KR20020090233A - Contactless interconnection system - Google Patents

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KR20020090233A
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파넬라오거스토피.
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몰렉스 인코포레이티드
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Abstract

무접점 상호연결 시스템은 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이에 제공된다. 칩 패키지는 불연속 단자 영역을 갖는 실질적으로 편평한 하부 표면을 갖는다. 회로 기판은 일반적으로 칩 패키지의 하부 표면과 평행하고 이와 이격된 상부 표면을 갖는다. 상부 표면 상의 불연속 회로 패드의 패턴은 단자 영역과 정렬된다. 복수개의 불연속 인터포저 부재들은 단자 영역과 회로 기판 사이에 배치되고, 단자 영역과 회로 패드의 정렬된 패턴에 상응하여 이에 정렬된 패턴이다. 인터포저 부재들은 양호하게는 인터포저 부재 사이의 간극을 채우는 재료보다 높은 유전 상수를 갖는 재료이다.The contactless interconnect system is provided between the computer chip package and the circuit board. The chip package has a substantially flat lower surface with discrete terminal regions. The circuit board generally has a top surface parallel and spaced apart from the bottom surface of the chip package. The pattern of discrete circuit pads on the top surface is aligned with the terminal area. The plurality of discontinuous interposer members is a pattern disposed between the terminal region and the circuit board and corresponding to the aligned pattern of the terminal region and the circuit pad. The interposer members are preferably materials having a higher dielectric constant than the material filling the gap between the interposer members.

Description

무접점 상호연결 시스템{CONTACTLESS INTERCONNECTION SYSTEM}Contactless interconnect system {CONTACTLESS INTERCONNECTION SYSTEM}

반도체 장치가 더욱 복잡하게 됨에 따라, 기계적인 상호연결의 어려움 때문에 실리콘 웨이퍼 또는 "다이(Die)"와 적절한 회로 하드웨어 사이의 상호 연결은 발전되고 더 복잡하게 되었다. 이는 어느 정도 전기 회로의 고밀도와 소형화에 기인한다. 전자 부품에서 신호는 더 빠른 속도로 고주파 응용 제품으로 전달되고, 반도체 패키지는 더 얇아지고 더 작아지고 있다. 몇몇 고주파 응용 제품에서, 금속 접점 또는 단자에 의존하는 종래의 상호연결을 사용하는 것이 어려워질 것이다.As semiconductor devices become more complex, the interconnections between silicon wafers or “dies” and appropriate circuit hardware have developed and become more complex because of the difficulty of mechanical interconnections. This is due in part to the high density and miniaturization of electrical circuits. In electronic components, signals are being delivered at higher speeds to high frequency applications, and semiconductor packages are becoming thinner and smaller. In some high frequency applications, it will be difficult to use conventional interconnects that rely on metal contacts or terminals.

공지된 기계적인 상호연결은 종래의 단자 핀 및 소켓 또는 다른 암,수 구성품 또는 상호결합 스프링 접속에 사용된다. 이들 금속 대 금속 상호연결에서, 단자들 사이의 오염 또는 강산화성 물질을 제거하기 위해 와이핑 작용(wiping action)이 필수적으로 제공되어야 한다. 소형 반도체 상호연결에서, 단자들은 너무 작아서, 이러한 요구되는 와이핑을 제공하기 어렵고, 대향 단자들 또는 접점들 사이의 신뢰성있는 접촉력을 확보하기 어렵다. 종래의 납땜 접속은 반도체 상호연결 시스템의 소형화되거나 또는 근접하게 이격된 부품에 사용하기 위해서는 극단적으로 복잡하고 어려운 공구 작업이 요구되기 때문에, 가능하더라도 어렵다.Known mechanical interconnects are used for conventional terminal pins and sockets or other female, male or interconnect spring connections. In these metal-to-metal interconnects, a wiping action must be provided essentially to remove contaminants or strongly oxidizing materials between the terminals. In small semiconductor interconnections, the terminals are so small that it is difficult to provide this required wiping and to ensure reliable contact force between opposing terminals or contacts. Conventional solder connections are difficult, if possible, because they require extremely complex and difficult tooling to be used in miniaturized or closely spaced components of semiconductor interconnect systems.

따라서, 본 발명은 기계적인 접촉에 의존하지 않고 두 개의 단자 또는 접점 사이에서 신호를 전달하도록 전기 또는 자기장 결합을 사용하는 커넥터에 관한 것이다.Accordingly, the present invention relates to a connector that uses electrical or magnetic field coupling to transfer signals between two terminals or contacts without relying on mechanical contacts.

본 발명은 일반적으로 접점을 사용하지 않고 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이에서 달성되는 상호연결에 관한 것이다.The present invention generally relates to interconnection achieved between a computer chip package and a circuit board without the use of contacts.

