합플레이트(22)가 일체로 형성되어 구성된다.In general, an abrasive that is coupled to an abrasive fixing frame of a stone polishing machine rotated by a rotational force of a motor and polishes the surface of the stone evenly while being rotated is mostly polished to grind the surface of the stone 10 as shown in FIG. The coupling plate 22 coupled to the abrasive fixing frame 40 of the stone polishing machine 30 is formed integrally on the upper surface of the).
이와 같은 종래의 연마재(20)를 석재연마기(30)의 연마재고정틀(40)에 결합할 경우에는 대부분 연마재고정틀(40)의 부착면(41)에 접착제를 도포하고, 이후 상기 접착재가 도포된 연마재고정틀(40)의 부착면(41)에 연마재(20)의 결합플레이트(22)를 부착하여 결합하였다.When the conventional abrasive 20 is coupled to the abrasive fixing frame 40 of the stone polishing machine 30, most of the conventional abrasives 20 apply an adhesive to the attachment surface 41 of the abrasive fixing frame 40, and then the adhesive material is coated with the adhesive. The bonding plate 22 of the abrasive 20 was attached to the attachment surface 41 of the fixing frame 40 to be bonded.
그러나, 이와 같이 종래의 연마재(20)는 석재(10)의 표면을 연마를 과정에서However, the conventional abrasive 20 in this way to polish the surface of the stone 10 in the process
상기 연마재(20)가 부착된 석재연마기(30)의 연마재고정틀(40)이 석재(10)에 대하여 정확하기 수직 상태가 되질 않으면 즉 연마재고정틀(40)에 부착된 연마재(20)의 연마플레이트(21)가 석재(10)에 대하여 전체적으로 수평상태로 접촉되지 않고 기울어지게 되면, 석재(10)가공에 있어 석재(10)의 표면이 편마되어 석재(10)의 표면을 평탄하게 가공할 수 없게됨으로 석재(10)의 표면 가공에 있어 높은 숙련도가 요구되는 문제점이 있었다.If the abrasive fixing frame 40 of the stone polishing machine 30 to which the abrasive 20 is attached does not become an exact vertical state with respect to the stone 10, that is, the abrasive plate of the abrasive 20 attached to the abrasive fixing frame 40 ( If 21 is inclined without contacting the stone 10 in a horizontal state as a whole, the surface of the stone 10 in the processing of the stone 10 is side by side it is not possible to smoothly process the surface of the stone 10 There was a problem that a high degree of skill is required in the surface processing of the stone 10.
또한, 종래의 연마재(20)를 이용하여 석재(10)의 표면을 연마하다가 연마재(20)가 석재(10)의 돌출된 부분과 순간적으로 부딛치게되면 충격이 석재연마기(30)로 가해지게 되고 상기 석재연마기(30)로 가해진 충격은 상기 석재연마기(30)를 잡고 석재(10)의 표면을 연마하는 작업자에게 전달됨으로 작업자가 쉽게 피로감을 느낄수 있음은 물론 심한 경우 충격으로 인해 작업자가 석재연마기(30)를 놓치게되어 자칫 안전사고를 유발할 수 있게되는 문제점이 있었다.In addition, when the surface of the stone 10 is polished using the conventional abrasive 20, and the abrasive 20 momentarily strikes the protruding portion of the stone 10, an impact is applied to the stone polisher 30. The impact applied to the stone polishing machine 30 is delivered to the worker holding the stone polishing machine 30 and polishing the surface of the stone 10, so that the worker can easily feel fatigue and, in severe cases, the worker may have a stone polishing machine ( 30) missed the problem that could cause a safety accident.
