KR20190007867A

KR20190007867A - Abrasive apparatus

Info

Publication number: KR20190007867A
Application number: KR1020170089458A
Authority: KR
Inventors: 문덕주; 강주호; 조시형; 조성욱
Original assignee: 엠.씨.케이 (주)
Priority date: 2017-07-14
Filing date: 2017-07-14
Publication date: 2019-01-23

Abstract

The present invention relates to an abrasive apparatus and, more specifically, relates to an abrasive apparatus to more effectively grind an object to be ground with a curved surface with vibration. According to the present invention, the abrasive apparatus comprises: a first abrasive member formed in the shape corresponding to one surface of the object to be ground, and having a first abrasive layer; a second abrasive member formed in the shape corresponding to the other surface of the object to be ground, and having a second abrasive layer; and a vibration generator individually generating vibration of the first and second abrasive members. According to the present invention, the abrasive apparatus can evenly grind an object to be ground with a 3D curved surface such as 3D cover glass or the like of a smartphone in a short time.

Description

[0001] ABRASIVE APPARATUS [0002]

본 발명은 연마 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진동을 이용하여 곡면을 갖는 피연마체를 보다 효율적으로 연마할 수 있는 연마 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus, and more particularly, to a polishing apparatus capable of more effectively polishing an object having a curved surface using vibration.

일반적으로 연마공정은 패드 타입의 연마제품을 피연마체에 압착하고, 그 사이로 슬러리를 흘려주면서 피연마체의 표면을 연마한다. 연마제품은 패드 타입 외에 롤러, 브러쉬, 휠 등의 형태로 제작되고, 연마장치는 대부분 연마제품을 피연마체에 밀착시킨 상태에서 구동축을 통해 연마제품을 회전시킴으로써 피연마체를 연마한다.Generally, in the polishing process, a pad-type abrasive product is pressed on an object to be polished, and the surface of the object is polished while flowing the slurry therebetween. In addition to the pad type, the abrasive product is manufactured in the form of a roller, a brush, a wheel, and the polishing apparatus polishes the abrasive article by rotating the abrasive product through the drive shaft in a state where most of the abrasive product is in close contact with the object.

그런데 피연마체가 3D 커버글라스(Cover glass)와 같이 3D 곡면을 포함하는 판형 구조일 경우, 종래의 연마제품 내지 연마장치로는 곡면을 효과적으로 연마하기 어려운 한계가 있다. 여기서 '3D 커버글라스'는 최근 스마트폰 등에서 휘어진 디스플레이 패널을 보호하기 위한 3차원으로 구부러진 강화유리를 의미한다.However, when the object to be polished is a plate-like structure including a 3D curved surface such as a 3D cover glass, there is a limitation in that it is difficult to effectively polish the curved surface with a conventional polishing product or a polishing apparatus. Here, '3D cover glass' refers to tempered glass curved in three dimensions to protect the display panel bent in a smart phone and the like.

현재 3D 커버글라스의 표면연마는 기존의 평판 회전식 연마장치에서 산화세륨(Cerium Oxide) 슬러리와 돈모(豚毛) 또는 양모(羊毛)로 구성된 패드를 이용하여 다수의 3D 커버글라스를 한번에 연마하는 방식으로 진행된다. 이렇게 평판 회전식 연마장치에서 3D 곡면의 커버글라스를 연마할 경우 다음과 같은 문제점이 존재한다. 1) 곡면을 평판식으로 연마하기 때문에 피연마체의 표면에 가해지는 압력이 일정하지 않아 균일하게 연마되지 않고, 2) 평면형 피연마체를 연마하는 것과 같이 강한 압력을 가할 수 없기 때문에 상당히 긴 시간이 소요되며, 3) 값이 비싼 산화세륨의 소모량이 많고, 4) 회전식 연마장치이기 때문에 제품의 성형, 연마, 세정 등의 일련의 공정을 인라인 시스템으로 구성하기 어려워 생산성에 한계가 있으며, 5) 연마장치의 회전축 가까이에서는 연마율이 낮고 회전축에서 멀어질수록 연마율이 높기 때문에 연마장치 내 위치에 따라 커버글라스의 연마율에 차이가 발생한다. Currently, the surface of 3D cover glass is polished by polishing a large number of 3D cover glasses at a time using a pad made of cerium oxide slurry, pig iron or wool in a conventional plate rotary polishing machine It proceeds. When the cover glass of the 3D curved surface is polished in the flat-plate type polishing apparatus, the following problems exist. 1) Since the curved surface is polished in a flat plate-like manner, the pressure applied to the surface of the object to be polished is not constant and is not polished uniformly. 2) Since it is impossible to apply strong pressure as in polishing a flat object, And 3) a large amount of expensive cerium oxide is consumed, and 4) since it is a rotary polishing apparatus, it is difficult to form a series of processes such as molding, polishing and cleaning of a product by an inline system, The polishing rate is low near the rotation axis, and the polishing rate is higher as the distance from the rotation axis is. Therefore, the polishing rate of the cover glass varies depending on the position in the polishing apparatus.

본 발명의 목적은 3D 곡면을 갖는 피연마체를 연마함에 있어서 발생하는 종래의 문제점을 해결하는 것이다.An object of the present invention is to solve the conventional problems occurring in polishing an object having a 3D curved surface.