신규하다고 여겨지는 본 발명의 특징은 특히 첨부된 청구항으로 설명될 것이다. 목적 및 장점들과 함께 본 발명은 그림의 동일한 요소는 동일한 도면 부호로 나타낸 첨부된 도면과 함께 다음의 설명을 참조함으로써 잘 이해될 것이다.Features of the invention which are considered to be novel will be described in particular in the appended claims. The invention together with the objects and advantages will be better understood by reference to the following description in conjunction with the accompanying drawings, in which like elements of figures are represented by like reference numerals.

도1은 본 발명에 따른 무접점 상호연결 시스템의 일실시예의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of one embodiment of a contactless interconnect system in accordance with the present invention.

도2는 본 발명의 제2 실시예롤 도시한 컴퓨터 칩 패키지에 대한 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a computer chip package shown in a second embodiment of the present invention.

도3은 본 발명의 제3 실시예의 컴퓨터 칩 패키지에 대한 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a computer chip package of a third embodiment of the present invention.

따라서, 본 발명의 목적은 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이의 접속을 제공하기 위해 특히 적합한 신규하고 개선된 무접점 상호연결 시스템을 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide a novel and improved contactless interconnect system which is particularly suitable for providing a connection between a computer chip package and a circuit board.

본 발명의 다른 목적은 접속을 제공하기 위해 금속 대 금속 접점을 사용하지 않고 유전성 재료로 분리된 제1 및 제2 단자 어레이 사이에서 용량성 결합(capacitive coupling)을 사용한 상호연결 구조를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an interconnect structure using capacitive coupling between first and second terminal arrays separated by dielectric material without using metal to metal contacts to provide a connection.

본 발명의 일 실시예에서, 컴퓨터 칩 패키지는 편평한 지지부에 장착되도록 제공된다. 지지부는 그 위에 형성된 복수개의 접점 패드 또는 트레이스(trace)를 갖고, 리드 또는 다른 접속이 칩 출력을 접점 패드에 접속하기 위해 제공된다. 접점 패드는 지지부의 표면상에 장착되고, 지지부는 지지부의 접점 패드가 회로 기판의 상응하는 접점 패드 또는 트레이스와 대향하도록 정렬되도록 회로 기판 상에 위치된다. 용량성 결합은 두 개의 대향 접점 패드 사이에서 신호를 전달하기 위해 사용된다.In one embodiment of the invention, a computer chip package is provided to be mounted on a flat support. The support has a plurality of contact pads or traces formed thereon, and leads or other connections are provided for connecting the chip outputs to the contact pads. The contact pads are mounted on the surface of the support and the support is positioned on the circuit board such that the contact pads of the support are aligned to face the corresponding contact pads or traces of the circuit board. Capacitive coupling is used to transfer signals between two opposing contact pads.

다른 실시예에서, 컴퓨터 칩 패키지는 지지부의 양측면 상에 패턴으로 정렬된 복수개의 접점을 갖는 편평한 지지부에 장착된다. 이들 접점은 패키지가 그의하부 표면에 일련의 불연속 단자 영역(discrete terminal land)을 갖도록 비아(vias)에 의해 상호연결된다. 회로 기판은 또한 컴퓨터 칩 패키지의 하부 표면의 단자 영역에 정렬된 불연속 단자 회로 패드의 패턴으로 상부 표면에 제공된다. 하나 이상의 불연속 유전성 인터포저 부재가 칩 패키지의 단자 영역과 회로 기판의 회로 패드 사이에 제공된다. 인터포저 부재는 단자 영역과 회로 패드의 패턴에 상응하는 패턴으로 정렬되고, 인터포저 부재는 단자 영역과 회로 패드 사이에서 정렬된다. 인터포저 부재는 양호하게는 200 이상의 비교적 높은 유전 상수를 갖는 재료로 되어 있다.In another embodiment, a computer chip package is mounted to a flat support having a plurality of contacts aligned in a pattern on both sides of the support. These contacts are interconnected by vias so that the package has a series of discrete terminal lands on its bottom surface. The circuit board is also provided on the top surface in a pattern of discrete terminal circuit pads aligned with the terminal area of the bottom surface of the computer chip package. One or more discrete dielectric interposer members are provided between the terminal region of the chip package and the circuit pad of the circuit board. The interposer members are aligned in a pattern corresponding to the pattern of the terminal region and the circuit pad, and the interposer members are aligned between the terminal region and the circuit pad. The interposer member is preferably of a material having a relatively high dielectric constant of at least 200.