또한, 종래와 같이 연마재고정틀(40)에 연마재(20)를 결합하는 방법은 연마재고정틀(40)의 부착면(41)에 바른 접착재가 굳기 전에 연마재(20)를 부착하는 과정에서 연마재(20)와 연마재고정틀(40)의 중심이 서로 정확히 맞지 않을 경우 상기 연마재(20)와 연마재고정틀(40)의 중심을 서로 맞추기 위해 석재연마기(30)의 연마재고정틀(40)에서 연마재(20)를 띄었다 붙쳤다 반복 시행하다 보면 접착재의 부착력이 떨어지게 되어 연마재(20)가 연마재고정틀(40)에 완전히 밀착 고정되지 못하는 문제점이 있었다.In addition, the method of coupling the abrasive 20 to the abrasive fixing frame 40 as in the prior art is the abrasive 20 in the process of attaching the abrasive 20 before the adhesive material applied to the attachment surface 41 of the abrasive fixing frame 40 is hardened. When the centers of the abrasive fixing frame 40 are not exactly aligned with each other, the abrasive 20 is lifted from the abrasive fixing frame 40 of the stone polishing machine 30 to align the centers of the abrasive 20 and the abrasive fixing frame 40 with each other. Repeatedly repeatedly performed, there is a problem that the adhesive force of the adhesive material is lowered so that the abrasive 20 is not completely tightly fixed to the abrasive fixing frame 40.
또한, 석재(10)를 연마하는 과정에서 연마재(20)의 연마력이 떨어져 새로운 연마재(20)로 교체할 경우에는 칼이나 드라이버 등과 같은 공구를 이용하여 분리시켜야 하기 때문에 매우 힘이 들 뿐만 아니라 연마재고정틀(40) 붙어 잔류된 접착재를 완전히 제거한 후, 세로운 접착재를 사용하여 전술한 바와 같이 연마재(20)를 연마재고정틀(40)에 부착시키다보면 어간 번거롭고 불편하였던 문제점이 있었다.In addition, in the process of polishing the stone 10, the abrasive force of the abrasive 20 is lowered and replaced with a new abrasive 20, because it must be separated using a tool such as a knife or a screwdriver as well as very hard to fix the abrasive frame (40) After completely removing the remaining adhesive material, there was a problem that it was cumbersome and inconvenient to attach the abrasive 20 to the abrasive fixing frame 40 as described above using a new adhesive material.
본 고안은 상기한 바와 같은 문제점에 착안하여 제안된 것으로, 그 목적은 연마재의 연마플레이트가 석재에 골고루 접촉되어 석재의 편모 및 충격이 석재연마기로 전달되는 것을 억제할 수 있도록 함과 아울러 석재연마기에 간편하게 착탈할 수 있도록 구성된 석재 연마기용 연마재를 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been proposed in view of the problems described above, the purpose of which is that the abrasive plate of the abrasive is evenly contacted with the stone to suppress the transfer of stone flagella and impact of the stone to the stone polishing machine It is to provide an abrasive for a stone polishing machine configured to be easily removable.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안의 특징에 따르면, 석재연마기의 연마재고정틀에 결합되는 연마재에 있어서, 상기 연마재는 석재의 표면을 연마하는 연마플레이트와 연마제고정틀에 결합되는 결합플레이트 사이에 충격 및 기울기를 탄력적으로 조절하는 쿠션플레이트가 일체로 결합되어 연마플레이트가 석재의 표면에 골고루 접촉될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 석재 연마기용 연마재가 제공된다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, in the abrasive bonded to the abrasive frame of the stone polishing machine, the abrasive is impact and slope between the abrasive plate for polishing the surface of the stone and the coupling plate coupled to the abrasive frame Cushion plate for elastically adjusting the integrally coupled to provide an abrasive for a stone polishing machine, characterized in that the polishing plate is configured to be evenly in contact with the surface of the stone.
도 1은 종래의 연마재를 나타낸 사시도.1 is a perspective view showing a conventional abrasive.
도 2는 본 고안의 실시예에 의한 연마재를 나타낸 사시도.2 is a perspective view showing an abrasive according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 고안인 연마재를 나타낸 단면도.3 is a cross-sectional view showing an abrasive of the present invention.