구체적으로, 본 발명의 목적은 스마트폰의 3D 커버글라스 등과 같이 3D 곡면을 갖는 피연마체를 짧은 시간 내에 균일하게 연마할 수 있는 연마 장치를 제공하는 것이다.More specifically, it is an object of the present invention to provide a polishing apparatus capable of uniformly polishing an object having a 3D curved surface such as a 3D cover glass of a smart phone in a short time.

또한 본 발명의 목적은 산화세륨 등의 연마재가 낭비되는 양을 감소시킴으로써 보다 적은 양의 연마재로 피연마체를 연마하는 것이 가능한 연마 장치를 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide an abrasive apparatus capable of abrading an object to be polished with a smaller amount of abrasive material by reducing the amount of wasted abrasives such as cerium oxide.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 연마 장치는, 피연마체의 일면에 상응하는 모양으로 형성되고 제1 연마층을 포함하는 제1 연마 부재; 상기 피연마체의 타면에 상응하는 모양으로 형성되고 제2 연마층을 포함하는 제2 연마 부재; 및 상기 제1 및 제2 연마 부재의 진동을 각각 발생시키는 진동발생기를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a polishing apparatus comprising: a first polishing member formed in a shape corresponding to one surface of an object to be polished and including a first polishing layer; A second polishing member formed in a shape corresponding to the other surface of the object to be polished and including a second polishing layer; And a vibration generator for generating vibration of the first and second polishing members, respectively.

본 발명에 따른 연마 장치는 스마트폰의 3D 커버글라스 등과 같이 3D 곡면을 갖는 피연마체를 짧은 시간 내에 균일하게 연마할 수 있는 효과가 있다.The polishing apparatus according to the present invention has an effect of uniformly polishing an object having a 3D curved surface such as a 3D cover glass of a smart phone in a short time.

또한 본 발명에 따른 연마 장치는 산화세륨 등의 연마재가 낭비되는 양을 감소시킴으로써 보다 적은 양의 연마재로 피연마체를 연마하는 것이 가능한 효과가 있다.Further, the polishing apparatus according to the present invention has an effect that it is possible to polish an object to be polished with a smaller amount of abrasive material by reducing the amount of wasted abrasives such as cerium oxide.

도 1은 본 발명에 따른 연마 장치의 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 연마 부재의 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 연마층이 구비된 제1 연마 부재의 사시도.
도 4는 도 3의 'A'영역에 구비되는 연마돌기의 예시도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 연마 부재의 사시도.
도 6은 본 발명의 제2 연마층이 구비된 제2 연마 부재의 사시도.
도 7은 도 6의 'B'영역에 구비되는 연마돌기의 예시도.1 is a schematic view of a polishing apparatus according to the present invention;
2 is a perspective view of a first polishing member according to an embodiment of the present invention;
3 is a perspective view of a first polishing member having a first polishing layer according to an embodiment of the present invention;
FIG. 4 is an exemplary view of a polishing protrusion provided in the 'A' region of FIG. 3; FIG.
5 is a perspective view of a second polishing member according to an embodiment of the present invention;
6 is a perspective view of a second polishing member provided with a second polishing layer of the present invention;
FIG. 7 is an exemplary view of a polishing protrusion provided in the 'B' region of FIG. 6;

본 발명에서 사용하는 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또한, 본 명세서에서, "~ 상에 또는 ~ 상부에" 라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다. 또한, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에 또는 상부에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 상에 또는 상부에" 접촉하여 있거나 간격을 두고 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.Also, in the present specification, the term " above or above " means to be located above or below the object portion, and does not necessarily mean that the object is located on the upper side with respect to the gravitational direction. It will also be understood that when a section of an area, plate, or the like is referred to as being " above or above another section ", this applies not only to the case where the other section is " And the like.

또한, 본 명세서에서, 일 구성요소가 다른 구성요소와 "연결된다" 거나 "접속된다" 등으로 언급된 때에는, 상기 일 구성요소가 상기 다른 구성요소와 직접 연결되거나 또는 직접 접속될 수도 있지만, 특별히 반대되는 기재가 존재하지 않는 이상, 중간에 또 다른 구성요소를 매개하여 연결되거나 또는 접속될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.Also, in this specification, when an element is referred to as being " connected " or " connected " with another element, the element may be directly connected or directly connected to the other element, It should be understood that, unless an opposite description is present, it may be connected or connected via another element in the middle.

또한, 본 명세서에서, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Also, in this specification, the terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예, 장점 및 특징에 대하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, preferred embodiments, advantages and features of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예, 장점 및 특징에 대하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, preferred embodiments, advantages and features of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 연마 장치의 개략도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 연마 장치는 제1 연마 부재(10), 제2 연마 부재(30) 및 진동발생기(60,61)를 포함한다. 1 is a schematic view of a polishing apparatus according to the present invention. Referring to FIG. 1, the polishing apparatus according to the present invention includes a first polishing member 10, a second polishing member 30, and a vibration generator 60, 61.

여기서 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)는 피연마체(1)에 상응하는 모양으로 제작된 연마제품이다. 예를 들어, 도 1에서는 피연마체(1)를 3D 커버글라스로 가정하였으며, 제1 연마 부재(10)는 3D 커버글라스의 상면에 상응하는 형태로 제작되고, 제2 연마 부재(30)는 3D 커버글라스의 하면에 상응하는 형태로 제작된다.Here, the first abrasive member 10 and the second abrasive member 30 are abrasive products produced in a shape corresponding to the object 1 to be polished. 1, the first abrasive member 10 is formed in a shape corresponding to the upper surface of the 3D cover glass, and the second abrasive member 30 is made of a 3D cover glass, And is formed in a shape corresponding to the lower surface of the cover glass.