인터포저 부재는 단자 영역 또는 회로 패드에 접착될 수 있거나 또는 다른 실시예에서 설명한 바와 같이, 인터포저 부재는 칩 패키지의 하부 표면과 회로 기판의 상부 표면 사이에 배치된 편평한 캐리어에 의해 지지될 수 있다. 편평한 캐리어는 유전성 엘라스토머 재료로 제조될 수 있고, 인터포저 부재는 편평한 캐리어 부재에 오버몰드(overmold)될 수 있다.The interposer member may be attached to the terminal area or circuit pad or as described in other embodiments, the interposer member may be supported by a flat carrier disposed between the lower surface of the chip package and the upper surface of the circuit board. . The flat carrier can be made of dielectric elastomeric material and the interposer member can be overmold to the flat carrier member.

본 발명의 다른 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 다음의 상세한 설명으로부터 명백하게 될 것이다.Other objects, features and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description with reference to the accompanying drawings.

도1은 컴퓨터 칩 패키지(12)에 적절하게 위치되고, 컴퓨터 칩 패키지(12)와 인쇄 회로 기판과 같은 기재 기판(14) 사이의 접속을 제공하는 일반적으로 도면 부호 10으로 지시된 무접점 상호연결 시스템의 일실시예를 도시한다. 도2는 칩 패키지(12)와 회로 기판(14) 사이의 일반적으로 도면 부호 10A로 지시된 무접점 상호연결 시스템의 제2 실시예를 도시한다.1 is a contactless interconnect, generally designated 10, which is suitably positioned in a computer chip package 12 and provides a connection between the computer chip package 12 and a substrate substrate 14, such as a printed circuit board. One embodiment of a system is shown. 2 shows a second embodiment of a contactless interconnect system, generally indicated at 10A, between the chip package 12 and the circuit board 14.

두 실시예(10, 10A)의 컴퓨터 칩 패키지는 실리콘 웨이퍼가 배치된 하우징(22)의 벽(20)의 상부 표면(18)에 장착된 실리콘 웨이퍼를 포함할 수 있다. 불연속 전도성 단자 영역(24)의 패턴은 벽(20)의 상부 표면(18)에 금속 피복된다. 실리콘 웨이퍼(16)는 복수개의 리드(26)에 의해 전도성 영역(24)에 접속된다. 본 실시예에서, 단자 영역(24)들은 칩 패키지(12)의 지지벽(18)의 하부 표면(32)에 배치된 불연속 매칭 패턴, 전도성 단자 영역 또는 접점 패드(30)에 개별 비아(28)에 의해 하부 지지벽(18)을 통해 접속된다.The computer chip package of the two embodiments 10, 10A may comprise a silicon wafer mounted to the top surface 18 of the wall 20 of the housing 22 in which the silicon wafer is disposed. The pattern of discontinuous conductive terminal regions 24 is metallized on the upper surface 18 of the wall 20. The silicon wafer 16 is connected to the conductive region 24 by a plurality of leads 26. In this embodiment, the terminal regions 24 have individual vias 28 in the discontinuous matching pattern, conductive terminal region or contact pad 30 disposed on the lower surface 32 of the support wall 18 of the chip package 12. Is connected via the lower support wall 18.

상호연결 시스템(10 또는 10A)의 회로 기판(14)은 또한 칩 패키지(12)의 하부 표면(32)에 평행하게 배열된 실질적으로 편평한 상부 표면(34)을 갖는다. 불연속 회로 패드(36)의 패턴은 패드(36)들의 각각이 칩 패키지 지지벽의 하부 표면(32)의 단자 영역(30)의 단 하나에 정렬되는 패턴으로 상부 표면(34) 상에 배치될 수 있다. 회로 패드(28)는 종래 방식으로 회로 기판(14)의 각각의 회로에 전기적으로 접속될 수 있다.The circuit board 14 of the interconnect system 10 or 10A also has a substantially flat top surface 34 arranged parallel to the bottom surface 32 of the chip package 12. The pattern of discontinuous circuit pads 36 may be disposed on the top surface 34 in a pattern in which each of the pads 36 is aligned with only one of the terminal regions 30 of the bottom surface 32 of the chip package support wall. have. The circuit pad 28 may be electrically connected to each circuit of the circuit board 14 in a conventional manner.