도 4a 와 도 4b는 본 고안인 연마재가 연마재고정틀에 결합되어 석재의 표면을 가공하고 있는 모습을 나타낸 단면도.Figure 4a and 4b is a cross-sectional view showing a state in which the abrasive of the present invention is coupled to the abrasive fixing frame to process the surface of the stone.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>
100 : 연마재 110 : 연마플레이트100: abrasive 110: abrasive plate
111 : 연마패드 112 : 연마돌기111: polishing pad 112: polishing projection
120 : 결합플레이트 130 : 쿠션플레이트120: bonding plate 130: cushion plate
131 : 연마층경질판 132 : 완충연질판131: abrasive layer hard plate 132: buffer soft plate
140 : 밸크로테이프 200 : 석재연마기140: Velcro tape 200: stone polishing
210 : 연마재고정틀 211 : 부착면210: abrasive fixing frame 211: mounting surface
212 : 밸크로테이프 300 : 석재212: Velcro tape 300: stone
이하 본 고안인 석재 연마기용 연마재를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, an abrasive for a stone polishing machine.
도 2는 본 고안의 실시예에 의한 연마재를 나타낸 사시도이고, 도 3은 본 고안인 연마재를 나타낸 단면도이다.2 is a perspective view showing an abrasive according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view showing an abrasive of the present invention.
도시한 바와 같이 본 고안의 실시예에 의한 석재 연마기용 연마재는 석재연마기(200)의 연마재고정틀(210)에 결합되는 연마재(100)에 있어서,As shown in the abrasive for the stone polishing machine according to the embodiment of the present invention in the abrasive 100 is coupled to the abrasive fixing frame 210 of the stone polishing machine 200,
상기 연마재(100)는 석재(300)의 표면을 연마하는 연마플레이트(110)와 연마재고정틀(210)에 결합되는 결합플레이트(120) 사이에 충격 및 기울기를 탄력적으로 조절하는 쿠션플레이트(130)가 일체로 결합되어 연마플레이트(110)가 석재(300)의 표면에 골고루 접촉될 수 있도록 구성된 것으로, 상기 연마플레이트(110)는 연마패드(111)의 저면에 석재(300)에 접촉되는 다수의 연마돌기(112)가 일체로 결합되어 구성되며, 상기 연마패드(111)및 연마돌기(112)는 다이아몬드나 플라스틱 등이 이용된다.The abrasive 100 is a cushion plate 130 for elastically adjusting the impact and the slope between the abrasive plate 110 for polishing the surface of the stone 300 and the coupling plate 120 coupled to the abrasive fixing frame 210 It is configured to be integrally coupled so that the polishing plate 110 is evenly in contact with the surface of the stone 300, the polishing plate 110 is a plurality of polishing in contact with the stone 300 on the bottom surface of the polishing pad 111 The protrusion 112 is integrally coupled, and the polishing pad 111 and the polishing protrusion 112 are made of diamond, plastic, or the like.
상기 쿠션플레이트(130)는 연마플레이트(110)의 상면에 결합되며 충격을 탄성적으로 완충시키는 연마층경질판(131)과, 상기 결합플레이트(120)의 저면에 결합되며 충격 및 기울기를 조절하는 완충연질판(132)이 일체로 결합되어 구성되며, 경우에 따라서는 즉 연마되는 석재(300)의 강도나 경도에 따라서는 완충연질판(132)이 생략될 수 있다.The cushion plate 130 is coupled to the upper surface of the polishing plate 110 and the abrasive layer hard plate 131 to elastically cushion the impact, coupled to the bottom surface of the coupling plate 120 to adjust the impact and tilt The buffer soft plate 132 is integrally coupled, and in some cases, that is, the buffer soft plate 132 may be omitted depending on the strength or hardness of the stone 300 to be polished.