피연마체(1)인 3D 커버글라스가 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30) 사이에 배치되면, 연마 장치는 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)를 피연마체(1)에 밀착시킨 후 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)를 미세하게 진동시킴으로써 피연마체(1)를 연마한다.When the 3D cover glass as the object 1 to be polished is disposed between the first polishing member 10 and the second polishing member 30, the polishing apparatus moves the first polishing member 10 and the second polishing member 30, The first abrasive member 10 and the second abrasive member 30 are minutely vibrated after being brought into close contact with the abrading body 1 to polish the abrading body 1. [

피연마체(1)가 3D 커버글라스와 같이 얇은 유리판의 형태인 경우, 연마 시 피연마체(1)가 깨지는 것을 방지하고 효과적으로 연마하기 위해 탄성을 갖는 재질로 연마 부재(10,30)를 제작할 수 있다. 예를 들어, 3D 커버글라스의 표면을 연마할 경우, 3D 커버글라스의 표면은 대략 5㎛ 정도만 연마되어야 한다. 따라서 연마 장치는 연마 부재(10,30)를 피연마체(1)에 최대한 밀착시킨 후 미세하게 진동시킨다. 연마 부재(10,30)가 딱딱한 재질로 구성될 경우, 연마 부재(10,30)의 진동에 의해 얇은 피연마체(1)는 깨질 수 있고, 피연마체(1)가 깨지지 않는다고 하더라도 연마 부재(10,30)가 피연마체(1)에 완전히 밀착되어 연마 부재(10,30)와 피연마체(1)가 함께 움직이기 때문에 실질적으로 연마가 이루어지기 어렵다. 반면에 탄성을 가지는 연마 부재(10,30)는 피연마체(1)에 가해지는 충격을 완화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 연마 부재(10,30)가 피연마체(1)에 완전히 밀착된다고 하더라도 연마 부재(10,30)의 탄성을 이용하여 피연마체(1)에 대해 상대적으로 움직이는 것이 가능하다. 연마 부재(10,30)는 우레탄 등과 같은 고분자 수지, 일반 고무 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.When the object 1 is in the form of a thin glass plate such as a 3D cover glass, the object 10 and 30 can be made of a material having elasticity in order to prevent the object 1 from cracking during polishing and to effectively polish it . For example, when polishing the surface of a 3D cover glass, the surface of the 3D cover glass should be polished only to about 5 탆. Therefore, the polishing apparatus vibrates finely after bringing the abrasive members 10, 30 into contact with the workpiece 1 as much as possible. When the abrasive members 10 and 30 are made of a rigid material, the thin abrasive 1 can be broken by the vibration of the abrasive members 10 and 30 and even if the abrasive body 1 is not broken, 30 are completely brought into close contact with the workpiece 1, and the polishing members 10, 30 and the workpiece 1 move together, so that polishing is hardly achieved. On the other hand, the resilient abrasive members 10 and 30 can alleviate the impact applied to the object 1, and even if the abrasive members 10 and 30 are completely adhered to the object 1, It is possible to move relative to the object to be machined 1 by using the elasticity of the object 10 and 30. The abrasive members 10 and 30 may be formed of a polymer resin such as urethane or the like, or a general rubber or a silicone rubber.

제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)에서 피연마체(40)와 접촉하는 부분에는 각각 제1 연마층(20) 및 제2 연마층(40)이 형성되어 있다. 3D 곡면을 갖는 피연마체(1)에 상응하는 형태로 제작되었기 때문에, 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)는 곡면부와 평면부를 포함하고, 제1 연마층(20) 및 제2 연마층(40)도 곡면부와 평면부를 포함한다.A first polishing layer 20 and a second polishing layer 40 are respectively formed on portions of the first and second polishing members 30 and 30 that are in contact with the object 40 to be polished. The first abrasive member 10 and the second abrasive member 30 include the curved surface portion and the planar surface portion and the first abrasive layer 20 and the second abrasive layer 30 are formed in the shape corresponding to the object 1 having the 3D curved surface, The second polishing layer 40 also includes a curved surface portion and a flat surface portion.

연마층(20,40)은 연마 부재(10,30)의 표면에 형성된 연마돌기의 형태로 제작되거나 기재 위에 연마돌기가 형성된 연마시트의 형태로 제작될 수 있다. 또한 연마층(20,40)은 연마 부재(10,30)의 표면에 부착되거나 연마 부재(10,30)와 일체형으로 제작될 수 있다.The abrasive layers 20 and 40 may be formed in the form of abrasive protrusions formed on the surfaces of the abrasive members 10 and 30 or in the form of abrasive sheets having abrasive projections formed on the substrate. The abrasive layers 20 and 40 may be attached to the surfaces of the abrasive members 10 and 30 or may be fabricated integrally with the abrasive members 10 and 30.