복수개의 불연속 인터포저 부재(38)는 지지벽(20)의 저부의 단자 영역(30)과 회로 기판(14)의 상부의 대향 표면에 배치된 회로 패드(36) 사이에 위치된다. 이러한 실시예들의 인터포저 부재들(38, 38')은 도1 및 도2에서 수평으로 이격되어 있는 것으로 도시된 개재 간극(40, 40')에 의해 서로 이격되고, 두 단자 영역(30)과 회로 패드(36)의 패턴들에 상응하고 일반적으로 정렬되는 패턴으로 된다. 인터포저 부재는 양호하게는 대각선으로 또는 인접한 단자 영역(30)과 회로 패드(36) 사이의 결합을 방지하기 위해 간극(40) 재료의 유전 상수에 비해 높은 유전 상수를 갖는 재료로 만들어진다. 인터포저 부재(38, 38')의 유전 상수는 적어도 간극(40, 40')의 재료, 일반적으로 공기의 유전 상수보다 큰 크기를 갖고, 인터포저 부재(38, 38')의 유전 상수는 양호하게는 적어도 200이다. 그러나, 신호 주파수가 증가함에 따라, 인터포저 부재에 요구되는 유전 상수의 크기는 감소될 수 있다. 이러한 실시예에서, 단자 영역은 양호하게는 회로 기판 패드(36)와 유사하거나 동일한 치수이고, 경사지고 인접한 영역 및 패드들 사이에서 바람직하지 않은 결합이 되지 않고 영역 및 패드들의 바람직한 쌍들 사이에서 용량성 결합이 되도록 정렬된다.A plurality of discontinuous interposer members 38 are positioned between the terminal region 30 of the bottom of the support wall 20 and the circuit pads 36 disposed on opposite surfaces of the upper portion of the circuit board 14. The interposer members 38, 38 ′ of these embodiments are spaced apart from each other by intervening gaps 40, 40 ′, shown horizontally spaced apart in FIGS. 1 and 2, and with the two terminal regions 30. The pattern corresponds to and generally aligned with the patterns of the circuit pad 36. The interposer member is preferably made of a material having a high dielectric constant relative to the dielectric constant of the gap 40 material to prevent the diagonal or adjacent coupling between the adjacent terminal region 30 and the circuit pad 36. The dielectric constant of the interposer members 38, 38 'has a magnitude at least greater than the dielectric constant of the material of the gaps 40, 40', generally air, and the dielectric constant of the interposer members 38, 38 'is good. Preferably at least 200. However, as the signal frequency increases, the magnitude of the dielectric constant required for the interposer member may decrease. In this embodiment, the terminal region is preferably of similar or identical dimensions to the circuit board pads 36 and is capacitive between the region and the desired pairs of pads without undesirable coupling between adjacent regions and pads. Aligned to be a bond.

도1의 인터포저 부재(38)들은 양호하게는 편평하고 칩 패키지의 하부 표면과 회로 기판의 상부 표면(34) 사이에 배치되는 캐리어 부재(42)에 의해 지지된다. 캐리어 부재(42)는 도시된 바와 같이, 컴퓨터 칩 패키지(12)의 전체 길이와 폭으로 연장되고 양호하게는 플라스틱과 같은 유전성 재료로 제조되거나 또는 고무 또는엘라스토머와 같은 유전성이고 가요성인 재료로 형성된다. 인터포저 부재는 캐리어 부재(42)에 오버몰드되고, 캐리어 부재(42)는 오버몰딩 공정을 수용하기 위해 형성된 일련의 구멍을 포함할 수 있다. 인터포저 부재(38)의 유전 상수는 양호하게는 바람직하지 않고 선택하지 않은 대각선 결합을 방지하기 위해 캐리어 부재(42)의 유전 상수보다 큰 크기를 갖는다.The interposer members 38 of FIG. 1 are preferably flat and supported by a carrier member 42 disposed between the bottom surface of the chip package and the top surface 34 of the circuit board. The carrier member 42 extends the entire length and width of the computer chip package 12 and is preferably made of a dielectric material such as plastic or formed of a dielectric and flexible material such as rubber or elastomer, as shown. . The interposer member is overmolded in the carrier member 42, and the carrier member 42 may include a series of holes formed to accommodate the overmolding process. The dielectric constant of the interposer member 38 preferably has a size greater than the dielectric constant of the carrier member 42 to prevent undesirable and unselected diagonal coupling.

도2는 도1의 제1 실시예에서 사용된 캐리어 부재(42)가 제거된 무접점 상호연결 시스템(10A)의 제2 실시예를 도시한다. 본 실시예에서 인터포저 부재(38')는 단자 영역(30)들 및 회로 패드(36)들 중 하나 또는 두 개 모두에 접착된다. 예를 들어, 인터포저 부재는 적절한 인쇄 방법에 의해 단자 영역(30) 또는 회로 패드(36)에 금속 피복될 수 있다. 그러나, 간극(40')은 다시 인터포저 부재들 사이에 제공된다. 다시, 인터포저 부재(38')의 유전 상수는 대각선 결합을 방지하기 위해 간극(40')을 채우는 임의의 재료(예를 들어, 공기)보다 커야 한다.FIG. 2 shows a second embodiment of a contactless interconnect system 10A with the carrier member 42 used in the first embodiment of FIG. 1 removed. In this embodiment, the interposer member 38 ′ is bonded to one or both of the terminal regions 30 and the circuit pads 36. For example, the interposer member may be metallized onto the terminal region 30 or the circuit pad 36 by a suitable printing method. However, the gap 40 'is again provided between the interposer members. Again, the dielectric constant of interposer member 38 'must be greater than any material (e.g., air) filling gap 40' to prevent diagonal coupling.