또한, 연마층경질판(131)과 완충연질판(132)의 강도는 상기 완충연질판(132) 보다 연마층경질판(131)의 강도가 크도록 성형하는 하는 것이 바람직하며, 상기 결합플레이트(120)는 플라스틱재가 이용되고, 상기 연마층경질판(131)은 고무가 이용되며, 상기 완충연질판(132)은 압축스폰지가 이용된다.In addition, the strength of the abrasive layer hard plate 131 and the buffer soft plate 132 is preferably formed so that the strength of the abrasive layer hard plate 131 is greater than the buffer soft plate 132, the coupling plate ( 120 is a plastic material, the abrasive layer hard plate 131 is a rubber, the buffer soft plate 132 is a compressed sponge is used.
또한, 상기 연마재(100)의 상면과 연마재고정틀(210)의 부착면(211)에 각각 밸크로테이프(140)(212)가 일체로 결합되어 상기 연마재고정틀(210)에 연마재(100)가 탈착 가능하게 결합되도록 구성된다.In addition, the Velcro tapes 140 and 212 are integrally coupled to the upper surface of the abrasive 100 and the attachment surface 211 of the abrasive fixing frame 210 so that the abrasive 100 is detached from the abrasive fixing frame 210. Configured to be coupled as possible.
이와 같이 구성된 본 고안인 연마재(100)의 작용은 다음과 같다.The action of the abrasive 100 of the present invention configured as described above is as follows.
도 4a에 도시한 바와 같이 회전되는 석재연마기(200)의 연마재고정틀(210)에 결합된 연마재(100)를 석재(300)에 접촉시켜 석재(300)의 표면을 연마하다가 석재연마기(200)가 도 4b에 도시한 바와 같이 일측으로 기울러지게 되면, 연마재(100)의 연마플레이트(110)가 석재(300)의 표면에 전체적으로 접촉되지 못하고 연마플레이트(110)의 일부분만이 석재(300)에 접촉되어지는데, 이때 상기 연마재(100)의 쿠션플레이트(130) 일부분 즉 석재연마기(200)가 기울어져 힘이 가해지는 연마재(100)의 쿠션플레이트(130)의 완충연질판(132) 및 연마층경질판(131)이 눌리게되고, 이러한 형상은 연마재(100)의 연마플레이트(110)가 전체가 석재(300)의 표면에 모두 접촉되도록 하기 때문에 석재(300)의 보다 평탄하게 연마할 수 있게된다.As shown in FIG. 4a, the abrasive 100 coupled to the abrasive fixing frame 210 of the rotating stone polishing machine 200 is brought into contact with the stone 300 to polish the surface of the stone 300, and then the stone polishing machine 200 As shown in FIG. 4B, when one side of the polishing plate 110 of the abrasive 100 is not entirely in contact with the surface of the stone 300, only a part of the polishing plate 110 is inclined to the stone 300. In this case, a portion of the cushion plate 130 of the abrasive 100, that is, the stone polishing machine 200 is inclined to the cushioning soft plate 132 and the abrasive layer of the cushion plate 130 of the abrasive 100 is applied to the force The hard plate 131 is pressed, and this shape allows the polishing plate 110 of the abrasive 100 to contact the surface of the stone 300 as a whole, so that the polishing of the stone 300 can be smoother. do.
또한, 석재(300)를 연마하다가 보면, 연마플레이트(110)의 연마돌기(112)가 석재(300)의 돌출된 부분과 순간적으로 부딛쳐 석재연마기(200)로 충격이 가해지게되는데 이러한 경우 상기 연매재의 쿠션플레이트(130)를 이루는 연마층경질판(131)과 완충연질판(132)과 결합경질판이 석재연마기(200)로 전달되는 충격을 순차적으로 완충시키게 됨으로 상기 석재연마기(200)를 이용해 석재(300)의 표면을 연마하는 작업자가 느끼는 충격이 적게되어 석재(300)의 연마를 보다 용이하고 편리하게 행 할 수 있게된다.In addition, while polishing the stone 300, the polishing protrusion 112 of the polishing plate 110 is instantaneously hit the protruding portion of the stone 300 is applied to the stone polishing machine 200, in this case Abrasive layer hard plate 131 and the buffer soft plate 132 and the combined hard plate constituting the cushion plate 130 of the soft material sequentially buffers the shock transmitted to the stone polishing machine 200 to the stone polishing machine 200. The impact felt by the worker who polishes the surface of the stone 300 by using is reduced, so that the stone 300 can be polished more easily and conveniently.