연마층(20,40)이 연마시트의 형태로 제작될 경우, 연마돌기는 피연마체(1)를 연마하기 위해 상대적으로 높은 경도로 제작되고, 연마돌기를 지지하는 기재는 상대적으로 경도가 낮으면서 탄성을 갖도록 제작될 수 있다. 기재가 연마돌기와 비교하여 상대적으로 경도가 낮으면서 탄성을 가질 경우, 연마 시 연마돌기에 가해지는 압력에 따라 연마돌기를 지지하는 기재가 눌리기 때문에 피연마체(1)에 가하는 압력을 완화시킬 수 있고, 이에 따라 피연마체(1)가 손상되는 것을 방지할 수 있다. 또한 연마돌기가 피연마체(1)에 완전히 밀착된다고 하더라도 기재의 탄성을 이용하여 피연마체(1)에 대해 상대적으로 움직이는 것이 가능하다. 기재는 우레탄 등과 같은 고분자 수지, 일반 고무 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.When the abrasive layers 20 and 40 are produced in the form of a polishing sheet, the abrasive projections are made to have a relatively high hardness in order to abrade the abrasive article 1, and the substrate supporting the abrasive projections has a relatively low hardness It can be made to have elasticity. In the case where the base material has elasticity with a relatively low hardness as compared with the abrasive projections, the base material supporting the abrasive projections is pressed in accordance with the pressure applied to the abrasive projections during polishing, so that the pressure applied to the object 1 can be relaxed So that it is possible to prevent the object 1 from being damaged. Further, even if the abrasive projections are completely adhered to the object 1, it is possible to move relative to the object 1 using the elasticity of the substrate. The substrate may be formed of a polymer resin such as urethane or the like, or a general rubber or a silicone rubber.

연마돌기는 일정한 패턴으로 형성되거나 불규칙한 패턴으로 형성될 수 있으며, 연마돌기의 연마면은 모두 동일한 크기로 형성되거나 적어도 일부의 연마돌기의 연마면이 상이한 크기로 형성될 수 있다.The polishing protrusions may be formed in a predetermined pattern or may be formed in an irregular pattern, and the polishing surfaces of the polishing protrusions may all be formed in the same size, or the polishing surfaces of at least a part of the polishing protrusions may be formed in different sizes.

연마돌기는 고분자 수지로 형성되거나, 연마 입자가 분산 혼합된 고분자 수지로 형성될 수 있다. 또한 연마돌기는 기공 형성재, 연마 과정 중 연마돌기를 컨디셔닝(Conditioning)하는 컨디셔닝재 등을 더 포함할 수 있다.The abrasive protrusion may be formed of a polymer resin, or may be formed of a polymer resin in which abrasive particles are dispersed and mixed. The polishing protrusions may further include a pore forming material, a conditioning material for conditioning the polishing protrusions during the polishing process, and the like.

연마재는 피연마체(1)의 경도와 동일하거나 더 높은 경도를 갖는 물질이며, 예를 들어, 산화 알루미늄(Aluminum oxide), 실리카(Silica), 콜로이달 실리카 (Coloidal silica), 용융 실리카 (Fused silica), 탄화규소(Silicon carbide), 산화지르코늄(Zirconia), 산화세륨(Cerium oxide), 세라믹 산화알루미늄(Ceramic aluminum oxide), 용융 산화알루미늄(Fused aluminum oxide), 크로미아(Chromia), 산화지르코늄(Zirconium oxide), 산화철(Iron oxide), 탄화붕소(Boron carbide), 산화크롬(Chromium oxide), 수산화 알루미늄(Aluminum hydroxide), 탄산칼슘(Calcium carbonate), 가넷(Garnet), 유리분말, 다이아몬드 및 입방정 질화붕소(cBN) 중에서 선택된 적어도 하나로 구성될 수 있다. 한편, 연마재는 입자 형태, 복합체 형태 또는 입자와 합체가 혼합된 형태로 구성될 수 있다. 여기서 연마 복합체는 다수의 연마 입자가 고분자 수지에 의해 응집된 것을 의미한다.The abrasive is a material having a hardness equal to or higher than the hardness of the object 1 and is made of, for example, aluminum oxide, silica, coloidal silica, fused silica, Silicon carbide, zirconia, cerium oxide, ceramic aluminum oxide, fused aluminum oxide, chromia, zirconium oxide, and the like. ), Iron oxide, boron carbide, chromium oxide, aluminum hydroxide, calcium carbonate, garnet, glass powder, diamond and cubic boron nitride cBN). < / RTI > On the other hand, the abrasive may be in the form of a particle, a composite, or a mixture of particles and aggregates. Here, the abrasive composite means that a plurality of abrasive grains are agglomerated by the polymer resin.

기공 형성재는 예컨대, 글래스 버블(glass bubbles K20, 3M, USA), 익스판셀 (expancel, 920DET80 d25, AkzoNobel, Netherland) 또는 수용성 물질 등을 사용할 수 있다.Examples of the pore forming material include glass bubbles (K20, 3M, USA), expancel (920DET80 d25, AkzoNobel, Netherland) or a water-soluble substance.

피연마체(1)의 곡면을 보다 효과적으로 연마하기 위해, 연마층(20,40)에서 곡면부의 연마돌기와 평면부의 연마돌기가 서로 상이한 연마특성을 갖도록 구성될 수 있다. 여기서, 각 연마돌기의 연마특성은 각 연마돌기를 구성하는 연마재의 입도, 경도 또는 함량에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 곡면부의 연마돌기는 평면부의 연마돌기보다 연마재 함량이 더 높도록 구성될 수 있다.In order to more effectively polish the curved surface of the object 1, the abrasive projections of the curved surface portion and the abrasive projections of the flat surface portion in the abrasive layers 20 and 40 may be configured to have different abrasive characteristics. Here, the polishing characteristics of the respective polishing projections can be determined by the particle size, hardness or content of the abrasive constituting each of the polishing projections. For example, the abrasive protrusion of the curved portion may be configured to have a higher abrasive content than the abrasive protrusion of the flat portion.