도1 및 도2에 도시된 상호연결 시스템(10, 10A)의 두 실시예에서, 인터포저 부재(38, 38')는 불연속 부재이고 전술한 바와 같이 간극(40, 40')에서 분리된다. 양호하게는, 인터포저 부재는 실질적으로 정렬된 단자 영역(30) 및 회로 패드(36)의 크기와 동일하게 크기가 정해진다. 전자 신호는 단자 영역(30)으로부터 인터포저 부재(38, 38')를 통해 회로 패드(36)로 용량성 전달된다. 인터포저 부재보다 낮은 유전 상수를 갖는 인터포저 부재 사이의 간극(40, 40')은 대각선 단자 영역(30)과 회로 패드(36) 사이의 유전성 차단을 제공한다. 전자 신호는 높은 유전 상수의 재료를 통해 결합되는 것이 바람직하기 때문에 신호는 비교적 높은 유전상수의 재료 사이의 간극(40, 40')을 가로지르지 못한다. 따라서, 불연속 또는 분리된 인터포저 부재는 단자 영역(30)과 회로 패드(36)의 대각선 세트 사이의 교차 결합(cross-coupling)과 혼선이 상당히 감소된다.In both embodiments of the interconnect systems 10, 10A shown in Figures 1 and 2, the interposer members 38, 38 'are discontinuous members and are separated in the gaps 40, 40' as described above. Preferably, the interposer member is sized equally to the size of the substantially aligned terminal region 30 and circuit pad 36. Electronic signals are capacitively transferred from the terminal region 30 to the circuit pads 36 through the interposer members 38, 38 ′. The gaps 40, 40 ′ between the interposer members having a lower dielectric constant than the interposer members provide dielectric isolation between the diagonal terminal region 30 and the circuit pad 36. Since the electronic signal is preferably coupled through a high dielectric constant material, the signal does not cross the gaps 40 and 40 'between the relatively high dielectric constant materials. Thus, the discontinuous or separated interposer members significantly reduce cross-coupling and crosstalk between the terminal area 30 and the diagonal set of circuit pads 36.

본 명세서 및 청구범위에서 "상부", "하부", "천정부", "저부", "수직" 등의 용어의 사용은 제한되지 않는다는 것이 이해될 것이다. 이러한 용어들은 간단하고 간결한 설명과 도면의 견지에서 본 발명의 이해를 제공한다. 명백하게, 상호연결 시스템(10, 10A)은 사용 또는 응용에서 무지향성이다.It is to be understood that the use of the terms "top", "bottom", "ceiling", "bottom", "vertical" and the like in the present specification and claims is not limited. These terms provide an understanding of the present invention in light of a simple and concise description and drawings. Clearly, interconnect systems 10 and 10A are omni directional in use or application.

컴퓨터 칩 패키지(112)와 회로 기판과 같은 기판(114) 사이에 무접점 상호연결 시스템(110)이 도시된 본 발명의 제3 실시예가 도3에 도시된다.A third embodiment of the present invention is shown in FIG. 3 in which a contactless interconnect system 110 is shown between a computer chip package 112 and a substrate 114 such as a circuit board.

칩 패키지(112)는 저부 지지벽(116)을 갖는 하우징(115)을 포함하고, 실리콘 웨이퍼(118)는 지지벽(116)의 실질적으로 편평한 상부 표면(120)에 장착된다. 지지벽(116)은 벽(116)의 상부 표면(120)에 제공된 불연속 단자 영역(122)의 패턴을 지지하고, 각각의 리드(124)에 의해 실리콘 웨이퍼(118)에 상호연결된다. 단자 영역(122)의 패턴은 그 사이의 복수개의 간극(123)을 한정한다. 본 실시예의 지지벽(116)은 도1 및 도2의 실시예에서 활용된 인터포저 부재와 동일한 기능을 제공한다.The chip package 112 includes a housing 115 having a bottom support wall 116, and the silicon wafer 118 is mounted to the substantially flat top surface 120 of the support wall 116. The support wall 116 supports a pattern of discrete terminal regions 122 provided on the top surface 120 of the wall 116 and is interconnected to the silicon wafer 118 by respective leads 124. The pattern of the terminal region 122 defines a plurality of gaps 123 therebetween. The support wall 116 of this embodiment provides the same function as the interposer member utilized in the embodiment of Figs.