또한, 석재연마기(200)의 연마재고정틀(210) 저면인 부착면(211)과 일체로 결합된 밸크로테이프(212)에 연마재(100)의 결합면과 일체로 결합된 밸크로테이프(140)를 접촉시키면서 밀착함으로써 연마재(100)를 연마재고정틀(210)에 간편하게 결합하게되며, 상기 연마재고정틀(210)에 결합된 연마재(100)를 분리시킬경우에는 상기 연마재(100)의 일측을 잡고 잡아당겨 연마재(100)의 일부분 부터 연마재고정틀(210)에서 분리시키게 됨으로 연마재(100)를 연마재고정틀(210)에서 보다 간편하게 분리할 수 있게 된다.In addition, the Velcro tape 140 integrally coupled with the bonding surface of the abrasive 100 to the Velcro tape 212 integrally coupled with the attachment surface 211, which is the bottom surface of the abrasive fixing frame 210 of the stone polishing machine 200. The adhesive 100 is easily coupled to the abrasive fixing frame 210 by being in close contact with each other. When the abrasive 100 is coupled to the abrasive fixing frame 210, the one side of the abrasive 100 is grasped and pulled. Since the portion of the abrasive 100 is separated from the abrasive fixing frame 210, the abrasive 100 can be more easily separated from the abrasive fixing frame 210.
이상에서 설명한 바와 같이 석재의 표면을 연마하는 연마플레이트와 연마재고정틀에 결합되는 결합플레이트 사이에 충격 및 기울기를 탄력적으로 조절하는 쿠션플레이트가 일체로 결합되어 연마플레이트가 석재의 표면에 골고루 접촉될 수 있도록 구성한 본 고안인 연마재는 석재연마기의 연마재고정틀이 어느 정도 기울어지더라도 연마재의 쿠션플레이트를 이루는 완충연질판 및 연마층경질판이 탄력적으로 압축되면서 연마재의 연마플레이트가 석재의 표면에 골고루 접촉되도록 함으로써 석재의 표면이 보다 평탄하게 연마될 수 있도록 하는 효과가 있다.As described above, the cushioning plate for elastically adjusting the impact and inclination is integrally coupled between the polishing plate for polishing the surface of the stone and the coupling plate coupled to the polishing frame so that the polishing plate can be evenly contacted with the surface of the stone. The abrasives of the present invention are constructed so that even when the abrasive fixing frame of the stone polishing machine is inclined to some extent, the cushioning soft plate and the abrasive layer hard plate forming the cushion plate of the abrasive are elastically compressed and the abrasive plates of the abrasive are evenly contacted with the surface of the stone. There is an effect that the surface can be polished more smoothly.
또한, 석재를 연마하는 과정에서 석재의 표면과 접촉되는 연마플레이트의 연마돌기가 석재의 돌출된 부분과 순간적으로 부딛쳐 석재연마기에 충격이 가해질 경우 상기 연매재의 쿠션플레이트를 이루는 연마층경질판과 완충연질판과 결합경질판이 석재연마기로 전달되는 충격을 순차적으로 완충시키게 됨으로 석재연마기를 잡고 석재의 표면을 연마하는 작업자에게 전달되는 충격을 억제하여 석재 연마작업의 능률 및 작업환경의 효율성을 향상시킬 수 있도록 하는 효과가 있다.In addition, when the polishing protrusion of the polishing plate which is in contact with the surface of the stone in the process of polishing the stone momentarily strikes the protruding portion of the stone and is applied to the stone polishing machine and the abrasive layer hard plate forming the cushion plate of the soft material; By cushioning the shock transmitted to the stone grinder in sequence, the buffer soft plate and the bonded hard plate are suppressed to the worker who grabs the stone grinder and polishes the surface of the stone. It has the effect of making it possible.
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