진동발생기(60,61)는 제1 연마 부재(10)와 제2 연마 부재(30)에 각각 진동을 발생시키기 위한 구성으로, 제1 연마 부재(10)의 진동을 발생시키는 제1 진동발생기(60)와 제2 연마 부재(30)의 진동을 발생시키는 제2 진동발생기(61)로 구성될 수 있다.The vibration generators 60 and 61 are configured to generate vibrations in the first and second abrasive members 10 and 30 respectively and include a first vibration generator 10 for generating vibration of the first abrasive member 10 60 and a second vibration generator 61 for generating vibration of the second abrasive member 30.

이 경우 제1 진동발생기(60)는 제1 연마 부재(10)를 지지하는 제1 받침대(50)를 매개로 제1 연마 부재(10)와 기계적으로 연결되고, 제2 진동발생기(61)는 제2 연마 부재(30)를 지지하는 제2 받침대(51)를 매개로 제2 연마 부재(30)와 기계적으로 연결될 수 있다.In this case, the first vibration generator 60 is mechanically connected to the first abrasive member 10 via the first pedestal 50 that supports the first abrasive member 10, and the second vibration generator 61 And may be mechanically connected to the second abrasive member 30 via the second pedestal 51 that supports the second abrasive member 30. [

진동발생기(60,61)는 마그네틱 진동기, 초음파 진동기 등 다양한 진동기일 수 있으며, 연마 부재(10,30)의 회전진동 또는 직선왕복운동을 발생시킬 수 있다. 회전진동의 경우, 연마 부재(10,30)는 피연마체(1)의 테두리를 따라 피연마체(1)에 수평으로 반복하여 회전된다. 다만 연마 부재(10,30)가 회전진동 할 때 피연마체(1)의 평면부는 연마 부재(10,30)와 계속 접촉하는 반면 곡면부는 연마 부재(10,30)와 주기적으로 접촉하기 때문에, 피연마체(1)가 균일하게 연마되기 위해서는 피연마체(1)의 평면부에 가해지는 압력이 곡면부에 가해지는 압력보다 낮아야 한다.The vibration generators 60 and 61 may be various vibrators such as a magnetic vibrator and an ultrasonic vibrator, and may generate rotational vibration or linear reciprocating motion of the abrasive members 10 and 30. In the case of rotational vibration, the abrasive members 10, 30 are repeatedly rotated horizontally to the object 1 along the rim of the object 1 to be polished. However, since the flat portion of the object 1 is in continuous contact with the abrasive members 10 and 30 when the abrasive members 10 and 30 are rotationally oscillated, the curved portions are periodically in contact with the abrasive members 10 and 30, In order for the machining body 1 to be polished uniformly, the pressure applied to the flat portion of the object 1 to be polished should be lower than the pressure applied to the curved portion.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 연마 부재의 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 연마층이 구비된 제1 연마 부재의 사시도이다. 도 2 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 제1 연마 부재(10)는 피연마체(1)를 내부에 수용한 상태에서 피연마체(1)의 일면을 연마하기 위한 구성으로서 개방면(11)과 수용공간(13)을 포함하여 구성될 수 있다. 제1 연마 부재(1)는 탄성을 지닌 재질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 우레탄 등과 같은 고분자 수지 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.FIG. 2 is a perspective view of a first polishing member according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a perspective view of a first polishing member having a first polishing layer according to an embodiment of the present invention. 2 to 3, a first abrasive member 10 of the present invention includes an opening 11 as a structure for grinding one surface of an object 1 in a state where the object 1 is accommodated therein, And an accommodating space (13). The first abrasive member 1 may be made of a material having elasticity, and may be formed of, for example, a polymer resin such as urethane or the like.

제1 연마 부재(10)의 개방면(11)은 제1 연마 부재(10)의 상면에 형성된 인입구로서, 피연마체(1)는 이 개방면(11)을 통해 제1 연마 부재(10)의 수용공간(13)에 인입될 수 있다. 따라서, 개방면(11)은 피연마체(1)보다 더 큰 면적을 갖도록 형성될 수 있다.The open face 11 of the first abrading member 10 is an inlet formed on the upper face of the first abrading member 10 and the abrading body 1 is fixed to the upper face of the first abrading member 10 And can be introduced into the accommodation space 13. Therefore, the opening 11 can be formed to have a larger area than the object 1 to be machined.