시스템(110)의 회로 기판(114)은 칩 패키지(112)의 지지벽 아래로 일반적으로 평행한 관계로 배치된다. 회로 기판(114)은 단자 영역(122)과 정렬되는 불연속 회로 패드(128)의 패턴을 갖는 편평한 상부 표면(126)을 갖는다. 불연속 회로 패드(128)의 패턴은 불연속 단자 영역(122)의 패턴에 의해 한정되는 그 사이의간극(123)과 유사한 공간(129)을 한정한다. 회로 패드(128)는 회로 기판(114) 상의 각각의 회로에 전기적으로 접속된다.The circuit board 114 of the system 110 is disposed in a generally parallel relationship under the support wall of the chip package 112. The circuit board 114 has a flat top surface 126 having a pattern of discrete circuit pads 128 that are aligned with the terminal region 122. The pattern of discrete circuit pads 128 defines a space 129 similar to the gap 123 therebetween defined by the pattern of discrete terminal regions 122. The circuit pad 128 is electrically connected to each circuit on the circuit board 114.

본 발명은 컴퓨터 칩 패키지(112)의 지지벽(116)이 칩 패키지의 단자 영역(122)과 회로 기판(114)의 회로 패드(128) 사이에서 직접 배치되는 것을 의도한다. 본 실시예에서, 벽(16)의 하부 표면(121)은 회로 패드(128)에 직접 장착된다. 다른 실시예에서, 벽은 인접한 단자 영역(122) 사이의 교차 결합을 방지하고 인접한 회로 패드(128) 사이의 교차 결합을 방지하기 위해 간극(123) 및 공간(129)을 채우는 재료(예를 들어 공기)에 비해 높은 유전 상수를 갖는 재료로 만들어 질 수 있다. 또 다른 실시예에서, 벽은 적어도 200의 유전 상수를 갖는 재료로 만들어진다. 물론, 다양한 재료 또는 혼합물이 바람직한 유전 상수를 제공할 수 있다. 그러나, 신호 주파수가 증가함에 따라, 벽(116)에 요구되는 유전 상수의 크기는 감소할 수 있다. 추가 실시예에서, 벽(116)의 두께는 정렬된 단자 영역(122)과 회로 패드(128) 사이의 결합을 증진시키고 인접한 단자 영역(122)들 또는 인접한 회로 패드(128)들 사이의 교차 결합을 방지하기 위해 단자 영역(122)들 사이의 간극(123)과 회로 패드(128)들 사이의 공간(129)의 폭에 비해 얇을 것이다.The present invention intends that the support wall 116 of the computer chip package 112 is disposed directly between the terminal region 122 of the chip package and the circuit pad 128 of the circuit board 114. In this embodiment, the bottom surface 121 of the wall 16 is mounted directly to the circuit pad 128. In another embodiment, the wall is a material (e.g., filling the gap 123 and space 129 to prevent cross coupling between adjacent terminal regions 122 and to prevent cross coupling between adjacent circuit pads 128). Can be made of materials with a high dielectric constant. In another embodiment, the wall is made of a material having a dielectric constant of at least 200. Of course, various materials or mixtures can provide the desired dielectric constant. However, as the signal frequency increases, the magnitude of the dielectric constant required for the wall 116 may decrease. In a further embodiment, the thickness of the wall 116 promotes coupling between the aligned terminal regions 122 and the circuit pads 128 and cross couplings between adjacent terminal regions 122 or adjacent circuit pads 128. To prevent this, the gap 123 between the terminal regions 122 and the width of the space 129 between the circuit pads 128 will be thinner.

상기에서 알 수 있는 바와 같이, 컴퓨터 칩 패키지의 일부[예를 들어 벽(116)]는 실리콘 웨이퍼(118)와 회로 기판(114) 사이의 전자기 결합을 제공하도록 효율적으로 사용된다. 필수적으로, 벽(116)은 단자 영역(122)과 회로 패드(128)가 벽(116)에 의해 제공된 개재된 유전 매체의 대향 측면 상의 1/2 커패시터(half-capacitor)로서 작용하는 복수개의 커패시터 내의 중간 유전 매체뿐만아니라 지지 구조로 제공한다. 신호는 칩 패키지의 단자 영역(122)과 회로 기판(114)의 회로 패드(128) 사이에서 용량성으로 전달된다. 따라서, 모든 다른 외부로부터의 상호연결 부품이 제거되고, 회로 패드(128)와 함께, 회로 기판(114)은 칩 패키지의 지지벽(116)의 저부 표면에 바로 인접하여 상호 연결식으로 장착될 수 있다.As can be seen above, a portion (eg, wall 116) of the computer chip package is effectively used to provide electromagnetic coupling between the silicon wafer 118 and the circuit board 114. Essentially, the wall 116 is a plurality of capacitors in which the terminal region 122 and the circuit pad 128 act as half-capacitors on opposite sides of the interposed dielectric medium provided by the wall 116. It serves as an intermediate dielectric medium as well as a support structure. The signal is capacitively transferred between the terminal region 122 of the chip package and the circuit pad 128 of the circuit board 114. Thus, all other external interconnect components are removed, and with the circuit pad 128, the circuit board 114 can be interconnected and mounted directly adjacent to the bottom surface of the support wall 116 of the chip package. .

