KR20020078041A - 반도체 소자의 노광 장치 - Google Patents

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KR20020078041A
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김영대
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 노광 공정 시 웨이퍼의 디포커스(Defocus) 현상 및 노광 불량을 방지하는데 적당한 반도체 소자의 노광 장치에 관한 것으로, 원판형의 웨이퍼 스테이지 상에서 웨이퍼를 흡착하여 고정시키는 제 1 척과, 상기 웨이퍼 스테이지의 에지부분에 형성되어 상기 제 1 척의 표면에 웨이퍼의 아랫면이 접촉하지 않고 웨이퍼의 주변부를 지지하여 이격되도록 고정시키는 제 2 척과, 상하로 이동하여 웨이퍼를 상기 제 2 척상에 로딩 및 언로딩하는 복수개의 이송핀을 포함하여 구성된다.

Description

반도체 소자의 노광 장치 {APPARATUS FOR EXPOSURING OF SEMICONDUCTOR DEVICE }
본 발명은 반도체 소자의 노광 장치에 관한 것으로 특히, 진공척(Vaccum chuck) 위의 먼지 및 기타 이물질들에 의한 웨이퍼의 디포커스(Defocus) 현상 및 노광 불량을 개선하기 위한 반도체 소자의 노광 장치에 관한 것이다.
이하, 종래 기술에 따른 반도체 소자의 노광 장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
도 1은 종래 기술에 따른 반도체 소자의 노광 장치를 설명하기 위한 개략도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 종래 기술에 따른 반도체 소자의 노광 장치는 웨이퍼(1)를 노광하기 위한 광을 조사하는 프로젝션 렌즈(Projection Lense)(4)를 구비하고, 웨이퍼(1)가 로딩되는 웨이퍼 스테이지(Wafer Stage)(3)와, 진공을 이용하여 웨이퍼(1)의 전체면과 직접 접촉하도록 웨이퍼(1)를 흡착하여 고정시키는 진공척(2)과, 상하로 이동하여 웨이퍼(1)를 상기 진공척(2)상에 로딩 및 언로딩하는 복수개의 이송핀(도시하지 않음)으로 구성된다.
상기와 같이 구성되는 종래의 반도체 소자의 노광 장치는 웨이퍼 캐리어로부터 예컨대 벨트에 의해 반송된 웨이퍼는 핸들러(Handler)에 의해 진공척(2)상으로 이송된다.
그리고, 상기 웨이퍼(1)가 프리-얼라인(Pre-Align)된 후 진공척(2)위에 탑재되면 진공 공급라인으로부터 공급되는 진공압에 의해 강한 흡착력이 발생되어 웨이퍼(1)를 유동하지 않도록 고정시키는 작용을 하게 되며, 이와 같은 상태에서 노광 공정을 수행하게 된다.
그러나, 종래의 반도체 소자의 노광 장치에 있어서 진공척(2)이 대기중에 무방비 상태로 노출되어 있으므로 공정 시나, 장비를 사용하지 않을 때 진공척(2)의 표면에 먼지나 기타 미세한 이물질 등이 내려앉게 됨에 따라 디포커스 현상 및 노광 불량 현상이 야기되었으나 이를 사전에 방지할 수 있는 장치가 구비되어 있지 않아 공정 불안정 및 생산성 저하를 초래하고 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 반도체 소자의 노광 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.
진공척의 표면에 먼지나 기타 미세한 이물질 등으로 오염되었을 경우 오염 물질 주위의 포커스가 틀어짐으로써 웨이퍼 상에 디포커스 현상 및 노광 불량 현상을 일으킨다.
본 발명은 이와 같은 종래 기술의 반도체 소자의 노광 장치의 문제를 해결하기 위한 것으로, 웨이퍼를 진공척으로부터 이격시켜 노광 공정을 실시함으로써 진공척의 오염 물질로 인한 웨이퍼의 오염과 디포커스 현상 및 노광 불량을 방지할 수있는 반도체 소자의 노광 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래 기술의 반도체 소자의 노광 장치를 설명하기 위한 개략도
도 2a 내지 도 2b는 본 발명에 의한 반도체 소자의 노광 장치를 설명하기 위한 평면도
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
21 : 웨이퍼 스테이지 22 : 제 1 척
23 : 제 2 척 24 : 이송핀
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 소자의 노광 장치는