제1 연마 부재(10)의 수용공간(13)은 피연마체(1)를 제1 연마 부재(10) 내부에 안착 및 고정시키기 위한 것으로서 적어도 일부가 피연마체(1)에 대응되는 형상을 포함하도록 구성된다. 제1 연마 부재(10)의 수용공간(13)은 두 쌍의 측면(p1,p2)과 1개의 바닥면(p3)에 의해 형성되고, 수용공간(13)에 수용된 피연마체(1)는 바닥면(p3)에 의해 지지된 상태에서 연마가 이루어진다.The accommodating space 13 of the first abrading member 10 is for seating and fixing the object 1 inside the first object 10 and at least a part of the object including the object corresponding to the object 1 . The receiving space 13 of the first abrasive member 10 is formed by two pairs of side surfaces p1 and p2 and one bottom surface p3, Polishing is carried out while being supported by the surface p3.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 연마 부재(10)의 4개 측면은 각각 역사다리꼴 모양의 하향 경사면으로 이루어지고, 바닥면(p3)은 대략 직사각형 모양의 평면으로 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, each of the four side surfaces of the first polishing member 10 is formed as a downwardly inclined surface having an inverted trapezoidal shape, and the bottom surface p3 is formed as a plane having a substantially rectangular shape.

제1 연마층(20)은 제1 연마 부재(10)의 내면 상에 구비되어 수용공간(13)에 안착된 피연마체(1)의 밑면을 실질적으로 연마하는 구성으로서 곡면부(20a)와 평면부(20b)를 포함한다.The first abrasive layer 20 is provided on the inner surface of the first abrasive member 10 to substantially abrade the undersurface of the object 1 placed in the accommodation space 13 and has a curved surface portion 20a and a flat surface And a portion 20b.

예를 들어, 평면 및 평면의 테두리를 둘러싸는 곡면으로 구성된 3D 커버글라스를 피연마체(1)라고 가정하면, 제1 연마층(20)의 곡면부(20a)는 바닥면(p3)에 안착된 피연마체(1)의 상면의 테두리를 연마한다. 따라서, 곡면부(20a)는 피연마체(1)의 곡면과 동일한 곡률로 형성되는 것이 바람직하다.For example, assuming that the 3D cover glass composed of the curved surface surrounding the rim of the plane and the plane is the object 1, the curved surface portion 20a of the first polishing layer 20 is placed on the floor surface p3 The upper edge of the object 1 is polished. Therefore, it is preferable that the curved surface portion 20a is formed with the same curvature as the curved surface of the object 1 to be polished.

제1 연마층(20)은 제1 연마 부재(10)의 표면에 형성된 연마돌기의 형태로 제작되거나 기재 위에 연마돌기가 형성된 연마시트의 형태로 제작될 수 있다. 또한 제1 연마층(20)은 제1 연마 부재(10)의 표면에 부착되거나 제1 연마 부재(10)와 일체형으로 제작될 수 있다.The first abrasive layer 20 may be manufactured in the form of abrasive protrusions formed on the surface of the first abrasive member 10 or in the form of a polishing sheet having abrasive protrusions formed on the substrate. The first abrasive layer 20 may be attached to the surface of the first abrasive member 10 or may be manufactured integrally with the first abrasive member 10.

제1 연마층(20)이 연마시트의 형태로 제작될 경우, 연마돌기는 피연마체(1)를 연마하기 위해 상대적으로 높은 경도로 제작되고, 연마돌기를 지지하는 기재는 상대적으로 경도가 낮으면서 탄성을 갖도록 제작될 수 있다. 기재는 우레탄 등과 같은 고분자 수지, 일반 고무 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.When the first abrasive layer 20 is manufactured in the form of a polishing sheet, the abrasive projections are made to have a relatively high hardness in order to abrade the abrasive article 1, while the substrate supporting the abrasive projections has a relatively low hardness It can be made to have elasticity. The substrate may be formed of a polymer resin such as urethane or the like, or a general rubber or a silicone rubber.

3D 커버글라스와 같은 피연마체(1)의 곡면은 2D 커버글라스에 열과 압력을 가하여 형성되는데, 이때 2D 커버글라스를 구부릴 때 표면의 변화(예를 들어, 곡면의 바깥쪽과 안쪽의 조도의 차이 등), 지그와의 접촉, 가열 등으로 인한 미세한 스크래치 또는 표면조도의 변화가 발생할 수 있다. 따라서 피연마체(1)의 평면과 곡면에 대하여 서로 다른 연마작용이 이루어지는 것이 바람직하다. The curved surface of the object (1) such as a 3D cover glass is formed by applying heat and pressure to the 2D cover glass. At this time, when the 2D cover glass is bent, the surface change (for example, the difference in roughness between the outside and inside of the curved surface ), Fine scratches due to contact with the jig, heating, or a change in surface roughness may occur. Therefore, it is preferable that different abrasive actions are performed on the plane and the curved surface of the object 1 to be polished.

도 4는 도 3의 'A'영역에 구비되는 연마돌기의 예시도이다. 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 제1 연마층(20) 내 연마돌기의 연마면은 직사각형 또는 정사각형 모양으로 형성될 수 있으며, 곡면부(20a) 내 연마돌기의 연마면은 평면부(20b) 내 연마돌기의 연마면 보다 더 작은 면적을 갖도록 형성될 수 있다.4 is an illustration of an abrasion protrusion provided in the 'A' region of FIG. 3. FIG. According to another embodiment of the present invention, the polishing surface of the polishing protrusions in the first polishing layer 20 may be formed in a rectangular or square shape, and the polishing surface of the polishing protrusions in the curved surface portion 20a may be a flat surface portion 20b, Can be formed to have an area smaller than the polishing surface of the inner abrasive protrusion.