본 발명이 그의 사상 또는 중심 특징에서 벗어남없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있음을 알게 될 것이다. 따라서, 본 예와 실시예들은 제한이 아닌 설명하기 위한 것이고, 그 세부 사항에 제한되지 않는다.It will be appreciated that the invention may be embodied in other specific forms without departing from its spirit or central feature. Accordingly, the present examples and embodiments are to be considered as illustrative and not restrictive, and are not limited to the details.

Claims (16)

컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이의 무접점 상호연결 시스템이며,A solid-state interconnect system between a computer chip package and a circuit board, 불연속 단자 영역의 패턴을 갖는 편평한 하부 표면을 구비한 컴퓨터 칩 패키지와,A computer chip package having a flat bottom surface having a pattern of discrete terminal regions; 칩 패키지의 하부 표면과 평행하고 이로부터 이격된 편평한 상부 표면을 갖고, 상기 단자 영역과 정렬되고 그 위에 배치된 불연속 회로 패드의 패턴을 포함하는 회로 기판과,A circuit board having a flat top surface parallel to and spaced apart from the bottom surface of the chip package, the circuit board comprising a pattern of discrete circuit pads aligned with and disposed on the terminal region; 단자 영역들과 회로 패드들 사이에서, 단자 영역들과 회로 패드들의 정렬된 패턴과 정렬되고 이에 상응하는 패턴을 갖는 복수개의 불연속 인터포저 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.And a plurality of discrete interposer members arranged between the terminal regions and the circuit pads and having a corresponding pattern with the aligned pattern of the terminal regions and the circuit pads. 제1항에 있어서, 상기 단자 영역은 컴퓨터 칩 패키지의 벽의 하부 표면에 배치되고, 상기 단자 영역은 패키지의 실리콘 웨이퍼로부터 벽을 통해 리드로 비아에 의해 접속되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.10. The contactless interconnect system of claim 1 wherein the terminal region is disposed on a bottom surface of a wall of a computer chip package, the terminal region being connected by vias to leads through the wall from the silicon wafer of the package. . 제1항에 있어서, 상기 인터포저 부재들은 칩 패키지의 하부 표면과 회로 기판의 상부 표면 사이에 배치된 유전성 캐리어 부재에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.The contactless interconnect system of claim 1 wherein the interposer members are supported by a dielectric carrier member disposed between the bottom surface of the chip package and the top surface of the circuit board. 제3항에 있어서, 상기 인터포저 부재들은 캐리어 부재에 오버 몰드되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.4. The contactless interconnect system of claim 3 wherein the interposer members are overmolded on a carrier member. 제3항에 있어서, 상기 편평한 캐리어 부재는 엘라스토머 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.4. The contactless interconnect system of claim 3 wherein the flat carrier member is made of an elastomeric material. 제1항에 있어서, 상기 인터포저 부재들은 상기 단자 영역들 또는 회로 패드들 중 하나에 접착되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.2. The contactless interconnect system of claim 1 wherein the interposer members are bonded to one of the terminal regions or circuit pads. 제1항에 있어서, 상기 불연속 인터포저 부재들은 그 사이의 간극을 한정하고, 상기 인터포저 부재들은 간극을 채우는 재료보다 높은 유전 상수를 갖는 재료인 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.The solid state interconnect system of claim 1 wherein the discrete interposer members define a gap therebetween, the interposer members being a material having a higher dielectric constant than the material filling the gap. 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이의 무접점 상호연결 시스템이며,A solid-state interconnect system between a computer chip package and a circuit board, 불연속 단자 영역의 패턴을 갖는 하부 표면을 구비한 컴퓨터 칩 패키지와,A computer chip package having a bottom surface having a pattern of discrete terminal regions; 칩 패키지의 하부 표면과 평행하고 이로부터 이격된 상부 표면을 갖고, 상기 단자 영역에 정렬된 불연속 회로 패드의 패턴을 포함하는 회로 기판과,A circuit board having a top surface parallel to and spaced apart from a bottom surface of the chip package, the circuit board comprising a pattern of discrete circuit pads aligned in the terminal region; 상기 칩 패키지의 하부 표면과 상기 회로 기판의 상부 표면 사이에 배치된 캐리어 부재에 의해 지지되는 복수개의 불연속 인터포저 부재를 포함하고,A plurality of discontinuous interposer members supported by a carrier member disposed between the bottom surface of the chip package and the top surface of the circuit board, 상기 캐리어 부재는 상기 칩 패키지 하부 표면과 상기 회로 기판 상부 표면사이에서 폭방향으로 연장하고,The carrier member extends in a width direction between the chip package lower surface and the circuit board upper surface, 상기 인터포저 부재는 상기 단자 공간 및 회로 패드 패턴과 정렬되고 이에 상응하는 패턴으로 정렬되고,The interposer member is aligned with the terminal space and the circuit pad pattern and in a corresponding pattern, 상기 인터포저 부재는 상기 캐리어 부재보다 높은 유전 상수를 갖는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.And the interposer member has a higher dielectric constant than the carrier member. 