원판형의 웨이퍼 스테이지상에서 웨이퍼를 흡착하여 고정시키는 제 1 척과, 상기 웨이퍼 스테이지의 에지부분에 형성되어 상기 제 1 척의 표면에 웨이퍼의 아랫면이 접촉하지 않고 웨이퍼의 주변부를 지지하여 이격되도록 고정시키는 제 2 척과, 상하로 이동하여 웨이퍼를 상기 제 2 척상에 로딩 및 언로딩하는 복수개의 이송핀을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 반도체 소자의 노광 장치 및 그 동작을 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
도 2a 내지 도 2b는 본 발명에 의한 반도체 소자의 노광 장치를 설명하기 위한 평면도이다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 소자의 노광 장치는 웨이퍼(25)를 노광하기 위한 광을 조사하는 프로젝션 렌즈(Projection Lense)(도시하지 않음)를 구비하고, 웨이퍼(25)가 장착되는 웨이퍼 스테이지(21)와, 웨이퍼(25)를 흡착하여 고정시키는 제 1 척(23)과, 상기 웨이퍼 스테이지(21)의 에지부분에 형성되어 상기 제 1 척(23)의 표면에 웨이퍼(25)의 아랫면이 접촉하지 않도록 웨이퍼(25)의 주변부의 일부를 지지하여 이격되도록 고정시키는 제 2 척(22)과, 상하로 이동하여 웨이퍼(25)를 상기 제 2 척(22)상에 로딩 및 언로딩하는 복수개의 이송핀(24)으로 구성된다.
여기서, 제 1 척(23)은 진공압으로 흡착하는 진공척을 이용하고, 제 2 척(22)은 정전기척(Electrostatic chuck : ESC)을 이용한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 의한 반도체 소자의 노광 장치는 웨이퍼 캐리어로부터 예컨대, 벨트에 의해 반송된 웨이퍼는 핸들러(Handler)에 의해 제 1 척(23)위로 이송된다.
그리고, 상기 웨이퍼(25)가 프리-얼라인(Pre-Align)된 후 이송핀(24)이 상승하여 웨이퍼(25)를 받아 하강한다.
이어, 웨이퍼(25)가 제 2 척(22)상에 탑재되면 진공 공급라인으로부터 공급되는 진공압에 의해 강한 흡착력이 발생되어 제 1 척(23)이 웨이퍼(25)를 유동하지 않도록 흡착하여 상기 제 2 척(22)상에 고정시킨다.
이와 같은 상태에서 다시 얼라인된 후, 종래와 동일하게 프로젝션 렌즈가 광을 조사하여 노광 공정을 수행하게 된다.
상기와 같은 본 발명의 반도체 소자의 노광 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
웨이퍼를 진공척으로부터 이격시켜 노광 공정을 실시함으로써 진공척과의 접촉으로 인한 웨이퍼의 오염을 방지할 수 있다.
또한, 진공척의 오염 물질로 인한 포커스의 틀어짐을 방지하여 디포커스 현상 및 노광 불량을 방지할 수 있다.
따라서, 공정 안정화 및 생산성 향상의 효과를 기대할 수 있다.

Claims (2)

  1. 원판형의 웨이퍼 스테이지 상에서 웨이퍼를 흡착하여 고정시키는 제 1 척과,
    상기 웨이퍼 스테이지의 에지부분에 형성되어 상기 제 1 척의 표면에 웨이퍼의 아랫면이 접촉하지 않고 웨이퍼의 주변부를 지지하여 이격되도록 고정시키는 제 2 척과,
    상하로 이동하여 웨이퍼를 상기 제 2 척상에 로딩 및 언로딩하는 복수개의 이송핀을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 척은 진공척을 이용하고 제 2 척은 정전기척을 이용하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 노광 장치.
KR1020010017884A 2001-04-04 2001-04-04 반도체 소자의 노광 장치 KR20020078041A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100778218B1 (ko) * 2005-07-29 2007-11-20 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 기상 성장 장치와 기상 성장 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100778218B1 (ko) * 2005-07-29 2007-11-20 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 기상 성장 장치와 기상 성장 방법

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