예를 들어, 곡면부(20a)의 연마돌기는 m×n(㎜) 크기의 연마면을 갖도록 형성되며, 평면부(20b)의 연마돌기는 M×N(㎜) 크기의 연마면을 갖도록 형성된다. 곡면부(20a)에서 연마돌기의 크기는 연마면을 평면 모양으로 펼쳤을 때 "가로길이×세로길이"를 의미한다. 이 때, 『M > m, N > n』이며, M과 N은 같은 수치일 수 있고, m과 n도 같은 수치일 수 있다.For example, the polishing protrusions of the curved surface portion 20a are formed to have a polishing surface of the size of mxn (mm), and the polishing protrusions of the flat surface portion 20b are formed to have the polishing surface of MxN (mm) do. The size of the abrasive protrusion in the curved surface portion 20a means " transverse length x longitudinal length " when the abrading surface is spread in a plane shape. In this case, "M> m, N> n", M and N may be the same numerical value, and m and n may be the same numerical value.

또한, 연마돌기 사이의 간격은 진동발생기(60)가 제1 연마 부재(10)를 진동시킬 때 제1 연마 부재(10)가 진동하는 진폭보다 작아야 하고, 바람직하게는 제1 연마 부재(10)가 진동하는 진폭의 1/2보다 작아야 한다.The gap between the abrasive projections should be smaller than the amplitude at which the first abrasive member 10 vibrates when the vibration generator 60 vibrates the first abrasive member 10, Should be less than one-half of the oscillating amplitude.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 연마 부재의 사시도이고, 도 6은 본 발명의 제2 연마층이 구비된 제2 연마 부재의 사시도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 제2 연마 부재(30)는 피연마체(1)의 타면을 연마하기 위한 구성으로서, 제2 연마 부재(30)는 적어도 일부가 제1 연마 부재(10)의 수용공간(13)에 인입될 수 있는 크기로 구성된다. 도 5를 참조하면, 제2 연마 부재(30)는 두 쌍의 측면(k1,k2)과 1개의 밑면(k3)을 포함하고, 4개 측면은 각각 역사다리꼴 모양의 하향 경사면으로 이루어지고, 밑면(k3)은 대략 직사각형 모양으로 이루어진 사각뿔대 형상으로 구성된다.FIG. 5 is a perspective view of a second polishing member according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view of a second polishing member having a second polishing layer of the present invention. 5 and 6, the second abrasive member 30 of the present invention has a configuration for abrading the other surface of the object 1, wherein the second abrasive member 30 is at least partially formed of a first abrasive member 10 into the receiving space 13 of the apparatus. 5, the second abrasive member 30 includes two pairs of side surfaces k1 and k2 and one bottom surface k3. Each of the four side surfaces has an inverted trapezoidal downward inclined surface, (k3) is formed in the shape of a quadrangular pyramid having a substantially rectangular shape.

연마 시 피연마체(1)가 깨지는 것을 방지하고 효과적으로 연마하기 위해 탄성을 갖는 재질로 제2 연마 부재(30)를 제작할 수 있다. 제2 연마 부재(30)는 우레탄 등과 같은 고분자 수지, 일반 고무 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.The second abrasive member 30 can be made of a material having elasticity so as to prevent the abrasive article 1 from being cracked and polished effectively during polishing. The second abrasive member 30 may be formed of a polymer resin such as urethane or the like, or a general rubber or a silicone rubber.

제2 연마층(40)은 제2 연마 부재(30)의 외면 상에 구비되어 제1 연마 부재의 수용공간(13)에 안착된 피연마체(1)의 타면을 실질적으로 연마하며, 곡면부(40a)와 평면부(40b)를 포함한다. 곡면부(40a)는 제1 연마 부재(10)에 수용된 피연마체(1)의 곡면을 연마하므로, 피연마체(1)의 곡면과 동일한 곡률로 형성하는 것이 바람직하다.The second abrasive layer 40 is provided on the outer surface of the second abrasive member 30 to substantially abrade the other surface of the abrasive article 1 that is seated in the receiving space 13 of the first abrasive member, 40a and a flat surface portion 40b. Since the curved surface portion 40a polishes the curved surface of the object 1 contained in the first polishing member 10, it is preferable that the curved surface portion 40a has the same curvature as the curved surface of the object 1 to be polished.

제2 연마층(40)은 제2 연마 부재(30)의 표면에 형성된 연마돌기의 형태로 제작되거나 기재 위에 연마돌기가 형성된 연마시트의 형태로 제작될 수 있다. 또한 제2 연마층(40)은 제2 연마 부재(30)의 표면에 부착되거나 제2 연마 부재(30)와 일체형으로 제작될 수 있다.The second polishing layer 40 may be manufactured in the form of a polishing protrusion formed on the surface of the second polishing member 30 or in the form of a polishing sheet having a polishing protrusion formed on the substrate. The second abrasive layer 40 may be attached to the surface of the second abrasive member 30 or may be manufactured integrally with the second abrasive member 30.

제2 연마층(40)이 연마시트의 형태로 제작될 경우, 연마돌기는 피연마체(1)를 연마하기 위해 상대적으로 높은 경도로 제작되고, 연마돌기를 지지하는 기재는 상대적으로 경도가 낮으면서 탄성을 갖도록 제작될 수 있다. 기재는 우레탄 등과 같은 고분자 수지, 일반 고무 내지 실리콘 고무로 형성될 수 있다.When the second abrasive layer 40 is manufactured in the form of a polishing sheet, the abrasive projections are made to have a relatively high hardness in order to abrade the abrasive article 1, and the substrate supporting the abrasive projections has a relatively low hardness It can be made to have elasticity. The substrate may be formed of a polymer resin such as urethane or the like, or a general rubber or a silicone rubber.