제8항에 있어서, 상기 단자 영역은 컴퓨터 칩 패키지의 벽의 하부 표면 상에 있고, 상기 단자 영역은 패키지의 실리콘 웨이퍼로부터 벽을 통해 리드로 비아에 의해 접속되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.9. The contactless interconnect system of claim 8 wherein the terminal region is on a lower surface of a wall of a computer chip package, the terminal region being connected by vias to leads through the wall from the silicon wafer of the package. . 제8항에 있어서, 상기 인터포저 부재는 편평한 캐리어 부재 상에 오버 몰드되는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.9. The contactless interconnect system of claim 8 wherein the interposer member is overmolded on a flat carrier member. 제8항에 있어서, 상기 편평한 캐리어 부재는 유전성 엘라스토머 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.9. The contactless interconnect system of claim 8 wherein the flat carrier member is made of a dielectric elastomeric material. 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이의 무접점 상호연결 시스템이며,A solid-state interconnect system between a computer chip package and a circuit board, 패키지 내에 배치되는 컴퓨터 칩으로서, 컴퓨터 칩의 회로를 다른 회로에 접속하기 위해 연장되는 복수개의 리드를 갖는 컴퓨터 칩과,A computer chip disposed in a package, comprising: a computer chip having a plurality of leads extending to connect a circuit of the computer chip to another circuit; 상기 칩을 지지하고 회로 기판에 패키지를 장착하기 위한, 주어진 유전 상수를 갖는 재료로 형성된 지지벽과, 상기 지지벽의 상부 표면에 배치되고 상기 칩 리드에 접속되는 복수개의 불연속인 전도성 단자 영역을 포함하는 패키지와,A support wall formed of a material having a given dielectric constant for supporting the chip and mounting the package on a circuit board, and a plurality of discontinuous conductive terminal regions disposed on an upper surface of the support wall and connected to the chip leads. With the package to say, 상기 패키지 지지벽 아래에 배치되고, 상기 패키지의 단일 단자 영역에 정렬된 단일 회로 패드가 위치하는 패턴으로 배치된 불연속 회로 패드의 패턴을 구비한 실질적으로 편평한 상부 표면을 포함하는 회로 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.And a circuit board comprising a substantially flat top surface disposed below the package support wall and having a pattern of discrete circuit pads arranged in a pattern in which a single circuit pad is arranged in a single terminal region of the package. Solid state interconnect system characterized by. 제12항에 있어서, 상기 지지벽은 상기 패키지의 외부벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.13. The contactless interconnect system of claim 12 wherein the support wall forms an outer wall of the package. 제12항에 있어서, 상기 지지벽은 적어도 200의 유전 상수를 갖는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.13. The contactless interconnect system of claim 12 wherein the support wall has a dielectric constant of at least 200. 컴퓨터 칩 패키지와 회로 기판 사이의 무접점 상호연결 시스템이며,A solid-state interconnect system between a computer chip package and a circuit board, 편평한 내부 표면을 포함하고 미리 선택된 유전성 재료를 갖는 외부 벽을 갖는 하우징을 포함하는 컴퓨터 칩과,A computer chip comprising a housing having a flat inner surface and having an outer wall having a preselected dielectric material; 하우징 내에 장착된 실리콘 웨이퍼와,A silicon wafer mounted in the housing, 상기 실리콘 웨이퍼에 전기적으로 결합되고 상기 벽의 내부 표면의 불연속 단자 영역의 패턴과,A pattern of discrete terminal regions of the inner surface of the wall electrically coupled to the silicon wafer, 상기 벽의 외부에 대해 가지런히 놓여있고, 벽을 통해 상기 단자 영역에 정렬된 불연속 회로 패드의 패턴을 갖는 실질적으로 편평한 표면을 포함하는 회로 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.And a circuit board comprising a substantially flat surface lying parallel to the outside of the wall and having a pattern of discrete circuit pads aligned through the wall to the terminal area. 제15항에 있어서, 상기 벽은 적어도 200의 유전 상수를 갖는 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 무접점 상호연결 시스템.16. The contactless interconnect system of claim 15 wherein the wall is made of a material having a dielectric constant of at least 200.
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