도 7은 도 6의 'B'영역에 구비되는 연마돌기의 예시도이다. 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 제2 연마층(40) 내 연마돌기의 연마면은 직사각형 또는 정사각형 모양으로 형성될 수 있으며, 곡면부(40a) 내 연마돌기의 연마면은 평면부(40b) 내 연마돌기의 연마면 보다 더 작은 면적을 갖도록 형성될 수 있다.FIG. 7 is an illustration of an abrasion protrusion provided in the 'B' region of FIG. 6; According to another embodiment of the present invention, the polishing surface of the polishing protrusions in the second polishing layer 40 may be formed in a rectangular or square shape, and the polishing surface of the polishing protrusions in the curved surface portion 40a may be a flat surface portion 40b, Can be formed to have an area smaller than the polishing surface of the inner abrasive protrusion.

예를 들어, 곡면부(40a)의 연마돌기는 m×n(㎜) 크기의 연마면을 갖도록 형성되며, 평면부(40b)의 연마돌기는 M×N(㎜) 크기의 연마면을 갖도록 형성된다. 곡면부(40a)에서 연마돌기의 크기는 연마면을 평면 모양으로 펼쳤을 때 "가로길이×세로길이"를 의미한다. 이 때, 『M > m, N > n』이며, M과 N은 같은 수치일 수 있고, m과 n도 같은 수치일 수 있다.For example, the polishing protrusions of the curved surface portion 40a are formed to have a polishing surface of the size of m x n (mm), and the polishing protrusions of the flat surface portion 40b are formed to have a polishing surface of M x N (mm) do. The size of the abrasive protrusion in the curved surface portion 40a means " width length x height length " when the polishing surface is spread in a flat shape. In this case, "M> m, N> n", M and N may be the same numerical value, and m and n may be the same numerical value.

또한, 연마돌기 사이의 간격은 진동발생기(61)가 제2 연마 부재(30)를 진동시킬 때 제2 연마 부재(30)가 진동하는 진폭보다 작아야 하고, 바람직하게는 제2 연마 부재(30)가 진동하는 진폭의 1/2보다 작아야 한다.The distance between the abrasive projections should be smaller than the amplitude at which the second abrasive member 30 vibrates when the vibration generator 61 vibrates the second abrasive member 30, Should be less than one-half of the oscillating amplitude.

상기에서 본 발명의 바람직한 실시예가 특정 용어들을 사용하여 설명 및 도시되었지만 그러한 용어는 오로지 본 발명을 명확히 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 실시예 및 기술된 용어는 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러 가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같이 변형된 실시예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 본 발명의 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.While the preferred embodiments of the present invention have been described and illustrated above using specific terms, such terms are used only for the purpose of clarifying the invention, and it is to be understood that the embodiment It will be obvious that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Such modified embodiments should not be understood individually from the spirit and scope of the present invention, but should be regarded as being within the scope of the claims of the present invention.

10: 제1 연마 부재 11: 개방면
13: 수용부 20: 제1 연마층
20a: 제1 연마층의 곡면부 20b: 제1 연마층의 평면부
30: 제2 연마 부재 40: 제2 연마층
40a: 제2 연마층의 곡면부 40b: 제2 연마층의 평면부
50: 제1 받침대 51: 제2 받침대
60: 제1 진동발생기 61: 제2 진동발생기10: first polishing member 11: opening face
13: accommodating portion 20: first polishing layer
20a: a curved surface portion of the first polishing layer 20b: a flat surface portion of the first polishing layer
30: second polishing member 40: second polishing layer
40a: a curved portion of the second polishing layer 40b: a flat portion of the second polishing layer
50: first pedestal 51: second pedestal
60: first vibration generator 61: second vibration generator

Claims

A first polishing member formed in a shape corresponding to one surface of the object to be polished and including a first polishing layer;
A second polishing member formed in a shape corresponding to the other surface of the object to be polished and including a second polishing layer; And
And a vibration generator for generating vibrations of the first and second polishing members, respectively
.

The method according to claim 1,
The first abrasive member is formed in a shape corresponding to one surface of the 3D cover glass and the second abrasive member is formed in a shape corresponding to the other surface of the 3D cover glass
.

The method according to claim 1,
The first and second polishing layers each include a curved portion corresponding to a curved surface of the object to be polished and a plane portion corresponding to the plane of the object to be poled
.

The method of claim 3,
At least a part of the polishing protrusions in the curved surface portion is smaller than at least a part of the polishing protrusions in the flat surface portion
.

The method according to claim 1,
Wherein at least one of the first polishing member and the second polishing member is formed of a material having elasticity
.

The method according to claim 1,
Wherein at least one of the first and second polishing layers includes a substrate and an abrasive protrusion formed on the substrate,
The substrate is made of a material having elasticity
.

The method according to claim 1,
Wherein at least one of the first polishing layer and the second polishing layer includes a plurality of polishing protrusions,
Wherein at least a part of the abrasive projections is formed so that an interval between the abrasive projections is smaller than an amplitude at which the abrasive member vibrates
.

8. The method of claim 7,
The distance between the abrasive projections is smaller than 1/2 of the amplitude at which the abrasive member vibrates
.